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TW201302322A - 設計性媒體之製造方法及設計性媒體 - Google Patents

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TW201302322A
TW201302322A TW101116165A TW101116165A TW201302322A TW 201302322 A TW201302322 A TW 201302322A TW 101116165 A TW101116165 A TW 101116165A TW 101116165 A TW101116165 A TW 101116165A TW 201302322 A TW201302322 A TW 201302322A
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TW
Taiwan
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magnetic field
coating film
bright
pigment
magnetic
Prior art date
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TW101116165A
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English (en)
Inventor
Yasushi Fuchita
Hiroyasu Iizuka
Original Assignee
Kyodo Printing Co Ltd
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Abstract

提供一種可用單一層實現複數種色調的設計性媒體之製造方法。具有：塗布步驟(步驟S1)，其係將使磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料分散於樹脂中的塗料塗布於基材上，形成塗膜；配向步驟(步驟S2)，其係對基材上形成有塗膜的媒體施加磁場，使塗膜所含的光亮性顏料配向；及硬化步驟(步驟S3)，其係使塗膜硬化；製造設計性媒體。

Description

設計性媒體之製造方法及設計性媒體
本發明係關於一種製造藉由將使光亮性顏料分散於樹脂中的塗料塗布於基材上，利用磁場使光亮性顏料配向而具有設計性之設計性媒體的設計性媒體之製造方法及設計性媒體。
近幾年，需要具有色調隨觀看的角度而不同且看得見之光學可變性的媒體作為防止偽造用的媒體。
以往為了具有光學可變性，使用含有隨觀看的角度而改變顏色的特別薄膜薄片之光學可變墨(OVI；Optically Variable Inks)製作印刷媒體(參閱例如專利文獻1：特表2007-527329號公報)。
此外，藉由將混合有磁性顏料的塗料塗布於基材上，施加磁場而使磁性顏料配向，製作印刷媒體。
然而，OVI墨或磁性顏料係以特殊的組成構成，材料昂貴，所以可使用此等技術的製品受到限制。
由於此種情況，所以本發明者等過去以來開發了將使光亮性顏料分散於樹脂中的塗料塗布於基材上，利用磁場使光亮性顏料的配向方向一致，具有設計性之設計性媒體(參閱例如專利文獻2：特開2007-54820號公報、專利文獻3：特開2008-142690號公報)。
由於光亮性顏料便宜，所以藉由使用此專利文獻2、3的技術，可廉價地製作色調隨觀看的角度而不同且看得見之設計性媒體。此外，即使於使光亮性顏料配向之 際施加高磁場，光亮性顏料也不被磁場吸引而不凝聚，所以可均勻地分散配置光亮性顏料。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1 特表2007-527329號公報
專利文獻2 特開2007-54820號公報
專利文獻3 特開2008-142690號公報
上述專利文獻2、3中揭示關於色調隨觀看的角度而不同且看得見之設計性媒體。特別是上述專利文獻3中揭示關於使用混合有在強磁場環境中配向變化的顏料和配向不變化的顏料之塗料，進行磁場施加，使配向通常不變化的顏料變化之點，或者在基材的同一面上形成色調分別不同的複數個圖案之塗布層，於一媒體上實現複數種色調之點等。
然而，上述專利文獻2、3中卻未提到關於將使磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料分散於樹脂中的塗料塗布於基材上，在基材上形成單一層，用該單一層實現複數種色調之點。
本發明係有鑑於上述事情而完成，其目的在於提供一種可用單一層實現複數種色調的設計性媒體之製造方法及設計性媒體。
為了達成此種目的，本發明具有以下的特徵。
關於本發明的設計性媒體之製造方法，其特徵在於具有：塗布步驟，其係將使磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料分散於樹脂中的塗料塗布於基材上，形成塗膜；配向步驟，其係對前述基材上形成有前述塗膜的媒體施加磁場，使前述塗膜所含的前述光亮性顏料配向；及硬化步驟，其係使前述塗膜硬化。
關於本發明的設計性媒體，係積層基材、及使磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料分散於樹脂中而構成的塗膜所構成的設計性媒體，其特徵在於： 前述塗膜係具有在和積層有前述基材與前述塗膜的積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料、及在對於前述積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料之至少兩種光亮性顏料而構成。
