TWI603421B - 溼式製程設備 - Google Patents

Description

溼式製程設備

本發明關於一種溼式製程設備，尤指一種可於製程中減少對基板的磨耗及可對基板進行雙面製程的溼式製程設備。

一般而言，業界多採用溼式製程來對觸控面板的玻璃基板進行加工，溼式製程例如為將玻璃基板經過蝕刻製程進行圖案化的蝕刻或是經過清先製程進行表面清洗等。當玻璃基板在進行上述的溼式製程時，多利用滾輪同時對玻璃基板的板體及從板體延伸的側邊部進行固定與輸送。因此，在玻璃基板與滾輪接觸的一面，滾輪容易對玻璃基板(包含板體及從板體延伸的側邊部)磨耗，另外玻璃基板與滾輪接觸的一面也因滾輪的設置而無法有效進行溼式製程，即習知利用滾輪對玻璃基板進行固定與輸送的作法，僅可對玻璃基板進行單面製程。

因此，本發明提供一種可於製程中減少對基板的磨耗及可對基板進行雙面製程的溼式製程設備，以解決上述問題。

為了達成上述目的，本發明揭露一種溼式製程設備，用以沿一輸送方向輸送一基板，該基板具有一板體部及一側邊部，該側邊部延伸於該板體部，該板體部具有一上表面及相對於該上表面之一下表面，該溼式製程設備包含一槽體、複數個導輪以及複數個液浮載板，該槽體用以容置該基板，該複數個導輪設置於該槽體內，該複數個導輪對應於該基板的該側邊部並用以支撐該側邊部，該複數個液浮載板設置於該下表面下方且彼此鄰接，各液浮載板包含複數個直行水流通道以及至少一第一斜行水流通道，該複數個直行水流通道的走向正交於該輸送方向，使該複數個直行水流通道能將一處理液以垂直於該輸送方向之一直行方向噴出，藉以液浮支撐該板體部，該至少一第一斜行水流通道設置於該複數個直行水流通道與該液浮載板的至少一邊緣之間，該至少一第一斜行水流通道的走向斜交於該輸送方向，使該至少一第一斜行水流通道能將該處理液沿不垂直於該輸送方向之一第一斜行方向噴出，以於該下表面與該複數個液浮載板間形成能沿該輸送方向流動的一薄膜層流，該薄膜層流用以液浮支撐該板體部。

根據本發明其中之一實施方式，該第一斜行方向與該輸送方向的內積值大於零。

根據本發明其中之一實施方式，各液浮載板的該至少一邊緣包含一第一側邊及相對該第一側邊的一第二側邊，該第一側邊往該第二側邊的方向定義為該輸送方向，各液浮載板上的該至少一第一斜行水流通道的數量為一個，且該個第一斜行水流通道選擇性地設置在對應的該液浮載板鄰近該第一側邊處或鄰近該第二側邊處。

根據本發明其中之一實施方式，該基板的該至少一邊緣包含一第一 側邊及相對該第一側邊的一第二側邊，該第一側邊往該第二側邊的方向定義為該輸送方向，該至少一第一斜行水流通道的數量為兩個，且該兩個第一斜行水流通道分別設置在該液浮載板鄰近該第一側邊與鄰近該第二側邊處。

根據本發明其中之一實施方式，該溼式製程設備另包含至少一第二斜行水流通道，設置於該至少一第一斜行水流通道與該液浮載板的至少一邊緣之間，該至少一第二斜行水流通道的走向斜交於該輸送方向，使該至少一第二斜行水流通道能將該處理液沿不垂直於該輸送方向之一第二斜行方向噴出，以於該下表面與該複數個液浮載板間形成能沿該輸送方向流動的該薄膜層流。

根據本發明其中之一實施方式，該第一斜行方向與該輸送方向的內積值大於零，且該第二斜行方向與該輸送方向的內積值大於零。

根據本發明其中之一實施方式，該第二斜行方向與該輸送方向的內積值等於該第一斜行方向與該輸送方向的內積值。

根據本發明其中之一實施方式，該液浮載板的該至少一邊緣包含一第一側邊及相對該第一側邊的一第二側邊，該第一側邊往該第二側邊的方向定義為該輸送方向，該至少一第一斜行水流通道的數量為一個，該至少一第二斜行水流通道的數量為一個，該個第一斜行水流通道鄰接該個第二斜行水流通道，且該個第一斜行水流通道與該個第二斜行水流通道共同選擇性地設置在該液浮載板鄰近該第一側邊處或鄰近該第二側邊處。

