CN110518141A - 一种显示面板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供的一种显示面板及其制备方法，其包括：衬底，所述衬底的显示区域内包括开孔区、隔断区和有效显示区，所述隔断区用于间隔所述开孔区与所述有效显示区；所述隔断区内设置有彼此相邻的隔断槽和隔断台，所述隔断台和所述隔断槽均围绕所述开孔区设置；所述遮挡部与所述支撑部的材料种类不同。通过设置遮挡部与所述支撑部的材料种类不同，由此使得构成支撑部与构成遮挡部的刻蚀速率不同，因此经过同等时间的刻蚀，支撑部被刻蚀的体积明显大于遮挡部被刻蚀的体积，因此构成蘑菇状隔断台和倒梯形状隔断槽。

Description

一种显示面板及其制备方法

技术领域

本发明属于显示装置技术领域，具体涉及一种显示显示面板及其制备方法。

背景技术

随着显示装置的快速发展，用户对显示屏的屏占比的要求越来越高。由于显示屏顶部需要安装摄像头、传感器或听筒等功能元件，因此，相关技术中屏幕顶部通常会预留一部分区域用于安装上述功能元件，例如，苹果手机iphoneX的“刘海”区域，影响了显示屏的整体一致性。目前，全面屏显示受到业界越来越多的关注，原因在于全面屏具有高的屏占比以及窄边框，显著提高观看者的视觉享受。

目前，为了实现全面屏，一般会在显示装置(诸如手机)的显示区域内设置安装孔，在安装孔内放置摄像头、传感器或听筒等功能元件，但是在显示区域内设置安装孔，存在封装失效的风险，进而影响显示面板的显示效果。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于在显示区打孔时，出现水气入侵、切割导致的功能层失效以及开孔边框过大的问题，进而提供一种显示面板及制备方法。

本发明所提供的一种显示面板，其包括：

衬底，所述衬底的显示区域内包括开孔区、隔断区和有效显示区，所述隔断区用于间隔所述开孔区与所述有效显示区；

所述隔断区内设置有彼此相邻的隔断槽和隔断台，所述隔断台和所述隔断槽均围绕所述开孔区设置；所述隔断台包括支撑部与遮挡部，所述支撑部在所述衬底上的投影为第一投影，所述遮挡部在所述衬底上的投影为第二投影，所述第一投影的面积小于所述第二投影的面积，且所述第一投影落入所述第二投影内；所述遮挡部与所述支撑部的材料种类不同。

进一步地，所述遮挡部包括金属层或第一无机层，所述支撑部包括第二无机层，所述第二无机层的致密度小于所述第一无机层的致密度。

进一步地，所述第一无机层包括第一子无机层、第二子无机层以及第三子无机层，所述第一子无机层和所述第三子无机层的致密度小于所述第二子无机层，所述第一子无机层和所述第三子无机层的材料种类相同。

进一步地，所述支撑部还包括有机层，所述有机层设于所述第二无机层与所述遮挡部之间或所述有机层设于所述第二无机层远离所述遮挡部的一侧。

进一步地，所述遮挡部的金属层与所述有效显示区的阵列结构层中的金属层同层制备形成。

进一步地，所述第一无机层与所述阵列结构层中的第四无机层同层制备形成，所述第二无机层与所述阵列结构层中的第三无机层同层制备形成。

进一步地，所述显示面板还包括封装层，所述封装层包括无机封装层和有机封装层，其中无机封装层至少覆盖所述有效显示区的有机发光层和所述隔断槽的内壁。

进一步地，所述隔断槽的底部暴露的材料为无机材料。

进一步地，还包括围绕所述开孔区设置的堤坝，所述堤坝设于所述有效显示区和/或所述隔断区。

进一步地，至少一个所述遮挡部上设有所述堤坝。

进一步地，至少在与所述有效显示区相邻的所述遮挡部上设有所述堤坝。

一种显示面板的制备方法，其包括如下步骤：

S1：制备衬底；

S2：在所述衬底的显示区域内形成有效显示区和隔断区的阵列结构层；

S3：刻蚀所述隔断区的阵列结构层形成彼此相邻的隔断台和隔断槽；所述隔断台包括支撑部与遮挡部，所述支撑部在所述衬底上的投影为第一投影，所述遮挡部在所述衬底上的投影为第二投影，所述第一投影的面积小于所述第二投影的面积，且所述第一投影落入所述第二投影内；所述遮挡部与所述支撑部的材料种类不同。

