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TWI500502B - 玻璃膜積層體及其製造方法以及玻璃膜的製造方法 - Google Patents

玻璃膜積層體及其製造方法以及玻璃膜的製造方法 Download PDF

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TWI500502B
TWI500502B TW100101130A TW100101130A TWI500502B TW I500502 B TWI500502 B TW I500502B TW 100101130 A TW100101130 A TW 100101130A TW 100101130 A TW100101130 A TW 100101130A TW I500502 B TWI500502 B TW I500502B
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Masahiro Tomamoto
Takahide Fujii
Hiroshi Takimoto
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Nippon Electric Glass Co
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Description

玻璃膜積層體及其製造方法以及玻璃膜的製造方法
本發明是有關於一種玻璃膜積層體以及玻璃膜，該玻璃膜積層體藉由支持玻璃來支持著使用在電子元件(device)例如液晶顯示器(display)或有機電致發光(Electroluminescence，EL)顯示器等的平板顯示器(flat panel display)、太陽電池、鋰離子(lithium ion)電池、數位看板(digital signage)、觸控面板(touch panel)、電子紙等的玻璃基板中的玻璃膜(glass film)、或者使用在有機EL照明的蓋玻璃(cover glass)或醫藥品包裝(package)等中的玻璃膜。
自省空間化的觀點考慮，代替先前已普及的陰極射線管(Cathode Ray Tube，CRT)型顯示器，近年來，液晶顯示器、電漿顯示器(plasma display)、有機EL顯示器、以及場發射顯示器(field emission display)等的平板顯示器正在普及。對於這些平板顯示器而言，要求進一步實現薄型化。尤其對於有機EL顯示器而言，要求可藉由摺疊或捲繞來容易地攜帶，並且要求不僅可呈平面地使用，而且可呈曲面地使用。又，並不限於對顯示器要求不僅可呈平面地使用，而且可呈曲面地使用，例如，只要可於汽車的車體表面或建築物的房頂、柱體或外壁等具有曲面的物體表面形成太陽電池，或形成有機EL照明，則上述用途擴大。因此，對於使用在上述元件中的基板或蓋玻璃而言， 要求進一步實現薄板化與高可撓性。
使用於有機EL顯示器的發光體因與氧或水蒸氣等的氣體發生接觸而變差。因此，由於要求使用在有機EL顯示器中的基板具有高氣體阻隔性，故而期待使用玻璃基板。然而，使用於基板的玻璃與樹脂膜不同，對於拉伸應力的耐受性弱且可撓性低，若因使玻璃基板彎曲而導致拉伸應力施加於玻璃基板表面，則該玻璃基板會破損。為了使玻璃基板具有可撓性，必須進行超薄板化，已提出如下述專利文獻1所揭示的厚度為200μm以下的玻璃膜。
對使用於平板顯示器或太陽電池等的電子元件的玻璃基板，實施透明導電膜等的成膜處理、或清洗處理等各種與電子元件的製造相關聯的處理。然而，若將使用於上述電子元件的玻璃基板予以薄膜化，則由於玻璃為脆性材料，因此，該玻璃會因稍微的應力變化而破損，當進行上述各種與電子元件的製造相關聯的處理時，存在非常難以進行處理的問題。此外亦存在如下的問題：由於厚度為200μm以下的玻璃膜富有可撓性，因此，當進行與製造相關聯的處理時，難以進行定位，於圖案化(patterning)時會發生偏移等。
因此，為了解決上述問題，已提出下述專利文獻2所揭示的積層體。於下述專利文獻2中提出了如下的積層體，該積層體的支持玻璃基板與玻璃薄片(glass sheet)即便重複地使用，亦經由大致維持固定的黏著材層而積層。藉此，即便於單體狀態下使用無強度或剛性的玻璃薄片， 亦可共用先前的玻璃用液晶顯示元件製造線來製造液晶顯示元件，於步驟結束之後，可將支持玻璃基板予以剝離。又，由於在支持體中使用有玻璃基板，因此，可某種程度地防止熱翹曲等。此外，由於支持體的剛性高，因此，亦不易產生如下的問題，即，於與製造相關聯的處理時，在定位時或圖案化時，積層體發生偏移。
