TWI400163B - Anti-glare hard coating - Google Patents
Anti-glare hard coating Download PDFInfo
- Publication number
- TWI400163B TWI400163B TW095118623A TW95118623A TWI400163B TW I400163 B TWI400163 B TW I400163B TW 095118623 A TW095118623 A TW 095118623A TW 95118623 A TW95118623 A TW 95118623A TW I400163 B TWI400163 B TW I400163B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- film
- hard coat
- resin
- layer
- fine particles
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
本發明係關於一種防眩性硬質塗膜,其係於透明薄膜基材之至少單面上設有硬質塗層。更加詳細的是關於一種防眩性硬質塗膜、含有該防眩性硬質塗膜之偏光板以及圖像顯示裝置,上述防眩性硬質塗膜可較好地適用於偏光板等光學元件或CRT(Cathode Ray Tube,陰極射線管)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)以及電致發光顯示器(ELD)等圖像顯示裝置。
於各種圖像顯示裝置之一部分中含有LCD,但伴隨著LCD高視野角化、高精細化、高速應答性、色彩再現性等相關技術革新,利用LCD之實際應用亦由筆記型個人電腦或監控器正逐漸轉向電視。LCD之基本構成如下:以隔有特定間隔之間隙,介以間隔片,分別對向配置有具備透明電極之平板狀玻璃基板,於該玻璃基板間注入液晶材料後密封,作為液晶單元,進而,於一對玻璃基板之外側面分別設有偏光板。先前,於夾持於兩張透明塑膠膜基材間之偏光板表面,以噴沙或壓花輥、化學蝕刻等適當方式實行粗面化處理,於偏光板表面賦與微細凹凸構造,另外,於設於透明塑膠膜基材表面之硬質塗層上,以分散含有微粒子而賦與微細凹凸構造的方法等實行防眩處理。
於透明塑膠膜基材上實行過防眩處理之防眩性硬質塗膜,其於透明塑膠膜基材上形成2~10 μm左右之薄塗膜後,獲得熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等電離放射線硬化型樹脂中分散有粒徑為數μm之球形或不定形之無機或有機微粒子者。
由於將LCD等平面顯示器使用於家庭用電視中,則產生有如下要求:提高高視野角化、高速應答化、高精細化等顯示品位,提高可防止於顯示器表面上映出室內螢光燈或視聽者影像的防眩性,進一步提高明亮處所之顯示對比度,即提高黑色顯示時之黑色濃度。
但是,防眩性與明亮處所之顯示對比度具有折衷關係。因此,於強調顯示對比度之實際應用中,則犧牲防眩性,而將平滑表面形狀之硬質塗層配置於顯示器顯示面之最表面。又,於強調防眩性之實際應用中,則將凹凸形狀之硬質塗層(防眩層)配置於顯示器顯示面之最表面。
至於明亮處所之顯示對比度降低之原因,可認為係由於平滑表面形狀之硬質塗層或防眩層表面之反射以及防眩層內部之光散射造成的影響。為抑制因表面反射而降低顯示對比度,則於顯示器顯示面之最表面適當設有防反射層,藉此可減低外部光線於顯示面上之反射,從而可提高明亮處所之顯示對比度。
即使單獨使用於硬質塗層樹脂中添加微粒子而獲得之防眩性硬質塗層,亦無法回避上述折衷關係。為獲得特定防眩特性而適當調整微粒子之添加量,則會降低顯示對比度。於如此之防眩性硬質塗膜中,用以解決顯示對比度降低之問題的方法例如揭示於下述專利文獻1中。
於專利文獻1中,揭示有一種防眩性防反射薄膜,其於透明支持體上,至少含有一層防眩性硬質塗層。於上述防眩性硬質塗層中,至少含有一種第一透光性粒子,其具有相對於防眩性硬質塗層之層厚為60%以上且未滿95%之平均粒徑,並且至少含有一種第二透光性粒子,其具有相對於相同層厚為105%以上且未滿140%之平均粒徑。但是,若係含有上述構成之防眩性防反射薄膜,則僅根據透光性微粒子之平均粒徑相對於硬質塗層膜厚的規定,難以同時提高防眩性與顯示對比度特性。
專利文獻1:日本專利特開2003-248110號公報
本發明係鑒於上述問題點而成者,其目的在於提供一種防眩性硬質薄膜,其於薄膜基材上形成有防眩性硬質塗層之情形時,可維持防眩性,並且可抑制顯示器之顯示對比度下降。又,可提供一種含有上述防眩性硬質塗膜之偏光板以及具有該等之圖像顯示裝置。
本專利發明者等為解決上述先前之問題點,就防眩性硬質塗膜、含有該防眩性硬質塗膜之偏光板或含有該等之圖像顯示裝置加以探討。其結果發現:藉由採用下述構成而可實現上述目的,從而最終完成本發明。
即,為解決上述課題,本發明之防眩性硬質塗膜係於透明薄膜基材之至少一面上含有微粒子,且含有表面呈凹凸狀之硬質塗層者,其特徵在於:上述微粒子之平均粒徑為6 μm~15 μm,且藉由上述微粒子而形成之凹凸形狀之平均傾斜角θa為0.4°以上且1.5°以下,顯示對比度特性為60以上。
藉由將微粒子之平均粒徑設為6 μm~15 μm,可使防眩性硬質塗膜表面成為非常光滑之凹凸形狀。又,若將上述凹凸形狀之平均傾斜角θa設為0.4°~1.5°,則可使防眩性良好。進而,若將顯示對比度特性設為60以上,則可使明亮處所之顯示品位良好。即,若含有上述構成,則可提供一種防眩性硬質塗膜,其防眩性與顯示對比度一併得以提高。另外,顯示對比度特性係根據(防眩性硬質塗膜之對比度比)/(硬質塗膜之對比度比)×100計算出之數值。又,對比度比係以(白顯示時之亮度/黑顯示時之亮度)所表示之數值。
於上述防眩性硬質塗膜中,上述硬質塗層之膜厚較好的是15 μm~35 μm。藉由將硬質塗層之膜厚設為15 μm以上,可防止防眩性硬質塗膜本身之硬度過低。另一方面,藉由將膜厚設為35 μm以下,可防止於防眩性硬質塗膜上產生龜裂。又,由於防眩性硬質塗膜之硬化收縮,亦可減緩硬質塗層側如內側那樣捲縮。
又,於上述防眩性硬質塗膜中,上述微粒子較好的是大致球形狀。
為解決上述課題,本發明之偏光板之特徵在於:含有上述所揭示之防眩性硬質塗膜。
藉此,可提供一種偏光板,其防眩性以及顯示對比度均良好。
為解決上述課題,本發明之圖像顯示裝置之特徵在於:含有上述所揭示之防眩性硬質塗膜或上述所揭示之偏光板。
藉此,可提供一種圖像顯示裝置,其防眩性以及顯示對比度優良且顯示品位較高。
本發明係根據上述所說明之方法,從而可發揮如下所述之效果。
即,根據本發明,若將微粒子之平均粒徑設為6 μm~15 μm,將硬質塗層之凹凸形狀之平均傾斜角θa設為0.4°~1.5°,進而將顯示對比度特性設為60以上,則可提供一種防眩性與顯示對比度兩者均極好之防眩性硬質塗膜、含有該防眩性硬質塗膜之偏光板以及含有該等之圖像顯示裝置。
關於本發明之實施形態,參照圖式如下說明。圖1係表示本實施形態之防眩性硬質塗膜之概略的剖面模式圖。
於同圖中所示,本實施形態之防眩性硬質塗膜4,其構成如下:於含有透明性塑膠之薄膜基材1之一面上,積層有防眩性硬質塗層(以下,僅稱為硬質塗層)2。另外,於圖1中雖未表示,但硬質塗層2亦可設於薄膜基材1之兩面上。又,於圖1中,例示有硬質塗層2為單層之情形,若係含有本發明之硬質塗層者,該等亦可為兩層以上。
若上述薄膜基材1係可見光線光線透過率優良(較好的是光線透過率90%以上)且透明性優良者(較好的是濁度值1%以下),則沒有特別限制。具體而言,例如,可例舉含有如下物質之薄膜:聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等之聚酯系聚合物,二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等之纖維素系聚合物,聚碳酸酯系聚合物,聚甲基丙烯酸甲酯等之丙烯酸系聚合物等透明聚合物。又,亦可例舉含有如下物質之薄膜:聚苯乙烯、丙烯腈/苯乙烯共聚物等之苯乙烯系聚合物;聚乙烯,聚丙烯,具有環狀乃至降冰片烯構造之聚烯烴,乙烯/丙烯共聚物等之烯烴系聚合物;氯乙烯系聚合物;尼龍或芳香族聚醯胺等之醯胺系聚合物等透明聚合物。進而,亦可例舉含有如下物質之薄膜等:醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏氯乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之混合物等透明聚合物。特別是可較好地使用光學性雙折射較少之物質。
將本實施形態之防眩性硬質塗膜4作為保護薄膜用於偏光板之情形時,作為薄膜基材1,較好的是三乙醯纖維素、聚碳酸酯、丙烯酸系聚合物、具有環狀乃至降冰片烯構造之聚烯烴等。又,薄膜基材1亦可係如後所述之偏光子本身。若具有如此構成,則無需含有TAC等之保護層而可簡化偏光板構造,因此可減少製造步驟數,提高生產效率。又,可僅使用一層薄膜而使偏光板薄層化。另外,薄膜基材1係偏光子之情形時,硬質塗層2可發揮先前作為保護層之作用。又,防眩性硬質塗膜兼有作為安裝於液晶單元表面上之蓋板所發揮之功能。
可適當規定薄膜基材1之厚度,一般而言,考慮到強度或操作性等之作業性、薄層性等方面,可設為10~500 μm左右。特別好的是20~300 μm,更好的是30~200 μm。進而,對於薄膜基材1之折射率並無特別限制,通常為1.30~1.80左右,特別好的是1.40~1.70。
上述硬質塗層2係於樹脂黏合劑2a中加入微粒子2b,其表層部分形成為凹凸狀之層。
上述硬質塗層2係將丙烯酸胺基甲酸酯(A成分)、(甲基)丙烯酸多元醇酯(B成分)以及(甲基)丙烯酸烷酯之聚合物、共聚物或上述聚合物與共聚物之混合物(C成分)作為形成材料而構成;上述(甲基)丙烯酸烷酯含有具有羥基與丙烯醯基中至少一個基的烷基。
作為上述丙烯酸胺基甲酸酯(A成分),可使用含有(甲基)丙烯酸及/或其酯、多元醇、二異氰酸酯作為構成成分者。例如,可使用以下述方式加以製造者:由(甲基)丙烯酸及/或其酯與多元醇,製成含有至少一個羥基之(甲基)丙烯酸羥酯,使其與二異氰酸酯反應。(甲基)丙烯酸係丙烯酸及/或甲基丙烯酸,於本發明中(甲基)具有相同意思。該等各構成成分可為一種,或亦可併用兩種以上。
作為(甲基)丙烯酸之酯,可例舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯以及(甲基)丙烯酸丁酯等之(甲基)丙烯酸烷酯,(甲基)丙烯酸環己酯等之(甲基)丙烯酸環烷酯等。
上述多元醇係至少含有兩個羥基之化合物,例如可例舉:乙二醇、1,3-丙二醇、1,2-丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、新戊二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、羥基特戊酸新戊二醇酯、環己烷二羥甲基、1,4-環己二醇、螺二醇、三環癸二羥甲基、氫化雙酚A、環氧乙烷加成雙酚A、環氧丙烷加成雙酚A、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、丙三醇、3-甲基戊烷-1,3,5-三醇、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇以及葡萄糖類等。
作為上述二異氰酸酯,可使用芳香族、脂肪族或脂環族之各種二異氰酸酯類,例如可例舉:四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4-二苯基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、3,3-二甲基-4,4-二苯基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯以及4,4-二苯基甲烷二異氰酸等,進而包含該等之氫化物等。
至於上述丙烯酸胺基甲酸酯(A成分)之添加量,若過少則硬質塗層之柔軟性以及密著性會降低,若過多則硬化後之硬質塗層硬度會降低。因此,相對於硬質塗層形成材料之總樹脂成分(A~C成分之合計量,或於存有添加樹脂材料等之情形時含有添加樹脂材料等之合計量),丙烯酸胺基甲酸酯(A成分)較好的是15重量%~55重量%,更好的是25重量%~45重量%。若相對於硬質塗層形成材料之總樹脂成分,丙烯酸胺基甲酸酯(A成分)之添加量超過55重量%,則存有硬質塗層性能降低而不可取的情形。又,若添加未滿15重量%,則存有無法提高柔軟性或密著性而不可取的情形。
