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TWI383183B - A polarizing element protective film, a polarizing plate and an image display device - Google Patents

A polarizing element protective film, a polarizing plate and an image display device Download PDF

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TWI383183B
TWI383183B TW096148081A TW96148081A TWI383183B TW I383183 B TWI383183 B TW I383183B TW 096148081 A TW096148081 A TW 096148081A TW 96148081 A TW96148081 A TW 96148081A TW I383183 B TWI383183 B TW I383183B
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resin
polarizing element
protective film
weight
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TW096148081A
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TW200844504A (en
Inventor
Hitoshi Kitagishi
Daisuke Hattori
Nobuyuki Haida
Tsutomu Hani
Hiroyuki Takao
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Description

偏光元件保護薄膜、偏光板及圖像顯示裝置
本發明係關於一種偏光元件保護薄膜、使用上述偏光元件保護薄膜之偏光板、以及至少包含1片上述偏光板之液晶顯示裝置、有機EL(organic Electroluminescent，有機電致發光)顯示裝置、PDP(Plasma Display Panel，電漿顯示面板)等圖像顯示裝置。
於液晶顯示裝置中，根據其圖像形成方式，於形成液晶面板表面之玻璃基板之兩側配置偏光板必不可少。一般而言，偏光板係使用藉由聚乙烯醇系接著劑將使用三醋酸纖維等之偏光元件保護薄膜貼合於包含聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性材料之偏光元件之兩面者。
以防止液晶或偏光元件由於紫外線而劣化為目的，偏光元件保護薄膜必須具有紫外線吸收性能。目前，於作為偏光元件保護薄膜之三醋酸纖維薄膜中添加紫外線吸收劑，而使之具有紫外線吸收性能。
然而，三醋酸纖維具有如下缺點：耐濕熱性不充分，當於高溫或高濕下使用將三醋酸纖維薄膜作為偏光元件保護薄膜之偏光板時，偏光度及色調等偏光板之性能會下降。又，三醋酸纖維薄膜相對於傾斜方向之入射光產生相位差。近年來，隨著液晶顯示器之大型化的發展，上述相位差對視角特性造成顯著影響。
因此，作為代替先前之三醋酸纖維之偏光元件保護薄膜 的材料，研究有透明性之熱塑性樹脂，亦報告有於透明性之熱塑性樹脂中添加紫外線吸收劑而使之具有紫外線吸收性能之偏光元件保護薄膜(參照專利文獻1~2)。然而，應用耐熱性優異的(甲基)丙烯酸系樹脂作為透明性之熱塑性樹脂時，有時於高溫下進行薄膜成形(擠出成形等)時紫外線吸收劑會揮發而析出、凝聚於成形出口(擠出口等)。又，有時亦會於所成形之薄膜表面上浮出紫外線吸收劑，該紫外線吸收劑於搬送或捲取薄膜時附著於輥之表面上。於如此狀態下進行薄膜成形時，會產生對薄膜面造成損傷或附著異物之問題、或無法保證成形機之穩定運轉之問題。又，隨著近年來圖像顯示裝置之薄型化，而強烈期望偏光元件保護薄膜之薄型化。
專利文獻1：日本專利特開平9－166711號公報專利文獻2：日本專利特開2004－45893號公報
本發明係為解決上述先前問題開發而成者，其目的在於：(1)提供一種薄型偏光元件保護薄膜，其具有優異的紫外線吸收能力，並且具有優異的耐熱性、優異的透明性，並且，薄膜面之外觀良好，可藉由穩定之薄膜成形而進行生產；(2)提供一種偏光板，其使用如上所述之偏光元件保護薄膜以及由聚乙烯醇系樹脂形成之偏光元件，且外觀缺點較少；(3)提供一種高品位之圖像顯示裝置，其使用如上所述之偏光板。
 本發明之偏光元件保護薄膜
依序包含樹脂層(A)及樹脂層(B1)；該樹脂層(A)係含(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分之樹脂層，且以相對於該樹脂層(A)中之樹脂成分為0.5~10重量%之比例含有紫外線吸收劑；該樹脂層(B1)係含(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分之樹脂層，且以相對於該樹脂層(B1)中之樹脂成分為超過0重量%且為2重量%以下之比例含有紫外線吸收劑。
於較佳實施形態中，上述樹脂層(B1)中之紫外線吸收劑之含有比例小於上述樹脂層(A)中之紫外線吸收劑之含有比例。
於較佳實施形態中，上述樹脂層(B1)之厚度為0.5~15 μm，上述樹脂層(A)之厚度為5~70 μm。
於較佳實施形態中，於上述樹脂層(A)之與上述樹脂層(B1)相反之側包含樹脂層(B2)，該樹脂層(B2)係含(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分之樹脂層，且以相對於該樹脂層(B2)中之樹脂成分為超過0重量%且為2重量%以下之比例含有紫外線吸收劑。
於較佳實施形態中，上述樹脂層(B1)中之紫外線吸收劑之含有比例以及上述樹脂層(B2)中之紫外線吸收劑之含有比例均小於上述樹脂層(A)中之紫外線吸收劑之含有比例。
於較佳實施形態中，上述樹脂層(B1)之厚度為0.5~15 μm，上述樹脂層(A)之厚度為5~70 μm，上述樹脂層(B2)之厚度為0.5~15 μm。
於較佳實施形態中，本發明之偏光元件保護薄膜之總厚度為15~100 μm。
於較佳實施形態中，本發明之偏光元件保護薄膜之厚度為50 μm時380 nm之光的穿透率為10%以下。
於較佳實施形態中，本發明之偏光元件保護薄膜係藉由共擠壓成形而製作。
藉由本發明之其他態樣，提供一種偏光板。本發明之偏光板包含由聚乙烯醇系樹脂形成之偏光元件以及本發明之偏光元件保護薄膜。
於較佳實施形態中，在上述偏光元件保護薄膜與上述偏光元件之間包含接著劑層。
於較佳實施形態中，上述接著劑層係由聚乙烯醇系接著劑所形成之層。
於較佳實施形態中，本發明之偏光板進而包含接著劑層作為樹脂層之至少一者。
藉由本發明之其他態樣，提供一種圖像顯示裝置。本發明之圖像顯示裝置包含至少1片本發明之偏光板。
藉由本發明，可提供一種薄型偏光元件保護薄膜，其具有優異的紫外線吸收能力，並且具有優異的耐熱性、優異的透明性，並且，薄膜面之外觀良好，可藉由穩定之薄膜成形而進行生產；可提供一種偏光板，其使用如上所述之 偏光元件保護薄膜以及由聚乙烯醇系樹脂形成之偏光元件，且外觀缺點較少；且可提供一種高品位之圖像顯示裝置，其使用如上所述之偏光板。
以高耐熱性、高透明性以及發揮優異的紫外線吸收能力為目的，而於耐熱性、透明性優異的(甲基)丙烯酸系樹脂中添加紫外線吸收劑，則有時會於高溫下進行薄膜成形(擠出成形等)時紫外線吸收劑揮發而析出、凝聚於成形出口(擠出口等)，又，有時紫外線吸收劑浮出於所成形之薄膜表面上，該紫外線吸收劑於搬送或捲取薄膜時附著於輥之表面上。於如此狀態下進行薄膜成形時，會產生對薄膜面造成損傷或附著異物之問題、或無法保證成形機穩定運轉之問題。
如本發明，可提供一種薄型偏光元件保護薄膜，其藉由於樹脂層(A)之單側配置含有(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分之樹脂層，且於該樹脂層中以超過0重量%並且2重量%以下之比例含有紫外線吸收劑之樹脂層(B1)，而具有優異的紫外線吸收能力，上述樹脂層(A)係含有(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分之樹脂層，且於該樹脂層中以0.5~10重量%之比例含有紫外線吸收劑，並且上述偏光元件保護薄膜具有優異的耐熱性、優異的透明性，且薄膜面之外觀良好，可藉由穩定之薄膜成形而進行生產。尤其是於擠出成形時，藉由將自T型模中擠出之薄膜之樹脂層(B1)側設為捲取於鑄軋輥上時之該輥側，可進一步獲得上述效果。