藉由本發明，可用單一層實現複數種色調。
[用於實施發明的型態] <設計性媒體5之概要>
首先，一面參閱圖1、圖2，一面就本實施形態之設計性媒體5的概要進行說明。
如圖1所示，本實施形態之設計性媒體5為積層基材5b、及使磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料分散於樹脂中而構成的塗膜5a所構成的設計性媒體5。
構成本實施形態之設計性媒體5的塗膜5a係具有在和積層有基材5b與塗膜5a的積層方向大致相同方向上進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向上進行配向的光亮性顏料6b之至少兩種光亮性顏料6a、6b而構成。
如圖2所示，本實施形態之設計性媒體5係具有：塗布步驟(步驟S1)，其係將使磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料6a、6b分散於樹脂中的塗料塗布於基材5b上，形成塗膜5a；配向步驟(步驟S2)，其係對基材5b上形成有塗膜5a的設計性媒體5施加磁場，使塗膜5a所含的光亮性顏料6a、6b配向；及硬化步驟(步驟S3)，其係使塗膜5a硬化；製造圖1所示的設計性媒體5。
由於構成本實施形態之設計性媒體5的塗膜5a係具有在和積層有基材5b與塗膜5a的積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b之至少兩種光亮性顏料6a、6b而構成，所以可用單一層5a實現複數種色調。以下，一面參閱附圖，一面就本實施形態之設計性媒體5進行詳細說明。
(第1實施形態) <本實施形態之設計性媒體5的結構例>
首先，一面參閱圖1，一面就本實施形態之設計性媒體5的結構例進行說明。
本實施形態之設計性媒體5係具有基材5b與塗膜5a而構成。
基材5b用樹脂、紙、陶瓷等的非磁性體構成。此外，基材5b也可以用塑膠、薄膜、玻璃等的透明基材構成。基材5b的層厚不特別限定，而以任意的層厚構成。
塗膜5a係在基材5b一方之面上塗布塗料而形成。形成塗膜5a的塗料係以雲母、氧化鋁、二氧化矽等的薄片(flake)材料為母材，使以氧化鈦、氧化鐵等的高折射率的金屬氧化物包覆的至少兩種光亮性顏料均勻地分散於無溶劑低黏度硬化樹脂中的塗料。再者，薄片材料較佳為鱗片狀、1~100μm的大小。此外，就無溶劑低黏度硬化樹脂而言，可舉出紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等。塗膜5a的層厚不特別限定，而以光亮性顏料不曝露於表面的層厚構成。
形成本實施形態之塗膜5a的塗料含有磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料。具體而言，含有在對於磁力線大致垂直方向進行磁場配向的光亮性顏料、及在對於磁力線大致水平方向進行磁場配向的光亮性顏料之至少兩種光亮性顏料。
本實施形態之設計性媒體5係將使上述磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料分散於無溶劑低黏度硬化樹脂中的塗料塗布於基材5b上，在基材5b上形成單一的塗膜5a。然後，對形成於基材5b上的塗膜5a施加磁場，使塗膜5a所含的光亮性顏料配向。然後，將已使光亮性顏料配向的塗膜5a硬化。藉此，可如圖1所示，得 到具有在和基材5b與塗膜5a積層的積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b之設計性媒體5。
<設計性媒體5之製造方法>
其次，一面參閱圖2~圖4，一面就本實施形態之設計性媒體5之製造方法進行說明。
如圖2所示，就製造本實施形態之設計性媒體5的步驟而言，可粗略分為塗布步驟(步驟S1)、配向步驟(步驟S2)、及硬化步驟(步驟S3)三個步驟。
塗布步驟(步驟S1)係將使上述磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料分散於無溶劑低黏度硬化樹脂中的塗料塗布於基材5b上，在基材5b上形成塗膜5a的步驟。藉此，可如圖3(a)所示，得到基材5b上形成有塗膜5a的設計性媒體5。
圖3(a)為示意地顯示以塗布步驟(步驟S1)形成的設計性媒體5側面之圖。如圖3(a)所示，本實施形態之設計性媒體5係藉由在基材5b一方之面上塗布塗料，而在基材5b上形成單一的塗膜5a。
配向步驟(步驟S2)係對以塗布步驟(步驟S1)得到的設計性媒體5施加磁場，使塗膜5a所含的光亮性顏料配向的步驟。由於本實施形態之塗膜5a中含有在對於磁力線大致垂直方向進行磁場配向的光亮性顏料、及在對於磁力線大致水平方向進行磁場配向的光亮性顏料之至少兩種光亮性顏料，所以藉由對設計性媒體5施加磁場，可如圖1所示，在塗膜5a內形成在和基材5b與塗膜5a 積層的積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b。施加於設計性媒體5的磁場強度為0.3T(特斯拉)以上，較佳為1.0T以上。藉由增強磁場，可使配向速度提高。
