[go: up one dir, main page]

PL108870B1 - Ultraviolet radiation source - Google Patents

Ultraviolet radiation source Download PDF

Info

Publication number
PL108870B1
PL108870B1 PL19157676A PL19157676A PL108870B1 PL 108870 B1 PL108870 B1 PL 108870B1 PL 19157676 A PL19157676 A PL 19157676A PL 19157676 A PL19157676 A PL 19157676A PL 108870 B1 PL108870 B1 PL 108870B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
radiation
electrodes
ultraviolet radiation
radiation source
source
Prior art date
Application number
PL19157676A
Other languages
English (en)
Other versions
PL191576A1 (pl
Inventor
Wladyslaw Arsoba
Original Assignee
Wyzsza Szkola Pedagog
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wyzsza Szkola Pedagog filed Critical Wyzsza Szkola Pedagog
Priority to PL19157676A priority Critical patent/PL108870B1/pl
Publication of PL191576A1 publication Critical patent/PL191576A1/pl
Publication of PL108870B1 publication Critical patent/PL108870B1/pl

Links

Landscapes

  • Discharge Lamp (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest elektroluminescen¬ cyjne zródlo promieniowania nadfioletowego o ma¬ lym poborze\c\ocy.Znane sa zjawiska wystepujace podczas wyla¬ dowan elektrycznych w rozrzedzonych gazach, a takze w gazach znajdujacych sie pod cisnieniem atmosferycznym lub wyzszym od atmosferycznego.Wyladowania w gazach rozrzedzonych maja cha¬ rakter jarzeniowy. Mechanizm ten jest wykorzy¬ stany w swietlówkach badz neonówkach. Nato-^. miast w lampach rteciowych, wodorowych, kseno- nowych, sodowych, helowych i innych, w których substancja emitujaca promieniowanie znajduje sie pod cisnieniem wyzszym od atmosferycznego, wy¬ ladowanie ma charakter lukowy. Od dluzszego czasu prowadzone sa badania podstawowe zjawisk przebicia dielektryków o róznych stanach skupie¬ nia. Miedzy innymi z materialów Trzeciej Mie¬ dzynarodowej Konferencji w Londynie w 1974 r. wiadomo, iz przy cisnieniu atmosferycznym i wyz¬ szym od atmosferycznego wystepuje wyladowanie o charakterze lukowym, zas swiecenie jarzeniowe wystepuje w gazie o cisnieniu nizszym ód atmosfer rycznego. Wyladowaniom lukowym towarzyszy e- misja energii cieplnej, prowadzaca do silnego na¬ grzewania sie elektrod. Z tego wzgledu korzyst¬ niejszy jest mechanizm jarzeniowy wyladowan w gazach, jednakze nie jest on osiagalny przy uzyciu dotychczas znanych urzadzen, w których gaz znajduje sie pod cisnieniem atmosferycznym 10 15 20 25 lub wyzszym od niego. Widmo, emitowane przez znane zródla promieniowania obejmuje oprócz nadfioletu równiez zakres widzialny, a nawet podczerwien. Wada znanych zródel promieniowa¬ nia jest duzy pobór mocy dochodzacy do kilowa¬ tów, a takze koniecznosc instalowania zasilaczy,. zuzywajacych czesc pobieranej mocy.Celem wynalazku jest opracowanie urzadzenia stanowiacego zródlo promieniowania nadfioletowe¬ go, praktycznie bez udzialu promieniowania wi¬ dzialnego, charakteryzujace sie malym poborem mocy i jarzeniowym charakterem swiecenia, bez wyladowan lukowych.Zródlem promieniowania nadfioletowego wedlug wynalazku jest urzadzenie majace dwie elektrody i umieszczona miedzy nimi warstwe stalego die¬ lektryka, która oddzielona jest od jednej lub od obu elektrod warstwa substancji gazowej. Co naj¬ mniej jedna elektroda jest calkowicie lub czescio¬ wo przezroczysta dla promieniowania nadfioletom wegc.Istotna zaleta rozwiazania wedlug wynalazku jest uzyskanie wyladowan o charakterze jarze¬ niowym w gazie znajdujacym sie pod cisnieniem atmosferycznym. Efekt ten uzyskuje sie dzieki warstwie dielektryka umieszczonej miedzy elektro¬ dami, zapobiegajacej wystapieniu wyladowan lu¬ kowych i zwiazanej z tym emisji energii cieplnej.Odstep miedzy elektrodami moze byc stosunkowo maly, dzieki czemu zródlo promieniowania po- 108 870108 870 biera niewielka moc, nie przekraczajaca kilku wa¬ tów, a widmo emisyjne tego zródla promienio¬ wania obejmuje praktycznie tylko nadfiolet i fio¬ let. Substancja gazowa miedzy elektrodami moze znajdowac sie pod cisnieniem atmosferycznym, co upraszcza konstrukcje, a takze moze znajdowac sie pod cisnieniem róznym od atmosferycznego.Przedmiot wynalazku przedstawiony jest sche¬ matycznie w przykladzie wykonania na rysunku.Zródlo promieniowania nadfioletowego ma me¬ talowa elektrode 1, do której przylega warstwa milki 2 o grubosci 0,02 mm, oddzielona warstwa powietrza 3 o grubosci 0,03 mm od przezroczystej elektrody 4 wykonanej ze szkla kwarcowego prze¬ wodzacego powierzchniowo lub objetosciowo. Ele¬ ktrody 1 i 4 polaczone sa ze zródlem pradu zmien¬ nego. Obudowy urzadzenia nie uwidoczniono na rysunku.Po przylozeniu do elektrod 1 i 4 napiecia zmien¬ nego z sieci 220 V lub wyzszego, warstwa substan¬ cji gazowej 3 emituje promieniowanie w takt zmian biegunowosci przylozonego napiecia — dwa impulsy promieniowania na jeden okres napiecia.Promieniowanie emitowane jest na zewnatrz zród¬ la przez przezroczysta elektrode 4. Przechodzi ono takze przez warstwe miki 2 i ulega odbiciu od metalowej elektrody 1. Natezenie promieniowania mozna regulowac wysokoscia napiecia przylezcne- go do elektrod 1, 4.Poza opisanym przyikladem wykonania urzadze¬ nie moze miec inny ksztalt, na przyklad cylin¬ dryczny lub kulisty. Powierzchnia kazdej elektro¬ dy ,moze wynosic od kilkudziesieciu centymetrów 5 kwadratowych do wymiarów punktowego zródla pro-mieniowania. Ze zródla wedlug wynalazku u-, zyskuje sie promieniowanie o natezeniu mniej¬ szym, niz w znanych lampach UV.Zródlo promieniowania wedlug wynalazku moze io znalezc zastosowanie w przetwornikach i wzmac¬ niaczach promieniowania elektromagnetycznego pracujacych w oparciu o zjawisko fotolumines- cencji i elektroluminescencji. Moze równiez wspól¬ dzialac z pólprzewodnikami, a takze z detektc- 15 rami nadfioletu w ukladach sygnalizacyjnych lub sterujacych.Zastrzezenia patentowe 1. Zródlo promieniowania nadfioletowego, maja- 20 ce dwie elektrody oddzielone substancja gazowa, znamienne tym, ze miedzy elektrodami (1, 4) u- mieszczona jest warstwa stalego dielektryka (2) oddzielona warstwa gazowej substancji (3) cd co najmniej jednej elektrody (4), przy czym co naj- 25 mniej jedna elektroda (4) jest calkowicie lub cze¬ sciowo przezroczysta dla promieniowania nadfio¬ letowego. 2. Zródlo promieniowania wedlug zastrz. 1, zna¬ mienne tym, ze dielektrykiem stalym (2) jest two- 30 rzywo calkowicie lub czesciowo przezroczyste.N N "•¦SI RSW Z.G. W-wa, Srebrna 16, z. 416-80/O —105 + 20 Cena 45 zl PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Zródlo promieniowania nadfioletowego, maja- 20 ce dwie elektrody oddzielone substancja gazowa, znamienne tym, ze miedzy elektrodami (1, 4) u- mieszczona jest warstwa stalego dielektryka (2) oddzielona warstwa gazowej substancji (3) cd co najmniej jednej elektrody (4), przy czym co naj- 25 mniej jedna elektroda (4) jest calkowicie lub cze¬ sciowo przezroczysta dla promieniowania nadfio¬ letowego.
  2. 2. Zródlo promieniowania wedlug zastrz. 1, zna¬ mienne tym, ze dielektrykiem stalym (2) jest two- 30 rzywo calkowicie lub czesciowo przezroczyste. N N "•¦SI RSW Z.G. W-wa, Srebrna 16, z. 416-80/O —105 + 20 Cena 45 zl PL
PL19157676A 1976-07-31 1976-07-31 Ultraviolet radiation source PL108870B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19157676A PL108870B1 (en) 1976-07-31 1976-07-31 Ultraviolet radiation source

