CN205999280U - 湿式制程设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种湿式制程设备，用以输送一基板，所述湿式制程设备包含一槽体、多个导轮以及多个液浮载板，所述槽体用以容置所述基板，所述多个导轮设置在所述槽体内并用以支撑所述基板的一侧边部，所述多个液浮载板设置在所述基板下方，各液浮载板包含多个直行水流通道以及一斜行水流通道，所述斜行水流通道设置在所述多个直行水流通道与所述液浮载板的一边缘之间，所述斜行水流通道的走向斜交于所述多个直行水流通道，所述斜行水流通道与所述多个直行水流通道共同在所述基板与所述多个液浮载板间形成能液浮支撑所述基板的一薄膜层流。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种湿式制程设备，特别是涉及一种可在制程中减少对基板的磨耗及可对基板进行双面制程的湿式制程设备。
背景技术
一般而言，业界多采用湿式制程来对触控面板的玻璃基板进行加工，湿式制程例如为将玻璃基板经过蚀刻制程进行图案化的蚀刻或是经过清先制程进行表面清洗等。当玻璃基板在进行上述的湿式制程时，多利用滚轮同时对玻璃基板的板体及从板体延伸的侧边部进行固定与输送。因此，在玻璃基板与滚轮接触的一面，滚轮容易对玻璃基板(包含板体及从板体延伸的侧边部)磨耗，另外玻璃基板与滚轮接触的一面也因滚轮的设置而无法有效进行湿式制程，即公知利用滚轮对玻璃基板进行固定与输送的作法，仅可对玻璃基板进行单面制程。
实用新型内容
因此，本实用新型提供一种可在制程中减少对基板的磨耗及可对基板进行双面制程的湿式制程设备，以解决上述问题。
为了达成上述目的，本实用新型公开一种湿式制程设备，用以沿一输送方向输送一基板，所述基板具有一板体部及一侧边部，所述侧边部延伸于所述板体部，所述板体部具有一上表面及相对于所述上表面的一下表面，所述湿式制程设备包含一槽体、多个导轮以及多个液浮载板，所述槽体用以容置所述基板，所述多个导轮设置在所述槽体内，所述多个导轮对应于所述基板的所述侧边部并用以支撑所述侧边部，所述多个液浮载板设置在所述下表面下方且彼此邻接，各液浮载板包含多个直行水流通道以及至少一第一斜行水流通道，所述多个直行水流通道的走向正交于所述输送方向，使所述多个直 行水流通道能将一处理液以垂直于所述输送方向的一直行方向喷出，借以液浮支撑所述板体部，所述至少一第一斜行水流通道设置在所述多个直行水流通道与所述液浮载板的至少一边缘之间，所述至少一第一斜行水流通道的走向斜交于所述输送方向，使所述至少一第一斜行水流通道能将所述处理液沿不垂直于所述输送方向的一第一斜行方向喷出，以在所述下表面与所述多个液浮载板间形成能沿所述输送方向流动的一薄膜层流，所述薄膜层流用以液浮支撑所述板体部。
根据本实用新型其中之一实施方式，所述第一斜行方向与所述输送方向的内积值大于零。
根据本实用新型其中之一实施方式，各液浮载板的所述至少一边缘包含一第一侧边及相对所述第一侧边的一第二侧边，所述第一侧边往所述第二侧边的方向定义为所述输送方向，各液浮载板上的所述至少一第一斜行水流通道的数量为一个，且所述第一斜行水流通道选择性地设置在对应的所述液浮载板邻近所述第一侧边处或邻近所述第二侧边处。
根据本实用新型其中之一实施方式，所述基板的所述至少一边缘包含一第一侧边及相对所述第一侧边的一第二侧边，所述第一侧边往所述第二侧边的方向定义为所述输送方向，所述至少一第一斜行水流通道的数量为两个，且所述两个第一斜行水流通道分别设置在所述液浮载板邻近所述第一侧边与邻近所述第二侧边处。
根据本实用新型其中之一实施方式，所述湿式制程设备还包含至少一第二斜行水流通道，设置在所述至少一第一斜行水流通道与所述液浮载板的至少一边缘之间，所述至少一第二斜行水流通道的走向斜交于所述输送方向，使所述至少一第二斜行水流通道能将所述处理液沿不垂直于所述输送方向的一第二斜行方向喷出，以在所述下表面与所述多个液浮载板间形成能沿所述输送方向流动的所述薄膜层流。
根据本实用新型其中之一实施方式，所述第一斜行方向与所述输送方向的内积值大于零，且所述第二斜行方向与所述输送方向的内积值大于零。