作為上述(甲基)丙烯酸多元醇酯(B成分)之構成成分,例如可例舉:季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯以及1,6-己二醇(甲基)丙烯酸酯等。又,特別好的是含有季戊四醇三丙烯酸酯與季戊四醇四丙烯酸酯之混合成分。
相對於丙烯酸胺基甲酸酯(A成分),(甲基)丙烯酸多元醇酯(B成分)之添加量較好的是70重量%~180重量%之比例,更好的是100重量%~150重量%之比例。若(甲基)丙烯酸多元醇酯(B成分)之添加量相對於丙烯酸胺基甲酸酯(A成分)超過180重量%之比例,則硬質塗層之硬化收縮會變大,其結果是,存有硬質塗膜之捲縮變大,或彎曲性降低而不可取的情形。又,若未滿70重量%之比例時,則存有硬質塗層性、即硬度或耐擦傷性降低而不可取的情形。
對於上述C成分中之烷基,並無特別限定,但較好的是例如碳數為1~10之烷基。又,烷基可為直鏈狀,亦可為分支狀。至於上述C成分,例如可例舉:含有下述通式(1)之重複單位之聚合物、共聚物或上述聚合物與共聚物之混合物。更加具體而言,例如可例舉:由(甲基)丙烯酸2,3-二羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-丙烯醯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-丙烯醯氧基-3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2,3-二丙烯醯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-丙烯醯氧基乙酯等單體所形成之聚合物、共聚物或上述聚合物與共聚物之混合物。
於上述通式(1)中,R1
係表示H基或CH3
基,R2
係表示CH2
CH2
X基或以下述通式(2)表示之官能基。
上述X係表示H基或以下述通式(3)表示之丙烯醯基,各X可相同,亦可不同。
至於上述C成分之添加量,相對於丙烯酸胺基甲酸酯(A成分),較好的是25重量%~110重量%之比例,更好的是45重量%~85重量%之比例。若添加量超過110重量%之情形時,存有塗布性降低而不可取的情形。又,若添加量未滿25%之情形時,存有捲縮產生長度顯著增大而不可取的情形。
另外,於本發明中,藉由含有該C成分而可抑制硬質塗層2之硬化收縮,其結果是可防止產生捲縮。就硬質塗膜等之製造方面之觀點而言,較好的是將捲縮產生長度至少控制於30 mm以內,藉由將捲縮產生長度控制於該範圍內,可進一步提高作業性以及生產效率。
於上述硬質塗層2中,含有微粒子2b。微粒子2b係作為主要用以賦與防眩性之防眩性微粒子而發揮功能。微粒子2b可分類為無機微粒子與有機微粒子。作為上述無機微粒子並無特別限定,例如可例舉:氧化矽、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋅、氧化錫、氧化鋯、氧化鈣、氧化銦、碳酸鈣、硫酸鋇、滑石粉、高嶺土以及硫酸鈣等。又,作為有機微粒子並無特別限定,例如可例舉:聚甲基丙烯酸乙基丙烯酸酯樹脂粉末、矽酮系樹脂粉末、聚苯乙烯樹脂粉末、聚碳酸酯樹脂粉末、丙烯酸-苯乙烯系樹脂粉末、苯代三聚氰胺系樹脂粉末以及三聚氰胺系樹脂粉末;進而可例舉:聚烯烴系樹脂粉末、聚酯系樹脂粉末、聚醯胺樹脂粉末、聚醯亞胺系樹脂粉末、聚氟化乙烯樹脂粉末以及聚乙烯樹脂粉末等。該等無機微粒子與有機微粒子亦可併用兩種以上。
上述微粒子2b之平均粒徑,其更好的是硬質塗層2膜厚之30%~50%。若平均粒徑未滿30%,則存有如下缺點:於表面上無法形成足夠之凹凸形狀,無法賦與足夠之防眩功能。另一方面,若平均粒徑超過50%,則存有如下缺點:表面之凹凸差變得過大,惡化視覺效果,反射光線散射變強且會出現白影。
至於上述微粒子2b之添加量並無特別限定,可適當加以設定。具體而言,相對於硬質塗層形成材料100重量份,較好的是2~70重量份,更好的是4~50重量份,特別好的是15~40重量份。
至於微粒子2b之折射率,必須根據與上述硬質塗層2之黏合劑成分2a之折射率的關係適當加以選擇,但較好的是於1.40以上且1.70以下之範圍內適當選擇。又,為儘量抑制於上述樹脂黏合劑2a與微粒子2b之界面上產生之光線散射,必須減小樹脂黏合劑2a與微粒子2b之折射率差。樹脂黏合劑2a之折射率通常為1.5~1.6。因此,作為微粒子2b,較好的是使用含有有機物微粒子或氧化矽等無機物之微粒子;上述有機物微粒子具有接近有機樹脂黏合劑2a之折射率數值的折射率。微粒子2b之折射率相對於硬質塗層2之折射率的差值較好的是未滿0.05。若折射率差為0.05以上時,則有時會產生如下缺點:光線散射會變強,顯示圖像變得不鮮明,或顯示對比度降低。又,微粒子2b之折射率相對於硬質塗層2之折射率的差值更好的是未滿0.03,特別好的是未滿0.02。
微粒子2b之平均粒徑處於6 μm~15 μm之範圍內。若平均粒徑未滿6 μm時,則即使硬質塗層2之表面形狀滿足如後所述之平均傾斜角θa值,原因尚不明確,但明亮處所之顯示對比度可能仍會降低。又,若平均粒徑超過15 μm,則與硬質塗層2之膜厚相比,微粒子2b尺寸將會相對變大。因此,於形成硬質塗層2時,會難以控制微粒子2b埋沒至硬質塗層2內部之程度,微粒子2b產生聚合等而自硬質塗層2表面突出微粒子2b,產生突起狀缺陷。一般而言,使用有表面形狀平坦之硬質塗層之情形時,可將其配置於顯示器之顯示畫面上,測定明亮處所之顯示對比度值,則於顯示畫面上產生倒影,但顯示對比度值亦會變得最高(除於硬質塗層上形成有防反射層時以外)。但是,使用有含有平均粒徑處於6 μm~15 μm範圍內之微粒子2b的硬質塗層2之情形與上述硬質塗層之情形相比,明亮處所之顯示對比度值將會降低,但可抑制其大幅度降低。
又,作為微粒子2b,較好的是使用縱橫比為1.5以下之大致球形狀粒子。更好的是使用圓球狀微粒子。若於使用有縱橫比超過1.5之球形粒子或多角形粒子之情形時,則有時會難以控制藉由微粒子而形成之凹凸形狀之θa。
硬質塗層2之平均傾斜角θa必須為0.4°以上且1.5°以下。若θa未滿0.4°,則存有如下缺點:無法充分發揮防眩性,從而會產生外部光線等之倒影。另一方面,若θa超過1.5°,則會存有濁度值增大之缺點。若處於上述範圍內,則可提高硬質塗層2之防眩效果,且可較好地防止外部光線等之倒影。
於本發明中,上述平均傾斜角θa係以下述數式(1)所定義之數值。
[數1]θa=tan- 1
△a...(1)
於上述數式(1)中,如下述數式(2)所示,△a係對於由JIS B 0601(1994年度版)所規定之粗糙度曲線之基準長度L,將相鄰之峰頂點與谷底最下點之差(高度h)之合計值(h1
+h2
+h3
+...+hn
)除以上述基準長度L所得之數值。上述粗糙度曲線係自剖面曲線中藉由相位差補償型廣域濾波器去除長於特定波長之表面彎曲成分所得之曲線。又,上述剖面曲線係以與對象面成直角之平面切斷對象面時而顯現於其切口的輪廓。於圖2中表示上述粗糙度曲線、高度h以及基準線L之一例。
[數2]△a=(h1
+h2
+h3
+...+hn
)/L...(2)
將薄膜基材1之折射率與硬質塗層2之折射率差設為d,d較好的是0.04以下。更好的是0.02以下。使用聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜作為薄膜基材1之情形時,相對於硬質塗層形成材料之總樹脂成分,添加氧化鈦約35%左右作為粒徑為100 nm以下之無機超微粒子,藉此相對於聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜之折射率約1.64,可將d控制於0.02以下,且可抑制產生干擾條紋。使用三乙醯纖維素薄膜作為薄膜基材1之情形時,相對於硬質塗層形成材料之總樹脂成分,添加氧化矽約40%左右作為粒徑為100 nm以下之無機超微粒子,藉此相對於三乙醯纖維素薄膜之折射率約1.48,可以與上述相同之方式將d控制於0.02以下,且可抑制產生干擾條紋。
較好的是將上述硬質塗層2之膜厚設為15~35 μm,更好的是20~30 μm。即使將膜厚之下限值設為15 μm,但因硬質塗層2含有(甲基)丙烯酸多元醇酯(B成分),故而亦可將硬度維持為固定值以上(例如,以鉛筆硬度表示為4H以上)。又,為進一步增大硬度,即使將膜厚之上限值設為35 μm,但因硬質塗層2含有丙烯酸胺基甲酸酯(A成分)以及C成分,故而亦可充分防止產生捲縮或裂紋等。另外,於膜厚未滿15 μm之情形時,受到作為底層之薄膜基材1之影響,有時硬度會降低。另一方面,於膜厚超過35 μm之情形時,硬質塗層2本身會產生龜裂,或由於硬質塗層2之硬化收縮,硬質塗膜會於硬質塗層面上產生捲縮,造成實用性問題。另外,為根據JIS K-5400而於鉛筆硬度試驗中獲得4H以上之硬度,較好的是將膜厚設為20 μm以上。
對於硬質塗層形成材料之稀釋溶媒並無特別限定,可採用各種溶媒。具體而言,例如可例舉:二丁醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、環氧丙烷、1,4-二噁烷、1,3-二氧雜環戊烷、1,3,5-三噁烷、四氫呋喃、丙酮、甲基乙基酮、二乙基酮、二丙基酮、二異丁基酮、環戊酮、環己酮、甲基環己酮、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、醋酸甲酯、醋酸乙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、醋酸正戊酯、乙醯丙酮、二丙酮醇、乙醯醋酸甲酯、乙醯醋酸乙酯、甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、1-戊醇、2-甲基-2-丁醇、環己醇、醋酸異丁酯、甲基異丁基酮、2-辛酮、2-戊酮、2-己酮、2-庚酮以及3-庚酮等。該等可組合使用一種或兩種以上。相對於全稀釋溶媒,較好的是醋酸乙酯設為20重量%以上,更好的是25重量%以上,特別好的是處於30重量%~70重量%之範圍內。藉此,使用三乙醯纖維素作為薄膜基材1之情形時,特別是可形成密著性優良之硬質塗層2。相對於全稀釋溶媒,醋酸乙酯含量超過70重量%時,因揮發速度較快,故而容易造成塗布不均或乾燥不均;未滿20重量%之情形時,則存有與基材之密著性降低而不可取之情形。
對於硬質塗層2,例如,預先以噴沙或壓花輥、化學蝕刻等適當方式,對用於形成上述硬質塗層2之薄膜表面實行粗面化處理,於薄膜表面形成微細凹凸構造,藉此組合使用將用以形成硬質塗層2之材料本身表面形成為微細凹凸構造之方法等,亦可使硬質塗層2之表面凹凸狀態成為不均勻狀態。
於硬質塗層形成材料中可添加各種勻化劑。作為勻化劑,可適當使用氟系或矽酮系勻化劑,但更好的是矽酮系勻化劑。作為矽酮系勻化劑,可例舉:聚二甲基矽氧烷、聚醚改性聚二甲基矽氧烷以及聚甲基烷基矽氧烷等。於該等矽酮系勻化劑中,特別好的是反應性矽酮。藉由添加反應性矽酮,可賦與表面光滑性且可持續耐擦傷性。進而,於使用有含有矽氧烷成分者作為低折射率層之情形時,若使用含有羥基者作為反應性矽酮,則可提高密著性。
作為上述反應性矽酮勻化劑,例如可例示:含有矽氧烷鍵、丙烯酸酯基以及羥基者。更加具體而言,可例舉:(1)(二甲基矽氧烷/甲基):(3-丙烯醯基-2-羥基丙氧基丙基矽氧烷/甲基):(2-丙烯醯基-3-羥基丙氧基丙基矽氧烷)=0.8:0.16:0.04莫耳比之共聚物;(2)二甲基矽氧烷:羥基丙基矽氧烷:6-異氰酸異氰脲酸己酯:脂肪族聚酯=6.3:1.0:2.2:1.0莫耳比之共聚物;(3)二甲基矽氧烷:末端為丙烯酸酯之甲基聚乙二醇丙基醚矽氧烷:末端為羥基之甲基聚乙二醇丙基醚矽氧烷=0.88:0.07:0.05莫耳比之共聚物等。
相對於防眩性硬質塗層形成材料之總樹脂成分100重量份,勻化劑之添加量較好的是5重量份以下,更好的是處於0.01~5重量份之範圍內。
於硬質塗層形成材料之硬化方法中使用紫外線之情形時,若於硬質塗層形成材料中預先添加氟系或矽酮系勻化劑,則於預備乾燥以及溶媒乾燥時,氟系、矽酮系勻化劑會滲出至空氣界面。因此,可防止由於氧而阻礙紫外線硬化型樹脂之硬化,於硬質塗層2之最表面亦可獲得足夠硬度之硬質塗層2。又,藉由矽酮系勻化劑滲出至硬質塗層2表面,可賦與該硬質塗層2光滑性。因此,亦可提高耐擦傷性。
根據需要,於無損性能之範圍內,亦可於上述硬質塗層2之形成材料中添加顏料、填充劑、分散劑、可塑劑、紫外線吸收劑、界面活性劑、防氧化劑以及黏流性質化劑等。該等添加劑係可單獨使用,亦可併用兩種以上。