以下，就本發明之較佳實施形態加以說明，但本發明並不限定於該等實施形態。
[偏光元件保護薄膜]
本發明之偏光元件保護薄膜依序包含樹脂層(A)以及樹脂層(B1)。藉由具有此種層結構，可利用樹脂層(B1)來抑制紫外線吸收劑自含有較多紫外線吸收劑之樹脂層(A)滲出，例如，於進行擠出成形時，藉由將自T型模擠出之薄膜之樹脂層(B1)側設為捲取於鑄軋輥上時之該輥側，可抑制於鑄軋輥上產生輥附著物。較好的是，於樹脂層(A)之與樹脂層(B1)相反之側包含樹脂層(B2)。亦即，作為較佳實施形態，如圖1所示，依序包含樹脂層(B1)1、樹脂層(A)2以及樹脂層(B2)3。
樹脂層(A)之厚度較好的是5~70 μm，更好的是10~60 μm，進而較好的是15~60 μm，尤其好的是30~50 μm。樹脂層(A)之厚度若未滿5 μm，偏光元件保護薄膜可能會缺乏機械強度，並且，偏光元件保護薄膜之紫外線吸收能力有低落之虞。樹脂層(A)之厚度若大於70 μm，偏光元件保護薄膜之厚度可能會過大，並且，可能會無法藉由樹脂層(B1)或(B2)抑制紫外線吸收劑揮發。
樹脂層(B1)之厚度較好的是0.5~15 μm，更好的是1~10 μm，進而較好的是1.5~8 μm，尤其好的是2~7 μm。樹脂層(B1)之厚度未滿0.5 μm時，樹脂層(B1)可能會缺乏機械強 度，並且，可能會無法抑制樹脂層(A)中所包含之紫外線吸收劑揮發。樹脂層(B1)之厚度大於15 μm時，偏光元件保護薄膜之厚度可能會過大。
樹脂層(B2)之厚度較好的是0.5~15 μm，更好的是1~10 μm，進而較好的是1.5~8 μm，尤其好的是2~7 μm。樹脂層(B2)之厚度未滿0.5 μm時，樹脂層(B2)可能會缺乏機械強度，並且，可能無法抑制樹脂層(A)中所包含之紫外線吸收劑揮發。樹脂層(B2)之厚度大於15 μm時，偏光元件保護薄膜之厚度可能會過大。
本發明之偏光元件保護薄膜之總厚度較好的是15~100 μm，更好的是18~90 μm，進而較好的是20~80 μm。偏光元件保護薄膜之厚度為15 μm以上時，具有適當之強度、剛性，且於層壓或印刷等二次加工時操作性良好。又，亦容易控制因牽引時之應力而產生之相位差，且可穩定且容易地進行薄膜製造。偏光元件保護薄膜之厚度為100 μm以下時，除了容易捲取薄膜外，線速度、生產性以及控制性亦變得容易。
樹脂層(A)、樹脂層(B1)、樹脂層(B2)分別為以(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分之樹脂層，且包含紫外線吸收劑。於分別包含於樹脂層(A)、樹脂層(B1)、樹脂層(B2)中之樹脂成分，既可為至少兩層為相同種類之樹脂成分，亦可為三層均為不同種類之樹脂成分。各層中之樹脂成分既可僅為一種，亦可為兩種以上。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，例如，較好的是Tg(玻璃轉移溫度)為115℃以上者，更好的是120℃以上，進而較好的是125℃以上。藉由含有Tg(玻璃轉移溫度)為115℃以上之(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分，例如，容易於最終組裝至偏光板中時，容易形成耐久性優異者。上述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定，但就成形性等方面而言，較好的是170℃以下。作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，例如，可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯－(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯－(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯－丙烯酸酯－(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯－苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯－甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯－(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。較好的是列舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1－6 烷基酯。更好的是列舉以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50~100重量%，較好的是70~100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。又，可列舉三菱麗陽公司製造之ACRYPET VH或ACRYPET VRL20A、日本專利特開2004－70296號公報中所揭示之分子內具有環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂、由分子內交聯或分子內環化反應所獲得之高Tg(甲基)丙烯酸系樹脂。又，可列舉日本專利特開2000－230016號公報、日本專利特開2001－151814號公報、日本專利特開2002－120326號公報、日本專利特開2002－254544 號公報、日本專利特開2005－146084號公報等中所揭示之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂較好的是具有以下述通式(1)所示之內酯環結構。
(通式(1)中，R1 、R2 以及R3 分別獨立地表示氫原子或碳數為1~20之有機殘基。再者，有機殘基亦可含有氧原子)
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中以通式(1)表示的內酯環結構之含有比例較好的是5~90重量%，更好的是10~70重量%，進而較好的是10~60重量%，尤其好的是10~50重量%。具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中以通式(1)表示的內酯環結構之含有比例小於5重量%時，耐熱性、耐溶劑性、表面硬度可能不充分。具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中以通式(1)表示的內酯環結構之含有比例大於90重量%時，可能缺乏成形加工性。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之質量平均分子量(有時亦稱為重量平均分子量)較好的是1000~2000000，更好的是5000~1000000，進而較好的是10000~500000，尤其好的是50000~500000。質量平均分子量超出上述範圍 時，可能無法充分發揮本發明之效果。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg(玻璃轉移溫度)較好的是115℃以上，更好的是125℃以上，進而較好的是130℃以上，尤其好的是135℃以上，最好的是140℃以上。藉由使Tg為115℃以上，例如，作為偏光元件保護薄膜而組裝至偏光板中時，可獲得耐久性優異者。上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg的上限值並未特別限定，但就成形性等觀點而言，較好的是170℃以下。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂的藉由射出成形所獲得之成形品之利用基於ASTM－D－1003之方法測定出的全光線穿透率越高越好，較好的是85%以上，更好的是88%以上，進而較好的是90%以上。全光線穿透率之目標係透明性，若全光線穿透率未滿85%時，則透明性會下降，可能無法作為偏光元件保護薄膜而加以使用。
分別包含於本發明之偏光元件保護薄膜之樹脂層(A)、樹脂層(B1)、樹脂層(B2)中之(甲基)丙烯酸系樹脂的含量較好的是50~99重量%，更好的是超過50重量%且為99重量%以下，進而較好的是60~98重量%，尤其好的是70~97重量%。上述(甲基)丙烯酸系樹脂之含量未滿50重量%時，可能無法充分反映(甲基)丙烯酸系樹脂原本所具有之高耐熱性、高透明性，超過99重量%時，可能機械強度惡劣。再者，上述(甲基)丙烯酸系樹脂之含量亦援用為示本發明之偏光元件保護薄膜成型時所使用的分別形成樹脂層(A)、樹脂層(B1)、樹脂層(B2)之成型材料中的(甲基)丙烯 酸系樹脂之含量。