[先行技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2008-133174號公報
[專利文獻2]日本專利特開平8-86993號公報
然而，存在如下的問題，即，於將支持玻璃基板予以剝離之後，黏著性物質殘存於玻璃膜，從而引起污染。而且，當最終將積層體的玻璃膜自支持玻璃基板予以剝離而僅剩餘玻璃膜時，於將支持玻璃基板上的黏著劑層的黏著力設定得較強的情形時，存在如下的問題，即，玻璃膜無法承受上述拉伸應力，作為脆性材料的玻璃膜容易破損。又，於將黏著劑層的黏著力設定得較弱的情形時，支持玻璃基板與玻璃膜的接著不充分，於與製造相關聯的處理時，有可能會產生因支持玻璃基板與玻璃膜發生偏移引起的定位差錯(miss)或圖案化的偏移等。
本發明的第1目的在於：於進行與製造相關聯的處理時，藉由支持體來牢固地支持著玻璃膜，而且於與製造相關聯的處理之後，當將玻璃膜裝入至各種元件時，可容易 地自支持體將玻璃膜予以剝離。
本發明的第2目的在於：提供如下的玻璃膜積層體，該玻璃膜積層體可確實地防止於將玻璃膜自支持體予以剝離之後，黏著劑殘存於玻璃膜。
本發明提供一種玻璃膜積層體，該玻璃膜積層體積層有玻璃膜與支持體，該玻璃膜積層體的特徵在於：於上述玻璃膜的接觸面與上述支持體的接觸面的接著部，設置有接著力相對較強的區域與接著力相對較弱的區域。此處，本發明中所使用的支持體包括：由玻璃或陶瓷(ceramic)等的無機材料所形成的支持體、以及由樹脂材料或金屬材料所形成的支持體。又，接著力相對較弱的區域亦可為無接著力的區域。而且，本發明的玻璃膜積層體包括：使上述玻璃膜的接觸面與上述支持體的接觸面直接地接觸而接著的玻璃膜積層體、以及經由黏著劑層(接著劑層)而使上述玻璃膜的接觸面與上述支持體的接觸面接著的玻璃膜積層體。於前者的情形時，設為如下的構成，即，利用玻璃來形成上述支持體(支持玻璃)，於上述玻璃膜的接觸面以及上述支持玻璃的接觸面中的至少一個接觸面，設置有表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域。於後者的情形時，設為黏著劑層(接著劑層)包括接著力相對較強的層區域與接著力相對較弱的層區域的構成，或者設為於接著部的一部分區域未設置有黏著劑層(接著劑層)的構成。
於本發明中，較佳為設為如下的構成，即，利用玻璃 來形成上述支持體(支持玻璃)，於上述玻璃膜的接觸面以及上述支持玻璃的接觸面中的至少一個接觸面，設置有表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域。
例如，可於上述支持玻璃的接觸面，設置上述表面粗糙度相對較大的區域與上述表面粗糙度相對較小的區域。
上述表面粗糙度相對較小的區域的表面粗糙度Ra較佳為2.0nm以下。
又，上述表面粗糙度相對較大的區域與上述表面粗糙度相對較小的區域的表面粗糙度Ra之差較佳為0.1nm以上。
於本發明中，可設為如下的構成，即，於上述接觸面的外周部包括上述表面粗糙度相對較小的區域，於上述外周部所包圍的內部包括上述表面粗糙度相對較大的區域。
或者可設為如下的構成，即，於上述接觸面的角部包括上述表面粗糙度相對較小的區域。
或者可設為如下的構成，即，於上述接觸面的外周部包括上述表面粗糙度相對較大的區域，於上述外周部所包圍的內部包括上述表面粗糙度相對較小的區域。
或者可設為如下的構成，即，上述表面粗糙度相對較大的區域與上述表面粗糙度相對較小的區域呈帶狀地交替設置於上述接觸面。
又，可設為如下的構成，即，上述玻璃膜與上述支持玻璃是於邊緣部的至少一部分設置階差而積層。
又，本發明提供如下的構成，該構成是積層有玻璃膜 與支持玻璃的玻璃膜積層體的製造方法，該玻璃膜積層體的製造方法包括如下的步驟：將上述玻璃膜的接觸面及上述支持玻璃的接觸面中的至少一個接觸面的一部分區域予以粗糙化；以及於使上述接觸面彼此接觸的狀態下，將上述玻璃膜與上述支持玻璃予以積層。
於上述構成，較佳為利用溢流下拉法(overflow down draw method)來使上述玻璃膜以及上述支持玻璃成形。