如圖4(a)所示，對圖3(a)所示的設計性媒體5施加磁場之前(塗布步驟之後、配向步驟之前)的光亮性顏料6a、6b之配向狀態成為大致水平(大致水平狀態)。在此大致水平狀態下，如圖4(a)所示，若從設計性媒體5的表面照到入射光L，就會在約0°~150°的範圍內，於設計性媒體5的表面顯現干涉色、光澤。再者，不管光亮性顏料6a、6b之異向性磁化率為正(+)值或負(-)值，若如圖4所示，光亮性顏料6a、6b的形狀為橢圓形、鱗片狀，則在能量上都穩定，所以如圖4(a)所示，光亮性顏料6a、6b的長軸成為對於基材5b大致水平排列的狀態。
於結晶構造有異向性的粒子之大部分在磁性上也有異向性。例如，考量高寬比大的粒子時，磁化率在長軸方向(l)和對於該長軸方向(l)垂直的短軸方向(s)不同，異向性磁化率可用長軸方向(l)和短軸方向(s)之差(△χa=χl-χs)表示。
異向性磁化率：△χa<0的情況，由於長軸方向(l)成為對於磁場方向垂直者在能量上穩定，所以對光亮性顏料施加磁場，光亮性顏料就會以顏料的長軸方向(l)對於磁場方向正交的方式進行配向。
此外，異向性磁化率：△χa>0的情況，由於長軸方向(l)成為對於磁場方向水平者在能量上穩定，所以對光亮性顏料施加磁場，光亮性顏料就會以顏料的長軸方向(l)成為對於磁場方向水平的方式進行配向。
在本實施形態中，對圖3(a)所示的設計性媒體5使用圖3(b)所示的裝置施加磁場，就會如圖4(b)所示，在塗膜5a內形成在和基材5b與塗膜5a積層的積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b。
圖3(b)為示意地顯示用以執行配向步驟(步驟S2)的磁場產生裝置之圖。圖3(b)所示的磁場產生裝置係具有電磁鐵的磁化軛1、2而構成。磁化軛1(S極)、2(N極)的線圈捲繞於未圖示的部分，磁化軛1、2藉由使複數條磁力線3a、3b、3c、…、3m產生，可在磁化軛1、2間形成磁場。如圖3(b)所示，此等磁力線3a~3m有直線狀的部分(或者大致直線狀的部分)或曲線狀的部分。此外，磁場的強度為0.3T以上，較佳為1.0T以上。然後如圖3(b)所示，在形成於磁化軛1、2間的磁場(複數條磁力線3a~3m)之中配置設計性媒體5，進行磁場施加，使塗膜5a所含的光亮性顏料6a、6b配向，如圖4(b)所示，在塗膜5a內形成在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b。
再者，如圖3(b)所示，對於磁力線3e~3i直線狀的部分(或者大致直線狀的部分)垂直地配置有設計性媒體 5時(縱磁場、垂直磁場)，異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料6b之配向從圖4(a)的大致水平狀態變成圖4(b)的均勻水平狀態，而在塗膜5a內形成在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b。就異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料6b而言，可舉出例如Iriodin302、Iriodin522、Iriodin524、Color Code、Xirallic T60-21等。
此外，異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料6a之配向從圖4(a)的大致水平狀態變成圖4(b)的垂直狀態，而在塗膜5a內形成在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a。就異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料6a而言，可舉出例如Xirallic T60-23、Xirallic T60-24、Infinite R-08等。
藉此，可在塗膜5a內形成在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b。
硬化步驟(步驟S3)係將塗膜5a硬化的步驟。由於藉由上述配向步驟(步驟S2)，如圖4(b)所示，在塗膜5a內形成在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b，所以藉由在該配向狀態下使塗膜5a硬化，可得到具有在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b之設計性媒體5。
使塗膜5a硬化的方法要使用與構成塗膜5a的無溶劑低黏度硬化樹脂相應的硬化方法。例如，無溶劑低黏度硬化樹脂為紫外線樹脂的情況，藉由對塗膜5a照射紫外線，可將塗膜5a硬化。此外，無溶劑低黏度硬化樹脂為熱硬化樹脂的情況，藉由加熱塗膜5a，可將塗膜5a硬化。藉此，可用與構成塗膜5a的無溶劑低黏度硬化樹脂相應的最佳方法使塗膜5a硬化。
再者，將塗膜5a硬化時，較佳為在對設計性媒體5施加磁場的狀態下進行。藉此，如圖4(b)所示，可於在塗膜5a內形成有在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b之狀態下將塗膜5a硬化。因此，就無溶劑低黏度硬化樹脂而言，較佳為使用紫外線樹脂。藉此，可在對設計性媒體5施加磁場的狀態下，對塗膜5a照射紫外線，將塗膜5a硬化。
再者，在上述實施形態中，如圖3(b)所示，在形成於磁化軛1、2間的磁場(複數條磁力線3e~3i)之中配置設計性媒體5，進行磁場施加，使塗膜5a所含的光亮性顏料6a、6b配向，如圖4(b)所示，在塗膜5a內形成在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b。然而，也可以如圖5所示，在形成於磁化軛1、2間的磁場(磁力線3g)之中配置設計性媒體5，進行磁場施加，使塗膜5a所含的光亮性顏料6a、6b配向，如圖6(b)所示，在塗膜5a內形成在和積層方向大致相同方向進行 配向的光亮性顏料6b、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6a。