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19157676A PL108870B1 (en) 1976-07-31 1976-07-31 Ultraviolet radiation source

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL191576A1 PL191576A1 (pl) 1978-02-13
PL108870B1 true PL108870B1 (en) 1980-05-31

Family

ID=19978056

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL19157676A PL108870B1 (en) 1976-07-31 1976-07-31 Ultraviolet radiation source

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL108870B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL191576A1 (pl) 1978-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3856473B2 (ja) インコヒーレント放射源の点灯方法およびこれに適した照明装置
JP3715231B2 (ja) インコヒーレント放出放射源の作動方法
JP6241971B2 (ja) ガス放電装置とそれを使用した平面光源およびそれらの駆動方法
Zhang et al. Efficient XeI* excimer ultraviolet sources from a dielectric barrier discharge
US5610477A (en) Low breakdown voltage gas discharge device and methods of manufacture and operation
EP3306641B1 (en) Gas discharge light-emitting device and drive circuit therefor
US6400089B1 (en) High electric field, high pressure light source
US5418424A (en) Vacuum ultraviolet light source utilizing rare gas scintillation amplification sustained by photon positive feedback
Salvermoser et al. Efficient, stable, corona discharge 172 nm xenon excimer light source
JPH04303549A (ja) 高周波点灯式放電ランプ
Salvermoser et al. High-efficiency, high-power, stable 172 nm xenon excimer light source
US20050168149A1 (en) Flash lamp with high irradiance
US5118989A (en) Surface discharge radiation source
PL108870B1 (en) Ultraviolet radiation source
CN109011180B (zh) 一种均匀发光的介质阻挡放电光源
WO1999065060A1 (fr) Procede et dispositif permettant de produire un rayonnement optique
RU2326463C2 (ru) Импульсно-периодический широкоапертурный источник ультрафиолетового излучения на основе матрицы микрошнуров плазмы
US20050035711A1 (en) Method and apparatus for a high efficiency ultraviolet radiation source
KR100725763B1 (ko) 전계 자외선 방전등
CN113471056A (zh) 一种紫外光源及紫外灯
JP4867576B2 (ja) 放電プラズマ生成補助装置、及び発光装置、並びに照明器具
Salvermoser 8.7 Excimer, mercury and sodium dischargers
US2835840A (en) Resonance lamps for very low voltages
RU2193802C2 (ru) Устройство для получения оптического излучения
RU2198450C2 (ru) Газоразрядный источник света

Legal Events

Date Code Title Description
RECP Rectifications of patent specification