本發明之偏光元件保護薄膜之樹脂層(A)、樹脂層(B1)、樹脂層(B2)中，分別可包含上述(甲基)丙烯酸系樹脂以外之樹脂成分。可於不損及本發明之效果之範圍內，採用任意適當之樹脂成分，作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂以外之樹脂成分。
作為上述紫外線吸收劑，較好的是於300℃加熱20分鐘時之失重為10%以下之三唑系紫外線吸收劑及/或三嗪系紫外線吸收劑。有關「於300℃加熱20分鐘時之失重」之測定方法於後文敍述。上述三唑系紫外線吸收劑及/或三嗪系紫外線吸收劑於300℃加熱20分鐘時之失重越小越好。於300℃加熱20分鐘時之失重較好的是9%以下，更好的是8%以下，進而較好的是6%以下，尤其好的是5%以下。使用於300℃加熱20分鐘時之失重大於10%之三唑系紫外線吸收劑及/或三嗪系紫外線吸收劑時，可能無法獲得具有充分之紫外線吸收能的偏光元件保護薄膜。三嗪系紫外線吸收劑較好的是分子量為400以上者。三唑系紫外線吸收劑較好的是分子量為400以上者。
作為上述紫外線吸收劑，例如可選擇本發明中所應用之任意紫外線吸收劑。既可僅使用1種紫外線吸收劑，亦可併用2種以上紫外線吸收劑。作為上述紫外線吸收劑，例如，可列舉日本專利特開2001－72782號公報或日本專利特表2002－543265號公報中所揭示之紫外線吸收劑。又，上述紫外線吸收劑之熔點較好的是110℃以上，更好的是 120℃以上。若紫外線吸收劑之熔點為130℃以上，則可減少加熱熔融加工時之揮發，且可抑制於紫外線吸收劑析出、凝聚於成形出口(擠出口等)或製造薄膜時產生輥污染。然而，藉由本發明之偏光元件保護薄膜，可發揮如下顯著效果，即，即使紫外線吸收劑係易於揮發者(熔點較低者)，亦可防止紫外線吸收劑析出、凝聚於成形出口(擠出口等)或製造薄膜時產生輥污染。
樹脂層(A)以相對於該樹脂層(A)中之樹脂成分為0.5~10重量%之比例含有紫外線吸收劑，較好的是1~9重量%，更好的是2~8重量%。上述紫外線吸收劑之比例若未滿0.5重量%，可能無法充分發揮偏光元件保護薄膜之紫外線吸收能力。上述紫外線吸收劑之比例若大於10重量%，偏光元件保護薄膜之耐熱性、透明性有低落之虞，並且，可能無法藉由樹脂層(B1)或(B2)來抑制紫外線吸收劑揮發。再者，上述紫外線吸收劑之比例亦可援用為使本發明之偏光元件保護薄膜成型時所使用的形成樹脂層(A)之成型材料中的紫外線吸收劑之比例。
樹脂層(B1)以相對於該樹脂層(B1)中之樹脂成分為超過0重量%且為2重量%以下之比例含有紫外線吸收劑，較好的是0.1~1.5重量%，更好的是0.2~1重量%。若上述紫外線吸收劑之比例為0重量%，則有可能無法充分發揮出偏光元件保護薄膜之紫外線吸收能力。若上述紫外線吸收劑之比例多於2重量%，則偏光元件保護薄膜之耐熱性、透明性會下降，並且樹脂層(B1)有可能無法完全抑制紫外線吸 收劑之揮發。再者，上述紫外線吸收劑之比例亦援用為使本發明之偏光元件保護薄膜成型時所使用之形成樹脂層(B1)的成型材料中之紫外線吸收劑之比例。
樹脂層(B2)以相對於該樹脂層(B2)中之樹脂成分為超過0重量%且為2重量%以下之比例含有紫外線吸收劑，較好的是0.1~1.5重量%，更好的是0.2~1重量%。若上述紫外線吸收劑之比例為0重量%，則有可能無法充分發揮出偏光元件保護薄膜之紫外線吸收能力。若上述紫外線吸收劑之比例多於2重量%，則偏光元件保護薄膜之耐熱性、透明性會下降，並且樹脂層(B2)有可能無法完全抑制紫外線吸收劑之揮發。再者，上述紫外線吸收劑之比例亦援用為使本發明之偏光元件保護薄膜成型時所使用之形成樹脂層(B2)的成型材料中之紫外線吸收劑之比例。
樹脂層(B1)中之紫外線吸收劑之含有比例較好的是小於樹脂層(A)中之紫外線吸收劑之含有比例。又，於亦包含樹脂層(B2)之情形時，較好的是樹脂層(B1)中之紫外線吸收劑之含有比例以及樹脂層(B2)中之紫外線吸收劑之含有比例均小於樹脂層(A)中紫外線吸收劑之含有比例。
作為三嗪系紫外線吸收劑，可較佳地使用例如具有1,3,5－三嗪環之化合物。具體而言，可列舉2－(4,6－二苯基－1,3,5－三嗪－2－基)－5－[(己基)氧基]－苯酚等。
作為三唑系紫外線吸收劑，例如，可列舉：2,2'－亞甲基雙[4－(1,1,3,3－四甲基丁基)－6－(2H－苯并三唑－2－基)苯酚]、2－(3,5－二－第三丁基－2－羥基苯基)－5－氯苯并三唑、2－(2H－苯并 三唑－2－基)－對甲酚、2－(2H－苯并三唑－2－基)－4,6－雙(1－甲基－1－苯基乙基)苯酚、2－苯并三唑－2－基－4,6－二－第三丁基苯酚、2－[5－氯(2H)－苯并三唑－2－基]－4－甲基－6－(第三丁基)苯酚、2－(2H－苯并三唑－2－基)－4,6－二－第三丁基苯酚、2－(2H－苯并三唑－2－基)－4－(1,1,3,3－四甲基丁基)苯酚、2－(2H－苯并三唑－2－基)－4－甲基－6－(3,4,5,6－四氫鄰苯二甲醯亞胺基甲基)苯酚、甲基3－(3－(2H－苯并三唑－2－基)－5－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸酯/聚乙二醇300之反應生成物、2－(2H－苯并三唑－2－基)－6－(直鏈以及支鏈十二烷基)－4－甲基苯酚等。
作為市售品，例如，三嗪系紫外線吸收劑可列舉「Tinuvin1577」(汽巴精化公司製造)，三唑系紫外線吸收劑可列舉「Adekastab LA－31」(旭電化工業公司製造)等。
作為於300℃加熱20分鐘時之失重為10%以下之紫外線吸收劑，較好的是列舉2,2'－亞甲基雙[6－(2H－苯并三唑－2－基)－4－(1,1,3,3－四甲基丁基)苯酚]。作為市售品，例如，三唑系紫外線吸收劑可列舉「Adekastab LA－31」(旭電化工業公司製造)。
本發明之偏光元件保護薄膜較好的是含有抗氧化劑，且較好的是，樹脂層(A)、樹脂層(B1)、樹脂層(B2)之任一者均含有抗氧化劑。
樹脂層(A)較好的是以相對於該樹脂層(A)中之樹脂成分為0.02重量%以上之比例含有抗氧化劑，更好的是0.02~5重量%，進而較好的是0.05~3重量%，尤其好的是0.1~2.5重量%。上述抗氧化劑之量若小於0.02重量%，可能會促 進樹脂成分(尤其是(甲基)丙烯酸系樹脂)分解。上述抗氧化劑之量若大於5重量%，所獲得之偏光元件保護薄膜之光學特性有低落之虞。再者，上述抗氧化劑之比例亦可援用為使本發明之偏光元件保護薄膜成型時所使用的形成樹脂層(A)之成型材料中的抗氧化劑之比例。
樹脂層(B1)較好的是以相對於該樹脂層(B1)中之樹脂成分為0.02重量%以上之比例含有抗氧化劑，更好的是0.02~5重量%，進而較好的是0.05~3重量%，尤其好的是0.1~2.5重量%。上述抗氧化劑之量若小於0.02重量%，可能會促進樹脂成分(尤其是(甲基)丙烯酸系樹脂)分解。上述抗氧化劑之量若大於5重量%，所獲得之偏光元件保護薄膜之光學特性有低落之虞。再者，上述抗氧化劑之比例亦可援用為使本發明之偏光元件保護薄膜成型時所使用的形成樹脂層(B1)之成型材料中的抗氧化劑之比例。
樹脂層(B2)較好的是以相對於該樹脂層(B2)中之樹脂成分為0.02重量%以上之比例含有抗氧化劑，更好的是0.02~5重量%，進而較好的是0.05~3重量%，尤其好的是0.1~2.5重量%。上述抗氧化劑之量若小於0.02重量%，可能會促進樹脂成分(尤其是(甲基)丙烯酸系樹脂)分解。上述抗氧化劑之量若大於5重量%，所獲得之偏光元件保護薄膜之光學特性有低落之虞。再者，上述抗氧化劑之比例亦可援用為使本發明之偏光元件保護薄膜成型時所使用的形成樹脂層(B2)之成型材料中的抗氧化劑之比例。