再者，如圖5所示，對於磁力線3g直線狀的部分(或者大致直線狀的部分)水平地配置有設計性媒體5時(橫磁場、水平磁場)，異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料6b之配向從圖6(a)的大致水平狀態變成圖6(b)的垂直狀態，而在塗膜5a內形成在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6b。
此外，異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料6a之配向從圖6(a)的大致水平狀態變成圖6(b)的均勻水平狀態，而在塗膜5a內形成在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6a。
藉此，可在塗膜5a內形成在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6b、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6a。
<本實施形態之設計性媒體5的作用、效果>
如此，如圖3(b)所示，本實施形態之設計性媒體5藉由在磁力線直線狀的部分(或者大致直線狀的部分)配置設計性媒體5，對設計性媒體5施加磁場(縱磁場、垂直磁場)，可如圖4(b)所示，得到具有在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b之設計性媒體5。此外，如圖5所示，藉由在磁力線直線狀的部分(或者大致直線狀的部分)配置設計性媒體5，對設計性媒體5施加磁場(橫磁場、水平磁場)，可如圖6(b)所示，得 到具有在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6b、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6a之設計性媒體5。其結果，藉由使用磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料製造設計性媒體5，可得到色調隨觀看的角度而複數種不同的設計性媒體5。此外，可用單一的塗膜5a實現複數種色調。
再者，在上述實施形態中，係使用具有異向性磁化率的光亮性顏料，在塗膜5a內形成在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料。然而，也可以使用不具有異向性磁化率的光亮性顏料，在塗膜5a內形成在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料。這是因為在將塗料塗布於基材5b上的階段，該塗料所含的光亮性顏料成為已在對於積層方向大致垂直方向進行配向的狀態。
(第2實施形態)
其次，就第2實施形態進行說明。
在第1實施形態中，係如圖3(b)所示，對基材5b上形成有塗膜5a的設計性媒體5進行磁場施加，將塗膜5a所含的光亮性顏料6a、6b配向。
在第2實施形態中，係如圖7(a)所示，對基材5b上形成有塗膜5a的設計性媒體5，在使強磁性體或由含有強磁性體的塗料形成的磁性構件4鄰接的狀態下進行磁場施加，將塗膜5a所含的光亮性顏料6a、6b配向。藉此，進行在磁性構件4鄰接的部分與磁性構件4未鄰接的部分分別不同的顏料配向，塗膜5a的各部分都形成既 定的圖案。其結果，塗膜5a的各部分都可表現對比之差或色調之差。以下，一面參閱圖7~圖9，一面就第2實施形態進行說明。
如圖8所示，就製造第2實施形態之設計性媒體5的步驟而言，可粗略分為塗布步驟(步驟S11)、配向步驟(步驟S12)、及硬化步驟(步驟S13)三個步驟，配向步驟(步驟S12)和第1實施形態不同。以下，就本實施形態之配向步驟(步驟S12)詳細地進行說明。
如圖7(a)所示，配向步驟(步驟S12)係在磁力線3a~3m之中直線狀的磁力線3g位置配置磁性構件4，於在此磁性構件4上配置有設計性媒體5的狀態下施加磁場。再者，在圖7(a)中，磁性構件4係以未圖示的非磁性體，例如由陶瓷構成的支持構件支持著。此外，在圖7(a)中所形成的磁場強度為0.3T以上，較佳為1.0T以上。
如圖7(b)所示，圖7(a)所示的磁性構件4係在至少一方之面(圖之上面)上將強磁性體區域4a形成為所希望的圖案形狀(圖7(b)中為11條平行直線)，以鄰接於此強磁性體區域4a的方式形成有非強磁性體區域(強磁性體以外的磁性體，例如反磁性體、常磁性體、或弱磁性體)4b。就此磁性構件4而言，可舉出例如交互積層有由強磁性體構成的帶狀構件、及由非強磁性體構成的帶狀構件之積層體。藉由交互積層強磁性體與非強磁性體，可容易製造磁性構件4。此外，將帶狀構件的厚度減薄，可得到細微的圖案。再者，就強磁性體而言，可舉出鐵、鎳、鈷等，就反磁性體而言，可舉出鋁、銅等。如圖7(b) 所示，本實施形態之磁性構件4係交互積層有厚度0.3mm的強磁性體(11片)、及厚度0.3mm的非強磁性體(10片)者。此外，就磁性構件4而言，由於空氣為非磁性體，所以也可以是例如在由強磁性體構成的構件上設有凹凸者。
再者，圖7(c)中顯示上述磁性構件4的變形例之磁性構件40之結構。磁性構件40係以圖案利用光微影技術留在由強磁性體構成的板狀構件40a上的方式施以蝕刻，將非強磁性體40b嵌入所得到的溝部者。