根据本实用新型其中之一实施方式，所述第二斜行方向与所述输送方向的内积值等于所述第一斜行方向与所述输送方向的内积值。
根据本实用新型其中之一实施方式，所述基板的所述至少一边缘包含一第一侧边及相对所述第一侧边的一第二侧边，所述第一侧边往所述第二侧边的方向定义为所述输送方向，所述至少一第一斜行水流通道的数量为一个，所述至少一第二斜行水流通道的数量为一个，所述第一斜行水流通道邻接所述第二斜行水流通道，且所述第一斜行水流通道与所述第二斜行水流通道共同选择性地设置在所述液浮载板邻近所述第一侧边处或邻近所述第二侧边处。
根据本实用新型其中之一实施方式，所述第二斜行方向与所述输送方向的内积值大于所述第一斜行方向与所述输送方向的内积值。
根据本实用新型其中之一实施方式，所述基板的所述至少一边缘包含一第一侧边及相对所述第一侧边的一第二侧边，所述第一侧边往所述第二侧边的方向定义为所述输送方向，所述至少一第一斜行水流通道的数量为一个，所述至少一第二斜行水流通道的数量为一个，所述第一斜行水流通道邻接所述第二斜行水流通道，且所述第一斜行水流通道与所述第二斜行水流通道共同选择性地设置在所述液浮载板邻近所述第一侧边处或邻近所述第二侧边处。
综上所述，本实用新型湿式制程设备的导轮仅对应基板的侧边部，而基板的板体部是利用液浮载板所产生的薄膜层流来液浮支撑，因此本实用新型湿式制程设备的导轮便不会接触基板的板体部，进而减少对基板的板体部的磨耗。除此之外，本实用新型湿式制程设备的液浮载板所喷射的处理液可为一蚀刻液或一清洗液，即本实用新型湿式制程设备除了可利用一水刀喷头(未绘示在图中)对基板的板体部的上表面进行蚀刻或清洗等的湿式制程外，本实用新型湿式制程设备也可利用液浮载板对基板的板体部的下表面喷射处理液，以对板体部的下表面也进行蚀刻或清洗等的湿式制程，从而使本实用新型湿式制程设备达到对基板进行双面湿式制程的目的。有关本实用新型的前述及其他技术内容、特点与功效，在以下配合参考附图的实施例的详细说明中，将可清楚的呈现。
附图说明
图1为本实用新型第一实施例湿式制程设备的俯视示意图。
图2为图1所示的湿式制程设备沿剖面线X-X的剖视示意图。
图3为本实用新型第二实施例湿式制程设备的剖视示意图。
图4为本实用新型第三实施例湿式制程设备的剖视示意图。
图5为本实用新型第四实施例湿式制程设备的剖视示意图。
图6为本实用新型第五实施例湿式制程设备的剖视示意图。
其中，附图标记说明如下：
1000、2000、3000、4000、5000 湿式制程设备
1 基板
10 板体部
101 上表面
102 下表面
11 侧边部
2 槽体
20 入口
21 出口
3 导轮
4、4'、4”、4”'、4”” 液浮载板
40 直行水流通道
41 第一斜行水流通道
42 边缘
420 第一侧边
421 第二侧边
43、43' 第二斜行水流通道
5 供水泵
6 处理液
6' 薄膜层流
θ1、θ2、θ2' 夹角
A 输送方向
B 直行方向
Y1 第一斜行方向
Y2、Y2' 第二斜行方向
X-X 剖面线
具体实施方式
以下实施例中所提到的方向用语，例如：上、下、左、右、前或后等，仅是参考附加附图的方向。因此，使用的方向用语是用来说明并非用来限制本实用新型。请参阅图1以及图2，图1为本实用新型第一实施例一湿式制程设备1000的俯视示意图，图2为图1所示的湿式制程设备1000沿剖面线X-X的剖视示意图。如图1以及图2所示，湿式制程设备1000可用以支撑一基板1，基板1具有一板体部10及一侧边部11，侧边部11延伸于板体部10，板体部10具有一上表面101及相对于上表面101的一下表面102。在本实施例中，基板1可为一触控面板的玻璃基板，而湿式制程设备1000可用以对所述玻璃基板进行一湿式制程，所述湿式制程例如可为将所述玻璃基板经过蚀刻制程进行图案化的蚀刻或是经过清洗制程进行表面清洗等。