进一步地，所述步骤S3包括：

S31:刻蚀所述隔断区的阵列结构层形成第一刻蚀孔；

S32:侧刻蚀所述第一刻蚀孔的侧壁形成所述隔断槽和与所述隔断槽相邻的所述隔断台。

进一步地，所述步骤S2包括：所述支撑部的第二无机层与所述阵列结构层中的第三无机层同层制备；所述遮挡部的金属层与所述阵列结构层中的金属层同层制备或所述遮挡部的第一无机层与所述阵列结构层中的第四无机层同层制备。

优选地，在所述有效显示区和/或所述隔断区形成堤坝的步骤。

进一步地，在所述遮挡部上形成堤坝。

进一步地，所述堤坝与所述有效显示区的阵列结构层中的第五无机层同层制备。

进一步地，在所述显示区域内开设安装孔，所述隔断区用于间隔所述安装孔和所述有效显示区。

本发明技术方案，具有如下优点：

1.本发明提供的一种显示面板，其包括：衬底，衬底的显示区域内包括开孔区、隔断区和有效显示区，隔断区用于间隔开孔区与有效显示区；隔断区内设置有彼此相邻的隔断槽和隔断台，隔断台和隔断槽均围绕开孔区设置；隔断台包括支撑部与遮挡部，支撑部在衬底上的投影为第一投影，遮挡部在衬底上的投影为第二投影，第一投影的面积小于第二投影的面积，且第一投影落入第二投影内；遮挡部与支撑部的材料种类不同。

通过设置遮挡部与支撑部的材料种类不同，由此使得构成支撑部与构成遮挡部的刻蚀速率不同，因此经过同等时间的刻蚀，支撑部被刻蚀的体积明显大于遮挡部被刻蚀的体积，因此构成蘑菇状隔断台和倒梯形状隔断槽，本发明的上述设置经过控制刻蚀选择比的不同即可形成两种外形不同的结构，节省了工艺流程，节约了时间，降低了成本。

2.本发明提供的一种显示面板，显示面板还包括封装层，封装层包括无机封装层和有机封装层，其中无机封装层至少覆盖有效显示区的有机发光层和隔断槽的内壁；进一步地，还包括围绕开孔区设置的堤坝，堤坝设于有效显示区和/或隔断区。至少一个遮挡部上设有堤坝。通过一个结构将隔断台和堤坝合二为一，不仅同时实现了隔断和阻止溢流两种功能，简化了结构，同时由于将堤坝直接设于隔断台上，有效的缩短了有效显示区的边框。

3.本发明提高的一种显示面板的制备方法，其包括如下步骤：

S1：制备衬底；

S2：在衬底的显示区域内形成有效显示区和隔断区的阵列结构层；

S3：刻蚀隔断区的阵列结构层形成彼此相邻的隔断台和隔断槽；隔断台包括支撑部与遮挡部，支撑部在衬底上的投影为第一投影，遮挡部在衬底上的投影为第二投影，第一投影的面积小于第二投影的面积，且第一投影落入第二投影内；遮挡部与支撑部的材料种类不同。

由于将隔断区与有效显示区同步制备，无需额外增加制备隔断槽和隔断台的步骤，简化了制备工艺和流程，节省了时间，降低了成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明中显示屏的俯视图；

图2-3为本发明第一种实施方式中显示屏的结构示意图；

图4-5为本发明中第二种实施方式中显示屏的结构示意图；

图6-7为本发明中第三种实施方式中显示屏的结构示意图。

附图标记：

1-衬底；

2-显示区域；21-开孔区；22-隔断区；23-有效显示区；3-安装孔；

4-隔断槽；5-隔断台；51-支撑部；511-第二无机层；512-有机层；52-遮挡部；521-金属层；522-第一无机层；53-第一子无机层；54-第二子无机层；55-第三子无机层；