又，上述粗糙化可設為選自利用氫氟酸的蝕刻(etching)處理、利用大氣壓電漿的蝕刻處理、藉由形成薄膜來進行的粗糙化、以及利用噴砂(sandblast)的粗糙化處理中的任一種或兩種以上的處理。
又，本發明提供如下的玻璃膜的製造方法，該玻璃膜的製造方法包括：第1步驟，於支持玻璃的接觸面及玻璃膜的接觸面中的至少一個接觸面，設置表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域；第2步驟，藉由將上述支持玻璃的接觸面與上述玻璃膜的接觸面予以貼合來形成玻璃膜積層體；第3步驟，對上述玻璃膜積層體進行與製造相關聯的處理；以及第4步驟，於上述與製造相關聯的處理之後，將上述玻璃膜自上述支持玻璃予以剝離。
根據本發明，於上述玻璃膜的接觸面與上述支持體的接觸面的接著部，設置有接著力相對較強的區域與接著力相對較弱的區域，因此，於利用接著力相對較強的區域而使玻璃膜牢固地積層於支持體上的狀態下，可穩定地實施 與製造相關聯的處理。此外，由於包括接著力相對較弱的區域，因此，於與製造相關聯的處理之後，可容易地自接著力相對較弱的區域將玻璃膜予以剝離。因此，可防止因支持體與玻璃膜的接著力整體上過強所引起的玻璃膜剝離時的破損，而且可防止因接著力整體上過弱而引起在進行與製造相關聯的處理時玻璃膜出現不當的剝離脫落。
利用玻璃來形成上述支持體(支持玻璃)，於上述玻璃膜的接觸面以及上述支持玻璃的接觸面中的至少一個接觸面，設置表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域，藉此，於表面粗糙度相對較大的區域(以下稱為粗糙面)中，以弱小的力來將玻璃膜與支持玻璃予以接著，於表面粗糙度相對較小的區域(以下稱為平滑面)中，以強大的力來將玻璃膜與支持玻璃予以接著。考慮到若使平滑面彼此接觸，則兩個表面之間的距離變小至可使存在於兩個表面的氫基彼此發生氫鍵合的程度，因此，密著性佳，即便不使用接著劑，亦可使玻璃膜的接觸面與支持玻璃的接觸面牢固且穩定地接著。藉此，於使玻璃膜牢固地積層於支持玻璃上的狀態下，可穩定地實施與製造相關聯的處理，並且於與製造相關聯的處理之後，可容易地自粗糙面將玻璃膜予以剝離。又，由於不使用接著劑，因此，即便自支持玻璃將玻璃膜予以剝離，亦可形成完全未殘存有接著劑的玻璃膜。
由於上述支持玻璃可再利用，因此，藉由設為如下的構成，即，於上述支持玻璃的接觸面設置上述表面粗糙度 相對較大的區域與上述表面粗糙度相對較小的區域，例如只要對支持玻璃的接觸面的一部分區域進行一次粗糙化處理，則可不再次進行粗糙化處理而直接再次利用該支持玻璃，因此，製造步驟簡化。又，由於玻璃膜用作元件的玻璃基板，因此，有時對背面側亦進行粗糙化處理則不佳。
若上述表面粗糙度相對較小的區域的表面粗糙度Ra為2.0nm以下，則可使玻璃膜與支持玻璃更牢固地接著。
若上述表面粗糙度相對較大的區域與上述表面粗糙度相對較小的區域的表面粗糙度Ra之差為0.1nm以上，則可使支持玻璃與玻璃膜適當地接著，於與製造相關聯的處理時，可進行良好的定位，而且於與製造相關聯的處理之後，可容易地自支持玻璃將玻璃膜予以剝離。藉此，可使接著性與剝離性保持平衡。
藉由設為如下的構成，即，於上述接觸面的外周部包括上述表面粗糙度相對較小的區域，且於上述外周部所包圍的內部包括上述表面粗糙度相對較大的區域，可以少接著面積沿著接觸面的外周部使玻璃膜與支持玻璃牢固地接著。又，即便於與製造相關聯的處理步驟中包括使用溶劑的步驟，亦可防止溶劑自玻璃膜與支持玻璃的間隙浸入。
藉由設為如下的構成，即，於上述接觸面的角部包括上述表面粗糙度相對較小的區域，可使玻璃膜的角部牢固地接著於支持玻璃，從而可以更少的接著面積來將玻璃膜與支持玻璃予以積層。
藉由設為如下的構成，即，於上述接觸面的外周部包 括上述表面粗糙度相對較大的區域，於上述外周部所包圍的內部包括上述表面粗糙度相對較小的區域，當自支持玻璃將玻璃膜予以剝離時，可容易地自玻璃膜的外周部開始剝離。
藉由設為如下的構成，即，上述表面粗糙度相對較大的區域與上述表面粗糙度相對較小的區域呈帶狀地交替設置於上述接觸面，沿著上述帶狀的區域的長度方向將玻璃膜予以剝離，藉此，可以固定的力來穩定地將支持玻璃與玻璃膜予以剝離。
藉由設為如下的構成，即，上述玻璃膜與上述支持玻璃是於邊緣部的至少一部分設置階差而積層，於玻璃膜自支持玻璃突出的情形時，可更容易且更確實地將玻璃膜與支持玻璃予以剝離。另一方面，於支持玻璃自玻璃膜突出的情形時，可適當地保護玻璃膜的端部不受碰撞等的影響。