為了進一步表現本發明之效果，較好的是上述抗氧化劑 含有酚系抗氧化劑。作為酚系抗氧化劑，可採用任意適當的酚系抗氧化劑。例如，可列舉：3－(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)－丙酸正十八酯、3－(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)－乙酸正十八酯、3,5－二－第三丁基－4－羥基苯甲酸正十八酯、3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基苯甲酸正己酯、3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基苯甲酸正十二酯、3－(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸新十二酯、β－(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸十二酯、α－(4－羥基－3,5－二－第三丁基苯基)異丁酸乙酯、α－(4－羥基－3,5－二－第三丁基苯基)異丁酸十八酯、α－(4－羥基－3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸十八酯、3,5－二－第三丁基－4－羥基－苯甲酸2－(正辛硫基)乙酯、3,5－二－第三丁基－4－羥基－苯基乙酸2－(正辛硫基)乙酯、3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基乙酸2－(正十八烷硫基)乙酯、3,5－二－第三丁基－4－羥基苯甲酸2－(正十八烷硫基)乙酯、3,5－二－第三丁基－4－羥基苯甲酸2－(2－羥基乙硫基)乙酯、二乙二醇雙(3,5－二－第三丁基－4－羥基－苯基)丙酸酯、3－(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸2－(正十八烷硫基)乙酯、十八醯胺－N,N－雙[3－(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸乙二酯]、正丁基亞胺基－N,N－雙[3－(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸乙二酯]、3,5－二－第三丁基－4－羥基苯甲酸2－(2－十八醯氧基乙硫基)乙酯、7－(3－甲基－5－第三丁基－4－羥基苯基)庚酸2－(2－十八醯氧基乙硫基)乙酯、1,2－丙二醇雙[3－(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸酯]、乙二醇雙[3－(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸酯]、新戊二醇雙[3－(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)丙 酸酯]、乙二醇雙(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基乙酸酯)、甘油－1－正硬脂酸酯－2,3－雙(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基乙酸酯)、季戊四醇－四－[3－(3',5'－二－第三丁基－4'－羥基苯基)丙酸酯]、1,1,1－三羥甲基乙烷－三－[3－(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸酯]、山梨糖醇六－[3－(3,5－二－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸酯]、7－(3－甲基－5－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸2－羥基乙酯、7－(3－甲基－5－第三丁基－4－羥基苯基)庚酸2－十八醯氧基乙酯、1,6－正己二醇－雙[(3',5'－二－第三丁基－4－羥基苯基)丙酸酯]、季戊四醇－四(3,5－二－第三丁基－4－羥基氫化肉桂酸酯)、3,9－雙[1,1－二甲基－2－[β－(3－第三丁基－4－羥基－5－甲基苯基)丙醯氧基]乙基]2,4,8,10－四氧雜[5,5]－十一烷。作為於300℃加熱20分鐘時之失重為10%以下者，例如可列舉：季戊四醇－四－[3－(3',5'－二－第三丁基－4'－羥基苯基)丙酸酯]、3,9－雙[1,1－二甲基－2－[β－(3－第三丁基－4－羥基－5－甲基苯基)丙醯氧基]乙基]2,4,8,10－四氧雜[5,5]－十一烷。
為了進一步表現本發明之效果，更好的是，上述抗氧化劑分別於樹脂層(A)、樹脂層(B1)、樹脂層(B2)中，相對於該層中之樹脂成分，含有0.01重量%以上之酚系抗氧化劑以及0.01重量%以上之硫醚系抗氧化劑。進而較好的是含有0.025重量%以上之酚系抗氧化劑以及0.025重量%以上之硫醚系抗氧化劑，尤其好的是含有0.05重量%以上之酚系抗氧化劑以及0.05重量%以上之硫醚系抗氧化劑。再者，上述抗氧化劑之比例亦可援用為使本發明之偏光元件保護薄膜成型時所使用的分別形成樹脂層(A)、樹脂層(B1)、 樹脂層(B2)之成型材料中的抗氧化劑之比例。
作為硫醚系抗氧化劑，可採用任意適當的硫醚系抗氧化劑。例如，可列舉：季戊四醇四(3－月桂基硫代丙酸酯)、二月桂基－3,3'－硫代二丙酸酯、雙十四烷基－3,3'－硫代二丙酸酯、雙十八烷基－3,3'－硫代二丙酸酯。作為於300℃加熱20分鐘時之失重為10%以下者，例如，可列舉季戊四醇四(3－月桂基硫代丙酸酯)。
為了進一步表現本發明之效果，更好的是，上述抗氧化劑分別於樹脂層(A)、樹脂層(B1)、樹脂層(B2)中，相對於該層中之樹脂成分，含有0.01重量%以上之酚系抗氧化劑以及0.01重量%以上之磷系抗氧化劑。進而較好的是含有0.1重量%以上之酚系抗氧化劑以及0.1重量%以上之磷系抗氧化劑，尤其好的是含有0.5重量%以上之酚系抗氧化劑以及0.5重量%以上之磷系抗氧化劑。再者，上述抗氧化劑之比例亦可援用為使本發明之偏光元件保護薄膜成型時所使用的分別形成樹脂層(A)、樹脂層(B1)、樹脂層(B2)之成型材料中的抗氧化劑之比例。
作為磷系抗氧化劑，可採用任意適當的磷系抗氧化劑。例如，可列舉：亞磷酸三(2,4－二－第三丁基苯基)酯、2－[[2,4,8,10－四(1,1－二甲基乙基)二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷環庚烷－6－基]氧基]－N,N－雙[2－[[2,4,8,10－四(1,1－二甲基乙基)二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷環庚烷－6－基]氧基]－乙基]乙胺、亞磷酸二苯基十三烷酯、亞磷酸三苯酯、磷酸2,2－亞甲基雙(4,6－二－第三丁基苯基)辛酯、雙(2,6－二－第三丁基－4－甲 基苯基)季戊四醇二磷酸酯、雙十八烷基季戊四醇二亞磷酸酯、環新戊烷四基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯基)亞磷酸酯。作為於300℃加熱20分鐘時之失重為10%以下者，例如，可列舉環新戊烷四基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯基)亞磷酸酯等。
於樹脂層(A)、樹脂層(B1)、樹脂層(B2)之各層中，除上述(甲基)丙烯酸系樹脂、上述紫外線吸收劑、上述抗氧化劑以外，亦可含有一般的配合劑，例如，穩定劑、潤滑劑、加工助劑、塑化劑、耐衝擊助劑、相位差降低劑、消光劑、抗菌劑、防黴劑等。
本發明之偏光元件保護薄膜較好的是光穿透率較高者，較好的是面內相位差△nd或厚度方向相位差Rth較低者。面內相位差△nd可根據△nd＝(nx－ny)×d求出。厚度方向相位差Rth可根據Rth＝(nx－nz)×d求出。此處，nx、ny分別為慢軸方向、快軸方向上之面內之折射率，nz為厚度方向折射率。再者，所謂慢軸方向係指面內之折射率最大之方向。
本發明之偏光元件保護薄膜之厚度為50 μm時380 nm之光的穿透率較好的是10%以下，更好的是9%以下，進而較好的是8%以下，進而較好的是7%以下，尤其好的是6%以下，最好的是5%以下。本發明之偏光元件保護薄膜之厚度為50 μm時380 nm之光的穿透率超過10%時，可能無法發揮充分之紫外線吸收能力。
再者，380 nm之光的穿透率例如可將偏光元件保護薄膜樣品裁剪為3 cm見方，利用島津製作所股份有限公司製造 之「UV－VIS－NIR－SPECTROMETER UV3150」來測定。
本發明之偏光元件保護薄膜之厚度為50 μm時之YI(Yellowness index，黃度指數)較好的是1.27以下，更好的是1.25以下，進而較好的是1.23以下，尤其好的是1.20以下。上述YI超過1.3時，可能無法發揮優異的光學透明性。
再者，YI例如可根據使用高速積分球式分光透過率測定機(商品名DOT－3C，村上色彩技術研究所製造)測定所得之顏色之三刺激值(X、Y、Z)，藉由下式求出。
YI＝[(1.28X－1.06Z)/Y]×100
本發明之偏光元件保護薄膜之厚度為50 μm時之b值(基於亨特(Hunter)之表色系統的色調之尺度)較好的是未滿1.5，更好的是1.0以下。b值為1.5以上時，可能會由於薄膜之著色而無法發揮優異的光學透明性。
再者，b值例如可將偏光元件保護薄膜樣品裁剪為3 cm見方，使用高速積分球式分光透過率測定機(商品名DOT－3C，村上色彩技術研究所製造)，來測定色調。又，可根據亨特之表色系統，利用b值來評估色調。
