TW201735416A - 顯示裝置、顯示裝置之製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明係提供一種可有效地抑制水分子朝發光元件侵入，來防止發光元件的劣化之影像顯示裝置。本發明之顯示裝置係具備有藉由複數畫素所構成的顯示區域之顯示裝置；具有：第1基板，係具有形成於該顯示區域的周圍之吸濕劑，與覆蓋該吸濕劑之密封膜；第2基板，係與該第1基板相對向所配置；以及接著層，係配置於較該吸濕劑更接近該顯示區域一側，而將該第1基板與該第2基板予以接著。

Description

顯示裝置、顯示裝置之製造方法

本發明關於一種顯示裝置及顯示裝置之製造方法。

近年來，使用有機EL(Electro-luminescent)元件之有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等的顯示裝置已被實用化。然而，由於有機EL元件係相對於水分子或氧分子等較為脆弱，故會有有機EL元件劣化，而發生黑點等的燈源點啟不良之虞。又，液晶顯示裝置中，亦會受到所侵入之水分的影響，使得薄膜電晶體(Thin Film Transistor)的特性改變，而產生顯示品質劣化發生之問題。

因此，例如專利文獻1中揭示一種顯示裝置，係於玻璃基板上之基板面內的周緣部形成具吸濕性之鈣組件，並以將玻璃基板與保護玻璃予以貼合之接著劑來覆蓋該鈣組件，藉此防止水分子侵入顯示區域。

又，例如，專利文獻2揭示一種顯示裝置，係在形成有發光元件之元件基板與和元件基板相貼合之密封基板之間設置有極性體，該極性體會吸附將兩基板予以貼合之封材所含的氣泡，藉此來防止氣泡所含的氧分子或水分子與發光元件發生化學反應。

又，引用文獻3揭示一種有機EL顯示裝置，係具有將有機EL層加以密封所形成之密封組件，而在藉由密封組件所密封之空間內的任一位置處形成有脫氧脫水部。

又，引用文獻4揭示一種顯示裝置，係具備有在基板的外周部分以接著劑來將電極層加以覆蓋之密封基板，藉此防止水分等從密封 基板的外部侵入。

再者，引用文獻5揭示一種顯示裝置，係在撥液性之框體的外周塗佈封材，而將含有吸濕性物質之層與平板元件基板的有機EL元件相對向來加以貼合後，再使封材硬化並加以密封，藉此防止水分等侵入框體內部。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：日本特開2006-80094號公報

專利文獻2：日本特開2010-198926號公報

專利文獻3：日本特開2002-8852號公報

專利文獻4：日本特開2013-110116號公報

專利文獻5：日本特開2008-77951號公報

如上述先前技術文獻般，即便是以封材等的有機材料來將形成有有機EL元件之基板的外周加以密封，水分仍會透過封材等而慢慢地侵入顯示區域內。又，即便是於基板上形成有吸濕劑等構成的情況，在吸濕劑的形成工序後到顯示面板完成為止的過程中，由於吸濕劑會與水分等反應，故在顯示面板完成的時間點而吸濕劑的性能已經降低。

本發明係鑑於上述課題而發明者，其目的在於提供一種可有效地抑制水分子朝發光元件侵入，來防止發光元件的劣化之影像顯示裝置。

本發明一態樣之顯示裝置係具備有藉由複數畫素所構成的顯示區域之顯示裝置；具有：第1基板，係具有形成於該顯示區域的周圍之吸濕劑，與覆蓋該吸濕劑之密封膜；第2基板，係對向於該第1基板所配置；以及接著層，其至少一部分係配置於較該吸濕劑更接近該顯示區域一側，而將該第1基板與該第2基板予以接著。

又，本發明其他一態樣之顯示裝置係具備有具有複數畫素之顯示區域，與較該顯示區域要外側的周邊區域之顯示裝置；該複數畫素係分別具備包含有陽極電極、發光層及陰極電極之發光元件；該發光元件係設置於第1基板；該第1基板係設置有位處橫跨該顯示區域與該周邊區域，並覆蓋該發光元件之密封膜；該周邊區域係設置有位在該第1基板與該密封膜之間之吸濕劑；該周邊區域係設置有圍繞該顯示區域之築堤劑；該密封膜的一部分與該吸濕劑係受到該築堤劑的覆蓋。