於本實施形態之硬質塗層形成材料中,可使用先前公知之光聚合起始劑。例如可使用如下者:2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、苯乙酮、二苯甲酮、噸酮、3-甲基苯乙酮、4-氯代二苯甲酮、4,4'-二甲氧基二苯甲酮、安息香丙基醚、苄基二甲基縮酮、N,N,N',N'-四甲基-4,4'-二胺基二苯甲酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-離子以及其他塞噸酮系化合物等。
形成上述硬質塗層2時,於薄膜基材1上塗布至少含有丙烯酸胺基甲酸酯(A成分)、(甲基)丙烯酸多元醇酯(B成分)以及C成分之硬質塗層形成材料,其後加以硬化。塗布硬質塗層形成材料時,可將硬質塗層形成材料作為溶解於溶媒中之溶液加以塗布。於將硬質塗層形成材料作為溶液加以塗布之情形時,乾燥後再硬化。
作為於薄膜基材1上塗布上述硬質塗層形成材料之方法,可使用如下公知之塗布法:噴泉塗布、模具塗布、旋塗、噴霧塗布、凹版印刷塗布、滾筒塗布以及棒塗等。
對於上述硬質塗層形成材料之硬化方法並無特別限制,但較好的是電離放射線硬化。於該方法中可使用各種活性能量,但較好的是紫外線。作為能量線源,較好的是例如:高壓水銀燈、鹵素燈、氙氣燈、金屬鹵素燈、氮雷射、電子線加速裝置以及放射性元素等之線源。作為紫外線波長365 nm時之累積曝光量,能量線源之照射量較好的是50~5000 mJ/cm2
。於照射量未滿50 mJ/cm2
之情形時,因硬化較不充分,故而有時硬質塗層之硬度將會降低。又,若超過5000 mJ/cm2
,則有時硬質塗層會帶有顏色,透明性降低。
本實施形態之防眩性硬質塗膜4即使未設有用以減少光線表面反射之防反射層,亦可表示出良好之顯示對比度特性。但是,於本發明之防眩性硬質塗膜上設置防反射層,對形成防眩性防反射硬質塗膜並無妨礙。
於圖3中,表示設有防反射層之防眩性防反射硬質塗膜。光線接觸物體,則於物體界面上產生光反射,於物體內部產生光吸收、光散射,重複上述現象,光線透過至物體背面。於圖像顯示裝置中安裝有硬質塗膜時,可例舉空氣與硬質塗層界面之光線反射作為圖像可見度降低之要因之一。防反射層5係可減輕其表面反射者。另外,於圖3中雖未表示,但硬質塗層2以及防反射層5亦可設於薄膜基材1之兩面。又,於圖3中,例示有分別各設置有一層硬質塗層2以及防反射層5之情形,但若係含有本發明之硬質塗層2者,則亦可設置兩層以上之防反射層5。
作為防反射層5,可例舉於硬質塗層2表面上積層有嚴格控制膜厚與折射率之光學薄膜(防反射層)者。其係相互抵消利用有光線干擾效果之入射光與反射光經過逆轉之相位,藉此表現出防反射功能之方法。
於依據光線干擾效果設計防反射層5時,作為提高該干擾效果之方法,存有使防反射層5與硬質塗層2之折射率差變大之方法。於基材上積層2~5層光學薄膜(嚴格控制上述膜厚與折射率之薄膜)之多層防反射層中,僅以特定厚度而形成複數層折射率不同之成分,藉此可增加防反射層5之光學設計自由度,進一步提高防反射效果,分光反射特性亦可於可見光區域內變得平緩。因要求有光學薄膜之各層膜厚精度,一般而言,可以作為乾方式之真空蒸鍍、濺鍍、CVD等形成各層。
作為防反射層5,可使用氧化鈦、氧化鋯、氧化矽以及氟化鎂等,但為進一步表現出防反射功能,較好的是使用氧化鈦層與氧化矽層之積層體。上述積層體係於硬質塗層上形成有高折射率之氧化鈦層(折射率:約1.8)且於該氧化鈦層上形成有低折射率之氧化矽層(折射率:約1.45)之兩層積層體;更好的是於該兩層積層體上,以該順序形成有氧化鈦層與氧化矽層之四層積層體。藉由設置如此之兩層積層體或四層積層體之防反射層,可均勻減少可見光線波長區域(380~780 nm)之反射。
又,藉由於薄膜基材1上積層單層光學薄膜,亦可表現出防反射效果。亦可將防反射層5設計為單層,為最大限度發揮防反射功能,必須增大防反射層5與硬質塗層2之折射率差。若將上述防反射層5之膜厚設為d,折射率設為n,入射光波長設為λ,則防反射層5之膜厚與其折射率之間成立有nd=λ/4之關係式。於防反射層5之折射率小於薄膜基材1之折射率,防反射層5係低折射率層之情形時,於上述關係式成立之條件下,反射率為最小。例如,防反射層5之折射率為1.45之情形時,相對於可見光線中550 nm波長之入射光,反射率最小之防反射層5之膜厚為95 nm。
表現出防反射功能之可見光線波長區域係380~780 nm,特別是視感度較高之波長區域處於450~650 nm之範圍內,通常將其中心波長550 nm之反射率設計為最小。
以單層方式設計防反射層5之情形時,其膜厚精度不如多層防反射層之膜厚精度嚴格,係相對於設計膜厚處於±10%之範圍內,即,設計波長為95 nm之情形時,若處於86 nm~105 nm之範圍內,則可放心使用。因此,一般而言,形成單層防反射層5時,可採用作為濕方式之噴泉塗布、模具塗布、旋塗、噴霧塗布、凹版印刷塗布、滾筒塗布以及棒塗等之塗布法。
作為以單層方式形成防反射層5之材料,例如可例舉:紫外線硬化型丙烯酸樹脂等之樹脂系材料,於樹脂中分散有膠體二氧化矽等無機微粒子之混合系材料,使用有四乙氧基矽烷、鈦四乙基氧化物等金屬烷氧化物之溶膠-凝膠系材料等。又,為對於各種材料賦與表面之防汚染性,可使用含有氟基之化合物。考慮到耐擦傷性方面,無機成分含量較多之防反射層材料可能較為優良,特別好的是溶膠-凝膠系材料。溶膠-凝膠系材料可部分縮合後加以使用。
作為含有上述氟基之溶膠-凝膠系材料,可例示全氟烷基烷氧基矽烷。作為全氟烷基烷氧基矽烷,例如可例舉以通式:CF3
(CF2
)n
CH2
CH2
Si(OR)3
(式中,R係表示碳數1~5個之烷基,n係表示0~12之整數)所表示之化合物。具體而言,例如可例舉:三氟丙基三甲氧基矽烷、三氟丙基三乙氧基矽烷、十三氟辛基三甲氧基矽烷、十三氟辛基三乙氧基矽烷、十七氟癸基三甲氧基矽烷以及十七氟癸基三乙氧基矽烷等。於該等化合物中,較好的是上述n為2~6者。
作為低折射率層(防反射層),較好的是使用由硬質塗層形成材料所構成者,該硬質塗層形成材料含有於日本專利特開2004-167827號公報中所揭示之根據乙二醇換算所得之數平均分子量係500~10000之矽氧烷低聚物,以及根據聚苯乙烯換算所得之數平均分子量為5000以上且具有氟烷基構造與聚矽氧烷構造之氟化物。
於低折射率層(防反射層)中,為改善膜強度而可添加無機溶膠。作為無機溶膠並無特別限定,例如可例舉:二氧化矽、氧化鋁以及氟化鎂等,但特別好的是二氧化矽溶膠。相對於低折射率形成材料之總固形成分100重量份,可於10~80重量份之範圍內適當設定無機溶膠之添加量。作為無機溶膠之粒徑,較好的是處於2~50 nm之範圍內者,更好的是處於5~30 nm之範圍內者。
於防反射層5中,以減少折射率為目的,可含有中空呈球狀之氧化矽超微粒子。對於中空呈球狀之氧化矽超微粒子,較好的是平均粒子徑為5 nm~300 nm左右,該超微粒子係於具有細孔之外殼內部形成有空洞之中空球狀,於該空洞內包含有調製該微粒子時之溶媒及/或氣體。較好的是用以形成上述空洞之先驅體物質殘存於該空洞內。較好的是上述外殼厚度處於1 nm~50 nm左右之範圍內,且處於平均粒子徑之1/50~1/5左右之範圍內。較好的是上述外殼含有複數層被覆層。較好的是上述細孔被閉塞,上述空洞由上述外殼所密封。於防反射層5中,因維持有多孔質或空洞,可減少防反射層5之折射率而可較好地使用。
如上所述,上述氧化矽超微粒子之平均粒子徑較好的是處於5~300 nm之範圍內。於平均粒子徑未滿5 nm時,會存有下述可能性:球狀微粒子中外殼體積比例將會增加而空洞容積比例將會降低。另外,若平均粒子徑超過300 nm,則難以獲得穩定之分散液,又,含有該超微粒子之防反射層之透明性容易降低。中空呈球狀之氧化矽超微粒子之較好平均粒子徑係處於10~200 nm之範圍內。另外,上述平均粒子徑係可根據動態光散射法而計算。
例如,中空呈球狀之氧化矽超微粒子之製造方法含有下述步驟(a)~步驟(c)。
(a)用以調製核粒子分散液之步驟,該核粒子分散液係於pH值10以上之鹼性水溶液,或根據需要分散有種粒子之pH值10以上之鹼性水溶液中,同時添加矽酸鹽水溶液及/或酸性矽酸液、鹼性可溶無機化合物水溶液,以SiO2
表示氧化矽且以MOX
表示氧化矽以外之無機化合物時之莫耳比(MOX
/SiO2
)處於0.3~1.0之範圍內。
(b)於上述核粒子分散液中加入氧化矽源且於核粒子上形成第一氧化矽被覆層之步驟。
(c)於上述分散液中加入酸且去除一部分或全部之用以構成上述核粒子之元素的步驟。
上述中空呈球狀之氧化矽超微粒子分散液係藉由與各種基質成分混合,而可製成防反射形成用塗布液。所謂各種基質成分,其係指可於硬質塗層2表面上形成被膜之成分,可自符合與基材之密著性或硬度、塗布性等條件之樹脂等中選擇使用。具體而言,例如可例舉:先前所使用之聚酯樹脂、丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂、氯乙烯樹脂、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、氟樹脂、矽酮樹脂、丁醛樹脂、苯酚樹脂、醋酸乙烯樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、乳液樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂以及該等樹脂之混合物,進而可例舉該等樹脂之共聚物或改性體等之塗料用有機樹脂。又,作為上述以單層方式形成防反射層5之材料所例示之烷氧基矽烷等之水解性有機矽化合物等,可作為基質成分而使用。
使用有機樹脂作為基質成分之情形時,例如,以公知之偶合劑處理有機溶媒分散液以及根據需要處理上述超微粒子後,使用適當有機溶劑稀釋分散於有機溶媒中之有機溶媒分散液與基質,製成防反射形成用塗布液;上述有機溶媒分散液係以醇等有機溶媒取代上述中空呈球狀之氧化矽超微粒子中作為分散媒之水而得。
另一方面,使用水解性有機矽化合物作為基質成分之情形時,例如,藉由於烷氧基矽烷與醇之混合液中加入水與作為觸媒之酸或鹼,可獲得烷氧基矽烷之部分水解物,於其中混合上述分散液,根據需要以有機溶劑加以稀釋,可製成塗布液。
於塗布液中,上述氧化矽超微粒子與基質成分之重量比例較好的是處於氧化矽超微粒子:基質=1:99~9:1之範圍內。若上述重量比例超過9:1,則有時防反射層5之強度不足而欠缺實用性。另一方面,若上述重量比例未滿1:99,則有時上述氧化矽超微粒子之添加效果較難顯現。
於上述硬質塗層2表面上所形成之防反射層5之折射率,其係根據氧化矽超微粒子與基質成分等之混合比率以及所使用之基質折射率而不同,會成為1.2~1.42之低折射率。另外,本發明之氧化矽超微粒子本身之折射率係1.2~1.38。
於硬質塗膜之硬質塗層2上設有防反射層5之防眩性防反射硬質塗膜6,其於鉛筆硬度方面較好。於含有超微粒子之硬質塗層2表面形成有微小凹凸時,其會影響鉛筆之滑動性(鉛筆容易受阻,力容易傳導分散)。於設有防反射層5之情形時,凹凸變得光滑,通常,硬質塗層2之鉛筆硬度為3H左右者係可達到4H之鉛筆硬度。
作為如此之中空呈球狀之氧化矽超微粒子之製造方法,例如,可較好地採用於日本專利特開2000-233611號公報中所揭示之二氧化矽系微粒子之製造方法。
於形成防反射層(低折射率層)5時,乾燥與硬化之溫度並無特別限制,通常為60℃~150℃,較好的是於70℃~130℃下通常實行1分鐘至30分鐘,考慮到生產性之情形時,較好的是1分鐘至10分鐘左右。又,乾燥與硬化後,進而藉由實行加熱處理而可獲得高硬度之防反射硬質塗膜。加熱處理之溫度並無特別限制,通常為40℃~130℃,較好的是於50℃~100℃下通常實行1分鐘至100小時,為進一步提高耐擦傷性,更好的是實行10小時以上。另外,溫度、時間並未限制於上述範圍中,可適當加以調整。加熱時可適當採用藉由加熱板、烘箱、帶式鍋爐等加熱之方法。
因防反射層5安裝於圖像顯示裝置之最表面之頻率較高,故而容易受到來自外部環境之污染。特別是,距離身旁較近時,容易附著指紋或手垢、汗液或整發料等之汚染物,因其附著而表面反射率會產生変化,或因附著物浮現為白色而使顯示內容變得不鮮明等,與單純使用透明板等之情形相比,污染更加醒目。如此之情形時,為賦與上述防附著性、易去除性相關之功能,較好的是將含有氟基之矽烷系化合物或含有氟基之有機化合物等積層於防反射層5上。