又，本發明的玻璃膜積層體的製造方法包括如下的步驟：將上述玻璃膜的接觸面及上述支持玻璃的接觸面中的至少一個接觸面的一部分區域予以粗糙化；以及於使上述接觸面彼此接觸的狀態下，將上述玻璃膜與上述支持玻璃予以積層，因此，可容易地製造上述玻璃膜積層體。
若利用溢流下拉法來使上述玻璃膜以及上述支持玻璃成形，則由於包括表面粗糙度小且平滑性高的表面，因此，藉由將該表面的一部分區域予以粗糙化，可更容易地製造上述玻璃膜積層體。
若上述粗糙化是選自利用氫氟酸的蝕刻處理、利用大 氣壓電漿的蝕刻處理、藉由形成薄膜來進行的粗糙化、以及利用噴砂的粗糙化處理中的任一種或兩種以上的處理，則藉由適當地使用遮蔽膠帶(masking tape)等，可容易地製作包含經粗糙化的區域與未經粗糙化的區域的接觸面。
又，本發明的玻璃膜積層體的製造方法包括：第1步驟，於支持玻璃的接觸面及玻璃膜的接觸面中的至少一個接觸面，設置表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域；第2步驟，藉由將上述支持玻璃的接觸面與上述玻璃膜的接觸面予以貼合來形成玻璃膜積層體；第3步驟，對上述玻璃膜積層體進行與製造相關聯的處理；以及第4步驟，於上述與製造相關聯的處理之後，將上述玻璃膜自上述支持玻璃予以剝離，因此，可容易地製造為了各種用途而經與製造相關聯的處理的玻璃膜。
為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。
以下，參照圖式來對本發明的玻璃膜積層體的較佳實施形態進行說明。
如圖1(a)、圖1(b)所示，本發明的玻璃膜積層體(1)由玻璃膜(2)與支持玻璃(3)構成。於支持玻璃(3)的接觸面，設置有表面粗糙度相對較小的平滑面(4)與表面粗糙度相對較大的粗糙面(5)，玻璃膜(2)與支持玻璃(3)不使用接著劑等而積層著。
玻璃膜(2)使用矽酸鹽玻璃，較佳為使用矽土玻璃(silica glass)、硼矽酸玻璃，最佳為使用無鹼玻璃。若玻璃膜(2)中含有鹼成分，則表面的陽離子會脫落，產生所謂的出現鈉鹼的現象，從而於構造方面變粗糙。於該情形時，若彎曲地使用玻璃膜(2)，則有可能會自因隨著時間的劣化而變粗糙的部分起破損。再者，此處所謂無鹼玻璃，是指實質上不包含鹼成分(鹼金屬氧化物)的玻璃，具體而言是指鹼金屬氧化物為1000ppm以下的玻璃。本發明中的鹼金屬氧化物的含有量較佳為500ppm以下，更佳為300ppm以下。
玻璃膜(2)的厚度較佳為300μm以下，更佳為5μm~200μm，最佳為5μm~100μm。藉此，使玻璃膜(2)的厚度變得更薄，可產生適當的可撓性。又，若使玻璃膜(2)的厚度變薄，則難以進行操作，且有可能會容易產生定位差錯或圖案化時的偏移等的問題，但於本發明中，藉由使用支持玻璃(3)，可容易地進行與製造相關聯的處理。一方面，若玻璃膜(2)的厚度不足5μm，則玻璃膜(2)的強度易變得不充分，當自玻璃膜積層體(1)將玻璃膜(2)予以剝離並裝入至元件時，易導致破損。另一方面，若玻璃膜(2)的厚度超過300μm，則有可能難以使玻璃膜具有可撓性。
支持玻璃(3)與玻璃膜(2)同樣地使用矽酸鹽玻璃、矽土玻璃、硼矽酸玻璃、以及無鹼玻璃等。關於支持玻璃(3)，較佳為使用與玻璃膜(2)之間的30℃~380℃時的 熱膨脹係數之差為5×10-7/℃以內的玻璃。藉此，即便於與製造相關聯的處理時進行熱處理，亦不易產生由膨脹率之差引起的熱翹曲等，從而能夠形成可維持穩定的積層狀態的玻璃膜積層體(1)。
支持玻璃(3)的厚度較佳為400μm以上。原因在於：若支持玻璃(3)的厚度不足400μm，則於利用單體的支持玻璃來進行處理的情形時，有可能會於強度方面產生問題。支持玻璃(3)的厚度較佳為400μm~700μm，最佳為500μm~700μm。藉此，可確實地對玻璃膜(2)進行支持。
使用於本發明的玻璃膜(2)以及支持玻璃(3)較佳為藉由下拉法來成形。原因在於：可成形出更光滑的玻璃膜(2)的表面。尤其圖2所示的溢流下拉法是成形時的玻璃板的兩個面不與成形構件發生接觸的成形法，所獲得的玻璃板的兩個面(透光面)不易產生劃痕，即便不進行研磨，亦可獲得高平滑性。藉此，可使玻璃膜(2)與支持玻璃(3)於平滑面(4)上更牢固地接著。