於本發明之偏光元件保護薄膜中，面內相位差△nd較好的是200 nm以下，更好的是150 nm以下。上述面內相位差△nd超過200 nm時，可能無法發揮本發明之效果，尤其無法發揮優異的光學特性。厚度方向相位差Rth較好的是150 nm以下，更好的是100 nm以下。上述厚度方向相位差Rth超過150 nm時，可能無法發揮本發明之效果，尤其無法發 揮優異的光學特性。本發明之偏光元件保護薄膜配置於偏光元件與液晶單元之間時，較好的是為上述相位差。
於本發明之偏光元件保護薄膜中，透濕度較好的是100 g/m2 ．24 hr以下，更好的是65 g/m2 ．24 hr以下。上述透濕度超過100 g/m2 ．24 hr時，耐濕性可能會惡劣。
較好的是，本發明之偏光元件保護薄膜亦具有優異的機械強度，拉伸強度於MD方向上，較好的是65 N/mm2 以上，更好的是70 N/mm2 以上，進而較好的是75 N/mm2 以上，尤其好的是80 N/mm2 以上，於TD方向上，較好的是45 N/mm2 以上，更好的是50 N/mm2 以上，進而較好的是55 N/mm2 以上，尤其好的是60 N/mm2 以上。伸長率於MD方向上，較好的是6.5%以上，更好的是7.0%以上，進而較好的是7.5%以上，尤其好的是8.0%以上，於TD方向上，較好的是5.0%以上，更好的是5.5%以上，進而較好的是6.0%以上，尤其好的是6.5%以上。拉伸強度或伸長率超出上述範圍時，可能無法發揮優異的機械強度。
本發明之偏光元件保護薄膜之表示光學透明性的霧度越低越好，較好的是5%以下，更好的是3%以下，進而較好的是1.5%以下，尤其好的是1%以下。霧度為5%以下時，可於視覺上賦予薄膜良好之透明感，進而為1.5%以下時，即使用作窗等採光構件時，亦可同時獲得可見性與採光性，又，即使用作顯示裝置之前面板時，亦可良好地識別顯示內容，因此，工業利用價值較高。
較好的是，本發明之偏光元件保護薄膜於任一層中，層 間剝離強度均為1.2 N/25 mm以上，更好的是2.0 N/25 mm以上，進而較好的是2.5 N/25 mm以上，更好的是2.9 N/25 mm以上。上限可採用任意適當值。例如，50 N/25 mm以下。層間剝離強度未滿1.2 N/25 mm時，例如，可能會於進行延伸處理時產生剝離。
較好的是，本發明之偏光元件保護薄膜於任一層中，於溫度240℃、荷重10 kgf之條件下測定之熔體流動速率為1~20 g/10 min，更好的是3~19 g/10 min，進而較好的是5~18 g/10 min，尤其好的是8~17 g/10 min。
本發明之偏光元件保護薄膜亦可包含1層以上之除樹脂層(B1)、樹脂層(A)、樹脂層(B2)以外之其他層。本發明之偏光元件保護薄膜所包含之層之總數為2以上，較好的是2~10，更好的是3~5。
較好的是，本發明之偏光元件保護薄膜為形成各層(即，至少樹脂層(B1)、樹脂層(A))之樹脂藉由共擠出成形而製作者。可藉由共擠出成形，生產性優異地製造層間之接著性良好之偏光元件保護薄膜。
形成用以進行共擠出成形之各層(即，至少樹脂層(B1)、樹脂層(A))之材料可使用以任意適當的方法將上述各層之成分混合者。再者，關於向樹脂成分中摻合紫外線吸收劑、抗氧化劑或其他添加劑等，較好的是直接添加或進行使用母料法之雙軸混練。作為混練方法，較好的是使用東芝機械公司製造之TEM(Transmission Electron Microscope，穿透式電子顯微鏡)等，以較好的是樹脂溫度處於 230~270℃之範圍內之方式進行溫度設定，從而進行混練。溫度過高時，(甲基)丙烯酸系樹脂可能容易進行分解，又，較好的是視需要進行加溫。
共擠出成形如乾式層壓法，無需使加工時所使用之接著劑中之溶劑、例如乾式層壓用接著劑中的有機溶劑乾燥、飛散，無需溶劑乾燥步驟，生產性優異。具體而言，例如，可例示如下方法(即，分流器方式、歧管方式等)：於連結於T型模上之3台擠出機中，以樹脂層(B1)以及樹脂層(B2)直接與樹脂層(A)之兩側接觸之方式，分別於1台上供給形成樹脂層(A)之樹脂，於另外1台上供給形成樹脂層(B1)之樹脂，以及於另外1台上供給形成樹脂層(B2)之樹脂，於熔融混練後，進行擠出，用水冷卻並牽引，而成形積層薄膜。各樹脂層之熔融時所使用之擠出機的螺旋方式可為單軸或雙軸。
成形溫度可適當設定，但將樹脂之玻璃轉移溫度設為Tg(℃)時，較好的是(Tg＋80)℃~(Tg＋180)℃，更好的是(Tg＋100)℃~(Tg＋160)℃。成形溫度過低時，樹脂之流動性消失，可能無法成形。成形溫度過高時，樹脂黏度下降，可能會產生成形物之厚度不均勻等生產穩定性的問題。多層成形物之情形，較好的是設定為玻璃轉移溫度更高之樹脂。
藉由共擠出成形，並不經由接著劑層，因此，無需使接著劑中之溶劑乾燥、飛散之步驟，生產性優異。又，藉由使兩種樹脂直接接觸，可抑止由接著劑層之劣化所引起之 接著力下降或光學特性下降、即由於接著劑層而使耐久性降低。
作為偏光元件保護薄膜之光學特性，問題在於正面及厚度方向之相位差之大小。因此，亦可於形成上述薄膜之樹脂(即，形成樹脂層(B1)、樹脂層(A)、或樹脂層(B2)之樹脂)中含有相位差降低劑。作為相位差降低劑，較好的是，例如丙烯腈－苯乙烯嵌段共聚物、丙烯腈－苯乙烯嵌段共聚物等含苯乙烯之聚合物。作為相位差降低劑之添加量，較好的是相對於各層樹脂成分為30重量%以下，更好的是25重量%以下，進而較好的是20重量%以下。添加至超出該範圍時，會使可視光線散射或有損透明性，因此，可能會欠缺作為偏光元件保護薄膜之特性。
本發明之偏光元件保護薄膜可積層且用於其他基材上。例如，亦可藉由含有接著性樹脂層之多層擠出成型或多層充氣成型，積層成形於玻璃、聚烯烴樹脂、作為高遮斷層之乙烯偏乙烯共聚物、聚酯等基材上。當熱融著性較高時，有時亦省略接著層。
本發明之偏光元件保護薄膜亦可藉由縱向延伸及/或橫向延伸進行延伸。
上述延伸既可為僅進行縱向延伸之延伸(自由端單軸延伸)，亦可為僅進行橫向延伸之延伸(固定端單軸延伸)，但較好的是縱向延伸倍率為1.1~3.0倍、橫向延伸倍率為1.1~3.0倍之逐次延伸或同時雙軸延伸。於僅進行縱向延伸之延伸(自由端單軸延伸)或僅進行橫向延伸之延伸(固定端 單軸延伸)時，薄膜強度僅於延伸方向上提高，於與延伸方向成直角方向上，強度未提高，可能無法於薄膜整體上獲得充分的薄膜強度。上述縱向延伸倍率更好的是1.2~2.5倍，進而較好的是1.3~2.0倍。上述橫向延伸倍率更好的是1.2~2.5倍，進而較好的是1.4~2.5倍。縱向延伸倍率、橫向延伸倍率未滿1.1倍時，延伸倍率過低，可能基本上無延伸效果。縱向延伸倍率、橫向延伸倍率超過3.0倍時，由於薄膜端面之平滑性問題，容易產生延伸破裂。
上述延伸溫度較好的是所延伸之薄膜之Tg~(Tg＋30℃)。上述延伸溫度低於Tg時，可能導致薄膜破裂。上述延伸溫度超過(Tg＋30℃)時，薄膜可能開始熔融，而使薄膜難以通過。
本發明之偏光元件保護薄膜藉由縱向延伸及/或橫向延伸進行延伸，藉此具有優異的光學特性，並且，機械強度優異，生產性或二次加工性提高。延伸後之光學薄膜之厚度較好的是10~80 μm，更好的是15~60 μm。
本發明之偏光元件保護薄膜除偏光元件保護之用途以外，例如，亦可積層且用於窗或車庫屋頂材料等建築用採光構件、窗等車輛用採光構件、溫室等農業用採光構件、照明構件、前表面濾光片等顯示器構件等，又，亦可積層且用於先前被覆有(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜之家電之殼體、車輛內裝構件、內裝用建築材料、壁紙、裝飾板、玄關、窗框、壁腳板等。
[偏光板]
本發明之偏光板係包含由聚乙烯醇系樹脂形成之偏光元件以及本發明之偏光元件保護薄膜的偏光板。本發明之偏光板之較佳實施形態之一如圖2所示，為如下形態：偏光元件31之其中一面經由接著劑層32及易接著層33，接著於本發明之偏光元件保護薄膜34上，偏光元件31之另一面經由接著劑層35，接著於偏光元件保護薄膜36上。偏光元件保護薄膜36既可為本發明之偏光元件保護薄膜，亦可為其他任意適當的偏光元件保護薄膜。又，亦可於接著劑層35與偏光元件保護薄膜36之間存在易接著層。
由上述聚乙烯醇系樹脂形成之偏光元件可使用以二色性物質(代表性的是碘、二色性染料)對聚乙烯醇系樹脂薄膜進行染色後進行單軸延伸者。構成聚乙烯醇系樹脂薄膜之聚乙烯醇系樹脂之聚合度較好的是100~5000，進而較好的是1400~4000。構成偏光元件之聚乙烯醇系樹脂薄膜可利用任意適當的方法(例如，對將樹脂溶解於水或有機溶劑中之溶液進行流延成膜之流延法、澆鑄法、擠出法)而成形。偏光元件之厚度可根據偏光板所使用之LCD(liquid crystal display，液晶顯示器)之目的或用途來加以適當設定，代表性的是5~80 μm。