另外，湿式制程设备1000可用以沿一输送方向A输送基板1，其中输送方向A为如图1所示由虚线所绘示的基板1往由实线所绘示的基板1移动的方向。湿式制程设备1000包含一槽体2、多个导轮3以及多个液浮载板4，槽体2用以容置基板1，多个导轮3设置在槽体2内，且多个导轮3对应于基板1的侧边部11并用以支撑侧边部11，多个液浮载板4设置在板体部10的下表面102下方且彼此邻接，且多个液浮载板4用以对下表面102喷射一处理液6，以在下表面102与多个液浮载板4间形成一薄膜层流6'，其中薄膜层流6'可用以液浮支撑基板1的板体部10。另外，槽体2上形成有一入口20 及一出口21，使导轮3可将基板1通过入口20送入槽体2内，或使导轮3可将基板1通过出口21送出槽体2外。
综上所述，本实用新型湿式制程设备1000的液浮载板4所产生的薄膜层流6'可液浮支撑基板1的板体部10，且本实用新型湿式制程设备1000的导轮3可支撑基板1的侧边部11，进而使基板1可稳固地在槽体2内进行湿式制程。另外，本实用新型湿式制程设备1000的导轮3仅对应基板1的侧边部11，而基板1的板体部10是利用液浮载板4所产生的薄膜层流6'来液浮支撑，因此本实用新型湿式制程设备1000便可减少对基板1的板体部10的接触，进而减少对基板1的板体部10的磨耗。除此之外，本实用新型湿式制程设备1000的液浮载板4所喷射的处理液6可为一蚀刻液或一清洗液，即本实用新型湿式制程设备1000除了可利用一水刀喷头(未绘示在图中)对基板1的板体部10的上表面101进行蚀刻或清洗等的湿式制程外，本实用新型湿式制程设备1000也可利用液浮载板4对基板1的板体部10的下表面102喷射处理液6，以对板体部10的下表面102也进行蚀刻或清洗等的湿式制程，从而使本实用新型湿式制程设备1000达到对基板1进行双面湿式制程的目的。
如图1以及图2所示，各液浮载板4包含多个直行水流通道40以及一第一斜行水流通道41，各直行水流通道40的走向正交于输送方向A，第一斜行水流通道41设置在多个直行水流通道40与液浮载板4的至少一边缘42之间，且第一斜行水流通道41的走向斜交于输送方向A。值得一提的是，各液浮载板4的至少一边缘42包含一第一侧边420及相对第一侧边420的一第二侧边421，其中第一侧边420往第二侧边421的方向定义为输送方向A。在本实施例中，各液浮载板4上的第一斜行水流通道41的数量为一个，且所述个第一斜行水流通道41设置在液浮载板4邻近第一侧边420处。另外，在本实施例中，直行水流通道40的走向与第一斜行水流通道41的走向间的一夹角θ1可为5度，但本实用新型不受此限。
此外，湿式制程设备1000可还包含一供水泵5，供水泵5用以供给处理液6，且各液浮载板4的多个直行水流通道40以及第一斜行水流通道41可分别连通于供水泵5。这样一来，各直行水流通道40便可将供水泵5所供给的处理液6沿垂直于输送方向A的一直行方向B喷出，以液浮支撑基板1的板体部10并将板体部10由液浮载板4浮离。此外，第一斜行水流通道41还 可将供水泵5所供给的处理液6沿不垂直于输送方向A的一第一斜行方向Y1喷出，其中第一斜行方向Y1与输送方向A的内积值大于零，即第一斜行方向Y1在输送方向A的投影分量与输送方向A同向。这样一来，由第一斜行水流通道41沿第一斜行方向Y1喷出的处理液6便可在基板1的板体部10的下表面102与多个液浮载板4间与由多个直行水流通道40沿直行方向B喷出的处理液6共同形成能沿输送方向A流动的薄膜层流6'，使薄膜层流6'能液浮支撑板体部10，并使薄膜层流6'能沿输送方向A输送板体部10。
请参阅图3，图3为本实用新型第二实施例一湿式制程设备2000的剖视示意图。如图3所示，湿式制程设备2000与上述的湿式制程设备1000的主要不同处在，湿式制程设备2000的各液浮载板4'的第一斜行水流通道41设置在液浮载板4邻近第二侧边421处。而此实施例与上述实施例中具有相同标号的组件，其具有相同的结构设计与作用原理，为求简洁，在此不再赘述。综上所述，本实用新型湿式制程设备的各第一斜行水流通道可选择性地设置在对应的液浮载板邻近第一侧边处(例如液浮载板4的第一斜行水流通道41)或邻近第一侧边处(例如液浮载板4'的第一斜行水流通道41)，端视实际需求而定。