藉由冷卻輥(roller)(8)，自剖面為錐型的成形體(7)的下端部(71)流下之後的玻璃帶(glass ribbon)(G)的寬度方向的收縮受到限制，同時向下方拉長，變薄至規定的厚度為止。接著，於緩冷爐(退火爐(annealer))中緩慢地對達到上述規定厚度的玻璃帶(G)進行冷卻，將玻璃帶(G)的熱應變予以除去，將玻璃帶(G)切斷為規定尺寸，從而成形出玻璃膜(2)以及支持玻璃(3)。
如圖1(a)、圖1(b)所示，於支持玻璃(3)的接觸面設置有平滑面(4)與粗糙面(5)。藉由將玻璃膜(2)貼合於支持玻璃(3)的接觸面，由於平滑面(4)上的密著性佳，因此，以強大的力來將玻璃膜(2)與支持玻璃(3)予以接著，於粗糙面(5)上，以弱小的力來將玻璃膜(2)與支持玻璃(3)予以接著。藉此，可於將玻璃膜(2)牢固地積層於支持玻璃(3)上的狀態下實施與製造相關聯的處理，並且於與製造相關聯的處理之後，可容易地自粗糙面(5)將玻璃膜(2)予以剝離。再者，於圖1(a)、圖1(b)、圖3、圖4(a)、以及圖4(b)的平面圖中，對支持玻璃(3)的接觸面上的粗糙面(5)標記著斜線。又，於圖1(a)、圖1(b)、圖4(a)、圖4(b)、圖5(a)、以及圖5(b)的剖面圖中，以粗線來顯示粗糙面(5)。
支持玻璃(3)的接觸面上的平滑面(4)的表面粗糙度Ra較佳為2.0nm以下。藉由使平滑面(4)的Ra為2.0nm以下，玻璃膜(2)與支持玻璃(3)的每單位面積的接著面積會增加，因此，密著性提高，可使玻璃膜(2)與支持玻璃(3)牢固地接著。玻璃膜(2)的接觸面的表面粗糙度Ra亦較佳為2.0nm以下。玻璃膜(2)以及支持玻璃(3)的接觸面的平滑面的表面粗糙度Ra分別更佳為1.0nm以下，進而更佳為0.5nm以下，最佳為0.2nm以下。
支持玻璃(3)的接觸面上的平滑面(4)與粗糙面(5)的表面粗糙度Ra之差較佳為0.1nm以上，更佳為0.3nm以上。藉此，於平滑面(4)上，可使支持玻璃(3)與玻 璃膜(2)適當地接著，且可容易地自支持玻璃(3)將玻璃膜(2)予以剝離。另一方面，若表面粗糙度Ra之差不足0.1nm，則難以獲得對表面粗糙度設置差的效果。又，自接著性與剝離性的觀點考慮，支持玻璃(3)的接觸面上的平滑面(4)與粗糙面(5)的表面粗糙度Ra之差並無特別的限定，但自省力地形成粗糙面的觀點考慮，上述表面粗糙度Ra之差較佳為2000nm以下。
於支持玻璃(3)的接觸面，平滑面(4)與粗糙面(5)的比例較佳為1：1000~5：1。為了實現接著性與剝離性的協調，上述比例更佳為1：500~4：1，最佳為1：200~3：1。再者，即便於將平滑面(4)與粗糙面(5)設置於玻璃膜(2)的接觸面的情形時，亦較佳為設為與上述比例相同的比例。
如圖1(a)、圖1(b)所示，可設為如下的構成，即，沿著支持玻璃(3)的接觸面的外周部來設置平滑面(4)，於平滑面(4)所包圍的內部，設置有表面粗糙度Ra相對較大的粗糙面(5)。藉此，可以少接著面積沿著玻璃膜積層體(1)的外周部來使玻璃膜(2)與支持玻璃(3)牢固地接著。即便於與製造相關聯的處理步驟中包括使用液體的步驟，亦可防止液體自玻璃膜(2)與支持玻璃(3)的間隙浸入，從而可防止玻璃膜(2)與支持玻璃(3)容易地剝離。
如圖3所示，亦可設為於支持玻璃(3)的接觸面的角部(31)包括平滑面(4)的構成。藉此，可使玻璃膜(2) 的接觸面的角部牢固地接著於支持玻璃(3)，從而可以少接著面積來將玻璃膜(2)與支持玻璃(3)予以積層。
如圖4(a)、圖4(b)所示，亦可設為如下的構成，即，於支持玻璃(3)的外周部包括粗糙面(5)，於該粗糙面(5)所包圍的內部設置有平滑面(4)。藉此，當自支持玻璃(3)將玻璃膜(2)予以剝離時，可容易地開始剝離。僅使玻璃膜(2)的中央部發生接觸，藉此，不會於玻璃膜(2)已撓曲的狀態下進行接著。藉此，於進行與製造相關聯的處理時，可確實地防止產生不利的凹凸。再者，於在與製造相關聯的處理中包括使用溶劑的步驟的情形時，亦可將遮蔽膠帶黏貼於玻璃膜積層體(1)側部。
如圖5(a)、圖5(b)所示，可設為如下的構成，即，於支持玻璃(3)的接觸面交替地設置有帶狀的粗糙面(5)與帶狀的平滑面(4)。於粗糙面(5)以及平滑面(4)的長度方向(圖5(a)中的上下方向)上將玻璃膜(2)予以剝離，藉此，由於支持玻璃(3)與玻璃膜(2)的接著力為固定的接著力，因此，能夠以固定的力來進行剝離，從而可穩定地將支持玻璃(3)與玻璃膜(2)予以剝離。