藉由於薄膜基材1或薄膜基材1上經過塗布之硬質塗層2上實行各種表面處理,可提高薄膜基材1與硬質塗層2、薄膜基材1與偏光子或硬質塗層2與防反射層5之接著性。作為該表面處理,可使用低壓電漿處理、紫外線照射處理、電暈處理、火焰處理、酸或鹼處理。又,就鹼性鹼化處理加以具體說明,該鹼性鹼化處理係於使用三乙醯纖維素作為薄膜基材之情形時,可較好地用於表面處理。將纖維素酯薄膜表面浸漬於鹼性溶液中後,較好的是實行循環水洗、乾燥。作為鹼性溶液,可例舉氫氧化鉀溶液、氫氧化鈉溶液,氫氧化離子之規定濃度較好的是0.1 N~3.0 N,更好的是0.5 N~2.0 N。鹼性溶液溫度較好的是處於25℃~90℃之範圍內,更好的是40℃~70℃。然後,可獲得經過水洗處理、乾燥處理且實施過表面處理之三乙醯纖維素。
又,於薄膜基材1之背面(與硬質塗層2之形成面相反側之面),為防止產生捲縮,亦可實行如下所述之溶劑處理。溶劑處理係根據先前公知之方法,塗布含有溶解薄膜基材1所得之溶劑或膨脹薄膜基材1所得之溶劑的組合物。藉由塗布如此之溶劑,於薄膜基材1之背面側可賦與成圓性質,因此,含有硬質塗層2之薄膜基材1係抵消於硬質塗層2之形成面側欲產生捲縮之力而可防止捲縮產生者。
作為上述溶劑,除溶解薄膜基材之溶劑及/或膨脹薄膜基材之溶劑的混合物以外,有時亦進而含有未溶解薄膜基材之溶劑。可使用根據薄膜基材1之捲縮程度或樹脂種類且以適當比例混合有該等之組合物以及塗布量。
於進一步提高捲縮防止功能之情形時,增大溶解所使用之溶劑組成而得之溶劑及/或膨脹所使用之溶劑組成而得之溶劑的混合比率,而減小未溶解之溶劑混合比率,該方法較為有效。該混合比率較好的是(溶解所得之溶劑及/或膨脹所得之溶劑):(未溶解之溶劑)=10:0~1:9。作為含於如此之混合組合物中且溶解或膨脹有透明樹脂薄膜之溶劑,例如,存有苯、甲苯、二甲苯、二噁烷、丙酮、甲基乙基酮、N,N-二甲基甲醯胺、醋酸甲酯、醋酸乙酯、三氯乙烯、亞甲基氯化物、氯乙烯、四氯乙烷、三氯乙烷以及氯仿等。作為未溶解之溶劑,例如可例舉:甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇以及正丁醇等。
使用凹版印刷塗布、浸漬塗布、逆向塗布或擠壓塗布等,以濕膜厚(乾燥前之膜厚)為1~100 μm且更好的是5~30 μm之方式,將該等溶劑組合物塗布於薄膜基材1之表面上。
以如此方式經過塗布之各溶劑亦可於乾燥後飛散,又亦可微量殘存,但較好的是於塗布面上未殘存有溶媒之狀態。
又,於薄膜基材1之背面(與硬質塗層2之形成面相反側之面),為防止產生捲縮,亦可設置如下所述之透明樹脂層。作為上述透明樹脂層,例如可例舉:以熱可塑性樹脂、放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂以及其他反應型樹脂為主要成分之層。但於該等之內,特別好的是以熱可塑性樹脂為主要成分之層。
作為上述熱可塑性樹脂,例如可例舉:氯乙烯-醋酸乙烯共聚物、氯乙烯樹脂、醋酸乙烯樹脂、醋酸乙烯與乙烯醇之共聚物、經過部分水解之氯乙烯-醋酸乙烯共聚物、氯乙烯-偏氯乙烯共聚物、氯乙烯-丙烯腈共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物、氯化聚氯乙烯、乙烯-氯乙烯共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物等之乙烯基系聚合物或共聚物,硝基纖維素、纖維素乙酸丙酸酯、纖維素乙酸丁酸酯樹脂等之纖維素衍生物,馬來酸及/或丙烯酸之共聚物、丙烯酸酯共聚物、丙烯腈-苯乙烯共聚物、氯化聚乙烯、丙烯腈-氯化聚乙烯-苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯共聚物、丙烯酸樹脂、聚乙烯縮醛樹脂、聚乙烯縮丁醛樹脂、聚酯聚胺基甲酸酯樹脂、聚醚聚胺基甲酸酯樹脂、聚碳酸酯聚胺基甲酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、聚醯胺樹脂、胺基樹脂、苯乙烯-丁二烯樹脂、丁二烯-丙烯腈樹脂等之橡膠系樹脂,矽酮系樹脂以及氟系樹脂等。於該等熱可塑性樹脂之內,例如,使用有二乙醯纖維素等之纖維素系樹脂層特別好的是作為透明樹脂層。
又,防眩性硬質塗膜4、防眩性防反射硬質塗膜6係通常介以黏著劑或接著劑,將其薄膜基材1側黏合至使用於LCD或ELD中之光學構件上。於黏合時,對於薄膜基材1可實施與上述相同之表面處理。
作為光學構件,例如,可例舉偏光子或偏光板。偏光板一般可使用通常於偏光子之單側或兩側含有透明保護薄膜者。於偏光子之兩面上設有透明保護薄膜之情形時,表裏兩層透明保護薄膜可為相同材料,亦可為不同材料。偏光板係通常配置於液晶單元之兩側。通常,偏光板係以兩張偏光板之吸收軸相互大致直交之方式加以配置。
其次,就積層有本發明之防眩性硬質塗膜4或防眩性防反射硬質塗膜6之光學元件,以偏光板為例加以說明。本發明之防眩性硬質塗膜4或防眩性防反射硬質塗膜6係藉由使用接著劑或黏著劑等積層偏光子或偏光板,可獲得具有本發明功能之偏光板。偏光板係通常配置於液晶單元之兩側。通常,偏光板係以兩張偏光板之吸收軸相互大致直交之方式加以配置。偏光板一般可使用通常於偏光子之單側或兩側含有透明保護薄膜者。於偏光子之兩面設有透明保護薄膜之情形時,表裏兩層透明保護薄膜可為相同材料,亦可為不同材料。
作為上述偏光子,並無特別限制,可使用各種偏光子。例如可例舉:聚乙烯醇系薄膜,部分甲縮醛化之聚乙烯醇系薄膜,於乙烯/醋酸乙烯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜上吸附碘或雙色性染料等雙色性物質後經過單軸延伸者,聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系定向薄膜等。於該等之中,含有聚乙烯醇系薄膜與碘等之雙色性物質之偏光子,其較好的是偏光雙色比較高。該等偏光子之厚度並無特別限制,但一般而言為5~80 μm左右。
使用碘染色聚乙烯醇系薄膜且加以單軸延伸之偏光子係例如,可藉由將聚乙烯醇浸漬於碘水溶液中而加以染色,延伸至原長度之3~7倍後製作。根據需要,亦可浸漬於含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等水溶液中。進而,亦可根據需要,於染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中後水洗。
藉由水洗聚乙烯醇系薄膜,除可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面之污物或防結塊劑之外,亦具有防止由聚乙烯醇系薄膜膨脹而造成之染色不均等不均勻之效果。可於使用碘加以染色之後實行延伸,亦可邊染色邊延伸,又亦可於延伸之後再使用碘加以染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中實行延伸。
作為於上述偏光子之單面或兩面所設置之透明保護薄膜,較好的是透明性、機械性強度、熱穩定性、水分遮蔽性、相位差值穩定性等優良者。作為形成上述透明保護薄膜之材料,例如可例舉:聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯等之聚酯系樹脂、二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等之纖維素系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯等之丙烯酸系樹脂、聚苯乙烯或丙烯腈/苯乙烯共聚物、苯乙烯樹脂、丙烯腈/苯乙烯樹脂、丙烯腈/丁二烯/苯乙烯樹脂、丙烯腈/乙烯/苯乙烯樹脂、苯乙烯/馬來醯亞胺共聚物、苯乙烯/馬來酸酐共聚物等之苯乙烯系樹脂以及聚碳酸酯系樹脂等。又,作為形成上述透明保護薄膜之樹脂,亦可例舉:含有環系烯烴樹脂、降冰片烯系樹脂、聚乙烯、聚丙烯、乙烯/丙烯共聚物等之聚烯烴系樹脂、氯乙烯系樹脂、尼龍或芳香族聚醯胺等之醯胺系樹脂、芳香族聚醯亞胺或聚醯亞胺醯胺等之醯亞胺系樹脂、碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚醚醚酮系樹脂、聚苯硫醚系樹脂、乙烯醇系樹脂、偏氯乙烯系樹脂、乙烯縮丁醛系樹脂、芳醇系樹脂、聚甲醛系樹脂、環氧系樹脂或上述樹脂混合物等之高分子薄膜等。又,上述透明保護薄膜亦可形成為丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型、紫外線硬化型樹脂之硬化層。
又,至於日本專利特開2001-343529號公報(WO 01/37007)中所揭示之高分子薄膜,例如可例舉:包含(A)於側鏈上含有取代及/或非取代醯亞胺基之熱可塑性樹脂、(B)於側鏈上含有取代及/或非取代苯基與腈基之熱可塑性樹脂的樹脂組合物。作為具體例,可例舉:包含含有異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺之交互共聚物以及丙烯腈/苯乙烯共聚物之樹脂組合物的高分子薄膜。薄膜係可使用含有樹脂組合物之混合擠壓品等之薄膜。因該等薄膜之相位差較小且光彈性係數較小,用於偏光板等保護薄膜之情形時,可消除因畸變而造成之不均等缺陷,又,因透濕度較小,故而加濕耐久性優良。
作為上述透明保護薄膜,考慮到偏光特性或耐久性等方面,較好的是使用三乙醯纖維素等之纖維素系樹脂與降冰片烯系樹脂。具體而言,可例舉:富士膠片(股份公司)製造製品名「富士達」、或日本ZEON(股份公司)製造 製品名「ZEONOR」、JSR(股份公司)製造 製品名「Arton」等。
對於上述透明保護薄膜之厚度,可適當加以規定,但通常考慮到強度或操作性等之作業性、薄層性等方面,規定為1~500 μm左右。更好的是5~200 μm。特別好的是10~150 μm。若處於上述範圍,則即使機械性保護偏光子,曝露於高溫高濕下,偏光子亦不會收縮,可保持穩定之光學特性。
又,對於透明保護薄膜,較好的是盡可能沒有上色。因此,較好的是使用以Rth=(nx-nz)×d(其中,nx係薄膜平面內之遲相軸方向之折射率,nz係薄膜厚方向之折射率,d係薄膜膜厚)表示之薄膜膜厚方向之相位差值係-90 nm~+75 nm之保護薄膜。藉由使用膜厚方向之相位差值(Rth)係-90 nm~+75 nm者,可幾乎消除因保護薄膜所造成之偏光板著色(光學性著色)。膜厚方向相位差值(Rth)更好的是-80 nm~+60 nm,特別好的是-70 nm~+45 nm。
因薄膜面內之相位差值與膜厚方向之相位差值對液晶顯示裝置之視野角特性有時具有影響,故而較好的是使用上述透明保護薄膜之相位差值最佳化者。但是,所謂期望相位差值最佳化之透明保護薄膜,其係指於靠近液晶單元側之偏光子表面上所積層之透明保護薄膜,於遠離液晶單元側之偏光子表面上所積層之透明保護薄膜因沒有改變液晶顯示裝置之光學特性,故而不受此限制。
作為於靠近上述液晶單元側之偏光子表面上所積層之透明保護薄膜的相位差值,薄膜面內之相位差值(Re:(nx-ny)×d)較好的是0~5 nm。更好的是0~3 nm。特別好的是0~1 nm。膜厚方向之相位差值(Rth)較好的是0~15 nm。更好的是0~12 nm。更好的是0~10 nm。特別好的是0~5 nm。最好的是0~3 nm。
積層有防眩性硬質塗膜4等之偏光板亦可係於硬質塗膜等上依次積層有透明保護薄膜、偏光子、透明保護薄膜者,亦可係於防眩性硬質塗膜等上依次積層有偏光子、透明保護薄膜者。
另外,未接著有透明保護薄膜之偏光子的面亦可係以硬質塗層或防黏性為目的加以處理者。硬質塗層處理係以防止偏光板表面受損等為目的而加以實施者,例如,將因使用丙烯酸系、矽酮系等適當之紫外線硬化型樹脂而硬度或光滑特性等優良之硬化皮膜附加於透明保護薄膜之表面上,以該方式等形成硬質塗層。又,防黏性處理係以防止與鄰接層密著為目的而加以實施者。另外,上述硬質塗層、防黏性層等除設置於透明保護薄膜本身上以外,亦可設置與透明保護薄膜不同位置之薄膜作為其他光學層。
又,可向偏光板之層間插入例如,硬質塗層、引子層、接著劑層、黏著劑層、防靜電層、導電層、阻氣層、水蒸汽遮斷層以及水分遮斷層等,或亦可向偏光板表面積層。又,於製成偏光板各層之階段,例如,亦可藉由於各層形成材料中添加、混合等導電性粒子或防靜電劑、各種微粒子以及可塑劑等,根據需要實行改良。
對於與上述透明保護薄膜之偏光子之積層方法,並無特別限定,例如,可介以含有丙烯酸系聚合物或乙烯醇系聚合物之接著劑,或至少含有硼酸或硼砂、戊二醛或三聚氰胺或草酸等乙烯醇系聚合物之水溶性交聯劑的接著劑等加以積層。藉此,可製成受到濕度或熱影響仍難以剝離且光透過率或偏光度優良者。作為上述接著劑,考慮到與作為偏光子原料之聚乙烯醇之接著性優良方面,較好的是使用聚乙烯醇系接著劑。