又，本發明其他一態樣之顯示裝置之製造方法係具備有藉由複數畫素所構成的顯示區域之顯示裝置的製造方法；具有以下工序：形成具有形成於該顯示區域外側的周邊區域之吸濕劑，及覆蓋該吸濕劑般所形成之密封膜之第1基板之工序；形成與該第1基板相對向之第2基板之工序；於該第1基板或該第2基板其中一者滴下有機系材料所構成的接著劑之工序；以及藉由該接著劑來將該第1基板與該第2基板予以貼合，並藉由按壓而於該密封膜形成裂口之工序。

100‧‧‧顯示裝置

110‧‧‧上框

120‧‧‧下框

200‧‧‧有機EL面板

201‧‧‧陣列基板

202‧‧‧對向基板

203‧‧‧驅動IC

204‧‧‧副畫素

205‧‧‧顯示區域

301‧‧‧下玻璃基板

302‧‧‧TFT電路層

303‧‧‧有機平坦化膜

304‧‧‧陽極電極

305‧‧‧有機擋壁

306‧‧‧有機膜

307‧‧‧陰極電極

308‧‧‧吸濕劑

309‧‧‧密封膜

310‧‧‧上玻璃基板

311‧‧‧紅色彩色濾光層

312‧‧‧綠色彩色濾光層

313‧‧‧藍色彩色濾光層

314‧‧‧遮光層

315‧‧‧填充劑

316‧‧‧築堤劑

317‧‧‧汲極電極

318‧‧‧畫素電晶體

319‧‧‧周邊區域

圖1係概略顯示本發明之實施型態相關的顯示裝置之圖式。

圖2係顯示從加以顯示有機EL面板一側所見到的構成之圖式。

圖3係用以說明有機EL面板的剖面之圖式。

圖4係用以說明吸濕劑的配置分佈之圖式。

圖5係用以說明有機EL面板的製造工序之圖式。

圖6係用以說明有機EL面板的製造工序之圖式。

圖7係用以說明有機EL面板的製造工序之圖式。

以下，針對本發明之各實施型態，參閱圖式來加以說明。圖式雖為了更加明確地說明，而相較於實際的態樣，有針對各部的寬度、 厚度、形狀等僅概略地顯示之情況，但此僅為一範例，並非用以限定本發明之解釋。又，本說明書與各圖式中，有關已說明的圖式，若與前述者為相同的要素，則有賦予相同的符號而適當地省略詳細說明之情況。

圖1係顯示本發明之實施型態相關之顯示裝置100的概略之圖式。如圖所示，顯示裝置100係構成為包含有被挾置於上框110及下框120般而被加以固定之有機EL面板200。

圖2係顯示圖1之有機EL面板200的構成之概略圖。如圖2所示，有機EL面板200係具有陣列基板201、對向基板202及驅動IC(Integrated Circuit)203。陣列基板201係配置有後述之吸濕劑308、密封膜309等，藉由接著層(填充劑315及築堤(dam)劑316)而與對向基板202相接著。

驅動IC203係對分別對應於例如構成1畫素之複數副畫素204所配置的畫素電晶體318(參閱圖3等)的掃描訊號線施加用以使源極.汲極間導通之電位，並使對應於畫素的階度值之電流流通於各畫素電晶體318的資訊訊號線。又，複數畫素係分別具備有包含有後述的陽極電極304、發光層及陰極電極307之發光元件。藉由該驅動IC203，有機EL面板200便會將藉由複數顏色構成的複數副畫素204所構成之彩色影像顯示在顯示區域205。

圖3係概略顯示第1實施型態中的畫素剖面之圖式一範例，係顯示圖2中的III-III剖面之圖式。以下的說明中，雖係針對複數畫素係組合會分別發出紅色、綠色及藍色的光之3個副畫素204所加以構成的情況來加以說明，但複數畫素亦可分別組合4個以上的副畫素204來加以構成。

如圖3所示，陣列基板201係包含下玻璃基板301，以及，於下玻璃基板301上朝向對向基板202所依序形成之TFT(Thin Film Transistor)電路層302、有機平坦化膜303、陽極電極304、有機擋壁(bank)305、有機膜306、陰極電極307、吸濕劑308及密封膜309所構成。對向基板202係包含上玻璃基板310，以及，形成於上玻璃基板 310上之彩色濾光層311、312、313及遮光層314所構成。又，陣列基板201與對向基板202之間係充填有填充劑315及築堤劑316，陣列基板201與對向基板202係藉由填充劑315及築堤劑316而相貼合。