作為於支持玻璃(3)的接觸面設置表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域的方法，例如可列舉以下的方法。
利用遮蔽膠帶等來保護表面品質優異的支持玻璃(3)的接觸面的一部分，藉由使用物理性方法或化學性方法來進行粗糙化處理。於處理之後，將遮蔽膠帶予以除去，藉 此，遮蔽膠帶等所保護的平滑面(4)與經粗糙化的粗糙面(5)形成為接觸面。
作為物理性的粗糙化方法，例如可列舉如下的方法等：利用遮蔽膠帶等來保護支持玻璃(3)的接觸面之後，藉由噴砂來將露出的面予以粗糙化；或藉由形成薄膜來實現粗糙化。尤其於支持玻璃的表面精度良好的情形時，亦可於利用遮蔽膠帶等來保護支持玻璃(3)的接觸面之後，對露出的面實施使用有氧化鋁或氧化鈰的研磨。又，作為化學性的粗糙化方法，可列舉利用氫氟酸的蝕刻或使用大氣壓電漿的方法等。
圖6(a)、圖6(b)表示於邊緣部設置階差(6)而積層有玻璃膜(2)與支持玻璃(3)的玻璃膜積層體(1)。
於圖6(a)中，以使支持玻璃(3)比玻璃膜(2)更突出的方式來設置階差(61)。藉此，可更適當地保護玻璃膜(2)的端部。再者，於圖6(a)的形態的情形時，如與圖4(a)、圖4(b)相關的說明所述，較佳為於玻璃膜(2)的周邊部包括粗糙面(5)的形態。由於周邊部為粗糙面(5)，因此，藉由將薄板狀的構件(樹脂薄片等)插入至玻璃膜(2)與支持玻璃(3)之間，可容易地將玻璃膜(2)與支持玻璃(3)予以剝離。
另一方面，於圖6(b)中，以玻璃膜(2)比支持玻璃(3)更突出的狀態來設置階差(62)。藉此，當開始將玻璃膜(2)與支持玻璃(3)予以剝離，可容易地僅抓住玻璃膜(2)，從而可更容易且更確實地將兩者予以剝離。 階差(62)設置於玻璃膜積層體(1)的周邊部的至少一部分即可，例如於玻璃膜積層體(1)為平面觀察時的矩形狀的情形時，上述階差(62)設置於4條邊中的至少一條邊即可。又，亦可藉由於支持玻璃(3)的4個角落的一部分設置缺口(定向平面(orientation flat))來設置階差。再者，於圖6(b)的形態的情形時，如與圖1(a)、圖1(b)相關的說明所述，較佳為於玻璃膜(2)的周邊部包括平滑面(4)的形態。由於周邊部為平滑面(4)，因此，於在與製造相關聯的處理中使用溶劑的情形時，可防止溶劑自玻璃膜(2)與支持玻璃(3)之間浸入。
玻璃膜(3)的突出量較佳為0.1mm~20mm。若上述突出量不足0.1mm，則於剝離開始時，有可能難以抓住玻璃膜(2)的邊緣部，若上述突出量超過20mm，則於碰撞等的外力施加於玻璃膜積層體(1)的側緣的情形時，玻璃膜(2)有可能會破損。
而且，藉由設為如下的玻璃膜積層體(1)，該玻璃膜積層體(1)於該玻璃膜積層體(1)的端部形成有自玻璃膜(2)的邊緣部超過支持玻璃(3)的邊緣部而形成的階差(61)、與自支持玻璃(3)的邊緣部超過玻璃膜(2)的邊緣部而形成的階差(62)該兩個階差，可同時分別抓住玻璃膜(2)與支持玻璃(3)，從而可更容易地將玻璃膜(2)予以剝離。最佳為相互接近地形成各階差。
對本發明的玻璃膜積層體(1)的玻璃膜(2)的表面進行成膜、煅燒、清洗、以及圖案化等各種與電子元件的 製造相關聯的處理。於與製造相關聯的處理之後，玻璃膜(2)自玻璃膜積層體(1)的支持玻璃(3)剝離。藉由將薄片插入至玻璃膜(2)與支持玻璃(3)之間來將玻璃膜(2)予以剝離。上述薄片較佳為強度高且表面光滑的薄片，較佳為使用鐵氟龍(Teflon)(註冊商標)薄片。較佳為較淺地將薄片予以插入。若較深地將薄片予以插入，則薄片與玻璃的接觸面積變大，摩擦力增加，因此，於剝離時，玻璃膜(2)有可能會破損。於剝離之後，玻璃膜(2)使用於各個目的的用途，例如適當地使用於電子元件的玻璃基板等。將玻璃膜(2)予以剝離之後的支持玻璃(3)可再利用。
以上，於上述實施形態中，於支持玻璃(3)的接觸面設置有表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域，但並不限定於此，亦可於玻璃膜(2)的接觸面設置表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域。又，亦可於支持玻璃(3)的接觸面與玻璃膜(2)的接觸面該兩個接觸面設置表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域。
【實例1】
以下，基於實例來詳細地對本發明的玻璃膜積層體進行說明，但本發明並不限定於這些實例。