6-封装层；61-无机封装层；62-有机封装层；

7-堤坝；

8-阵列结构层；81-第三无机层；82-第四无机层；83-第五有机层；

9-衬底有机层；10-衬底无机层；11-有机发光层。

具体实施方式

下面将对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

目前，为了实现全面屏，一般会在显示装置(诸如手机)的显示区域内设置安装孔，在安装孔内放置摄像头、传感器或听筒等功能元件，但是在显示区域内设置安装孔，存在封装失效的风险，进而影响显示面板的显示效果。发明人经过研究发现，主要是因为在显示区域内设置安装孔后，在安装孔侧壁的有机发光材料层处，形成水氧进入显示区域的通道，造成显示区域的封装失效，影响显示面板的显示效果。同时如果设计不合理也会导致安装孔的边框过大。

针对上述的技术问题，本发明的实施例提供一种显示面板及其制备方法，发明人通过把有机发光材料层在安装孔周围隔断，则可以隔断水氧入侵的通道，以及将隔断台与堤坝的结构二合一，可以解决上述的技术问题，防止显示区域的封装失效，保证显示面板的显示效果。同时实现减小安装孔周围的边框的效果。

实施例1

如图1所示，本发明提供了一种显示面板，其包括衬底1，其中衬底1上对应有显示面板的显示区域2；显示区域2内包括有开孔区21、隔断区22和有效显示区23，隔断区22用于间隔开孔区21与有效显示区23。其中有效显示区23用于显示动态或者静态画面，开孔区21内开设有安装孔3，其中安装孔3内用于安装例如摄像头、听筒、光线感应器、光线发射器等器件。

如图2-3，本实施例中隔断区22内设置有彼此相邻的隔断槽4和隔断台5，隔断台5和隔断槽4均围绕开孔区21设置；由于本实施例中通孔3为圆孔，因此相应的开孔区21也设置为圆形，隔断台5为圆环形凸台，隔断槽4为圆环形凹槽，当然通孔3和开孔区21也不限于为圆形，也可设置为其他任意平面图形，隔断台5和隔断槽4也可设置为其他封闭图形。其中通过设置有隔断槽4可实现对显示装置中有机发光层11的隔断；本实施例中的隔断槽4向靠近衬底1方向延伸的形成于阵列结构层8中的凹槽。当然，隔断槽4也可刻蚀至衬底1的衬底有机层9或者衬底无机层10。

阵列结构层8包括依次层叠设置的位于衬底上的半导体层(P-Si)、位于半导体层上的栅极绝缘层、位于栅极绝缘层上的电容绝缘层、位于电容绝缘层上的层间介质层、位于层间介质层上的平坦化层(PLN)、位于平坦化层上的像素限定层(PDL)。像素电路层包括薄膜晶体管(TFT)中的源极(S)、漏极(D)和栅极(M1)，栅极(M1)位于栅极绝缘层和电容绝缘层之间，源极(S)和漏极(D)与半导体层(P-Si)层接触。像素电路层的电容包括第一极板(M1)和第二极板(M2)，第一极板(M1)位于电容绝缘层和层间介质层之间，第二极板(M2)位于栅极绝缘层和电容绝缘层之间。栅极绝缘层、电容绝缘层以及层间介质层的材质包括氮化硅、氧化硅或者氧化锆等。像素电路用于驱动有机发光器件发光。

在平坦化层上形成阳极，在位于显示区域的平坦化层和阳极上形成像素限定层，刻蚀像素限定层以至少裸露出部分阳极形成像素开口，在像素开口内制备有机发光层，在有机发光层上形成阴极。可选的，位于隔断区内的平坦化层上可以形成像素限定层，也可以不形成像素限定层；显示面板还包括设置于像素限定层上的的支撑柱，用于在蒸镀有机发光材料时支撑掩模版。

本实施例中隔断台5包括支撑部51与遮挡部52，其中遮挡部52与支撑部51的材料种类不同。本实施例中的支撑部51包括第二无机层511，遮挡部52包括金属层521，如上述阵列结构的描述，常规结构的阵列结构包含有若干金属层以及若干无机层。因此本实施例中的遮挡部52的金属层521与有效显示区23中的阵列结构层8中的任意一种或几种金属层同层制备形成；支撑部51的第二无机层511与有效显示区23中的阵列结构层8中的任意一种或几种无机层同层制备形成。由此使得隔断区22的隔断台5与有效显示区23的阵列结构层8同步加工形成，免去了额外加工隔断台5的步骤，节省了工艺，降低了成本。