將含有上述降冰片烯系樹脂之高分子薄膜作為透明保護薄膜,至於與偏光子積層時所使用之黏著劑,較好的是透明性優良且雙折射等較小,即使用於較薄層亦可充分發揮黏著力者。作為如此之黏著劑,例如可使用混合聚胺基甲酸酯系樹脂溶液與聚異氰酸酯樹脂溶液之乾式層壓用接著劑、苯乙烯丁二烯橡膠系接著劑、環氧系二液硬化型接著劑,例如含有環氧樹脂與聚硫醇之二液者以及含有環氧樹脂與聚醯胺之二液者等;特別好的是溶劑型接著劑、環氧系二液硬化型接著劑,透明者為佳。接著劑中存有藉由使用適當之接著用初塗劑而可提高接著力者,於使用如此之接著劑之情形時,較好的是使用接著用初塗劑。
作為上述接著用初塗劑,若係可提高接著性之層則並無特別限制,例如可使用於同一分子內含有胺基、乙烯基、環氧基、巰基、氯基等反應性官能基與水解性烷氧基甲矽烷基之矽烷系偶合劑,於同一分子內包含含有鈦之水解性親水性基與有機官能性基之鈦酸鹽系偶合劑,以及於同一分子內包含含有鋁之水解性親水性基與有機官能性基之鋁酸鹽系偶合劑等所謂之偶合劑;含有環氧系樹脂、異氰酸酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、酯胺基甲酸酯系樹脂等有機反應性基之樹脂。其中,考慮到工業上易操作性方面,較好的是含有矽烷系偶合劑之層。
上述偏光板為便於積層於液晶單元上,較好的是於兩面或單面上設置接著劑層或黏著劑層。
作為用於上述接著劑層或黏著劑層之接著劑或黏著劑,並無特別限制。例如,可適當選擇使用以丙烯酸系聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚乙烯基醚、醋酸乙烯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烴、環氧系、氟系以及天然橡膠、合成橡膠等橡膠系等聚合物作為基礎聚合物者。特別是,考慮到光學透明性優良且可表現出適度之濕潤性、凝聚性與接著性之黏著特性,耐氣候性或耐熱性等優良方面,較好的是使用丙烯酸系黏著劑。
於上述接著劑或黏著劑中,可含有對應於基礎聚合物之交聯劑。又,於黏著劑層中,亦可根據需要而添加例如含有天然物或合成物之樹脂類、玻璃纖維或玻璃珠、金屬粉或其他無機粉末等之填充劑或顏料、著色劑或抗氧化劑等之適當添加劑。又,亦可作為含有透明微粒子且表現出光擴散性之黏著劑層。
另外,於上述透明微粒子中,例如,可使用平均粒徑為0.5~20 μm之二氧化矽或氧化鈣、氧化鋁或二氧化鈦、氧化鋯或氧化錫、氧化銦或氧化鎘、氧化銻等之導電性無機系微粒子,或含有聚甲基丙烯酸甲酯或聚胺基甲酸酯等適當聚合物之交聯或未交聯之有機系微粒子等適合者中一種或兩種以上。
上述接著劑或黏著劑係通常作為將基礎聚合物或其組合物溶解或分散於溶劑中且固形成分濃度為10~50重量%左右之接著劑溶液而使用。作為上述溶劑,可適當選擇使用甲苯或醋酸乙酯等之有機溶劑或水等,可根據接著劑種類加以選擇。
上述接著劑或黏著劑亦可將組成或種類不同者作為積層物,設置於偏光板或光學薄膜之單面或兩面上。上述接著劑或黏著劑之膜厚係可根據使用目的或接著力等適當加以規定,一般為1~500 μm,較好的是5~200 μm,特別好的是10~100 μm。
對於上述接著劑層或黏著劑層等之露出面,直至供於實用之前,以防止汚染等為目的,暫時固定有剝離紙或脫模薄膜(亦稱為隔離器)加以覆蓋。因此,可於通例之操作狀態下,防止與接著劑層或黏著劑層接觸。作為上述隔離器,例如,可使用下述者:根據需要,使用矽酮系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適當之剝離劑,對塑膠膜、橡膠薄片、紙、布、不織布、網狀物、發泡薄片或金屬箔、該等層壓體等之適當薄葉體實行塗層處理者等先前所使用之適合者。
其次,就與本實施形態之偏光板並用之其他光學構件加以說明。對於上述其他光學構件,並無特別限定,例如,可例舉:於橢圓偏光板或圓偏光板上進而積層有反射板或半透過反射板而形成之反射型偏光板或半透過型偏光板。又,亦可係與上述反射型偏光板或半透過型偏光板、相位差板組合之反射型橢圓偏光板或半透過型橢圓偏光板等。又,將本實施形態之防眩性硬質塗膜4或防眩性防反射硬質塗膜6或偏光板用於透過型或半透過型液晶顯示裝置之情形時,藉由與市售之亮度提高薄膜(含有偏光選擇層之偏光分離薄膜,例如住友3M(股份公司)製造之D-BEF等)併用,可獲得具有更高顯示特性之顯示裝置。
可藉由於圖像顯示裝置之製造過程中依次分別加以積層,而形成上述防眩性硬質塗膜4或防眩性防反射硬質塗膜6與偏光板等。預先實行積層因品質穩定性或積層作業性等優良且可提高圖像顯示裝置等之製造效率,故而較好。
本實施形態之防眩性硬質塗膜4、防眩性防反射硬質塗膜6或含有該等之偏光板可安裝於液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等之各種圖像顯示裝置中。
以下,就本發明之較好實施例以舉例方式加以詳細說明。但是,於該實施例中所揭示之材料或添加量等只要沒有特別限定性揭示,則並沒有將本發明範圍僅限定於該等之意圖,只是單純之說明例。又,「部」「%」只要沒有特別敍述,則均表示重量基準。
事先準備好樹脂原料(大日本油墨化學工業(股份公司)製造、商品名:GRANDIC PC1071),其係於醋酸乙酯與醋酸丁酯之混合溶媒中以固形成分濃度66%之方式包含含有如下所示之A成分、B成分與C成分、光聚合起始劑之樹脂成分。於該樹脂原料100份中,加入平均粒子徑8 μm之丙烯酸樹脂粒子(折射率1.49)30份與反應性勻化劑0.5份,進而,以醋酸丁酯:醋酸乙酯(重量比)=46:54(相對於總溶媒之醋酸乙酯比率為54%)且固形成分濃度為55%之方式,使用醋酸乙酯實行稀釋,藉此調製出硬質塗層形成材料。另外,上述反應性勻化劑係以二乙基矽氧烷:羥基丙基矽氧烷:6-異氰酸異氰脲酸己酯:脂肪族聚酯=6.3:1.0:2.2:1.0之莫耳比所共聚之共聚物。
A成分:含有季戊四醇系丙烯酸酯與氫化二甲苯二異氰酸酯之丙烯酸胺基甲酸酯(100份)B成分:二季戊四醇六丙烯酸酯(49份)、季戊四醇三丙烯酸酯(24份)以及季戊四醇四丙烯酸酯(41份)C成分:含有以上述通式(1)表示之重複單位之聚合物以及共聚物的混合物(59份)光聚合起始劑:Irgacure 184(商品名、Ciba Specialty Chemicals(股份公司)製造)混合溶劑:醋酸丁酯:醋酸乙酯(重量比)=89:11
於作為薄膜基材之厚度80 μm之三乙醯纖維素薄膜(折射率:1.48)上,使用塗布棒,塗布上述硬質塗層形成材料,藉由於100℃下加熱一分鐘而乾燥塗膜。然後,使用金屬鹵素燈,照射累積光量300 mJ/cm2
之紫外線,硬化處理後形成膜厚25 μm之硬質塗層,製作出本實施例之防眩性硬質塗膜。硬質塗層之折射率係1.52。又,微粒子之縱橫比幾乎均係1.05。
於本實施例中,使用平均粒子徑10 μm且折射率1.49之丙烯酸樹脂粒子作為微粒子,相對於總樹脂成分,其添加量設為15份,進而,除將膜厚變更為22 μm以外,其餘以與實施例1相同之方法,製作出本實施例之防眩性硬質塗膜。又,微粒子之縱橫比幾乎均係1.05。
於本實施例中,相對於總樹脂成分,除將丙烯酸樹脂粒子之添加量變更為30份且將硬質塗層之膜厚變更為33 μm以外,其餘以與實施例2相同之方式,製作出本實施例之防眩性硬質塗膜。
於本實施例中,除將硬質塗層之膜厚變更為31 μm以外,其餘以與實施例3相同之方式,製作出本實施例之防眩性硬質塗膜。
於本實施例中,除將硬質塗層之膜厚變更為24 μm以外,其餘以與實施例2相同之方式,製作出本實施例之防眩性硬質塗膜。
於本實施例中,除將硬質塗層之膜厚變更為26 μm以外,其餘以與實施例2相同之方式,製作出本實施例之防眩性硬質塗膜。
於本實施例中,除將硬質塗層之膜厚變更為21 μm以外,其餘以與實施例2相同之方式,製作出本實施例之防眩性硬質塗膜。
於本實施例中,使用平均粒子徑10 μm且折射率1.51之丙烯酸-苯乙烯樹脂粒子作為微粒子,相對於總樹脂成分,其添加量設為20份,進而,除將膜厚變更為22 μm以外,其餘以與實施例1相同之方法,製作出本實施例之防眩性硬質塗膜。另外,微粒子之縱橫比幾乎均係1.05。丙烯酸-苯乙烯樹脂粒子係乳化聚合丙烯酸單體與苯乙烯單體而獲得者。又,折射率係藉由變更丙烯酸單體與苯乙烯單體之添加比率而加以調整。
於本實施例中,使用平均粒子徑10 μm且折射率1.52之丙烯酸-苯乙烯樹脂粒子作為微粒子,相對於總樹脂成分,其添加量設為20份,進而,除將膜厚變更為22 μm以外,其餘以與實施例1相同之方法,製作出本實施例之防眩性硬質塗膜。另外,微粒子之縱橫比幾乎均係1.05。
於本實施例中,使用平均粒子徑10 μm且折射率1.53之丙烯酸-苯乙烯樹脂粒子作為微粒子,相對於總樹脂成分,其添加量設為20份,進而,除將膜厚變更為23 μm以外,其餘以與實施例1相同之方法,製作出本實施例之防眩性硬質塗膜。另外,微粒子之縱橫比幾乎均係1.05。
於本實施例中,使用平均粒子徑10 μm且折射率1.54之丙烯酸-苯乙烯樹脂粒子作為微粒子,相對於總樹脂成分,其添加量設為20份,進而,除將膜厚變更為22 μm以外,其餘以與實施例1相同之方法,製作出本實施例之防眩性硬質塗膜。另外,微粒子之縱橫比幾乎均係1.05。
於本實施例中,使用平均粒子徑15 μm且折射率1.49之丙烯酸樹脂粒子作為微粒子,相對於總樹脂成分,其添加量設為25份,將硬質塗層形成材料之固形成分濃度設為35%,進而,除將膜厚變更為20 μm以外,其餘以與實施例1相同之方法,製作出本實施例之防眩性硬質塗膜。另外,微粒子之縱橫比幾乎均係1.05。
於本比較例中,使用平均粒子徑3 μm且折射率1.49之丙烯酸樹脂粒子作為微粒子,相對於總樹脂成分,其添加量設為30份,進而,除將膜厚變更為23 μm以外,其餘以與實施例1相同之方法,製作出本比較例之防眩性硬質塗膜。另外,微粒子之縱橫比幾乎均係1.05。
於本比較例中,使用平均粒子徑5 μm且折射率1.49之丙烯酸樹脂粒子作為微粒子,相對於總樹脂成分,其添加量設為30份,進而,除將膜厚變更為20 μm以外,其餘以與實施例1相同之方法,製作出本比較例之防眩性硬質塗膜。另外,微粒子之縱橫比幾乎均係1.05。
使用甲苯,以固形成分濃度成為45%之方式,稀釋紫外線硬化型樹脂100份、勻化劑(Defensa MCF323)0.5份、平均粒子徑1.3 μm之氧化矽粒子(Sylophobic 100、Fuji Silysia富士硅化學製造)6.5份、平均粒子徑2.5 μm之氧化矽粒子(Sylophobic 702、Fuji Silysia化學製造)7.5份以及聚合起始劑(商品名:Irgacure 184)5重量份加以製作。另外,上述紫外線硬化型樹脂含有丙烯酸胺基甲酸酯40%、聚酯丙烯酸酯40%以及醋酸丁酯20%。
於作為薄膜基材之厚度80 μm之三乙醯纖維素薄膜(折射率:1.48)上,使用塗布棒,塗布上述硬質塗層形成材料,藉由於100℃下加熱三分鐘而乾燥塗膜。然後,使用金屬鹵素燈,照射累積光量300 mJ/cm2
之紫外線,硬化處理後形成膜厚3 μm之硬質塗層,製作出本比較例之防眩性硬質塗膜。硬質塗層之折射率係1.53。又,微粒子之縱橫比幾乎均係1.6以上。
於本比較例中,使用平均粒子徑1.8 μm之氧化矽粒子(Sylophobic 200、Fuji Silysia化學製造)6.5份、平均粒子徑2.5 μm之氧化矽粒子(Sylophobic 702、Fuji Silysia化學製造)6.5份作為微粒子,進而,除將膜厚變更為8 μm以外,其餘以與比較例3相同之方式,製作出本比較例之防眩性硬質塗膜。另外,各微粒子之縱橫比幾乎均係1.6以上。
於本比較例中,使用平均粒子徑1.3 μm之氧化矽粒子(Sylophobic 200、Fuji Silysia化學製造)13份作為微粒子,將硬質塗層形成材料之固形成分濃度設為40%,進而,除將膜厚變更為6 μm以外,其餘以與比較例3相同之方式,製作出本比較例之防眩性硬質塗膜。另外,各微粒子之縱橫比幾乎均係1.6以上。
於本比較例中,使用平均粒子徑3.5 μm之聚苯乙烯粒子(商品名:SX350H、總研化學製造)14份作為微粒子,除將膜厚變更為5 μm以外,其餘以與比較例3相同之方式,製作出本比較例之防眩性硬質塗膜。另外,各微粒子之縱橫比幾乎均係1.6以上。
於本比較例中,使用平均粒子徑10 μm且折射率1.49之丙烯酸樹脂粒子作為微粒子,相對於總樹脂成分,其添加量設為3份,除將膜厚變更為20 μm以外,其餘以與實施例1相同之方式,製作出本比較例之防眩性硬質塗膜。另外,各微粒子之縱橫比幾乎均係1.6以上。