(實例)
將縱為300mm、橫為300mm、厚度為500μm的矩形狀的透明的玻璃板用作支持玻璃。於該支持玻璃的一角 設置有縱為3mm、橫為3mm的直角三角形的缺口(定向平面)。將縱為298mm、橫為298mm、厚度為100μm的玻璃膜用作積層於支持玻璃的接觸面的玻璃膜。支持玻璃與玻璃膜使用Nippon Electric Glass Co.,Ltd.製造的無鹼玻璃(產品名：OA-10G，30℃~380℃時的熱膨脹係數：38×10-7/℃)。藉由溢流下拉法來使支持玻璃與玻璃膜成形。利用遮蔽膠帶來保護支持玻璃的接觸面的4個角，將1%的氫氟酸溶液塗佈於支持玻璃的接觸面，藉此來進行粗糙化處理。塗佈氫氟酸溶液且經過30秒之後進行清洗處理，將遮蔽膠帶予以除去，藉此來將遮蔽膠帶所保護的面設為平滑面，將氫氟酸處理面設為粗糙面。使用Veeco公司製造的原子力顯微鏡(Atomic Force Microscope，AFM)(Nanoscope IIIa)，於掃描尺寸為10μm，掃描率為1Hz，樣本線為512的條件下，對支持玻璃的接觸面上的平滑面與粗糙面的表面粗糙度Ra進行測定。根據10μm見方的測定範圍的測定值來計算出表面粗糙度Ra。支持玻璃上的粗糙面的表面粗糙度Ra為0.5nm，平滑面的表面粗糙度Ra為0.2nm。玻璃膜的表面粗糙度Ra為0.2nm。
然後，使玻璃膜積層於支持玻璃的接觸面，獲得實例的玻璃膜積層體。關於所獲得的玻璃膜積層體，對玻璃膜的表面進行清洗處理、成膜處理之後，支持玻璃與玻璃膜良好地接著，可順利地進行處理時的定位、操作。自設置於支持玻璃的一角的缺口(定向平面)部所形成的階差(參照圖6(a)、圖6(b))將鐵氟龍(註冊商標)薄片予以插 入，接著逐步擴大插入區域，藉此，自支持玻璃將玻璃膜予以剝離之後，可自粗糙面良好地將該玻璃膜予以剝離，玻璃膜未破損。
(比較例1)
除了未對支持玻璃的接觸面進行粗糙化處理以外，利用與上述實例相同的方法來獲得比較例1的玻璃膜積層體。再者，對於支持玻璃、玻璃膜而言，接觸面的表面粗糙度Ra均為0.2nm。
關於所獲得的比較例1的玻璃膜積層體，對玻璃膜的表面進行成膜處理、清洗處理之後，支持玻璃與玻璃膜良好地接著，可順利地進行處理時的定位、操作。然而，於處理之後，當鐵氟龍(註冊商標)薄片插入至中央附近為止時，鐵氟龍(註冊商標)薄片撓曲，由於接著力過強，玻璃膜大幅度地彎曲，於剝離時，玻璃膜的一部分破損。
(比較例2)
利用氧化鋁以及氧化鈰來對支持玻璃的接觸面進行研磨處理，藉此來對接觸面的表面粗糙度Ra進行調整，使得該表面粗糙度Ra均一地達到2.2nm。然後，使玻璃膜積層於支持玻璃的接觸面，藉此來製作比較例2的玻璃膜積層體。
關於所獲得的比較例2的玻璃膜積層體，對玻璃膜的表面進行清洗處理、成膜處理之後，存在接著力不充分的情形，於處理時，支持玻璃的一部分自玻璃膜剝離，未能夠良好地進行定位、操作。
[產業上之可利用性]
本發明可較佳地使用於製作使用在液晶顯示器或有機EL顯示器等的平板顯示器或者太陽電池等的元件中的玻璃基板、以及有機EL照明的蓋玻璃的情形。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1‧‧‧玻璃膜積層體
2‧‧‧玻璃膜
3‧‧‧支持玻璃
4‧‧‧平滑面
5‧‧‧粗糙面
6、61、62‧‧‧階差
7‧‧‧成形體
8‧‧‧冷卻輥
31‧‧‧角部
71‧‧‧下端部
A-A、B-B‧‧‧線
圖1(a)是本發明的玻璃膜積層體的平面圖。
圖1(b)是圖1(a)中的A-A線剖面圖。
圖2是玻璃膜以及支持玻璃的製造裝置的說明圖。
圖3是於角部包括平滑面的玻璃膜積層體的圖。
圖4(a)是於中央部包括平滑面的玻璃膜積層體的平面圖。
圖4(b)是圖4(a)中的B-B線剖面圖。
圖5(a)是於支持玻璃的面上，呈帶狀地交替設置有粗糙面與平滑面的玻璃膜積層體的平面圖。
圖5(b)是圖5(a)中的B-B線剖面圖。
圖6(a)是於邊緣部設置階差而積層有玻璃膜與支持玻璃的玻璃膜積層體，且是支持玻璃自玻璃膜突出的形態的側視圖。
圖6(b)是於邊緣部設置階差而積層有玻璃膜與支持玻璃的玻璃膜積層體，且是玻璃膜自支持玻璃突出的形態 的圖。
1‧‧‧玻璃膜積層體
2‧‧‧玻璃膜
3‧‧‧支持玻璃
4‧‧‧平滑面
5‧‧‧粗糙面

Claims (13)