本实施例中的支撑部51在衬底1上的投影为第一投影，遮挡部52在衬底上的投影为第二投影，第一投影的面积小于第二投影的面积，且第一投影落入第二投影内；即遮挡部52的边缘横向(横向指在图2中平行于衬底表面的方向)凸出支撑部51设置，由此形成上大下小的蘑菇状隔断台，与之对应地，支撑部51之间的隔断槽4形成倒梯形状凹槽。通过将遮挡部52的边缘设置为横向凸出支撑部51，在后续蒸镀过程中，能够有效隔断有机发光层11。

具体地，倒梯形状隔断槽4通过侧刻形成，如上所述本实施例中的遮挡部52与支撑部51的材料种类不同，由此使得构成支撑部51的第二无机层511与构成遮挡部52的金属层521的刻蚀速率不同，其中在刻蚀过程中第二无机层511的刻蚀速率大于金属层521的刻蚀速率，因此经过同等时间的刻蚀，第二无机层511被刻蚀的体积明显大于金属层521被刻蚀的体积，因此构成蘑菇状隔断台5和倒梯形状隔断槽4，本发明的上述设置允许经过一个工艺步骤即可形成两种外形不同的结构，避免进行二次加工，节省了工艺流程，节约了时间，降低了成本。

如图2所示，其中显示面板还包括封装层6，封装层6包括依次叠设的无机封装层61、有机封装层62和无机封装层61，其中至少一层无机封装层61至少覆盖有效显示区23的有机发光层11和隔断槽4的内壁；封装层6中的无机封装层61覆盖隔断槽4和隔断台5，以阻隔外界水氧进入有效显示区23。本实施例中的有机封装层62可为可通过喷墨打印的工艺形成，无机封装层61可通过化学气相沉积的工艺形成。

其中隔断槽4的底部暴露的材料为无机材料；将隔断槽4的槽底部设为无机层，以增加其和无机封装层61的附着力，提高封装效果。

参见附图2-3，为防止封装层6中的有机封装层62溢流，本实施例中的显示面板还包括围绕开孔区21设置的堤坝7，堤坝7设于有效显示区23和/或隔断区22。

其中本实施例中在至少一个遮挡部52上设有堤坝7；其中至少在与有效显示区23相邻的遮挡部52上设有堤坝7。其中本发明的堤坝7设置于遮挡部52上，即通过一个结构将隔断台和堤坝合二为一，不仅同时实现了隔断有机发光层和阻止封装中的有机层溢流的两种功能，简化结构，同时由于将堤坝直接设于隔断台5上，有效的减小了有效显示区的边框。

本实施例中的堤坝7通过与阵列结构层8中的任意一种或几种有机层同层制备成形，例如与阵列结构层中的平坦化层、像素定义层(PDL)、支撑柱层(SPC)中的任意一种或几种同层制备，即堤坝7可仅由一种材料构成，也可由几种材料共同堆叠构成。其中堤坝7为正圆锥台或倒圆锥台。

作为可替换的实施方式，参见附图3，也可在有效显示区23和遮挡部52上同时设有若干堤坝。

作为可替换的实施方式，参见附图2，也可仅在有效显示区23设置有堤坝7，其中设置有至少一个围绕隔断槽4设置的堤坝7。

其中与本实施例1的显示面板对应的制备方法包括如下步骤：

S1：首先制备衬底1，本实施例中的衬底1包括叠设的衬底有机层9、衬底无机层10和衬底有机层9；本实施例中衬底有机层9的材料包括聚酰亚胺(PI)，衬底无机层10的材料包括氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)或者α-Si。

S2：在衬底1的显示区域2内形成有效显示区23的阵列结构层8，同时形成隔断区22的无机层和金属层：其中隔断区22的第二无机层511与阵列结构层8中的第三无机层81同层制备；隔断区22的金属层521与阵列结构层8中的金属层同步制备形成；