本實施形態之配向步驟(步驟S12)係在對設計性媒體5施加磁場的狀態下，將塗膜5a硬化。
藉此，本實施形態之設計性媒體5在設計性媒體5之表面反映磁性構件4之平行線狀的圖案(花紋)，形成和該圖案同樣形狀的圖案。
此處，就在圖7(a)中於箭頭A所指的位置施加磁場而形成的設計性媒體5進行說明。圖9(a)為顯示本實施形態之設計性媒體5的表面之圖，圖9(b)為圖9(a)之a-a’側剖面圖，圖9(c)為圖9(a)之b-b’側剖面圖。
如圖9(a)所示，本實施形態之設計性媒體5係在設計性媒體5表面的中央部分，藉由使用上述磁性構件4形成11條平行直線之圖案32(以圖案32部分以外的周邊部分為5ac)。此圖案32係以11條直線部分5ap、及各直線部分之間的5ab構成。
此處，就於圖7(a)所示的箭頭A所指的位置施加磁場而形成的設計性媒體5之顏料配向狀態進行說明。若 將此設計性媒體5於圖9(a)所示的a-a’及b-b’位置分別切斷觀察，就成為圖9(b)及(c)分別所示的側剖面。
在圖9(b)中，塗膜5a之中在對應於磁性構件4之非強磁性體區域4b的區域5ab或對應於未接觸到磁性構件4之部分(空氣：非磁性體)的區域5ac，利用藉由磁化軛1(S極)、2(N極)產生的磁場(橫磁場、水平磁場)，如圖6(b)所示，形成在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6b、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6a。
另一方面，在圖9(b)中，塗膜5a之中在對應於磁性構件4之強磁性體區域5ap的區域，利用來自強磁性體區域4a的磁場(縱磁場、垂直磁場)，如圖4(b)所示，形成在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6a、及在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6b。
藉此，本實施形態之設計性媒體5係進行在磁性構件4鄰接的部分、與磁性構件4未鄰接的部分分別不同的顏料配向，塗膜5a的各部分都形成既定的圖案。其結果，塗膜5a的各部分都可表現對比之差或色調之差。
再者，在上述實施形態中，係就受到使用11條平行線(圖7(a)、(b)所示的磁性構件4之強磁性體區域4a)作為形成於設計性媒體5上的圖案(=磁性構件4之圖案)時所產生的磁界影響而進行配向的設計性媒體5進行了說明。然而，圖案並不受上述圖案限定，也可以適用曲線、圓形、橢圓形、長圓形、多角形、文字、符號、此 等組合的圖案等。此等圖案的每一者於施加磁場之際所產生的磁界都會變化，光亮性顏料配向的做法也會變化。因此，藉由分別使用各種圖案，可實現所希望的顏料配向。
<本實施形態之設計性媒體5的作用、效果>
如此，如圖7(a)所示，本實施形態之設計性媒體5係對基材5b上形成有塗膜5a的設計性媒體5，在使強磁性體或由含有強磁性體的塗料形成的磁性構件4鄰接的狀態下進行磁場施加，將塗膜5a所含的光亮性顏料6a、6b配向。藉此，進行在磁性構件4鄰接的部分、與磁性構件4未鄰接的部分分別不同的顏料配向，塗膜5a的各部分都形成既定的圖案。其結果，塗膜5a的各部分都可表現對比之差或色調之差。
[實施例]
其次，就上述實施形態之實施例進行說明。然而，以下的實施例為包含本發明之技術思想的實施例，並不受以下的實施例限定。
(實施例1) <設計性媒體5之製造方法例、其1>
首先，將兩種光亮性顏料(Iriodin522、XirallicT60-24)添加於無溶劑低黏度硬化樹脂(UV Flexographic Varnish(T&K TOKA公司製造，黏度170mPa．s))中，使用墨攪拌機(倉敷紡績公司製造，形式：KK-100)製作出塗料。
異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料6b使用Iriodin522，異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料6a使用XirallicT60-24。異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料6b與異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料6a之混合比為Iriodin522：XirallicT60-24=3：7。
其次，在100μm的基材(易接著PET(東麗公司製造，Lumirror U426))5b上用線材(wire bar)(#20)塗布塗料，在基材5b上生成塗膜5a。
其次，在如圖5所示的水平狀態之磁性產生裝置(住友重機械工業公司製造，形式HF5-100VT-50HT)上配置設計性媒體5，對設計性媒體5施加0.5T的磁場(橫磁場、水平磁場)，使兩種光亮性顏料配向。
其次，在施加0.5T的磁場之狀態下對設計性媒體5照射紫外線，將塗膜5a硬化，製作出設計性媒體5。
再者，在上述製造方法中，使用在0.5%~25.0%的範圍內變更兩種光亮性顏料之濃度的塗料製作設計性媒體5，使用該製作出的設計性媒體5，利用目視評估該設計性媒體5的色調。再者，以塗料全體(兩種光亮性顏料+無溶劑低黏度硬化樹脂)為1，以該塗料所含的兩種光亮性顏料之比例為兩種光亮性顏料之濃度。
此外，測定在上述製造方法中不施加磁場而製作的設計性媒體5之色相角(無磁場色相角hab)、及在上述製造方法中施加磁場而製作的設計性媒體5之色相角(有磁場色相角hab)，求出其各個測定值之差(hab差)。色相角係使用變角測色分光計(GCMS-3B型、村上色彩技術研究所(股)製造)進行測定。