  1. 一種玻璃膜積層體，積層有玻璃膜與支持玻璃，該玻璃膜積層體的特徵在於：於上述玻璃膜的接觸面與上述支持玻璃的接觸面中的其中一個接觸面，設置表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域；上述其中一個接觸面的表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域的兩者，和另一個接觸面以可剝離的方式直接接著。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃膜積層體，其中於上述支持玻璃的接觸面，設置有上述表面粗糙度相對較大的區域與上述表面粗糙度相對較小的區域。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃膜積層體，其中上述表面粗糙度相對較小的區域的表面粗糙度Ra為2.0nm以下。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之玻璃膜積層體，其中上述表面粗糙度相對較大的區域與上述表面粗糙度相對較小的區域的表面粗糙度Ra之差為0.1nm以上。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之玻璃膜積層體，其中於上述其中一個接觸面的外周部包括上述表面粗糙度相對較小的區域，於上述外周部所包圍的內部包括上述表面粗糙度相對較大的區域。
  6. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之玻璃膜積層體，其中 於上述其中一個接觸面的角部包括上述表面粗糙度相對較小的區域。
  7. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之玻璃膜積層體，其中於上述其中一個接觸面的外周部包括上述表面粗糙度相對較大的區域，於上述外周部所包圍的內部包括上述表面粗糙度相對較小的區域。
  8. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之玻璃膜積層體，其中上述表面粗糙度相對較大的區域與上述表面粗糙度相對較小的區域呈帶狀地交替設置於上述其中一個接觸面。
  9. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之玻璃膜積層體，其中上述玻璃膜與上述支持玻璃是於邊緣部的至少一部分設置階差而積層。
  10. 一種玻璃膜積層體的製造方法，該玻璃膜積層體積層有玻璃膜與支持玻璃，該玻璃膜積層體的製造方法的特徵在於包括如下的步驟：將上述玻璃膜的接觸面及上述支持玻璃的接觸面中的其中一個接觸面的一部分區域予以粗糙化，於上述其中一個接觸面設置表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域；以及於使上述接觸面彼此直接接觸的狀態下，將上述玻璃膜與上述支持玻璃予以積層，上述其中一個接觸面的表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對 較小的區域的兩者，和另一個接觸面以可剝離的方式直接接著。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之玻璃膜積層體的製造方法，其中利用溢流下拉法來使上述玻璃膜以及上述支持玻璃成形。
  12. 如申請專利範圍第10項或第11項所述之玻璃膜積層體的製造方法，其中上述粗糙化是選自利用氫氟酸的蝕刻處理、利用大氣壓電漿的蝕刻處理、藉由形成薄膜來進行的粗糙化、以及利用噴砂的粗糙化處理中的任一種或兩種以上的處理。
  13. 一種玻璃膜的製造方法，其特徵在於包括：第1步驟，於支持玻璃的接觸面及玻璃膜的接觸面中的其中一個接觸面，設置表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域；第2步驟，藉由使上述接觸面彼此直接接觸的狀態下，將上述玻璃膜與上述支持玻璃予以積層，上述其中一個接觸面的表面粗糙度相對較大的區域與表面粗糙度相對較小的區域的兩者，和另一個接觸面以可剝離的方式直接接著；第3步驟，對上述玻璃膜積層體進行與製造相關聯的處理；以及第4步驟，於上述與製造相關聯的處理之後，將上述玻璃膜自上述支持玻璃予以剝離。
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