根據本發明其中之一實施方式，該第二斜行方向與該輸送方向的內 積值大於該第一斜行方向與該輸送方向的內積值。

根據本發明其中之一實施方式，該液浮載板的該至少一邊緣包含一第一側邊及相對該第一側邊之一第二側邊，該第一側邊往該第二側邊的方向定義為該輸送方向，該至少一第一斜行水流通道的數量為一個，該至少一第二斜行水流通道的數量為一個，該個第一斜行水流通道鄰接該個第二斜行水流通道，且該個第一斜行水流通道與該個第二斜行水流通道共同選擇性地設置在該液浮載板鄰近該第一側邊處或鄰近該第二側邊處。

綜上所述，本發明溼式製程設備的導輪僅對應基板的側邊部，而基板的板體部係利用液浮載板所產生的薄膜層流來液浮支撐，因此本發明溼式製程設備的導輪便不會接觸基板的板體部，進而減少對基板的板體部的磨耗。除此之外，本發明溼式製程設備的液浮載板所噴射的處理液可為一蝕刻液或一清洗液，亦即本發明溼式製程設備除了可利用一水刀噴頭(未繪示於圖中)對基板的板體部的上表面進行蝕刻或清洗等的溼式製程外，本發明溼式製程設備亦可利用液浮載板對基板的板體部的下表面噴射處理液，以對板體部的下表面也進行蝕刻或清洗等的溼式製程，從而使本發明溼式製程設備達到對基板進行雙面溼式製程的目的。有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。

以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、前或後等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用來說明並非用來限制本發明。請參閱第1圖以及第2圖，第1圖為本發明第一實施例一溼式製程設備1000的俯視示意圖，第2圖為第1圖所示的溼式製程設備1000沿剖面線X-X的剖視示意圖。如第1圖以及第2圖所示，溼式製程設備1000可用以支撐一基板1，基板1具有一板體部10及一側邊部11，側邊部11延伸於板體部10，板體部10具有一上表面101及相對於上表面101之一下表面102。於此實施例中，基板1可為一觸控面板的玻璃基板，而溼式製程設備1000可用以對該玻璃基板進行一溼式製程，該溼式製程例如可為將該玻璃基板經過蝕刻製程進行圖案化的蝕刻或是經過清洗製程進行表面清洗等。

另外，溼式製程設備1000可用以沿一輸送方向A輸送基板1，其中輸送方向A為如第1圖所示由虛線所繪示之基板1往由實線所繪示之基板1移動的方向。溼式製程設備1000包含一槽體2、複數個導輪3以及複數個液浮載板4，槽體2用以容置基板1，複數個導輪3設置於槽體2內，且複數個導輪3對應於基板1的側邊部11並用以支撐側邊部11，複數個液浮載板4設置於板體部10的下表面102下方且彼此鄰接，且複數個液浮載板4用以對下表面102噴射一處理液6，以於下表面102與複數個液浮載板4間形成一薄膜層流6'，其中薄膜層流6'可用以液浮支撐基板1的板體部10。另外，槽體2上形成有一入口20及一出口21，使導輪3可將基板1經由入口20送入槽體2內，或使導輪3可將基板1經由出口21送出槽體2外。

綜上所述，本發明溼式製程設備1000的液浮載板4所產生的薄膜層流6'可液浮支撐基板1的板體部10，且本發明溼式製程設備1000的導輪3可支撐基板1的側邊部11，進而使基板1可穩固地於槽體2內進行溼式製程。另外，本發明溼式製程設備1000的導輪3僅對應基板1的側邊部11，而基板1的板體部10係利用液浮載板4所產生的薄膜層流6'來液浮支撐，因此本發明溼式製程設備1000便可減少對基板1的板體部10的接觸，進而減少對基板1的板體部10的磨耗。除此之外，本發明溼式製程設備1000的液浮載板4所噴射的處理液6可為一蝕刻液或一清洗液，亦即本發明溼式製程設備1000除了可利用一水刀噴頭(未繪示於圖中)對基板1的板體部10的上表面101進行蝕刻或清洗等的溼式製程外，本發明溼式製程設備1000亦可利用液浮載板4對基板1的板體部10的下表面102噴射處理液6，以對板體部10的下表面102也進行蝕刻或清洗等的溼式製程，從而使本發明溼式製程設備1000達到對基板1進行雙面溼式製程的目的。