圖10中顯示利用目視評估設計性媒體5的色調之結果(感官評估)、及色相角之差(hab差)。
如從圖10所示的測定結果可明瞭，兩種光亮性顏料之濃度為1.0%以下的情況，即使比較不施加磁場而製作的設計性媒體與施加磁場而製作的設計性媒體，由於光亮性顏料之濃度淡，所以都無法感到顏色變化的不同(△)。
此外，兩種光亮性顏料之濃度為3.0%~14.0%之範圍的情況，比較不施加磁場而製作的設計性媒體與施加磁場而製作的設計性媒體，在不施加磁場而製作的設計性媒體無兩色的色調差，在施加磁場而製作的設計性媒體可感到有兩色的色調差(○)。
此外，兩種光亮性顏料之濃度為15.0%以上的情況，即使比較不施加磁場而製作的設計性媒體與施加磁場而製作的設計性媒體，由於在雙方的設計性媒體無兩色的色調差，所以都無法感到顏色變化的不同(×)。
在上述製造方法中施加磁場(橫磁場、水平磁場)而製作的設計性媒體5係異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b之配向從圖6(a)的大致水平狀態變成圖6(b)的垂直狀態，而在塗膜5a內形成在和積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料6b。此外，異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料(XirallicT60-24)6a之配向從圖6(a)的大致水平狀態變成圖6(b)的均勻水平狀態，而在塗膜5a內形成在對於積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料6a。
再者，兩種光亮性顏料之濃度為淡的情況(1.0%以下的情況)，由於塗膜5a所含的光亮性顏料少，所以異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b之配向容易從圖6(a)的大致水平狀態變成圖6(b)的垂直狀態。因此，如圖10所示，色相角之差(hab差)成為大的值。然而，由於兩種光亮性顏料之濃度淡，所以即使比較不施加磁場而製作的設計性媒體與施加磁場而製作的設計性媒體，都無法感到顏色變化的不同。
此外，兩種光亮性顏料之濃度為濃的情況(15.0%以上的情況)，由於塗膜5a所含的光亮性顏料多，所以異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b之配向難以從圖6(a)的大致水平狀態變成圖6(b)的垂直狀態。因此，如圖10所示，色相角之差(hab差)成為小的值。其結果，即使比較不施加磁場而製作的設計性媒體與施加磁場而製作的設計性媒體，都無法感到顏色變化的不同。
因此，從圖10所示的測定結果得知，使用兩種光亮性顏料製造設計性媒體5時，較佳為在兩種光亮性顏料之濃度為3.0%~14.0%之範圍內製造。此情況，可得到hab差成為5.0以上、色調隨觀看的角度而複數種不同的設計性媒體5。此外，可用單一塗膜5a實現複數種色調。
再者，在上述製造方法中，將用作異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料之Iriodin522(雲母+Fe203(54%))變更為AM-200(Fe203(92~97%)+A1203(2~7%))，製作包含異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料之塗料，使用該 塗料製作設計性媒體5時，在該設計性媒體5未出現兩色的色調差。這是因為只用一種光亮性顏料製作出設計性媒體5。
(實施例2) <設計性媒體5之製造方法例、其2>
首先，將兩種光亮性顏料(Iriodin522、XirallicT60-24)添加於無溶劑低黏度硬化樹脂(UV Flexographic Varnish(T&K TOKA公司製造，黏度170mPa．s))中，使用墨攪拌機(倉敷紡績公司製造，形式：KK-100)製作出塗料。
異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料6b使用Iriodin522，異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料6a使用XirallicT60-24。含有異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料6b與異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料6a之光亮性顏料的濃度為10%。再者，以塗料全體(兩種光亮性顏料+無溶劑低黏度硬化樹脂)為1，以該塗料所含的兩種光亮性顏料之比例為兩種光亮性顏料之濃度。
其次，在100μm的基材(易接著PET(東麗公司製造，Lumirror U426))5b上用線材(#20)塗布塗料，在基材5b上生成塗膜5a。
其次，在如圖5所示的水平狀態之磁性產生裝置(住友重機械工業公司製造，形式HF5-100VT-50HT)上配置設計性媒體5，對設計性媒體5施加0.5T的磁場(橫磁場、水平磁場)，將兩種光亮性顏料配向。
其次，在施加0.5T的磁場之狀態下對設計性媒體5照射紫外線，將塗膜5a硬化，製作出設計性媒體5。