TFT電路層302係具有包含源極電極、汲極電極317、閘極電極或半導體層等所構成之畫素電晶體318。有關畫素電晶體318的詳細構造，由於與習知技術相同，故省略說明。

有機平坦化膜303係在顯示區域205處覆蓋TFT電路層302般所形成，來使配置於下層側之配線或畫素電晶體318所造成的段差平坦化。又，有機平坦化膜303係圍繞顯示區域205般而形成於顯示區域205的外側區域(即周邊區域319)。

陽極電極304係形成於畫素電晶體318的上部。具體來說，例如，陽極電極304係在顯示區域205處，透過有機平坦化膜303的接觸孔，而與畫素電晶體318的源極或汲極電極317電連接般地形成於源極或汲極電極317的上層側。

有機擋壁305係在顯示區域205處，覆蓋各陽極電極304分別的周緣部般所形成，且在周邊區域319處，覆蓋有機平坦化膜303般所形成。具體來說，例如圖3所示，有機擋壁305係在顯示區域205處，於各陽極電極304之間及陽極電極304之端部的上方，又，於周邊區域319處，於有機平坦化膜303的上方而由樹脂材料所形成。藉由該有機擋壁305，便可防止陽極電極304與陰極電極307的短路。

有機膜306係在顯示區域205處，形成於陽極電極304及有機擋壁305之端部的上層側。又，有機膜306係藉由層積有電洞注入層、電洞輸送層、發光層、電子注入層及電子輸送層所形成。發光層係藉由從陽極電極304注入的電洞與從陰極電極307注入的電子之再鍵結而發光。有關電洞注入層、電洞輸送層、電子注入層及電子輸送層，由於與習知技術相同，故省略說明。

陰極電極307係形成於有機膜306的上層側。具體來說，例如，陰極電極307係在顯示區域205處，覆蓋有機擋壁305及有機膜306般所形成，藉由在與陽極電極304之間施加電壓，來使電流流至有機膜 306而使其發光。又，陰極電極307係使用透明的材料所形成。具體來說，例如，陰極電極307係由包含有氧化銦錫(ITO：Indium Tin Oxide)等的金屬所構成之具穿透性的金屬薄膜所形成。

吸濕劑308係形成於顯示區域205外側的周邊區域319。具體來說，例如圖3所示，吸濕劑308係在周邊區域319處，作為將陣列基板201與對向基板202的間隔予以保持之支柱而形成於有機擋壁305的上層側。又，吸濕劑308係由鹼金屬或鹼土類金屬所形成。具體來說，例如，吸濕劑308係使用鈣、鎂、鋰、銫、鋇等的材料所形成。

吸濕劑308不僅能夠藉由和從有機EL面板200的外部侵入的水分子發生化學反應來吸收水分子，且在該化學反應結束後亦會阻止水分子朝顯示區域205侵入，而具有障壁的功能。具體來說，例如，使用鈣來形成吸濕劑308的情況，當鈣與水分子發生化學反應時，便會變化為氫氧化鈣，該氫氧化鈣會阻止水分子朝顯示區域205侵入。

此外，圖3中，吸濕劑308雖係作為將陣列基板201與對向基板202的間隔予以保持之支柱所形成，但吸濕劑308的高度亦可較陣列基板201與對向基板202的間隔要來得低。具體來說，例如，吸濕劑308可具有與對向基板202相對向之上面，而密封膜309的一部分亦可構成為位在該上面與對向基板202之間。即便是上述構成，藉由到鈣的化學反應結束為止會作為吸濕劑308而發揮作用，仍可阻止水分子朝顯示區域205侵入。又，亦可使柱狀的吸濕劑308形成為從陣列基板201到吸濕劑308的上面之距離會大於顯示區域205中從陣列基板201到密封膜309的表面之距離。

接著，針對吸濕劑308的平面配置來加以說明。吸濕劑308係以至少2個不連續的區域圍繞周邊區域319的4個邊般所形成。具體來說，例如，使用圖4來針對吸濕劑308的配置分佈加以說明。如圖4(a)所示，吸濕劑308係圍繞顯示區域205的周圍整體般而形成於周邊區域319。藉由圍繞顯示區域205般來形成吸濕劑308，則在吸濕劑308的化學反應結束後，仍會阻止水分子從有機EL面板200外部朝顯示區域205侵入。此外，如圖4(b)及(c)所示，亦可將吸濕劑308分割為2 或4來加以形成。藉由上述構成，便可較圖4(a)所示之吸濕劑308的製造工序，而以更簡單的製造工序來形成吸濕劑308。