如第1圖以及第2圖所示，各液浮載板4包含複數個直行水流通道40以及一第一斜行水流通道41，各直行水流通道40的走向正交於輸送方向A，第一斜行水流通道41設置於複數個直行水流通道40與液浮載板4的至少一邊緣42之間，且第一斜行水流通道41的走向斜交於輸送方向A。值得一提的是，各液浮載板4的至少一邊緣42包含一第一側邊420及相對第一側邊420的一第二側邊421，其中第一側邊420往第二側邊421的方向定義為輸送方向A。於此實施例中，各液浮載板4上的第一斜行水流通道41的數量為一個，且該個第一斜行水流通道41設置在液浮載板4鄰近第一側邊420處。另外，於此實施例中，直行水流通道40的走向與第一斜行水流通道41的走向間的一夾角θ1可為5度，但本發明不受此限。

此外，溼式製程設備1000可另包含一供水泵5，供水泵5用以供給處理液6，且各液浮載板4的複數個直行水流通道40以及第一斜行水流通道41可分別連通於供水泵5。如此一來，各直行水流通道40便可將供水泵5所供給的處理液6沿垂直於輸送方向A的一直行方向B噴出，以液浮支撐基板1的板體部10並將板體部10由液浮載板4浮離。此外，第一斜行水流通道41另可將供水泵5所供給的處理液6沿不垂直於輸送方向A的一第一斜行方向Y1噴出，其中第一斜行方向Y1與輸送方向A的內積值大於零，即第一斜行方向Y1在輸送方向A的投影分量與輸送方向A同向。如此一來，由第一斜行水流通道41沿第一斜行方向Y1噴出的處理液6便可於基板1的板體部10的下表面102與複數個液浮載板4間與由複數個直行水流通道40沿直行方向B噴出的處理液6共同形成能沿輸送方向A流動的薄膜層流6'，使薄膜層流6'能液浮支撐板體部10，並使薄膜層流6'能沿輸送方向A輸送板體部10。

請參閱第3圖，第3圖為本發明第二實施例一溼式製程設備2000的剖視示意圖。如第3圖所示，溼式製程設備2000與上述的溼式製程設備1000的主要不同處在於，溼式製程設備2000的各液浮載板4'的第一斜行水流通道41設置在液浮載板4鄰近第二側邊421處。而此實施例與上述實施例中具有相同標號之元件，其具有相同之結構設計與作用原理，為求簡潔，於此不再贅述。綜上所述，本發明溼式製程設備的各第一斜行水流通道可選擇性地設置在對應的液浮載板鄰近第一側邊處(例如液浮載板4的第一斜行水流通道41)或鄰近第一側邊處(例如液浮載板4'的第一斜行水流通道41)，端視實際需求而定。

請參閱第4圖，第4圖為本發明第三實施例一溼式製程設備3000的剖視示意圖。如第4圖所示，溼式製程設備3000與上述的溼式製程設備1000的主要不同處在於，溼式製程設備3000的各液浮載板4''的第一斜行水流通道41的數量為兩個，且第一斜行水流通道41分別設置在液浮載板鄰近該第一側邊與鄰近該第二側邊處。而此實施例與上述實施例中具有相同標號之元件，其具有相同之結構設計與作用原理，為求簡潔，於此不再贅述。綜上所述，本發明溼式製程設備的第一斜行水流通道可選擇性地為一個(例如液浮載板4的第一斜行水流通道41)或兩個(例如液浮載板4''的第一斜行水流通道41)，即液浮載板包含至少一第一斜行水流通道的結構設計，均在本發明所保護的範疇內，至於採用上述何者設計，端視實際需求而定。

請參閱第5圖，第5圖為本發明第四實施例一溼式製程設備4000的剖視示意圖。如第5圖所示，溼式製程設備4000與上述的溼式製程設備1000的主要不同處在於，溼式製程設備4000另包含一第二斜行水流通道43，於此實施例中，第一斜行水流通道41與第二斜行水流通道43共同設置在溼式製程設備4000的一液浮載板4'''鄰近第二側邊421處，但本發明不受此限，例如第一斜行水流通道41與第二斜行水流通道43亦可共同選擇性地設置在液浮載板4'''鄰近第一側邊420處，或第一斜行水流通道41與第二斜行水流通道43亦可分別設置在液浮載板4'''鄰近第一側邊420與鄰近第二側邊421處，端視實際需求而定。

此外，第二斜行水流通道43的走向斜交於輸送方向A，使第二斜行水流通道43能將處理液6沿不垂直於輸送方向A的一第二斜行方向Y2噴出，如此一來，由複數個直行水流通道40沿直行方向B噴出的處理液6、由第一斜行水流通道41沿第一斜行方向Y1噴出的處理液6以及由第二斜行水流通道43沿第二斜行方向Y2噴出的處理液6便可共同於基板1的板體部10的下表面102與複數個液浮載板4間形成能沿輸送方向A流動的薄膜層流6'，使薄膜層流6'能液浮支撐板體部10，並使薄膜層流6'能沿輸送方向A輸送板體部10。