请参阅图4，图4为本实用新型第三实施例一湿式制程设备3000的剖视示意图。如图4所示，湿式制程设备3000与上述的湿式制程设备1000的主要不同处在，湿式制程设备3000的各液浮载板4”的第一斜行水流通道41的数量为两个，且第一斜行水流通道41分别设置在液浮载板邻近所述第一侧边与邻近所述第二侧边处。而此实施例与上述实施例中具有相同标号的组件，其具有相同的结构设计与作用原理，为求简洁，在此不再赘述。综上所述，本实用新型湿式制程设备的第一斜行水流通道可选择性地为一个(例如液浮载板4的第一斜行水流通道41)或两个(例如液浮载板4”的第一斜行水流通道41)，即液浮载板包含至少一第一斜行水流信道的结构设计，均在本实用新型所保护的范畴内，至于采用上述何者设计，端视实际需求而定。
请参阅图5，图5为本实用新型第四实施例一湿式制程设备4000的剖视示意图。如图5所示，湿式制程设备4000与上述的湿式制程设备1000的主要不同处在，湿式制程设备4000还包含一第二斜行水流通道43，在本实施例中，第一斜行水流通道41与第二斜行水流通道43共同设置在湿式制程设 备4000的一液浮载板4”'邻近第二侧边421处，但本实用新型不受此限，例如第一斜行水流通道41与第二斜行水流通道43也可共同选择性地设置在液浮载板4”'邻近第一侧边420处，或第一斜行水流通道41与第二斜行水流通道43也可分别设置在液浮载板4”'邻近第一侧边420与邻近第二侧边421处，端视实际需求而定。
此外，第二斜行水流通道43的走向斜交于输送方向A，使第二斜行水流通道43能将处理液6沿不垂直于输送方向A的一第二斜行方向Y2喷出，这样一来，由多个直行水流通道40沿直行方向B喷出的处理液6、由第一斜行水流通道41沿第一斜行方向Y1喷出的处理液6以及由第二斜行水流通道43沿第二斜行方向Y2喷出的处理液6便可共同在基板1的板体部10的下表面102与多个液浮载板4间形成能沿输送方向A流动的薄膜层流6'，使薄膜层流6'能液浮支撑板体部10，并使薄膜层流6'能沿输送方向A输送板体部10。
除此之外，第一斜行方向Y1与输送方向A的内积值大于零，且第二斜行方向Y2与输送方向A的内积值也大于零，即第一斜行方向Y1在输送方向A的投影分量与输送方向A同向，且第二斜行方向Y2在输送方向A的投影分量也与输送方向A同向。在本实施例中，第一斜行方向Y1与输送方向A的内积值与第二斜行方向Y2等于输送方向A的内积值，即第一斜行方向Y1在输送方向A的投影分量等于第二斜行方向Y2在输送方向A的投影分量，且第一斜行方向Y1平行于第二斜行方向Y2。换句话说，直行水流通道40的走向与第一斜行水流通道41的走向间的夹角θ1等于直行水流通道40的走向与第二斜行方向Y2的一夹角θ2，且在本实施例中，夹角θ1与夹角θ2均可为5度，但本实用新型不受此限。而此实施例与上述实施例中具有相同标号的组件，其具有相同的结构设计与作用原理，为求简洁，在此不再赘述。
请参阅图6，图6为本实用新型第五实施例一湿式制程设备5000的剖视示意图。如图6所示，湿式制程设备5000与上述的湿式制程设备4000的主要不同处在，湿式制程设备5000的一液浮载板4””上的第一斜行水流通道41与一第二斜行水流通道43'共同设置在液浮载板4””邻近第一侧边420处，第二斜行水流通道43'设置在第一斜行水流通道41与第一侧边420之间，且第二斜行水流通道43'的一第二斜行方向Y2'与输送方向A的内积值大于第一斜行水流通道41的第一斜行方向Y1与输送方向A的内积值，即直行水流通道 40的走向与第一斜行水流通道41的走向间的夹角θ1小于直行水流通道40的走向与第二斜行水流通道43'的走向间的一夹角θ2'。换句话说，第一斜行水流通道41的走向与第二斜行水流信道43'的走向不平行。而此实施例与上述实施例中具有相同标号的组件，其具有相同的结构设计与作用原理，为求简洁，在此不再赘述。