密封膜309係覆蓋吸濕劑308般所形成。具體來說，如圖3所示，係在顯示區域205處覆蓋陰極電極307般，換言之，覆蓋包含有陽極電極304、具有發光層之有機膜306、陰極電極307等的發光元件般，且在周邊區域319處覆蓋有機擋壁305及吸濕劑308般所形成。藉由以密封膜309來覆蓋吸濕劑308，則在有機EL面板200的製造過程中，便可防止吸濕劑308與水分子進行化學反應之情況。

又，圖3中，雖記載了密封膜309未具有孔之情況，但密封膜309亦可具有會使吸濕劑308露出的孔、凹陷於吸濕劑308的上面一側之孔、或容許水分子侵入之孔(侵入孔)。具體來說，例如，密封膜309亦可構成為具有藉由將陣列基板201與對向基板202予以貼合的按壓而產生的裂口。該孔可使吸濕劑308的上面露出，或是使吸濕劑308的側面露出。再者，密封膜309的一部分係位在吸濕劑308的上面與對向基板202之間所構成的情況，則亦可構成為於密封膜309的一部分係設置有凹陷於該上面的一側之孔。細節將於後述，在將陣列基板201與對向基板202予以貼合之工序中，藉由於密封膜309產生侵入孔，便可使吸濕劑308在貼合工序後成為開始發揮吸濕性之狀態。

彩色濾光層311、312、313係由僅有特定波長的光能夠穿透之材料所形成。例如，彩色濾光層係包含紅色的光能夠選擇性地穿透之紅色彩色濾光層311、綠色的光能夠選擇性地穿透之綠色彩色濾光層312、以及藍色的光能夠選擇性地穿透之藍色彩色濾光層313所構成。具體來說，如圖3所示，由圖式上的左邊，紅色彩色濾光層311、綠色彩色濾光層312及藍色彩色濾光層313係依序形成於上玻璃基板310上。

遮光層314係由能夠阻隔光之材料所形成。具體來說，例如圖3所示，遮光層314係形成於顯示區域205中之彩色濾光層之間及周邊區域319。藉由遮光層314來防止從相鄰副畫素204發出的光相混合而發生混色之情況。

接著層係包含填充劑315及築堤劑316所形成。接著層的至少一部分係配置於較吸濕劑308的內側更接近顯示區域205一側，來將陣列基板201與對向基板202予以接著。填充劑315的至少一部分係位在顯示區域205，而密封膜309係在顯示區域205處，受到填充劑315的覆蓋般所形成。具體來說，例如，填充劑315係配置於吸濕劑308的內側，即較吸濕劑308更接近顯示區域205一側。填充劑315係由有機系材料所構成，藉由配置於吸濕劑308的內側，來將陣列基板201與對向基板202予以接著。

築堤劑316係位在周邊區域319而圍繞顯示區域205般，並且覆蓋吸濕劑308般所形成。具體來說，築堤劑316係使用透水性較填充劑315為低的材料，而於填充劑315的外側圍繞顯示區域205般所形成。

如以上所述，依據本發明之構成，係藉由到吸濕劑308的化學反應結束為止吸濕劑308會吸收水分子，又，係藉由在化學反應結束後，會抑制水分子朝發光元件侵入，來防止發光元件的劣化。

此外，上述中，雖記載了將陣列基板201與對向基板202予以貼合之構成，但亦可為不具有對向基板202之構成。本變形例中，有機EL面板200係與上述同樣地具備有具有複數畫素之顯示區域205，以及較顯示區域205要外側的周邊區域319。然後，有機EL面板200係包含陣列基板201與驅動IC(Integrated Circuit)203所構成。

然後，陣列基板201係與上述同樣地，位處橫跨顯示區域205與周邊區域319，並且包含有覆蓋發光元件之密封膜309或位在下玻璃基板301與密封膜309之間之吸濕劑308等所形成。陣列基板所含之發光層係由每個副畫素204會發出不同顏色的光之材料所形成，這一點乃與上述實施例相異。