除此之外，第一斜行方向Y1與輸送方向A的內積值大於零，且第二斜行方向Y2與輸送方向A的內積值亦大於零，即第一斜行方向Y1在輸送方向A的投影分量與輸送方向A同向，且第二斜行方向Y2在輸送方向A的投影分量亦與輸送方向A同向。於此實施例中，第一斜行方向Y1與輸送方向A的內積值與第二斜行方向Y2等於輸送方向A的內積值，即第一斜行方向Y1在輸送方向A的投影分量等於第二斜行方向Y2在輸送方向A的投影分量，且第一斜行方向Y1平行於第二斜行方向Y2。換句話說，直行水流通道40的走向與第一斜行水流通道41的走向間的夾角θ1等於直行水流通道40的走向與第二斜行方向Y2的一夾角θ2，且於此實施例中，夾角θ1與夾角θ2均可為5度，但本發明不受此限。而此實施例與上述實施例中具有相同標號之元件，其具有相同之結構設計與作用原理，為求簡潔，於此不再贅述。

請參閱第6圖，第6圖為本發明第五實施例一溼式製程設備5000的剖視示意圖。如第6圖所示，溼式製程設備5000與上述的溼式製程設備4000的主要不同處在於，溼式製程設備5000的一液浮載板4''''上的第一斜行水流通道41與一第二斜行水流通道43'共同設置在液浮載板4''''鄰近第一側邊420處，第二斜行水流通道43'設置在第一斜行水流通道41與第一側邊420之間，且第二斜行水流通道43'的一第二斜行方向Y2'與輸送方向A的內積值大於第一斜行水流通道41的第一斜行方向Y1與輸送方向A的內積值，即直行水流通道40的走向與第一斜行水流通道41的走向間的夾角θ1小於直行水流通道40的走向與第二斜行水流通道43'的走向間的一夾角θ2'。換句話說，第一斜行水流通道41的走向與第二斜行水流通道43'的走向不平行。而此實施例與上述實施例中具有相同標號之元件，其具有相同之結構設計與作用原理，為求簡潔，於此不再贅述。   相較於先前技術，本發明溼式製程設備的導輪僅對應基板的側邊部，而基板的板體部係利用液浮載板所產生的薄膜層流來液浮支撐，因此本發明溼式製程設備的導輪便不會接觸基板的板體部，進而減少對基板的板體部的磨耗。除此之外，本發明溼式製程設備的液浮載板所噴射的處理液可為一蝕刻液或一清洗液，亦即本發明溼式製程設備除了可利用一水刀噴頭(未繪示於圖中)對基板的板體部的上表面進行蝕刻或清洗等的溼式製程外，本發明溼式製程設備亦可利用液浮載板對基板的板體部的下表面噴射處理液，以對板體部的下表面也進行蝕刻或清洗等的溼式製程，從而使本發明溼式製程設備達到對基板進行雙面溼式製程的目的。以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。

1000、2000、3000、4000、5000‧‧‧溼式製程設備

1‧‧‧基板

10‧‧‧板體部

101‧‧‧上表面

102‧‧‧下表面

11‧‧‧側邊部

2‧‧‧槽體

20‧‧‧入口

21‧‧‧出口

3‧‧‧導輪

4、4'、4''、4'''、4''''‧‧‧液浮載板

40‧‧‧直行水流通道

41‧‧‧第一斜行水流通道

42‧‧‧邊緣

420‧‧‧第一側邊

421‧‧‧第二側邊

43、43'‧‧‧第二斜行水流通道

5‧‧‧供水泵

6‧‧‧處理液

6'‧‧‧薄膜層流

θ1、θ2、θ2'‧‧‧夾角

A‧‧‧輸送方向

B‧‧‧直行方向

Y1‧‧‧第一斜行方向

Y2、Y2'‧‧‧第二斜行方向

X-X‧‧‧剖面線

第1圖為本發明第一實施例溼式製程設備的俯視示意圖。

第2圖為第1圖所示的溼式製程設備沿剖面線X-X的剖視示意圖。

第3圖為本發明第二實施例溼式製程設備的剖視示意圖。 第4圖為本發明第三實施例溼式製程設備的剖視示意圖。 第5圖為本發明第四實施例溼式製程設備的剖視示意圖。 第6圖為本發明第五實施例溼式製程設備的剖視示意圖。

