SU626968A1 - Матрица дл изготовлени одноступенчатых фазовых оптических элементов - Google Patents

Claims (1)

1. Изобретение касаетс  изготовлени  одноступенчатых фазовых оптических элементов из полимерных материалов в частности Винарных (одноступенчатых) фазовыл прозрачных или отражательных мультипликаторов дл  систем обработки оптических сигналов . Известна матрица дл  изготовлени  оптических изделий, изготовленна  из металлической .пластины с нанесенным на нее рельефным рисунком I. Така  матрица имеет неравномерную высоту рельефного рисунка, что отрицательно сказываетс  на характеристиках мультипликаторов с высотой рельефного рисунка, соизмеримой с длиной волны оптического диапазона . Равномерность высоты получаемого рельефа по поверхности матриц с оттиснутым рисунком зависит от режима изготовлени  рельефных рисунков на них, например, от точности формообразующего инструмента, от точности его перемещений при механических способах изготовлени  и от локальных -свойств материала матрицы. Цель изобретени  - повышение равномерности рельефных рисунков по поверхности образца при изготовлении бинарных фазовых мультипликаторов путем сн ти  рельефных копий с матриц, имеющих рельефный рисунок высотой в пределах от одной до нескольких долей волн излучени  оптического диапазона. Поставленна  цель достигаетс  применением окисной маски, выполненной в виде кремниевой пластины с выступами из окисла кремни , в качестве матрицы дл  изго-. тов лени  одноступенчатых фазовых оптических элементов из полимерных материалов. На фиг. I изображена маска; на фиг. 2 - маска с нанесенным на него слоем полимера и стекл нной пластиной, на фиг. 3 - изделие. Матрица содержит кремниевую пластину 1 (подложку) с нанесенным на нее рисунком . 2, образованным окислом кремни . Изготовление фазового мультипликатора осуществл ют путем заливки матрицы полимером 3 с последующим наложением на поли- мерный слой стекл нной пластины 4. После отверждени  полимерного сло  последний отдел ют от матрицы. Рисунок, образованный окислом, соответствует изготовленному мультипликатору, а высота рельефа рисунка составл ет 0,31 мкм. Рельефную поверхность маски перед нанесением полимера покрывают антиадгезионным слоем, а стекл нную пластину подвергают адгезионной обработке . После отделени  матрицы от стекл нной пластины с полимером (мультипликатор) на последней получают рельефныйрисунок, обратный рисунку матрицы. В результате получают прозрачные фазовый рельефный рисунок высотой 0,31 мкм с отклонени ми в пределах ±0,01 мкм по площади поверхности диаметром 32 мм. Повышение равномерности высоты получаемого рельефа по поверхности образца происходит за счет того, что высота рельефного рисунка Определ етс  только толщиной окисла материала подложки, котора  люжет быть выдержана с помощью известной в практике технологии с высокой точностью по всей поверхности образца. Окисел материала может быть образован, например, вакуумным испарением, термическим окислением материала подложки. Опытами вы влена высока  износостойкость рельефного рисунка структуры, образованной окислом материала подложки и самой подложкой. Это позвол ет многократно использовать описанную маску в качестве матрицы дл  изготовлени  мультипликаторов . Применение предлагаемой маски позволит повысить равномерность высоты рельефного рисунка по-поверхности фазового мультипликатора в пределах 0,01 - 0,03 мкм при высоте рельефа от 0,15 до 1,0 мкм, что повысит точность работы систем обработки оптических сигналов, в которых используютс  фазовые мультипликаторы. Формула изобретени  Применение окисной маски, выполненной в виде кремниевой пластины с выступами из окисла кремни , в качестве матрицы дл  изготовлени  одноступенчатых фазовых оптических элементов из полимерных материалов . Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе: I. Авторское свидетельство СССР № 211095, кл. G 03 С 7/14, 1968.

   I-1 Г-1 Г-1 Г-S

   i.uu t... . .тгт/г;

   к.| ч- -::гн-:-гЦ1 J-ftlf; f