其中步骤S2还包括在有效显示区和/或隔断区形成堤坝的步骤；本实施例中在遮挡部52上形成堤坝7，堤坝7与有效显示区23的阵列结构层8中的第五无机层83同层制备。

S3：刻蚀隔断区22的层结构形成彼此相邻的隔断台5和隔断槽4；

其中步骤S3包括：

S31:刻蚀隔断区22的层结构形成第一刻蚀孔；

S32:侧刻蚀第一刻蚀孔的侧壁形成隔断槽4和与隔断槽相邻的隔断台5；

S4：最后在显示区域2内开设安装孔3，隔断区22用于间隔安装孔3和有效显示区23。

实施例2

本实施例2中的显示面板的结构与实施例1中大致相同，不同之处在于隔断台5的层结构不同。

如图4所示，本实施例中的隔断台5包括第一无机层522，支撑部51包括第二无机层511，其中第二无机层511的致密度小于第一无机层522的致密度；如上本实施例中的遮挡部52与支撑部51的材料种类不同，由此使得构成支撑部51的第二无机层511与构成遮挡部52的第一无机层522的刻蚀速率不同，其中在刻蚀过程中第二无机层511的刻蚀速率大于第一无机层522的刻蚀速率，因此经过同等时间的刻蚀，第二无机层511被刻蚀的体积明显大于第一无机层522被刻蚀的体积，因此构成纵截面蘑菇状隔断台5和纵截面为倒梯形状隔断槽4，当然，凹槽的截面形状还可以是其它任意形状，本发明的上述设置经过控制刻蚀选择比的不同即可形成两种外形不同的结构，节省了工艺流程，节约了时间，降低了成本。

其中本实施例中的隔断槽4为在阵列结构层8中挖设形成的隔断槽4，当然，隔断槽4也可向靠近衬底方向延伸形成于衬底1的衬底有机层9即PI层中；或者隔断槽4也可延伸至衬底1的衬底无机层10中。

其中如图5所示，本实施例中的第一无机层522包括第一子无机层53、第二子无机层54以及第三子无机层55，第一子无机层53和第三子无机层55的致密度小于第二子无机层54的致密度，第一子无机层53和第三子无机层55的材料种类相同；由于第一子无机层53、第三子无机层55与第二子无机层54的材料种类不同；因此包括上述三种子无机层的第一无机层22刻蚀后呈现为十字柱状,有效隔断有机发光层，提高封装效果，保证显示面板的显示效果。

当然，作为可替换的实施方式，遮挡部52的第一无机层522也可仅通过如图4所示的一种无机材料构成。

同样地，本实施例中的显示面板还包括封装层6，封装层6包括依次叠设的无机封装层61、有机封装层62和无机封装层61，其中至少一层无机封装层61至少覆盖有效显示区23的有机发光层和隔断槽4的内壁；封装层6中的无机封装层61覆盖隔断槽4和隔断台5，以阻隔外界水氧进入有效显示区23。

参见附图5，为防止封装层6中的有机封装层62溢流，显示面板还包括围绕开孔区21设置的堤坝，堤坝设于有效显示区23和/或隔断区22。

其中本实施例中在至少一个遮挡部52上设有堤坝7；其中至少在与有效显示区23相邻的遮挡部52上设有堤坝7。其中本发明的堤坝7设置于遮挡部52上，即通过一个结构同时实现了隔断有机发光层和阻止封装层中的有机层溢流的两种功能，简化结构。且本实施例中的堤坝7通过与阵列机构层中的任意一种或几种有几层同层制备成形，例如与阵列结构层中的平坦化层(PLN)、像素定义层(PDL)、支撑柱层(SPC)中的任意一种或几种同层制备，即堤坝7可与其中任意一种同层制备，此时，其仅由一种材料构成；堤坝7也可与其中任意几种同层制备，此时，其由几种材料共同堆叠构成。其中堤坝为正圆锥台或倒圆锥台。

作为可替换的实施方式，也可在有效显示区23和遮挡部52上同时设有若干堤坝。

作为可替换的实施方式，也可仅在有效显示区23设置有堤坝7，其中设置有至少一个围绕隔断槽4设置的堤坝7。

本实施例中无机层的材料包括氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)或非晶硅(a-Si)。

其中与本实施例2的显示面板对应的制备方法包括如下步骤：

S1：首先制备衬底1，本实施例中的衬底1包括叠设的衬底有机层9、衬底无机层10和衬底有机层9；

S2：在衬底1的显示区域2内形成有效显示区23的阵列结构层8，同时形成隔断区22的第一无机层522、第二无机层511；

其中隔断区22的第二无机层511与阵列结构层8中的第三无机层81同层制备；其中隔断区22的第一无机层522与阵列结构层8中的第四无机层82同层制备。

如图5所示，步骤S2还包括在有效显示区和/或隔断区形成堤坝的步骤；本实施例中在遮挡部52上形成堤坝7；其中堤坝7与有效显示区23的阵列结构层8中的第五无机层83同层制备。