1000‧‧‧溼式製程設備

1‧‧‧基板

10‧‧‧板體部

101‧‧‧上表面

102‧‧‧下表面

2‧‧‧槽體

20‧‧‧入口

21‧‧‧出口

3‧‧‧導輪

4‧‧‧液浮載板

40‧‧‧直行水流通道

41‧‧‧第一斜行水流通道

42‧‧‧邊緣

420‧‧‧第一側邊

421‧‧‧第二側邊

5‧‧‧供水泵

6‧‧‧處理液

6'‧‧‧薄膜層流

θ 1‧‧‧夾角

A‧‧‧輸送方向

B‧‧‧直行方向

Y1‧‧‧第一斜行方向

Claims (10)

1. 一種溼式製程設備，用以沿一輸送方向輸送一基板，該基板具有一板體部及一側邊部，該側邊部延伸於該板體部，該板體部具有一上表面及相對於該上表面之一下表面，該溼式製程設備包含：一槽體，用以容置該基板；複數個導輪，設置於該槽體內，該複數個導輪對應於該基板的該側邊部並用以支撐該側邊部；以及複數個液浮載板，設置於該下表面下方且彼此鄰接，各液浮載板包含：複數個直行水流通道，其走向正交於該輸送方向，使該複數個直行水流通道能將一處理液以垂直於該輸送方向之一直行方向噴出，藉以液浮支撐該板體部；以及至少一第一斜行水流通道，設置於該複數個直行水流通道與該液浮載板的至少一邊緣之間，該至少一第一斜行水流通道的走向斜交於該輸送方向，使該至少一第一斜行水流通道能將該處理液沿不垂直於該輸送方向之一第一斜行方向噴出，以於該下表面與該複數個液浮載板間形成能沿該輸送方向流動的一薄膜層流，該薄膜層流用以液浮支撐該板體部。
2. 如請求項1所述之溼式製程設備，其中該第一斜行方向與該輸送方向的內積值大於零。
3. 如請求項1所述之溼式製程設備，其中各液浮載板的該至少一邊緣包含一第一側邊及相對該第一側邊的一第二側邊，該第一側邊往該第二側邊的方向定義為該輸送方向，各液浮載板上的該至少一第一斜行水流通道的 數量為一個，且該個第一斜行水流通道選擇性地設置在對應的該液浮載板鄰近該第一側邊處或鄰近該第二側邊處。
4. 如請求項1所述之溼式製程設備，其中該液浮載板的該至少一邊緣包含一第一側邊及相對該第一側邊的一第二側邊，該第一側邊往該第二側邊的方向定義為該輸送方向，該至少一第一斜行水流通道的數量為兩個，且該兩個第一斜行水流通道分別設置在該液浮載板鄰近該第一側邊與鄰近該第二側邊處。
5. 如請求項1所述之溼式製程設備，另包含：至少一第二斜行水流通道，設置於該至少一第一斜行水流通道與該液浮載板的至少一邊緣之間，該至少一第二斜行水流通道的走向斜交於該輸送方向，使該至少一第二斜行水流通道能將該處理液沿不垂直於該輸送方向之一第二斜行方向噴出，以於該下表面與該複數個液浮載板間形成能沿該輸送方向流動的該薄膜層流。
6. 如請求項5所述之溼式製程設備，其中該第一斜行方向與該輸送方向的內積值大於零，且該第二斜行方向與該輸送方向的內積值大於零。
7. 如請求項6所述之溼式製程設備，其中該第二斜行方向與該輸送方向的內積值等於該第一斜行方向與該輸送方向的內積值。
8. 如請求項7所述之溼式製程設備，其中該液浮載板的該至少一邊緣包含一第一側邊及相對該第一側邊的一第二側邊，該第一側邊往該第二側邊 的方向定義為該輸送方向，該至少一第一斜行水流通道的數量為一個，該至少一第二斜行水流通道的數量為一個，該個第一斜行水流通道鄰接該個第二斜行水流通道，且該個第一斜行水流通道與該個第二斜行水流通道共同選擇性地設置在該液浮載板鄰近該第一側邊處或鄰近該第二側邊處。
9. 如請求項6所述之溼式製程設備，其中該第二斜行方向與該輸送方向的內積值大於該第一斜行方向與該輸送方向的內積值。
10. 如請求項9所述之溼式製程設備，其中該液浮載板的該至少一邊緣包含一第一側邊及相對該第一側邊之一第二側邊，該第一側邊往該第二側邊的方向定義為該輸送方向，該至少一第一斜行水流通道的數量為一個，該至少一第二斜行水流通道的數量為一個，該個第一斜行水流通道鄰接該個第二斜行水流通道，且該個第一斜行水流通道與該個第二斜行水流通道共同選擇性地設置在該液浮載板鄰近該第一側邊處或鄰近該第二側邊處。