作為偏光元件之製造方法，可根據目的、使用材料以及條件等，採用任意適當的方法。代表性的是，採用包含對上述聚乙烯醇系樹脂薄膜進行膨潤、染色、交聯、延伸、水洗以及乾燥之步驟等的一系列製造步驟中所提供之方法。於除去乾燥步驟以外之各處理步驟中，於含有各個步 驟中所使用之溶液的浴中浸漬聚乙烯醇系樹脂薄膜，藉此進行處理。膨潤、染色、交聯、延伸、水洗以及乾燥之各處理之順序、次數以及是否實施可根據目的、使用材料以及條件等加以適當設定。例如，既可於1個步驟中同時進行幾個處理，亦可省略特定處理。更詳細而言，例如延伸處理既可於染色處理後進行，亦可於染色處理前進行，亦可同時進行膨潤處理、染色處理以及交聯處理。又，例如，可較佳地採用於延伸處理前後進行交聯處理之順序。又，例如，水洗處理既可於所有處理後進行，亦可僅於特定處理後進行。膨潤、染色、交聯、延伸、水洗、乾燥之各處理可應用先前之方法。
本發明之偏光板中，於上述偏光元件保護薄膜與上述偏光元件之間包含接著劑層。亦即，上述偏光元件經由接著劑層接著於本發明之偏光元件保護薄膜上。
本發明中，偏光元件保護薄膜與偏光元件之接著可經由利用接著劑所形成之接著劑層而進行。較好的是，該接著劑層為由聚乙烯醇系接著劑所形成之層。聚乙烯醇系接著劑含有聚乙烯醇系樹脂以及交聯劑。
上述聚乙烯醇系樹脂並未特別限定，例如可列舉：使聚乙酸乙烯酯進行皂化而獲得之聚乙烯醇；其衍生物；進而乙酸乙烯酯與具有共重合性之單體之共聚物的皂化物；使聚乙烯醇縮醛化、胺基甲酸酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等之改質聚乙烯醇等。作為上述單體，可列舉：順丁烯二酸(酐)、反丁烯二酸、丁烯酸、依康酸、(甲基)丙烯酸 等不飽和羧酸及其酯類；乙烯、丙烯等α－烯烴，(甲基)烯丙基磺酸(鈉)，順丁烯二酸單烷基酯磺酸鈉，順丁烯二酸烷基酯二磺酸鈉，N－羥甲基丙烯醯胺，丙烯醯胺烷基磺酸鹼鹽，N－乙烯基吡咯烷酮，N－乙烯基吡咯烷酮衍生物等。該等聚乙烯醇系樹脂既可僅使用1種，亦可併用2種以上。
上述聚乙烯醇系樹脂就接著性方面而言，平均聚合度較好的是100~3000，更好的是500~3000，平均皂化度較好的是85~100莫耳%，更好的是90~100莫耳%。
作為上述聚乙烯醇系樹脂，可使用具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂。具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂係具有反應性較高之官能基之聚乙烯醇系接著劑，於偏光板之耐久性提高方面較佳。
含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂可利用眾所周知之方法，使聚乙烯醇系樹脂與二酮反應而獲得。例如，可列舉：使聚乙烯醇系樹脂分散於乙酸等溶劑中，於其中添加二酮之方法；預先將聚乙烯醇系樹脂溶解於二甲基甲醯胺或二噁烷等溶劑中，於其中添加二酮之方法等。又，可列舉使二酮氣體或液狀二酮直接接觸於聚乙烯醇之方法。
具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之乙醯乙醯基改質度若為0.1莫耳%以上，則無特別限制。未滿0.1莫耳%時，接著劑層之耐水性不充分，因此不合適。乙醯乙醯基改質度較好的是0.1~40莫耳%，進而較好的是1~20莫耳%。乙醯乙醯基改質度若超過40莫耳%，與交聯劑之反應點減少，耐水性之提高效果減小。乙醯乙醯基改質度係藉由NMR所 測定之值。
作為上述交聯劑，並未特別限制，可使用聚乙烯醇系接著劑中所使用者。交聯劑可使用至少具有兩個與聚乙烯醇系樹脂具有反應性之官能基的化合物。例如，可列舉：乙二胺、三乙二胺、己二胺等具有伸烷基及兩個胺基的伸烷基二胺類(其中較好的是己二胺)；甲苯二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、三亞甲基丙烷甲苯二異氰酸酯加成物、三苯基甲烷三異氰酸酯、亞甲基雙(4－苯基甲烷)三異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、以及該等之酮肟嵌段物或苯酚嵌段物等異氰酸酯類；乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油二或三縮水甘油醚、1,6－己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、二縮水甘油基苯胺、二縮水甘油胺等環氧類；甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等單醛類；乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、順丁烯二醛、鄰苯二甲醛等二醛類；羥甲基尿素、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基尿素、烷基化羥甲基化三聚氰胺、乙胍、苯胍與甲醛之縮合物等胺基－甲醛樹脂；進而鈉、鉀、鎂、鈣、鋁、鉄、鎳等二價金屬或三價金屬之鹽及其氧化物等。作為交聯劑，較好的是三聚氰胺系交聯劑，尤其羥甲基三聚氰胺較佳。
上述交聯劑之調配量相對於100重量份之聚乙烯醇系樹脂，較好的是0.1~35重量份，更好的是10~25重量份。另一方面，為了進一步提高耐久性，可於相對於100重量份之聚乙烯醇系樹脂為超過30重量份且為46重量份以下之範 圍內，來調配交聯劑。尤其是使用含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之情形，交聯劑之使用量較好的是超過30重量份。藉由於超過30重量份且為46重量份以下之範圍內調配交聯劑，耐水性提高。
再者，亦可於上述聚乙烯醇系接著劑中進而調配矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑，各種增黏劑，紫外線吸收劑，抗氧化劑，耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等穩定劑等。
本發明之偏光元件保護薄膜，為了提高接著性，可對與偏光元件接觸之面實施易接著處理。作為易接著處理，可列舉電暈處理、電漿處理、低壓UV(ultraviolet，紫外線)處理、皂化處理等表面處理或形成易接著層之方法，亦可併用該等處理及方法。於上述各處理及方法中，較好的是電暈處理、形成易接著層之方法、以及併用該等之方法。
上述接著劑層之形成可藉由將上述接著劑塗佈於偏光元件保護薄膜之任一側或兩側、偏光元件之任一側或兩側來進行。貼合偏光元件保護薄膜與偏光元件後，實施乾燥步驟，形成由塗佈乾燥層構成之接著劑層。亦可於形成接著劑層後進行貼合。偏光元件與偏光元件保護薄膜之貼合可藉由輥貼合機等來進行。加熱乾燥溫度、乾燥時間可根據接著劑之種類加以適當決定。
乾燥後之接著劑層之厚度過厚時偏光元件保護薄膜之接著性會較差，就此而言，接著劑層之厚度較好的是0.01~10 μm，進而較好的是0.03~5 μm。
偏光元件保護薄膜對偏光元件之貼合，可以上述偏光元 件保護薄膜之其中一側，接著於偏光元件之兩面上。
又，偏光元件之偏光元件保護薄膜之貼合，可以上述偏光元件保護薄膜之其中一側，接著於偏光元件之其中一面上，且於另一面上貼合纖維素系樹脂。
上述纖維素系樹脂並未特別限定，但就透明性、接著性而言，較好的是三醋酸纖維。纖維素系樹脂之厚度較好的是30~100 μm，更好的是40~80 μm。厚度薄於30 μm時，薄膜強度下降，作業性惡劣，厚於100 μm時，於耐久性方面穿透率顯著下降。
本發明之偏光板亦可包含黏著劑層作為樹脂層之至少一者(有時將此種偏光板稱為黏著型偏光板)。作為尤其好之形態，可於未接著有上述偏光元件保護薄膜之偏光元件之側，設置用以與其他光學薄膜或液晶單元等其他構件接著之黏著劑層。
形成上述黏著劑層之黏著劑並未特別限定，但例如可適當選擇並使用將丙烯酸系聚合物、矽系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基礎聚合物者。尤其是可較好地使用如丙烯酸系黏著劑之光學透明性優異、顯示出適當的濕潤性與凝聚性以及接著性之黏著特性、且耐候性及耐熱性等優異者。尤其好的是包含碳數為4~12之丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑。
又，除上所述，就防止由吸濕引起發泡現象或剝離現象、防止由熱膨脹差等引起光學特性下降或液晶單元翹曲、甚至高品質且耐久性優異之液晶顯示裝置之形成性等 方面而言，較好的是吸濕率較低且耐熱性優異之黏著劑層。
上述黏著劑層亦可含有例如如下可添加於黏著劑層中之添加劑：天然物或合成物之樹脂類，尤其是賦予黏著性之樹脂，包含玻璃繊維、玻璃珠、金屬粉、其他無機粉末等之填充劑，或顏料、著色劑、抗氧化劑等。
又，亦可為含有微粒子來顯示光擴散性之黏著劑層等。