再者，使用在上述製造方法中使用在Iriodin522：XirallicT60-24=1：0.05~1：8的範圍內變更異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b與異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料(XirallicT60-24)6a之混合比的塗料製作的設計性媒體5，利用目視評估該設計性媒體5的色調。然而，將兩個光亮性顏料之濃度一律固定在10%。
此外，求出在上述製造方法中不施加磁場而製作的設計性媒體5之色相角hab的最大值(相當於綠色)與最小值(相當於茶色)之差(無磁場h＊ ab差之最大)、在上述製造方法中施加磁場而製作的設計性媒體5之色相角hab的最大值(相當於綠色)與最小值(相當於茶色)之差(無磁場h＊ ab差之最大)，並求出其差(有無磁場之hab差)。色相角係使用變角測色分光計(GCMS-3B型、村上色彩技術研究所(股)製造)進行測定。
圖11中顯示利用目視評估設計性媒體5的色調之結果(感官評估)、及有無磁場之hab差。
如從圖11所示的測定結果可明瞭，異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b與異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料(XirallicT60-24)6a之混合比為Iriodin522：XirallicT60-24=1：0.05~1：0.1的情況，由於大部分只是異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b，所以在施加磁場而製作的設計性媒體不 太出現兩色的色調差(大部分茶色)，即使比較不施加磁場而製作的設計性媒體(茶色)與施加磁場而製作的設計性媒體(大部分茶色)，都無法感到顏色變化的不同(×)。
此外，異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b與異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料(XirallicT60-24)6a之混合比為Iriodin522：XirallicT60-24=1：0.2~1：0.3的情況，由於對於異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b含有若干異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料(XirallicT60-24)6a，所以在施加磁場而製作的設計性媒體會出現若干兩色的色調差(少許茶綠色)。其結果，若比較不施加磁場而製作的設計性媒體(茶色)與施加磁場而製作的設計性媒體(少許茶綠色)，在不施加磁場而製作的設計性媒體無兩色的色調差，在施加磁場而製作的設計性媒體可感到若干有兩色的色調差(△)。
此外，異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b與異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料(XirallicT60-24)6a之混合比為Iriodin522：XirallicT60-24=1：0.4~1：2.3的情況，由於數量上含有較多異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b與異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料(XirallicT60-24)6a雙方的光亮性顏料，所以在施加磁場而製作的設計性媒體會明顯地出現兩色的色調差(茶綠色)。其結果，若比較不施加磁場而製作的設計性媒體(茶色)與施加磁場而製作的設計性媒體(茶綠色)，在不施加 磁場而製作的設計性媒體無兩色的色調差，在施加磁場而製作的設計性媒體可感到有兩色的色調差(○)。
此外，異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b與異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料(XirallicT60-24)6a之混合比為Iriodin522：XirallicT60-24=1：4的情況，由於對於異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料(XirallicT60-24)6a含有若干異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b，所以在施加磁場而製作的設計性媒體會出現若干兩色的色調差(少許茶綠色)。其結果，若比較不施加磁場而製作的設計性媒體(綠色)與施加磁場而製作的設計性媒體(少許茶綠色)，在不施加磁場而製作的設計性媒體無兩色的色調差，在施加磁場而製作的設計性媒體可感到若干有兩色的色調差(△)。
此外，異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b與異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料(XirallicT60-24)6a之混合比為Iriodin522：XirallicT60-24=1：5~1：8的情況，由於大部分只是異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料(XirallicT60-24)6a，所以在施加磁場而製作的設計性媒體不太出現兩色的色調差(大部分綠色)，即使比較不施加磁場而製作的設計性媒體(綠色)與施加磁場而製作的設計性媒體(大部分綠色)，都無法感到顏色變化的不同(×)。