S3：刻蚀隔断区22的层结构形成彼此相邻的隔断台5和隔断槽4；

其中步骤S3包括：

S31:刻蚀隔断区22的层结构形成第一刻蚀孔。

S32:侧刻蚀第一刻蚀孔的侧壁形成隔断槽4和与隔断槽相邻的隔断台5；经过控制刻蚀选择比的不同即可形成隔断台的结构的制备，节省了工艺流程，节约了时间，降低了成本。

S4：最后在显示区域2内开设安装孔3，隔断区22用于间隔安装孔3和有效显示区23。

实施例3

本实施例3中的显示面板的结构与实施例1中大致相同，不同之处在于隔断台5的层结构不同。

如图6-7所示，本实施例中的支撑部51为多层结构，支撑部51包括第二无机层511和有机层512，有机层512设于第二无机层511与遮挡部52的金属层521之间。隔断部52包括金属层521，其中有机层512与阵列结构层8中的任意有机层同层制备形成，第二无机层511与阵列结构层8中的第三无机层81同层制备形成，金属层521与阵列结构层8中的金属层同层制备。

同样地，本实施例中的显示面板还包括封装层6，封装层6包括依次叠设的无机封装层61、有机封装层62和无机封装层61，其中至少一层无机封装层61至少覆盖有效显示区23的有机发光层和隔断槽4的内壁；封装层6中的无机封装层61覆盖隔断槽4和隔断台5，以切断外界水氧进入有效显示区23的路径。

参见附图6-7，为防止封装层6中的有机封装层62溢流，显示面板还包括围绕开孔区21设置的堤坝，堤坝设于所述有效显示区23和/或隔断区22。

其中本实施例中在至少一个所述遮挡部52上设有堤坝7；其中至少在与有效显示区23相邻的遮挡部52上设有堤坝7。其中本发明的堤坝7设置于遮挡部52上，即通过一个结构同时实现了隔断有机发光层和阻止有机封装层溢流两种功能，简化结构。且本实施例中的堤坝7通过与阵列机构层中的任意一种或几种有机层同层制备成形，例如与阵列结构层中的平坦化层(PLN)、像素定义层(PDL)、支撑柱层(SPC)中的任意一种或几种同层制备，即堤坝7可仅由一种材料构成；堤坝7也可由几种材料共同堆叠构成。其中堤坝为正圆锥台或倒圆锥台。

作为可替换的实施方式，也可在有效显示区23和遮挡部52上同时设有若干堤坝。

作为可替换的实施方式，也可仅在有效显示区23设置有堤坝7，其中设置有至少一个围绕隔断槽4设置的堤坝7。

其中与本实施例3的显示面板对应的制备方法包括如下步骤：

S1：首先制备衬底1，本实施例中的衬底1包括叠设的衬底有机层9、衬底无机层10和衬底有机层9；

S2：在衬底1的显示区域2内形成有效显示区23的阵列结构层8和隔断区22的无机层、有机层和金属层；

其中隔断区22的第二无机层511与阵列结构层8中的第三无机层81同层制备；有机层512与阵列结构层8中的有机层同层制备；隔断区22的金属层521与阵列结构层8中的金属层同层制备。

其中步骤S2还包括在有效显示区和/或隔断区形成堤坝的步骤；本实施例中在遮挡部52上形成堤坝7；其中堤坝7与有效显示区23的阵列结构层8中的第五无机层83同层制备。