上述黏著劑層之附設可以適當方式來進行。作為其一例，例如可列舉如下方式：製備使基礎聚合物或其組成物溶解或分散於包含甲苯或乙酸乙酯等適當溶劑之單獨物或混合物構成之溶劑中的10~40重量%左右之黏著劑溶液，以流延方式或塗佈方式等適當的展開方式使上述黏著劑溶液直接附設於偏光板上或光學薄膜上之方式；或根據上述內容，於隔板上形成黏著劑層，並將其轉移至偏光元件保護薄膜面上之方式等。
黏著劑層可作為不同組成或種類等者之重疊層，而設置於偏光板之其中一面或兩面上。又，設置於兩面上之情形，可於偏光板之表面內面形成不同組成、種類或厚度等之黏著劑層。
黏著劑層之厚度可根據使用目的或接著力等而加以適當決定，較好的是1~40 μm，更好的是5~30 μm，尤其好的是10~25 μm。薄於1 μm時，耐久性變差，又，厚於40 μm時，容易由於發泡等而產生浮起或剝離而造成外觀不良。
為了提高上述偏光元件保護薄膜與上述黏著劑層之間之 密著性，亦可於該層間設置增黏層。
作為上述增黏層，較好的是使用自聚胺基甲酸酯、聚酯、分子中含有胺基之聚合物類中選擇之增黏層，尤其好的是使用分子中含有胺基之聚合物類。分子中含有胺基之聚合物顯示出分子中之胺基與黏著劑中之羧基、或導電性聚合物中之極性基反應或離子性相互作用等相互作用，因此可確保良好的密著性。
作為分子中含有胺基之聚合物類，例如，可列舉聚乙烯亞胺、聚烯丙胺、聚乙烯胺、聚乙烯基吡啶、聚乙烯基吡咯啶、以上述丙烯酸系黏著劑之共聚單體表示之丙烯酸二甲胺基乙酯等含胺基之單體的聚合物等。
為了賦予上述增黏層抗靜電性，亦可添加抗靜電劑。
再者，於本發明中，亦可藉由利用例如水楊酸酯系化合物或酚系化合物、苯并三唑系化合物或丙烯酸氰酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等紫外線吸收劑進行處理之方式等方式，使形成上述偏光板之偏光元件或偏光元件保護薄膜等、以及黏著劑層等各層具有紫外線吸收能力。
本發明之偏光板可設置於液晶單元之觀察側、背光源側之任一側，亦可設置於兩側，並未限定。
其次，就本發明之圖像顯示裝置加以說明。本發明之圖像顯示裝置包含至少1片本發明之偏光板。此處，作為一例，說明液晶顯示裝置，當然，本發明可應用於必需偏光板之所有顯示裝置。作為可應用本發明之偏光板之圖像顯示裝置的具體例，可列舉如電致發光(EL，electroluminescence) 顯示器、電漿顯示器(PD，Plasma Display)、場發射顯示器(FED：Field Emission Display)之類之自發光型顯示裝置。圖3係本發明之較佳實施形態之液晶顯示裝置的概略剖面圖。圖示例中，就透過型液晶顯示裝置說明，當然本發明亦可應用於反射型液晶顯示裝置等。
液晶顯示裝置100具備：液晶單元10；夾持液晶單元10而配置之相位差薄膜20、20'；配置於相位差薄膜20、20'之外側之偏光板30、30'；導光板40；光源50以及反射器60。偏光板30、30'以其偏光軸相互正交之方式配置。液晶單元10包含一對玻璃基板11、11'以及配置於該基板之間之作為顯示媒體之液晶層12。於其中一塊基板11上，設置有控制液晶之光電特性之開關元件(代表的是TFT(thin film transistor，薄膜電晶體))、賦予該開關元件閘極訊號之掃描線以及賦予源極訊號之訊號線(均未圖示)。於另一玻璃基板11'上，設置有構成彩色濾光片之彩色層以及遮光層(黑色矩陣層)(均未圖示)。基板11、11'之間隔(單元間隙)藉由間隔件13來控制。本發明之液晶顯示裝置中，作為偏光板30、30'之至少1個，採用上述揭示之本發明之偏光板。
例如，於TN(Twisted Nematic，扭轉向列)方式之情形時，如上所述之液晶顯示裝置100於未施加電壓時，液晶層12之液晶分子於使偏光軸偏轉90度之狀態下排列。於上述狀態下，藉由偏光板而僅穿透一個方向之光之入射光利用液晶分子扭轉90度。如上所述，偏光板以其偏光軸相互 正交之方式配置，故到達另一塊偏光板之光(偏振光)穿透該偏光板。因此，未施加電壓時，液晶顯示裝置100進行白色顯示(正常顯白方式)。另一方面，對如上所述之液晶顯示裝置100施加電壓時，液晶層12內之液晶分子之排列發生變化。其結果，到達另一塊偏光板之光(偏振光)無法穿透該偏光板，從而成為黑色顯示。使用主動元件，以像素為單位進行如此之顯示之切換，藉此形成圖像。
實施例
以下，藉由實施例具體說明本發明，但本發明並不限定於該等實施例。再者，只要未特別表示，則實施例中之份及百分比均為重量基準。如下進行評估。
<厚度之測定>
厚度未滿10 μm時，使用薄膜用分光光度計[大塚電子股份有限公司製造之產品名「瞬間多通道測光系統MCPD－2000」]進行測定。厚度為10 μm以上時，使用Anritsu公司製造之數位式測微計「KC－351C型」進行測定。
<於300℃加熱20分鐘時之失重>
於300℃加熱20分鐘時之失重利用於氮氣流中、於300℃加熱20分鐘時之失重率來加以評估。使用約5~10 mg樣品，利用熱重量分析裝置(精工電子股份有限公司製造，TG/DTA6200)，於氮氣流中進行測定。以10℃/分鐘升溫至300℃後，於300℃保持20分鐘。當處理前之重量＝M0、處理後之重量＝M1、失重率(%)＝M時，以下式進行計算。
M＝(M1－M0)/M0
<UV吸收能之評估方法>
對所獲得之光學薄膜，使用日立高新技術公司製造之日立分光光度計U－4100，測定380 nm之光的穿透率。
<薄膜外觀缺陷之評估>
對利用單軸擠出機進行共擠出或擠出而製造之薄膜進行觀察，且觀察薄膜上所出現之外觀缺點個數。
◎：以目測未確認外觀缺陷。
○：觀察到直徑(橢圓狀時為長徑)未滿0.1 mm之外觀缺陷。
×：於整個表面上觀察到直徑(橢圓狀時為長徑)為0.1 mm以上之外觀缺陷。
××：於整個表面上觀察到多個直徑(橢圓狀時為長徑)為0.1 mm以上之外觀缺陷。
<輥附著物之評估>
觀察輥附著物是否附著於T型模出口之鑄軋輥上。
○：鑄軋輥上未觀察到輥附著物。
×：鑄軋輥上觀察到輥附著物。
[參考例1]
於日本專利特開2005－146084號公報中所揭示之含內酯環之丙烯酸系樹脂顆粒中，利用雙軸混練機，於250℃下混合5重量%之三唑系紫外線吸收劑(ADEKA公司製造，Adekastab LA－31)、0.3重量%之酚系抗氧化劑(ADEKA公司製造，Adekastab AO－60)、0.3重量%之硫醚系抗氧化劑(ADEKA公司製造，Adekastab AO－412S)，來製作樹脂顆 粒(1)。
[參考例2]
於日本專利特開2005－146084號公報中所揭示之含有內酯環之丙烯酸系樹脂顆粒中，利用雙軸混練機，於250℃下混合0.5重量%之三唑系紫外線吸收劑(ADEKA公司製造，Adekastab LA－31)、0.3重量%之酚系抗氧化劑(ADEKA公司製造，Adekastab AO－60)、0.3重量%之硫醚系抗氧化劑(ADEKA公司製造，Adekastab AO－412S)，來製作樹脂顆粒(2)。
[參考例3]
於聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂顆粒(Kuraray公司製造，Parapet HR－S)中，利用雙軸混練機，於250℃下混合0.5重量%之三唑系紫外線吸收劑(ADEKA公司製造，Adekastab LA－31)、0.3重量%之酚系抗氧化劑(ADEKA公司製造，Adekastab AO－60)、0.3重量%之硫醚系抗氧化劑(ADEKA公司製造，Adekastab AO－412S)，來製作樹脂顆粒(3)。
[參考例4]
於日本專利特開2005－146084號公報中所揭示之含有內酯環之丙烯酸系樹脂顆粒中，利用雙軸混練機，於240℃下混合2重量%之三嗪系紫外線吸收劑(Ciba公司製造，CGL777)、0.3重量%之酚系抗氧化劑(ADEKA公司製造，Adekastab AO－60)、0.3重量%之硫醚系抗氧化劑(ADEKA公司製造，Adekastab AO－412S)，來製作樹脂顆粒(4)。
[參考例5]
於日本專利特開2005－146084號公報中所揭示之含有內酯環之丙烯酸系樹脂顆粒中，利用雙軸混練機，於240℃下混合0.2重量%之三嗪系紫外線吸收劑(Ciba公司製造，CGL777)、0.3重量%之酚系抗氧化劑(ADEKA公司製造，Adekastab AO－60)、0.3重量%之硫醚系抗氧化劑(ADEKA公司製造，Adekastab AO－412S)，來製作樹脂顆粒(5)。
[參考例6]
於聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂顆粒(Kuraray公司製造，Parapet HR－S)中，利用雙軸混練機，於240℃下混合0.2重量%之三嗪系紫外線吸收劑(Ciba公司製造，CGL777)、0.3重量%之酚系抗氧化劑(ADEKA公司製造，AO－60)、0.3重量%之硫醚系抗氧化劑(ADEKA公司製造，Adekastab AO－412S)，來製作樹脂顆粒(6)。