又，本變形例中雖未設置有對向基板202，但陣列基板201係設置有築堤劑316。具體來說，陣列基板201係在周邊區域319處設置有圍繞顯示區域205之築堤劑316，且密封膜309的一部分與吸濕劑308係受到築堤劑316的覆蓋般所形成。

本變形例中，亦可形成為密封膜309係具有會使吸濕劑308露出 的孔。又，吸濕劑308可具有位在與下玻璃基板301為相反側之上面，且密封膜309的一部分亦可設置有與該上面相對向而凹陷於上面的一側之孔。又，吸濕劑308亦可由鹼金屬或鹼土類金屬(例如鈣)所形成。再者，亦可形成為吸濕劑308係形成為柱狀，且從下玻璃基板301到形成為柱狀之吸濕劑308的上面之距離，會大於顯示區域205中從下玻璃基板301到密封膜309之位在與下玻璃基板301為相反側的表面之距離。

接著，針對本發明之顯示裝置100的製造工序來加以說明。圖5至圖7係顯示本發明之實施型態中的製造工序之圖式。首先，如圖5(a)所示，於下玻璃基板301上形成TFT電路層302，並覆蓋TFT電路層302般來形成有機平坦化膜303。此處，有機平坦化膜303亦形成於周邊區域319處。接著，在層積於汲極電極317上部之有機平坦化膜303開口出接觸孔，並於開口部的汲極電極317上形成陽極電極304。然後，覆蓋各陽極電極304之分別的周緣部般來形成有機擋壁305。此處，有機擋壁305亦形成於周邊區域319處所形成之有機平坦化膜303的上層側。再者，在顯示區域205處，於陽極電極304及有機擋壁305之端部的上層側係形成有有機膜306，有機膜306的上層側則形成有陰極電極307。

接著，如圖5(b)所示，形成於周邊區域319之有機擋壁305的上層側係形成有吸濕劑308。此處，吸濕劑308的高度係形成為和陣列基板201與對向基板202的間隔相同，或是，較陣列基板201與對向基板202的間隔要來得高。又，吸濕劑308係藉由真空蒸鍍法等方法所形成。

接下來，如圖6(a)所示，將形成於顯示區域205之陰極電極307，以及，形成於周邊區域319之有機擋壁305及吸濕劑308加以覆蓋般地來形成密封膜309。此處，密封膜309最好是在吸濕劑308的形成工序後，且在吸濕劑308不會接觸空氣之環境下連續形成。藉由在吸濕劑308的形成工序後立刻形成密封膜309，便可防止吸濕劑308與水分子等進行化學反應。

接下來，如圖6(b)所示，對陣列基板201滴下接著劑。具體來說，例如，係使用分配器，而與形成於周邊區域319之吸濕劑308及有機擋壁305相重疊般地滴下築堤劑316，在顯示區域205處，則係每相隔一定間隔便滴下填充劑315。

然後，如圖7所示，將圖6(b)的工序中已滴下築堤劑316及填充劑315之陣列基板201與對向基板202予以貼合。此處，對向基板202的製造方法由於與習知技術相同，故省略說明。如以上所述，由於吸濕劑308的高度係形成為和陣列基板201與對向基板202的間隔為相同程度以上，故將陣列基板201與對向基板202予以貼合時，會對覆蓋吸濕劑308般所形成之密封膜309施加壓力。其結果，覆蓋吸濕劑般所形成之密封膜309便會產生讓水分子等透過的裂口。

如以上所述，圖6(a)之工序所形成的密封膜309係在直到圖7所示之工序因按壓而產生裂口為止的工序中，會防止吸濕劑308與水分子之化學反應的進行。然後，藉由圖7所示之工序中所產生的侵入孔，來使吸濕劑308開始展現功能，便可長時間地保持吸濕劑308能發揮吸濕性之期間。再者，吸濕劑的高度係形成為和陣列基板201與對向基板202的間隔為相同程度以上，由於吸濕劑會在與水分子的化學反應結束後變化成不會讓水分子等透過的材料，故在化學反應結束後仍可防止水分子等從外部朝顯示區域侵入。

在本發明之思想範疇中，只要是本發明所屬技術領域中具通常知識者可思及各種變化例及修正例，應可明瞭該等變化例及修正例亦屬於本發明之範圍。例如，針對前述各實施型態，只要是符合本發明之要旨，本發明所屬技術領域中具通常知識者所為之適當地追加、刪除構成要素或進行設計變更，或是追加、刪除工序或進行條件變更亦包含於本發明之範圍。