S3：刻蚀隔断区22的层结构形成彼此相邻的隔断台5和隔断槽4；

其中所述步骤S3包括：

S31:刻蚀隔断区22的层结构形成第一刻蚀孔；

S32:侧刻蚀第一刻蚀孔的侧壁形成隔断槽4和与隔断槽相邻的隔断台5；

S4:最后在所述显示区域2内开设安装孔3，隔断区22用于间隔安装孔3和有效显示区23。安装孔用于安装功能元件，如摄像头或听筒等。

进一步地，制备方法还包括：

在衬底上形成缓冲层，隔断槽至少部分贯穿缓冲层。封装层与缓冲层直接接触，能够提高膜层附着力。其中缓冲层的材料为无机材料，如氮化硅、氧化硅或氮氧化硅等。

本发明还提供了一种显示装置，包括上述任一实施例的显示面板。例如，显示装置可以为手机、电视、平板、电脑或相机。

本发明提供的显示面板及其制备方法，显示面板具有安装孔，用于安装摄像头等功能元件，围绕安装孔设置隔断台和隔断槽，通过隔断台和隔断槽实现开孔区和有效显示区之间的有机发光层的隔断，防止水氧入侵到显示面板的有效显示区，提高显示面板的使用寿命和显示效果，此外，隔断槽的设置还可以起到阻隔裂纹的作用。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

衬底，所述衬底的显示区域内包括开孔区、隔断区和有效显示区、，所述隔断区用于间隔所述开孔区与所述有效显示区；

所述隔断区内设置有彼此相邻的隔断槽和隔断台，所述隔断台和所述隔断槽均围绕所述开孔区设置；所述隔断台包括支撑部与遮挡部，所述支撑部在所述衬底上的投影为第一投影，所述遮挡部在所述衬底上的投影为第二投影，所述第一投影的面积小于所述第二投影的面积，且所述第一投影落入所述第二投影内；所述遮挡部与所述支撑部的材料种类不同。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述遮挡部包括金属层或第一无机层，所述支撑部包括第二无机层，所述第二无机层的致密度小于所述第一无机层的致密度；

优选地，所述第一无机层包括第一子无机层、第二子无机层以及第三子无机层，所述第一子无机层和所述第三子无机层的致密度小于所述第二子无机层，所述第一子无机层和所述第三子无机层的材料种类相同；

优选地，所述支撑部还包括有机层，所述有机层设于所述第二无机层与所述遮挡部之间。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述遮挡部的金属层与所述有效显示区的阵列结构层中的金属层同层制备形成；

优选地，所述第一无机层与所述阵列结构层中的第四无机层同层制备形成，所述第二无机层与所述阵列结构层中的第三无机层同层制备形成。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括封装层，所述封装层包括无机封装层和有机封装层，其中无机封装层至少覆盖所述有效显示区的有机发光层和所述隔断槽的内壁；

优选地，所述隔断槽的底部暴露的材料为无机材料。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括围绕所述开孔区设置的堤坝，所述堤坝设于所述有效显示区和/或所述隔断区。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，至少一个所述遮挡部上设有所述堤坝；

优选地，至少在与所述有效显示区相邻的所述遮挡部上设有所述堤坝。

7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：制备衬底；

S2：在所述衬底的显示区域内形成有效显示区和隔断区的阵列结构层；

S3：刻蚀所述隔断区的阵列结构层形成彼此相邻的隔断台和隔断槽；所述隔断台包括支撑部与遮挡部，所述支撑部在所述衬底上的投影为第一投影，所述遮挡部在所述衬底上的投影为第二投影，所述第一投影的面积小于所述第二投影的面积，且所述第一投影落入所述第二投影内；所述遮挡部与所述支撑部的材料种类不同。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S3包括：

S31:刻蚀所述隔断区的层结构形成第一刻蚀孔；

S32:侧刻蚀所述第一刻蚀孔的侧壁形成所述隔断槽和与所述隔断槽相邻的所述隔断台。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S2包括：所述支撑部的第二无机层与所述阵列结构层中的第三无机层同层制备；所述遮挡部的金属层与所述阵列结构层中的金属层同层制备或所述遮挡部的第一无机层与所述阵列结构层中的第四无机层同层制备；

优选地，所述步骤S2还包括在所述有效显示区和/或所述隔断区形成堤坝的步骤；

优选地，在所述遮挡部上形成堤坝；

优选地，所述堤坝与所述有效显示区的阵列结构层中的第五无机层同层制备。

10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，在所述显示区域内开设安装孔，所述隔断区用于间隔所述安装孔和所述有效显示区。