因此，得知使用兩種光亮性顏料製造設計性媒體5時，將異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料(Iriodin522)6b與異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料(XirallicT60-24)6a之混合比包含在Iriodin522：XirallicT60-24=1：02~1：4的範圍內較佳，包含在1：05~1：2.3的範圍內更佳。此情況，可得到色調隨觀看的角度而複數種不同的設計性媒體5。此外，可用單一的塗膜5a實現複數種色調。
再者，上述的實施形態為本發明的較佳實施形態，並非將本發明的範圍限定於僅上述實施形態，同業者可在不脫離本發明要旨的範圍內進行上述實施形態的修正或代用，構築施以各種變更的形態。
例如，在上述實施例中，係使用Iriodin522作為異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料6b，使用XirallicT60-24作為異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料6a，在如圖5所示的水平狀態之磁性產生裝置上配置設計性媒體5，對設計性媒體5施加0.5T的磁場(橫磁場、水平磁場)，將兩種光亮性顏料配向。此情況，可得到圖10、圖11所示的測定結果，但即使是適當改變用作異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料6b之材料、或用作異向性磁化率為正(+)值的光亮性顏料6a之材料的情況，也可以看到測定結果多少不同，但和圖10、圖11所示的測定結果大致同樣的範圍卻成為最佳值。因此，藉由將使磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料(異向性磁化率為負(-)值的光亮性顏料6b、異向性磁化率為 正(+)值的光亮性顏料6a)分散於樹脂中而構成的塗膜5a形成於基材5b上，施加磁場(水平磁場或垂直磁場)，使兩種光亮性顏料6b、6a配向，可用單一的塗膜5a實現複數種色調。
再者，本申請案主張以2011年5月27日申請的日本專利申請號2011-118928號為基礎的優先權，並將其所有的揭示納入此處。
5‧‧‧設計性媒體
5a‧‧‧塗膜
5b‧‧‧基材
6a、6b‧‧‧光亮性顏料
1、2‧‧‧磁化軛
3a~3m‧‧‧磁力線
4‧‧‧磁性構件
4a‧‧‧強磁性體區域
4b‧‧‧非強磁性體區域
40‧‧‧磁性構件
40a‧‧‧板狀構件
40b‧‧‧非強磁性體
圖1為顯示本實施形態之設計性媒體5的結構例之圖。
圖2為顯示本實施形態之設計性媒體5的製程概要之圖。
圖3(a)、(b)為用以說明本實施形態之設計性媒體5的製程之圖，為顯示在垂直方向施加磁場的狀態之圖。
圖4(a)、(b)為用以說明本實施形態之設計性媒體5所含的光亮性顏料配向方法例之圖，為顯示在圖3(b)所示之磁場狀態下的光亮性顏料的配向方向例之圖。
圖5為顯示在水平方向施加磁場的狀態之圖。
圖6(a)、(b)為顯示在圖5所示之磁場狀態下的光亮性顏料配向方向例之圖。
圖7(a)~(c)為顯示第2實施形態之設計性媒體5的製程概要之圖。
圖8為用以說明第2實施形態之設計性媒體5的製程之圖。
圖9(a)~(c)為顯示第2實施形態之設計性媒體5的結構例之圖。
圖10為顯示實施例1的測定結果之圖，為顯示兩種光亮性顏料的最佳濃度之圖。
圖11為顯示實施例2的測定結果之圖，為顯示兩種光亮性顏料的最佳混合比之圖。

Claims (6)

  1. 一種設計性媒體之製造方法，其特徵在於具有：塗布步驟，其係將使磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料分散於樹脂中的塗料塗布於基材上，形成塗膜；配向步驟，其係對前述基材上形成有前述塗膜的媒體施加磁場，使前述塗膜所含的前述光亮性顏料配向；及硬化步驟，其係使前述塗膜硬化。
  2. 如申請專利範圍第1項之設計性媒體之製造方法，其中前述塗布步驟係：將使在對於磁力線大致垂直方向進行磁場配向的第1光亮性顏料、及在對於磁力線大致水平方向進行磁場配向的第2光亮性顏料之至少兩種光亮性顏料分散於前述樹脂中的塗料塗布於前述基材上。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之設計性媒體之製造方法，其中前述硬化步驟係：在施加前述磁場的狀態下，使前述塗膜硬化。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之設計性媒體之製造方法，其中前述配向步驟係：在使強磁性體或由含有強磁性體的塗料形成的磁性構件鄰接於前述基材的狀態下，對前述媒體施加磁場，使前述光亮性顏料配向。
  5. 一種設計性媒體，係積層基材、及使磁場配向方向不同的至少兩種光亮性顏料分散於樹脂中而構成的塗膜所構成的設計性媒體，其特徵在於： 前述塗膜係具有在和積層有前述基材與前述塗膜的積層方向大致相同方向進行配向的光亮性顏料、及在對於前述積層方向大致垂直方向進行配向的光亮性顏料之至少兩種光亮性顏料而構成。
  6. 如申請專利範圍第5項之設計性媒體，其中至少兩種光亮性顏料為在對於磁力線大致垂直方向進行磁場配向的光亮性顏料、及在對於磁力線大致水平方向進行磁場配向的光亮性顏料。
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