於比較例6中所得之防眩性硬質塗膜上,塗布下述防反射層形成材料,經過乾燥、硬化處理,製作出含有厚度100 nm之防反射層之防眩性防反射硬質塗膜。
以下述方式形成防反射層。首先,準備根據乙二醇換算所得之平均分子量為500~10000之矽氧烷低聚物(Colcoat N103(Colcoat(股份公司)製造、固形成分2重量%))作為防反射層之形成材料,測定出其數平均分子量。其結果,數平均分子量係950。又,根據聚苯乙烯換算所得之數平均分子量為5000以上,準備Opstar JTA105(商品名、JSR(股份公司)製造、固形成分5重量%)作為具有氟烷基構造與聚矽氧烷構造之氟化合物,就該氟化合物之數平均分子量加以測定,根據聚苯乙烯換算所得之數平均分子量為8000。又,使用有JTA105A(JSR(股份公司)製造、固形成分5重量%)作為硬化劑。
其次,混合100份Opstar JTA105、1份JTA105A、590份Colcoat N103以及151.5份醋酸丁酯,調製出防反射層形成材料。使用模具塗布,以與硬質塗層相同寬度之方式,將防反射層形成材料塗布於硬質塗層上。進而,藉由於120℃下加熱三分鐘而加以乾燥/硬化,從而形成防反射層(低折射率層、厚度0.1 μm且折射率1.43)。藉此,製作出反射率為2.2%之防眩性防反射硬質塗膜。
透明塑膠膜基材與硬質塗層之折射率係使用Atago(愛宕)公司製造之阿貝折射率計加以測定。即,使測定光入射至透明塑膠膜基材與硬質塗層之測定面,根據該裝置所示之規定性測定方法加以測定。
各微粒子之折射率係以下述方式加以測定。即,將微粒子置於玻璃載片上,於微粒子上滴液折射率標準液,製作出覆蓋有蓋玻片之試料。以顯微鏡觀察該試料,將微粒子輪廓與折射率標準液之界面處最難目測之折射率標準液的折射率設為微粒子之折射率。
硬質塗層之膜厚係藉由(股份公司)Mitutoyo製造之Microgauge式厚度計加以測定後計算而得。測定於透明塑膠膜基材上設有防眩性硬質塗層之防眩性硬質塗膜厚度,減去基材厚度後計算出硬質塗層之膜厚。結果示於表1、2中。
防反射層之膜厚係使用大塚電子製造之瞬間多重測光系統之MCPD2000(商品名),根據來自干擾光譜之波形計算而得。
於透明塑膠膜基材中,於未形成有硬質塗層之面側(背面),使用厚度約20 μm之黏著材,黏合三菱Rayon(嫘縈)製造之黑色丙烯酸板(2.0 mmt),使背面沒有光反射。其次,使用島津製作所製造之UV2400PC(帶有80傾斜積分球)分光光度計,測定分光反射率(鏡面反射率+擴散反射率),計算得出C光源/20視野之全反射率(Y值)。
鉛筆硬度試驗係使用厚度約20 μm之黏著材,將所獲得之硬質塗膜黏附於玻璃板上,根據JIS K-5400揭示之鉛筆硬度試驗(其中,載荷500 g)實施試驗。結果示於表1、2中。
濁度之測定方法係依據JIS-K7136濁度(曇度),使用濁度計HR300(村上色彩技術研究所有限公司製造)加以測定。結果示於表1、2中。
光澤度係將測定角度設為60°,依據JIS K7105-1981,使用斯加試驗機(股份公司)製造(數位変角光澤計UGV-5DP)加以測定。
於未形成有防眩性硬質塗膜之防眩性硬質塗層之面上,使用黏著材黏合有MATSUNAMI製造之玻璃(膜厚1.3 mm)。使用高精度微細形狀測定器(商品名:SURFCORDER ET4000、(股份公司)小阪研究所)加以測定,計算出JIS B0601-1994揭示之算術平均表面粗度Ra值以及凹凸平均間隔Sm值。又,平均傾斜角θa值亦可使用相同測定器自動計算得出。
(1)製作所得之防眩性硬質塗膜係於未形成有防眩性硬質塗層之面上,黏附有膜厚約20 μm之丙烯酸系黏著材,而表面黏合至平滑之偏光板(50 mm×50 mm)上。
(2)將帶有防眩性硬質塗膜之偏光板黏附至夏普(股份公司)製造之面板(面板型號:LQ150X1LAJO)中央部分。
(3)對於安裝完畢之面板,於上方50 cm處平行設定受光機(MINOLTA製造、SPECTRORADIOMETER CS1000A),於高度27 mm位置處設定環狀照明(直徑37 mm、MORITEX製造MHF-G150LR)。將來自該設定位置之環狀照明光照射至面板之光線照射角度設為角度30°。
(4)使用照度計(TOPCOM製造、ILLUMINANCE METER),調節至照度1000 Lx。
(5)將面板圖像分別切換為黑顯示與白顯示,將偏光板中央部分之黑顯示時之亮度、白顯示時之亮度分別設為黑亮度/白亮度加以測定。依據該數值而計算出對比度比(白亮度/黑亮度)。
(6)使用除未添加有微粒子以外而其餘以與實施例1相同之方式製作出之硬質塗膜,根據上述(1)~(5)之方法測定其對比度比,將該數值設為100(實測值:312)作為基準值加以規格化。另外,作為上述基準硬質塗膜之表面粗度相關之特性值,Ra值為0.003 μm且θa值為0.06°。
(1)於未形成有防眩性硬質塗膜之硬質塗層之面側,使用黏著劑黏合有三菱Rayon(嫘縈)製造之黑色丙烯酸板(2.0 mmt),使背面沒有光反射。
(2)一般而言,於使用顯示器之辦公環境下(約1000 Lx),以目視方式確認根據上述方法所製成之薄膜樣品之防眩性。目視時之判定基準如下:幾乎沒有影像之情形設為◎,雖有影像但對可見度影響較小之情形設為○,雖有影像但沒有實用性問題之情形設為△,存有影像之情形設為×。
(1)於未形成有製作完成之防眩性硬質塗膜之防眩性硬質塗層之面上,黏附有膜厚約20 μm之丙烯酸系黏著劑,表面黏合至平滑之偏光板上。
(2)將帶有防眩性硬質塗膜之偏光板安裝於夏普(股份公司)製造之面板(面板型號:LQ150X1LAJO)上。
(3)一般而言,於使用顯示器之辦公環境下(約1000 Lx),以黑顯示驅動面板,以目視方式確認此時之黑色濃度。目視時之判定基準如下:黑色程度非常良好之情形設為◎,黑色程度良好之情形設為○,雖稍微發白但沒有實用性問題之情形設為△,產生白色斑點之情形設為×。
如上所說明,本發明之防眩性硬質塗膜係於薄膜基材之至少一面上含有以微粒子與硬質塗層樹脂為主要成分之防眩性硬質塗層之防眩性硬質塗膜,藉由平均粒徑為6 μm~15 μm之微粒子而形成凹凸形狀,且藉由將凹凸形狀之平均傾斜角θa設為0.4°~1.5°之範圍內,於實際使用環境中,可將明亮處所之顯示器之顯示對比度設為60以上。進而,本發明之硬質塗膜可藉由黏著材或接著材而適用於偏光板等之光學薄膜,使用安裝有該偏光板之LCD作為家庭用電視之情形時,亦具有充分防眩性、顯示對比度特性,故而可較好地使用。
1...薄膜基材
2...硬質塗層
2a...樹脂黏合劑
2b...微粒子
4...防眩性硬質塗膜
5...防反射層
6...防眩性防反射硬質塗膜
圖1係表示本發明之一個實施形態之防眩性硬質塗膜之概略的剖面模式圖。
圖2係用以說明上述防眩性硬質塗膜表面之凹凸形狀之平均傾斜角θa之測定方法的說明圖。
圖3係表示本發明之其他實施形態之防眩性防反射硬質塗膜之概略的剖面模式圖。
1...薄膜基材
2...硬質塗層
2a...樹脂黏合劑
2b...微粒子
4...防眩性硬質塗膜
Claims (6)
- 一種防眩性硬質塗膜,其特徵在於:其係於透明薄膜基材之至少一面上含有微粒子,且含有表面為凹凸狀之硬質塗層者,上述微粒子之平均粒徑為6 μm~15 μm,且藉由上述微粒子而形成之凹凸形狀之平均傾斜角θa為0.4°以上且1.5°以下,顯示對比度特性為60以上,上述硬質塗層係使用包含下述(A)成分、(B)成分及(C)成分之硬質塗層形成材料所形成者,(A)成分:丙烯酸胺基甲酸酯;(B)成分:丙烯酸多元醇酯及甲基丙烯酸多元醇酯之至少一者;(C)成分:由下述(C1)及(C2)之至少一者所形成之聚合物、共聚物或上述聚合物與共聚物之混合聚合物,(C1):含有具有羥基與丙烯醯基中至少一個基的烷基之丙烯酸烷酯;(C2):含有具有羥基與丙烯醯基中至少一個基的烷基之甲基丙烯酸烷酯。
- 如請求項1之防眩性硬質塗膜,其中上述硬質塗層之膜厚為15 μm~35 μm。
- 如請求項1之防眩性硬質塗膜,其中上述微粒子為大致球形狀。
- 一種偏光板,其特徵在於:含有請求項1之防眩性硬質 塗膜。
- 一種圖像顯示裝置,其特徵在於:含有請求項1之防眩性硬質塗膜。
- 一種圖像顯示裝置,其特徵在於:含有請求項4之偏光板。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005188553 | 2005-06-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200706362A TW200706362A (en) | 2007-02-16 |
TWI400163B true TWI400163B (zh) | 2013-07-01 |
Family
ID=37595113
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW095118623A TWI400163B (zh) | 2005-06-28 | 2006-05-25 | Anti-glare hard coating |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7963660B2 (zh) |
JP (1) | JP2008158536A (zh) |
KR (1) | KR100959049B1 (zh) |
CN (1) | CN101208620B (zh) |
TW (1) | TWI400163B (zh) |
WO (1) | WO2007000856A1 (zh) |
Families Citing this family (65)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8124215B2 (en) * | 2006-03-28 | 2012-02-28 | Nitto Denko Corporation | Hard-coated antiglare film, method of manufacturing the same, optical device, polarizing plate, and image display |
JP4893331B2 (ja) * | 2006-07-31 | 2012-03-07 | 住友化学株式会社 | 光拡散性シートの製造方法 |
KR20100031093A (ko) * | 2007-06-28 | 2010-03-19 | 소니 주식회사 | 광학 필름 및 그 제조 방법, 및 그것을 사용한 방현성 편광자 및 표시 장치 |
US20090136713A1 (en) * | 2007-08-22 | 2009-05-28 | Tomoegawa Co., Ltd. | Optical layered product |
TW200916837A (en) * | 2007-08-22 | 2009-04-16 | Tomoegawa Co Ltd | Optical laminate |
US8223130B2 (en) * | 2007-11-28 | 2012-07-17 | Sony Corporation | Touch-sensitive sheet member, input device and electronic apparatus |
JP4808698B2 (ja) * | 2007-12-06 | 2011-11-02 | 日東電工株式会社 | 積層光学フィルム |
JP5408991B2 (ja) * | 2007-12-26 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
JP5149052B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-02-20 | リンテック株式会社 | 防眩性ハードコートフィルム及びそれを用いた偏光板 |
US20120325199A1 (en) * | 2008-05-19 | 2012-12-27 | Tyler Sims | Lens systems for solar energy solutions |
JP2009288650A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Nitto Denko Corp | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置 |