205‧‧‧顯示區域

301‧‧‧下玻璃基板

303‧‧‧有機平坦化膜

304‧‧‧陽極電極

305‧‧‧有機擋壁

306‧‧‧有機膜

307‧‧‧陰極電極

308‧‧‧吸濕劑

309‧‧‧密封膜

310‧‧‧上玻璃基板

311‧‧‧紅色彩色濾光層

312‧‧‧綠色彩色濾光層

313‧‧‧藍色彩色濾光層

314‧‧‧遮光層

315‧‧‧填充劑

316‧‧‧築堤劑

317‧‧‧汲極電極

318‧‧‧畫素電晶體

319‧‧‧周邊區域

Claims (17)

1. 一種顯示裝置，係具備有藉由複數畫素所構成的顯示區域之顯示裝置；具有：第1基板，係具有形成於較該顯示區域要外側的周邊區域之吸濕劑，與覆蓋該吸濕劑之密封膜；第2基板，係對向於該第1基板所配置；以及接著層，其至少一部分係配置於較該吸濕劑更接近該顯示區域一側，而將該第1基板與該第2基板予以接著。
2. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置，其中該密封膜係具有會使該吸濕劑露出的孔。
3. 如申請專利範圍第2項之顯示裝置，其中該孔係容許水分子的侵入之侵入孔。
4. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置，其中該吸濕劑係具有與該第2基板相對向之上面；該密封膜的一部分係位在該上面與該第2基板之間；該一部分係設置有凹陷於該上面一側之孔。
5. 如申請專利範圍第4項之顯示裝置，其中該孔係使該上面露出。
6. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置，其中該吸濕劑係作為將該第1基板與該第2基板的間隔予以保持之支柱所形成。
7. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置，其中該吸濕劑係由鹼金屬或鹼土類金屬所形成。
8. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置，其中該吸濕劑係以至少2個不連續的區域圍繞該周邊區域的4個邊般所形成。
9. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置，其中該複數畫素係分別具備包含有陽極電極、發光層及陰極電極之發光元件；該密封膜係覆蓋該發光元件。
10. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置，其中該接著層的至少一部分係位在該顯示區域；該密封膜係在該顯示區域中被該接著層加以覆蓋。
11. 如申請專利範圍第1項之顯示裝置，其中該接著層係位在該周邊區域而圍繞該顯示區域，並且覆蓋該吸濕劑。
12. 一種顯示裝置，係具備有具有複數畫素之顯示區域，與較該顯示區域要外側的周邊區域之顯示裝置；該複數畫素係分別具備包含有陽極電極、發光層及陰極電極之發光元件；該發光元件係設置於第1基板；該第1基板係設置有位處橫跨該顯示區域與該周邊區域，並覆蓋該發光元件之密封膜；該周邊區域係設置有位在該第1基板與該密封膜之間之吸濕劑；該周邊區域係設置有圍繞該顯示區域之築堤劑；該密封膜的一部分與該吸濕劑係受到該築堤劑的覆蓋。
13. 如申請專利範圍第12項之顯示裝置，其中該密封膜係具有會使該吸濕劑露出的孔。
14. 如申請專利範圍第12項之顯示裝置，其中該吸濕劑係具有位在與該吸濕劑的該第1基板為相反側之上面；該密封膜的一部分係與該上面相對向；該一部分係設置有凹陷於該上面一側之孔。
15. 如申請專利範圍第12項之顯示裝置，其中該吸濕劑係包含有鹼金屬或鹼土類金屬。
16. 如申請專利範圍第12項之顯示裝置，其中該吸濕劑係形成為柱狀；該密封膜係具有位在與該密封膜的該第1基板為相反側之表面；從該第1基板到該形成為柱狀之吸濕劑的上面之距離係大於該顯示區域中從該第1基板到該表面之距離。
17. 一種顯示裝置之製造方法，係具備有藉由複數畫素所構成的顯示區域之顯示裝置的製造方法；具有以下工序：形成具有形成於較該顯示區域要外側的周邊區域之吸濕 劑，及覆蓋該吸濕劑般所形成之密封膜之第1基板之工序；形成與該第1基板相對向之第2基板之工序；於該第1基板或該第2基板其中一者滴下有機系材料所構成的接著劑之工序；以及藉由該接著劑來將該第1基板與該第2基板予以貼合，並藉由按壓而於該密封膜形成裂口之工序。