[參考例7]
於5重量%(重量比：碘/碘化鉀＝1/10)之碘水溶液中，將厚度為80 μm之聚乙烯醇薄膜進行染色。其次，浸漬於包含3重量%之硼酸以及2重量%之碘化鉀的水溶液中，進而，於包含4重量%之硼酸以及3重量%之碘化鉀的水溶液中延伸至5.5倍後，浸漬於5重量%之碘化鉀水溶液中。其後，於40℃之烘箱內乾燥3分鐘，獲得厚度為30 μm之偏光元件。
[實施例1]
使於參考例1中所獲得之樹脂顆粒(1)以及於參考例2中所獲得之樹脂顆粒(2)，於800 Pa、100℃之條件下乾燥12 小時。其後，使用2台單軸擠出機，利用分流器方式，於切割溫度280℃下，自T型模進行共擠出而製造薄膜後，利用雙軸延伸機，進行固定端之同時雙軸延伸，製作薄膜總厚度為50 μm之光學薄膜(1)，上述光學薄膜(1)具有「由樹脂顆粒(2)獲得之樹脂層/由樹脂顆粒(1)獲得之樹脂層/由樹脂顆粒(2)獲得之樹脂層」之薄膜結構。
有關光學薄膜(1)之評估結果示於表1。
[實施例2]
使於參考例1中所獲得之樹脂顆粒(1)以及於參考例3中所獲得之樹脂顆粒(3)，於800 Pa、100℃之條件下乾燥12小時。其後，使用2台單軸擠出機，利用分流器方式，於切割溫度280℃下，自T型模進行共擠出而製造薄膜後，利用雙軸延伸機，進行固定端之同時雙軸延伸，製作薄膜總厚度為50 μm之光學薄膜(2)，上述光學薄膜(2)具有「由樹脂顆粒(3)獲得之樹脂層/由樹脂顆粒(1)獲得之樹脂層/由樹脂顆粒(3)獲得之樹脂層」之薄膜結構。
有關光學薄膜(2)之評估結果示於表1。
[實施例3]
使於參考例4中所獲得之樹脂顆粒(4)以及於參考例5中所獲得之樹脂顆粒(5)，於800 Pa、100℃之條件下乾燥12小時。其後，使用2台單軸擠壓出機，利用分流器方式，於切割溫度250℃下，自T型模進行共擠出而製造薄膜後，利用雙軸延伸機，進行固定端之同時雙軸延伸，製作薄膜總厚度為50 μm之光學薄膜(3)，上述光學薄膜(3)具有「由 樹脂顆粒(5)獲得之樹脂層/由樹脂顆粒(4)獲得之樹脂層/由樹脂顆粒(5)獲得之樹脂層」之薄膜結構。
有關光學薄膜(3)之評估結果示於表1。
[實施例4]
使於參考例4中所獲得之樹脂顆粒(4)以及於參考例6中所獲得之樹脂顆粒(6)，於800 Pa、100℃之條件下乾燥12小時。其後，使用2台單軸擠壓出機，利用分流器方式，於切割溫度250℃下，自T型模進行共擠出而製造薄膜後，利用雙軸延伸機，進行固定端之同時雙軸延伸，製作薄膜總厚度為50 μm之光學薄膜(4)，上述光學薄膜(4)具有「由樹脂顆粒(6)獲得之樹脂層/由樹脂顆粒(4)獲得之樹脂層/由樹脂顆粒(6)獲得之樹脂層」之薄膜結構。
有關光學薄膜(4)之評估結果示於表1。
[比較例1]
使於參考例1中獲得之樹脂顆粒(1)於800 Pa、100℃之條件下乾燥12小時。其後，使用單軸擠出機，於切割溫度280℃下，自T型模進行擠出而製造薄膜後，利用雙軸延伸機，進行固定端之同時雙軸延伸，製作薄膜總厚度為50 μm之光學薄膜(C1)。
有關光學薄膜(C1)之評估結果示於表1。
[實施例5]
(接著劑)
製備聚乙烯醇系接著劑水溶液，該聚乙烯醇系接著劑水溶液係以濃度為0.5重量%之方式，製備相對於經乙醯乙醯基改質之聚乙烯醇樹脂100重量份(乙醯基化度13%)含有20重量份羥甲基三聚氰胺之水溶液。
(偏光板之製作)
使用聚乙烯醇系接著劑，將於實施例1中獲得之光學薄膜(1)貼合至參考例7中獲得之偏光元件的兩面上。聚乙烯醇系接著劑分別塗佈於丙烯酸系樹脂面側，於70℃乾燥10分鐘後獲得偏光板。
(黏著劑)
作為基礎聚合物，使用含有重量平均分子量為200萬之丙烯酸系聚合物的溶液(固形分30%)，上述丙烯酸系聚合物包含丙烯酸丁脂：丙烯酸：丙烯酸2－羥乙酯＝100：5：0.1(重量比)之共聚物。於上述丙烯酸系聚合物溶液中，相對於聚合物固形分100份，添加4份作為異氰酸酯系多官能性化合物之日本聚胺酯公司製造之CORONATE L、0.5份 添加劑(KBM403，信越矽膠製造)、以及用以調整黏度之溶劑(乙酸乙酯)，來製備黏著劑溶液(固形分12%)。以乾燥後之厚度為25 μm之方式，將該黏著劑溶液塗佈於脫模薄膜(聚對苯二甲酸乙二酯基材：Diafoil MRF38，三菱化學聚酯製造)上後，利用熱風循環式烘箱進行乾燥，形成黏著劑層。
(偏光板增黏層)
利用甲基異丁基酮，將聚丙烯酸酯之聚乙烯亞胺加成物(日本觸媒公司製造，商品名Polyment NK380)稀釋至50倍。使用環棒式濕膜塗佈器(# 5)，以乾燥後之厚度為50 nm之方式，將上述稀釋後之溶劑塗佈於偏光板之單面上並進行乾燥。
(黏著型偏光板之製作)
於上述偏光板之增黏層上，貼合形成有上述黏著劑層之脫模薄膜，製作黏著劑型偏光板。
(偏光板之評估)
評估所獲得之偏光板中之薄膜與偏光元件的接著性以及外觀。接著性良好，偏光元件與薄膜一體化而未產生剝離。又，外觀之評估結果為。
產業上之可利用性
本發明之偏光元件保護薄膜及偏光板可較好地用於各種圖像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等)。
1‧‧‧樹脂層(B1)
2‧‧‧樹脂層(A)
3‧‧‧樹脂層(B2)
10‧‧‧液晶單元
11、11'‧‧‧玻璃基板
12‧‧‧液晶層
13‧‧‧間隔件
20、20'‧‧‧相位差薄膜
30、30'‧‧‧偏光板
31‧‧‧偏光元件
32‧‧‧接著劑層
33‧‧‧易接著層
34‧‧‧偏光元件保護薄膜
35‧‧‧接著劑層
36‧‧‧偏光元件保護薄膜
40‧‧‧導光板
50‧‧‧光源
60‧‧‧反射器
100‧‧‧液晶顯示裝置
圖1係表示本發明之偏光元件保護薄膜之一例的剖面圖。
圖2係表示本發明之偏光板之一例的剖面圖。
圖3係本發明之較佳實施形態之液晶顯示裝置的概略剖面圖。
1‧‧‧樹脂層(B1)
2‧‧‧樹脂層(A)
3‧‧‧樹脂層(B2)

Claims (14)

  1. 一種偏光元件保護薄膜，其依序包含樹脂層(A)及樹脂層(B1)；該樹脂層(A)係含(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分之樹脂層，且以相對於該樹脂層(A)中之樹脂成分為0.5~10重量%之比例含有紫外線吸收劑；該樹脂層(A)係相對於該層中之樹脂成分包含0.01重量%以上之酚系抗氧化劑與0.01重量%以上之硫醚系抗氧化劑；該樹脂層(B1)係含(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分之樹脂層，且以相對於該樹脂層(B1)中之樹脂成分為超過0重量%且為2重量%以下之比例含有紫外線吸收劑；且該樹脂層(B1)係相對於該層中之樹脂成分包含0.01重量%以上之酚系抗氧化劑與0.01重量%以上之硫醚系抗氧化劑。
  2. 如請求項1之偏光元件保護薄膜，其中上述樹脂層(B1)中之紫外線吸收劑之含有比例小於上述樹脂層(A)中之紫外線吸收劑之含有比例。
  3. 如請求項1或2之偏光元件保護薄膜，其中上述樹脂層(B1)之厚度為0.5~15 μm，上述樹脂層(A)之厚度為5~70 μm。
  4. 如請求項1之偏光元件保護薄膜，其中於上述樹脂層(A)之與上述樹脂層(B1)相反之側包含樹脂層(B2)；該樹脂層(B2)係含(甲基)丙烯酸系樹脂作為主成分之樹脂層， 且以相對於該樹脂層(B2)中之樹脂成分為超過0重量%且為2重量%以下之比例含有紫外線吸收劑。
  5. 如請求項4之偏光元件保護薄膜，其中上述樹脂層(B1)中之紫外線吸收劑之含有比例以及上述樹脂層(B2)中之紫外線吸收劑之含有比例均小於上述樹脂層(A)中之紫外線吸收劑的含有比例。
  6. 如請求項4或5之偏光元件保護薄膜，其中上述樹脂層(B1)之厚度為0.5~15 μm，上述樹脂層(A)之厚度為5~70 μm，上述樹脂層(B2)之厚度為0.5~15 μm。
  7. 4、5中任一項之偏光元件保護薄膜，其總厚度為15~100 μm。
  8. 4、5中任一項之偏光元件保護薄膜，其厚度為50 μm時380 nm之光的穿透率為10%以下。
  9. 4、5中任一項之偏光元件保護薄膜，其係藉由共擠壓成形而製作。
  10. 一種偏光板，其包含由聚乙烯醇系樹脂形成之偏光元件及如請求項1至9中任一項之偏光元件保護薄膜。
  11. 如請求項10之偏光板，其中於上述偏光元件保護薄膜與上述偏光元件之間包含接著劑層。
  12. 如請求項11之偏光板，其中上述接著劑層係由聚乙烯醇系接著劑所形成之層。
  13. 如請求項10至12中任一項之偏光板，其中進而包含黏著劑層作為樹脂層之至少一者。
  14. 一種圖像顯示裝置，其包含至少1片如請求項10至13中任一項之偏光板。
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