JP2009288655A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Nitto Denko Corp | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板、画像表示装置、防眩性ハードコートフィルムの評価方法および製造方法 |
WO2010035761A1 (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-01 | 凸版印刷株式会社 | 防眩フィルム、防眩性偏光板及びその製造方法並びに透過型液晶ディスプレイ |
JP4928529B2 (ja) * | 2008-11-12 | 2012-05-09 | 日東電工株式会社 | 偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置 |
JP5262609B2 (ja) * | 2008-11-17 | 2013-08-14 | 大日本印刷株式会社 | 光学シートの製造方法 |
TWI461746B (zh) * | 2009-03-25 | 2014-11-21 | Sumitomo Chemical Co | 防眩膜之製造方法及製作防眩膜用模具之製造方法 |
EP2467742A2 (en) | 2009-06-02 | 2012-06-27 | 3M Innovative Properties Company | Light redirecting film and display using this film |
US20120064296A1 (en) * | 2009-06-02 | 2012-03-15 | Walker Jr Christopher B | Antiglare films comprising microstructured surface |
JP2011017829A (ja) * | 2009-07-08 | 2011-01-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルムおよびその製造方法 |
US8441465B2 (en) | 2009-08-17 | 2013-05-14 | Nokia Corporation | Apparatus comprising an optically transparent sheet and related methods |
JP5837495B2 (ja) | 2009-08-25 | 2015-12-24 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光方向転換フィルム及びそれを組み込んだディスプレイシステム |
JP5522720B2 (ja) | 2009-10-07 | 2014-06-18 | 日東電工株式会社 | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置、ならびに防眩性ハードコートフィルムの製造方法 |
US20110096403A1 (en) * | 2009-10-22 | 2011-04-28 | Lin Cheng | Anti-glare optical module and method for manufacturing the same |
JP5426329B2 (ja) * | 2009-11-16 | 2014-02-26 | 株式会社巴川製紙所 | 光学積層体 |
JP5801062B2 (ja) * | 2010-03-11 | 2015-10-28 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルムおよび防眩性偏光板 |
JP6100684B2 (ja) | 2010-05-07 | 2017-03-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | マイクロ構造化表面を含む反射防止フィルム |
KR101725995B1 (ko) * | 2010-07-01 | 2017-04-11 | 동우 화인켐 주식회사 | 반사방지 필름, 그 제조방법, 반사방지 필름을 포함하는 편광판 및 표시 장치 |
KR20130097736A (ko) | 2010-08-05 | 2013-09-03 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 무광택 표면층을 포함하는 다층 필름 및 물품 |
JP5703187B2 (ja) * | 2010-10-14 | 2015-04-15 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
TWI529193B (zh) * | 2010-10-20 | 2016-04-11 | 可隆股份有限公司 | 可光聚合的組成物及光學片 |
KR101191128B1 (ko) | 2010-11-10 | 2012-10-15 | 주식회사 엘지화학 | 광학 소자 |
WO2013008645A1 (ja) * | 2011-07-11 | 2013-01-17 | 東レ株式会社 | 成形材料、塗料組成物および成形材料の製造方法 |
JP5948763B2 (ja) * | 2011-08-29 | 2016-07-06 | 大日本印刷株式会社 | 防眩性フィルム、偏光板及び画像表示装置 |
JP5230788B2 (ja) | 2011-11-24 | 2013-07-10 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
JP6004874B2 (ja) * | 2011-12-16 | 2016-10-12 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
BR112014017484A8 (pt) * | 2012-01-17 | 2017-07-04 | Hpo Assets Llc | película flexível com relevo na superfície e uso da mesma em sistemas óticos eletroativos |
JP5884563B2 (ja) * | 2012-03-07 | 2016-03-15 | 日本ゼオン株式会社 | ハードコートフィルム |
KR101627958B1 (ko) * | 2012-04-27 | 2016-06-07 | 코니카 미놀타 가부시키가이샤 | 하드 코팅 필름 및 그것을 구비한 터치 패널 표시 장치 |
EP2870505B1 (en) * | 2012-07-09 | 2020-07-29 | Corning Incorporated | Anti-glare and anti-sparkle transparent structures |
WO2014034720A1 (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | 日本電気硝子株式会社 | 防眩・反射防止部材及びその製造方法 |
JP5552516B2 (ja) * | 2012-10-04 | 2014-07-16 | 日東電工株式会社 | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置 |
JP5470433B2 (ja) * | 2012-10-04 | 2014-04-16 | 日東電工株式会社 | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板、画像表示装置 |
TWI594947B (zh) * | 2012-12-19 | 2017-08-11 | 財團法人工業技術研究院 | 無機高分子材料、其形成方法、及所形成之無機高分子塗膜 |
JP2013167890A (ja) * | 2013-04-05 | 2013-08-29 | Nitto Denko Corp | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置、ならびに防眩性ハードコートフィルムの製造方法 |
JP2013178534A (ja) * | 2013-04-05 | 2013-09-09 | Nitto Denko Corp | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置 |
JP2013178533A (ja) * | 2013-04-05 | 2013-09-09 | Nitto Denko Corp | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置、ならびに防眩性ハードコートフィルムの製造方法 |
CN105555567A (zh) * | 2013-09-18 | 2016-05-04 | 旭硝子株式会社 | 夹层玻璃及车用显示装置 |
KR101697403B1 (ko) | 2013-09-30 | 2017-01-17 | 주식회사 엘지화학 | 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치 |
KR101697404B1 (ko) | 2013-09-30 | 2017-01-17 | 주식회사 엘지화학 | 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치 |
JP6643226B2 (ja) * | 2013-10-02 | 2020-02-12 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 第1の微細構造層及びコーティングを含む微細構造化拡散体、光学積層体、並びに方法 |
TWI490254B (zh) | 2013-12-31 | 2015-07-01 | Ind Tech Res Inst | 無機鈍化塗料、其形成方法、及所形成之無機鈍化保護膜 |
KR102262757B1 (ko) | 2014-03-11 | 2021-06-09 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 터치 패널, 표시 장치 및 광학 시트, 광학 시트의 선별 방법 및 광학 시트의 제조 방법 |
KR102225830B1 (ko) | 2014-03-11 | 2021-03-11 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 터치 패널, 표시 장치 및 광학 시트, 광학 시트의 선별 방법 및 광학 시트의 제조 방법 |
JP2015057655A (ja) * | 2014-10-14 | 2015-03-26 | 日東電工株式会社 | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置、ならびに防眩性ハードコートフィルムの製造方法 |
WO2016136871A1 (ja) | 2015-02-26 | 2016-09-01 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネル、表示装置及び光学シート、並びに光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法 |
KR101951863B1 (ko) * | 2016-03-14 | 2019-02-25 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치 |
CN107362955A (zh) * | 2016-05-12 | 2017-11-21 | 深圳市顺安恒科技发展有限公司 | 一种抗菌防眩光膜的制备方法 |
JP6736381B2 (ja) | 2016-06-27 | 2020-08-05 | 株式会社トッパンTomoegawaオプティカルフィルム | 光学積層体、偏光板及び表示装置 |