相较现有技术，本实用新型湿式制程设备的导轮仅对应基板的侧边部，而基板的板体部是利用液浮载板所产生的薄膜层流来液浮支撑，因此本实用新型湿式制程设备的导轮便不会接触基板的板体部，进而减少对基板的板体部的磨耗。除此之外，本实用新型湿式制程设备的液浮载板所喷射的处理液可为一蚀刻液或一清洗液，即本实用新型湿式制程设备除了可利用一水刀喷头(未绘示在图中)对基板的板体部的上表面进行蚀刻或清洗等的湿式制程外，本实用新型湿式制程设备也可利用液浮载板对基板的板体部的下表面喷射处理液，以对板体部的下表面也进行蚀刻或清洗等的湿式制程，从而使本实用新型湿式制程设备达到对基板进行双面湿式制程的目的。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种湿式制程设备，用以沿一输送方向输送一基板，所述基板具有一板体部及一侧边部，所述侧边部延伸于所述板体部，所述板体部具有一上表面及相对于所述上表面的一下表面，其特征在于，所述湿式制程设备包含：
一槽体，用以容置所述基板；
多个导轮，设置在所述槽体内，所述多个导轮对应于所述基板的所述侧边部并用以支撑所述侧边部；以及
多个液浮载板，设置在所述下表面下方且彼此邻接，各液浮载板包含：
多个直行水流通道，其走向正交于所述输送方向，使所述多个直行水流通道能将一处理液以垂直于所述输送方向的一直行方向喷出，借以液浮支撑所述板体部；以及
至少一第一斜行水流通道，设置在所述多个直行水流通道与所述液浮载板的至少一边缘之间，所述至少一第一斜行水流通道的走向斜交于所述输送方向，使所述至少一第一斜行水流通道能将所述处理液沿不垂直于所述输送方向的一第一斜行方向喷出，以在所述下表面与所述多个液浮载板间形成能沿所述输送方向流动的一薄膜层流，所述薄膜层流用以液浮支撑所述板体部。
2.如权利要求1所述的湿式制程设备，其特征在于，所述第一斜行方向与所述输送方向的内积值大于零。
3.如权利要求1所述的湿式制程设备，其特征在于，各液浮载板的所述至少一边缘包含一第一侧边及相对所述第一侧边的一第二侧边，所述第一侧边往所述第二侧边的方向定义为所述输送方向，各液浮载板上的所述至少一第一斜行水流通道的数量为一个，且所述第一斜行水流通道选择性地设置在对应的所述液浮载板邻近所述第一侧边处或邻近所述第二侧边处。
4.如权利要求1所述的湿式制程设备，其特征在于，所述基板的所述至少一边缘包含一第一侧边及相对所述第一侧边的一第二侧边，所述第一侧边往所述第二侧边的方向定义为所述输送方向，所述至少一第一斜行水流通道的数量为两个，且所述两个第一斜行水流通道分别设置在所述液浮载板邻近所述第一侧边与邻近所述第二侧边处。
5.如权利要求1所述的湿式制程设备，其特征在于，还包含：
至少一第二斜行水流通道，设置在所述至少一第一斜行水流通道与所述液浮载板的至少一边缘之间，所述至少一第二斜行水流通道的走向斜交于所述输送方向，使所述至少一第二斜行水流通道能将所述处理液沿不垂直于所述输送方向的一第二斜行方向喷出，以在所述下表面与所述多个液浮载板间形成能沿所述输送方向流动的所述薄膜层流。
6.如权利要求5所述的湿式制程设备，其特征在于，所述第一斜行方向与所述输送方向的内积值大于零，且所述第二斜行方向与所述输送方向的内积值大于零。
7.如权利要求6所述的湿式制程设备，其特征在于，所述第二斜行方向与所述输送方向的内积值等于所述第一斜行方向与所述输送方向的内积值。
8.如权利要求7所述的湿式制程设备，其特征在于，所述基板的所述至少一边缘包含一第一侧边及相对所述第一侧边的一第二侧边，所述第一侧边往所述第二侧边的方向定义为所述输送方向，所述至少一第一斜行水流通道的数量为一个，所述至少一第二斜行水流通道的数量为一个，所述第一斜行水流通道邻接所述第二斜行水流通道，且所述第一斜行水流通道与所述第二斜行水流通道共同选择性地设置在所述液浮载板邻近所述第一侧边处或邻近所述第二侧边处。
9.如权利要求6所述的湿式制程设备，其特征在于，所述第二斜行方向与所述输送方向的内积值大于所述第一斜行方向与所述输送方向的内积值。
10.如权利要求9所述的湿式制程设备，其特征在于，所述基板的所述至少一边缘包含一第一侧边及相对所述第一侧边的一第二侧边，所述第一侧边往所述第二侧边的方向定义为所述输送方向，所述至少一第一斜行水流通道的数量为一个，所述至少一第二斜行水流通道的数量为一个，所述第一斜行水流通道邻接所述第二斜行水流通道，且所述第一斜行水流通道与所述第二斜行水流通道共同选择性地设置在所述液浮载板邻近所述第一侧边处或邻近所述第二侧边处。
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