JP6674371B2 (ja) | 2016-12-14 | 2020-04-01 | 株式会社トッパンTomoegawaオプティカルフィルム | 光学積層体、偏光板及び表示装置 |
EP3422077B1 (en) | 2017-06-30 | 2020-09-30 | Valeo Comfort and Driving Assistance | Combiner positioning unit for a head-up display system, and vehicle |
US20200200947A1 (en) * | 2017-08-29 | 2020-06-25 | General Plasma, Inc. | Multilayer antireflective articles and methods of forming the same |
US10739921B2 (en) * | 2017-09-22 | 2020-08-11 | Nanchang O-Film Display Technology Co., Ltd | Transparent conductive film, touch screen and manufacturing method thereof |
JP7258497B2 (ja) * | 2017-09-29 | 2023-04-17 | 日東電工株式会社 | 透明粘着フィルム |
JP7268686B2 (ja) * | 2018-10-11 | 2023-05-08 | 大日本印刷株式会社 | 樹脂シート、それを用いた画像表示装置用前面板、及びそれを用いた画像表示装置、並びに転写シート |
JP2023075710A (ja) * | 2021-11-19 | 2023-05-31 | 株式会社トッパンTomoegawaオプティカルフィルム | 光学積層体及びこれを用いた表示装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200428023A (en) * | 2002-11-25 | 2004-12-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Anti-reflection film, polarizing plate and liquid crystal display device |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002082388A (ja) | 2000-09-08 | 2002-03-22 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 透過型スクリーンの製造方法 |
JP2002372607A (ja) | 2001-06-15 | 2002-12-26 | Daicel Chem Ind Ltd | 透過型光拡散層 |
JP2003004903A (ja) | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 防眩フィルム、偏光板用保護フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
JP4242595B2 (ja) | 2002-02-25 | 2009-03-25 | 富士フイルム株式会社 | 防眩性反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置 |
ATE302424T1 (de) * | 2002-02-25 | 2005-09-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Blendschutz- und entspiegelungsbeschichtung, polarisationsplatte und display-bauelement damit |
JP2003279737A (ja) | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 偏光板および液晶表示装置 |
JP4082965B2 (ja) | 2002-08-28 | 2008-04-30 | リンテック株式会社 | 防眩性ハードコートフィルム |
JP2004191956A (ja) | 2002-11-25 | 2004-07-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光板、及び液晶表示装置 |
TWI461758B (zh) | 2003-08-13 | 2014-11-21 | Sumitomo Chemical Co | 製備抗眩光學膜的方法 |
JP4130928B2 (ja) | 2003-08-13 | 2008-08-13 | 住友化学株式会社 | 防眩性光学フィルム |
JP2005077860A (ja) * | 2003-09-01 | 2005-03-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置 |
JP2005084113A (ja) * | 2003-09-04 | 2005-03-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 防眩性フィルム及びその製造方法、偏光板、画像表示装置 |
JP2005134863A (ja) | 2003-09-22 | 2005-05-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学補償シート、偏光板および液晶表示装置 |
JP2005122147A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-05-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止フィルム、その製造方法、偏光板および画像表示装置 |
JP2006122147A (ja) | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Hiroshima Univ | 移植用材料及び未分化間葉系幹細胞の培養方法 |
JP5380025B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、および反射防止フィルム用透明支持体の製造方法 |
-
2006
- 2006-05-18 CN CN2006800229584A patent/CN101208620B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-18 KR KR1020077025769A patent/KR100959049B1/ko active IP Right Grant
- 2006-05-18 US US11/994,293 patent/US7963660B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-18 WO PCT/JP2006/309905 patent/WO2007000856A1/ja active Application Filing
- 2006-05-25 TW TW095118623A patent/TWI400163B/zh not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-01-11 JP JP2008004632A patent/JP2008158536A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200428023A (en) * | 2002-11-25 | 2004-12-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Anti-reflection film, polarizing plate and liquid crystal display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2007000856A1 (ja) | 2007-01-04 |
KR20070121042A (ko) | 2007-12-26 |
US20090086326A1 (en) | 2009-04-02 |
TW200706362A (en) | 2007-02-16 |
JP2008158536A (ja) | 2008-07-10 |
CN101208620A (zh) | 2008-06-25 |
US7963660B2 (en) | 2011-06-21 |
CN101208620B (zh) | 2011-04-27 |
KR100959049B1 (ko) | 2010-05-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI400163B (zh) | Anti-glare hard coating | |
JP4116045B2 (ja) | 防眩性ハードコートフィルム | |
US7390099B2 (en) | Hard-coated antiglare film and method of manufacturing the same | |
JP5220286B2 (ja) | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置 | |
US8215780B2 (en) | Hard-coated antiglare film, and polarizing plate and image display including the same | |
JP5252811B2 (ja) | 防眩性ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置 | |
KR100852561B1 (ko) | 하드코팅 필름, 하드코팅 필름의 제조방법, 광학 소자 및화상 표시 장치 | |
JP5008059B2 (ja) | 防眩性ハードコートフィルム、偏光板、画像表示装置および防眩性ハードコートフィルムの製造方法 | |
JP5179229B2 (ja) | レーザーポインタ視認性向上フィルム、偏光板、画像表示装置およびレーザーポインタ表示方法 | |
JP5014240B2 (ja) | フラットパネルディスプレイおよびフラットパネルディスプレイ用防眩フィルム | |
KR100852562B1 (ko) | 방현성 하드코팅 필름, 방현성 하드코팅 필름의 제조방법,광학 소자, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
US20060134400A1 (en) | Hard-coated film and method of manufacturing the same | |
JP4526126B2 (ja) | ハードコートフィルム及びその製造方法 | |
JP4080520B2 (ja) | 防眩性ハードコートフィルム、防眩性ハードコートフィルムの製造方法、光学素子、偏光板および画像表示装置 | |
TW201124747A (en) | Hard-coated antiglare film, and polarizing plate and image display including the same | |
JP2007322779A (ja) | 防眩性ハードコートフィルム、偏光板及びそれを用いた液晶表示装置 | |
JP2009288650A (ja) | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置 | |
JP2007047722A (ja) | 防眩性ハードコートフィルム及びその製造方法 | |
JP5552516B2 (ja) | 防眩性ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |