[go: up one dir, main page]

KR20200010363A - Board for mounting electronic components and manufacturing method thereof - Google Patents

Board for mounting electronic components and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR20200010363A
KR20200010363A KR1020197037396A KR20197037396A KR20200010363A KR 20200010363 A KR20200010363 A KR 20200010363A KR 1020197037396 A KR1020197037396 A KR 1020197037396A KR 20197037396 A KR20197037396 A KR 20197037396A KR 20200010363 A KR20200010363 A KR 20200010363A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
conductor
insulating layer
layer
laminated
board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
KR1020197037396A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102631808B1 (en
Inventor
베지 사사키
Original Assignee
베지 사사키
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 베지 사사키 filed Critical 베지 사사키
Publication of KR20200010363A publication Critical patent/KR20200010363A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102631808B1 publication Critical patent/KR102631808B1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/381Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

기판은, 절연층(11)과, 상기 절연층(11)에 마련된 도체(12)를 가지고 있다. 상기 도체(12)는, 저면 및 측면의 적어도 일부가, 상기 절연층(11)의 표면보다 이면측에 위치하고 있다.The board | substrate has the insulating layer 11 and the conductor 12 provided in the said insulating layer 11. At least a part of the bottom surface and the side surface of the said conductor 12 is located in the back surface side rather than the surface of the said insulating layer 11.

Description

전자 부품 탑재용 기판 및 그 제조 방법Board for mounting electronic components and manufacturing method thereof

본 개시는, 전자 부품 탑재용 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present disclosure relates to an electronic component mounting substrate and a method of manufacturing the same.

전자 장치의 고밀도 실장에 수반하여, 전자 부품 탑재용 기판에도 도체의 고밀도화, 소형화, 박형화, 다층화가 요구되도록 되어 왔다. 도체를 고밀도로 실장하거나, 소형화를 하면, 절연층과 절연층 상에 형성된 도체와의 밀착성이 충분하지 않은 경우에는, 절연층과 도체와의 사이의 밀착이 불충분해진다. 또한, 도체가 절연층 내에서 다층으로 되어 있는 경우에는, 절연층과 도체와의 사이의 밀착이 불충분해진다.With high-density mounting of electronic devices, high density, miniaturization, thinning, and multilayering of conductors have also been required for substrates for mounting electronic components. When the conductor is mounted at a high density or downsized, the adhesion between the insulating layer and the conductor becomes insufficient when the adhesion between the insulating layer and the conductor formed on the insulating layer is not sufficient. In the case where the conductor is a multilayer in the insulating layer, the adhesion between the insulating layer and the conductor becomes insufficient.

도체를 형성하기 위해, 세미 애디티브법을 이용하는 경우에는, 절연층을 가열함으로써, 절연층과 도체와의 밀착성을 향상시키는 기술이 제안되고 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조.).In order to form a conductor, when using the semiadditive process, the technique of improving the adhesiveness of an insulating layer and a conductor by heating an insulating layer is proposed (for example, refer patent document 1).

일본공개특허 특개2012-169600호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-169600

그러나, 얇은 프린트 기판을 만들려고 하거나, 혹은 세미 애디티브법 등으로 절연층의 표면과 도체를 밀착시키려고 하면, 절연층과 도체와의 밀착성을 충분히 확보할 수 없다. 혹은, 절연층이 얇은 경우에는, 도체의 박리가 발생하기 쉬워지는 경우가 많았다. 절연층과 도체와의 밀착성이 불충분한 경우에는, 애당초 프린트 기판의 제조가 불가능하거나, 제조할 수 있었다고 해도 제조 수율의 악화를 피할 수 없다고 하는 과제가 있었다.However, when trying to make a thin printed board or making the surface of an insulating layer and a conductor adhere by semi-additive method etc., adhesiveness of an insulating layer and a conductor cannot fully be ensured. Or when the insulating layer is thin, peeling of a conductor tended to occur in many cases. When the adhesiveness between an insulating layer and a conductor is inadequate, there existed a subject that manufacture of a printed board was impossible initially, or even if it could manufacture, the deterioration of a manufacturing yield cannot be avoided.

따라서, 상기 과제를 해결하기 위해, 본 개시는, 전자 부품 탑재용 기판의 밀착성을 향상시키는 것을 목적으로 한다.Therefore, in order to solve the said subject, this indication aims at improving the adhesiveness of the board | substrate for electronic component mounting.

상기 목적을 달성하기 위해, 절연층 상에 형성된 도체를 절연층에 매립하는 것으로 했다. 또한, 절연층 및 도체의 조합층이 절연층 상에 1층 이상 형성되어 있는 경우에는, 적어도 어느 조합층에 포함되는 도체의 적어도 하나를 절연층의 방향으로 매립하는 것으로 했다.In order to achieve the said objective, it was supposed that the conductor formed on the insulating layer was embedded in the insulating layer. In addition, when the combination layer of an insulating layer and a conductor is formed in one or more layers on the insulating layer, at least one of the conductors contained in at least one combination layer shall be embedded in the direction of an insulating layer.

본 개시에 기재된 전자 부품 탑재용 기판은, 전자 부품을 탑재 가능한 기판이며, 절연층 상에 도체가 형성되어 있으면 된다. 본 개시에서는, 절연층 상에 도체가 형성되어 있는 기판을, 전자 부품 탑재용 기판이라고 칭하는 것으로 한다. 또한 본 개시는, 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판이 탑재된, 전자 부품, 전자 디바이스, 및 실장 장치를 포함한다. 예를 들면, 본 개시와 관련된 실장 장치는, 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판과, 상기 전자 부품 탑재용 기판을 이용하여 미리 정해진 처리를 실행하는 전자 부품을 구비하는 임의의 장치이다. 이와 같이, 본 개시는, 전자 부품 탑재용 기판을 이용하여 동작하는 모든 전자 부품, 전자 디바이스, 및 장치에 적용할 수 있다.The board | substrate for electronic component mounting of this indication is a board | substrate which can mount an electronic component, and what is necessary is just to form the conductor on the insulating layer. In this disclosure, the board | substrate with which the conductor is formed on the insulating layer shall be called the board | substrate for electronic component mounting. In addition, the present disclosure includes an electronic component, an electronic device, and a mounting apparatus, on which an electronic component mounting substrate according to the present disclosure is mounted. For example, the mounting apparatus which concerns on this indication is an arbitrary apparatus provided with the electronic component mounting board which concerns on this indication, and the electronic component which performs predetermined process using the said electronic component mounting board | substrate. As described above, the present disclosure can be applied to all electronic components, electronic devices, and apparatuses that operate using the electronic component mounting substrate.

본 개시에 의하면, 도체의 적어도 일부를 절연층 또는 절연층에 매립하기 때문에, 전자 부품 탑재용 기판의 밀착성 즉 필 강도를 향상시킬 수 있다. 이에 따라, 본 개시는, 전자 부품 탑재용 기판의 제조 시에 있어서의 수율의 저하를 방지함과 함께, 전자 부품 탑재용 기판의 내구성을 향상시키고, 전자 부품 탑재용 기판의 품질을 종합적으로 향상시킬 수 있다. 또한 본 개시는, 본 개시의 배선 기판을 이용하여 동작하는 전자 부품, 전자 디바이스, 및 장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.According to the present disclosure, since at least a part of the conductor is embedded in the insulating layer or the insulating layer, the adhesion of the substrate for mounting the electronic component, that is, the peeling strength, can be improved. Accordingly, the present disclosure prevents a decrease in the yield at the time of manufacturing the electronic component mounting substrate, improves the durability of the electronic component mounting substrate, and improves the quality of the electronic component mounting substrate comprehensively. Can be. Moreover, this indication can improve the reliability of the electronic component, the electronic device, and the apparatus which operate using the wiring board of this indication.

도 1은 절연층 상에 도체를 형성하는 도체 형성 공정을 설명하는 도이다.
도 2는 절연층 상에 도체를 형성하는 도체 형성 공정을 설명하는 도이다.
도 3은 도체를 절연층에 압입하거나 또는 가라앉게 하는 압입 공정을 설명하는 도이다.
도 4는 가열 순서를 설명하는 도이다.
도 5는 가열 순서를 설명하는 도이다.
도 6은 가열 순서를 설명하는 도이다.
도 7은 가열 순서를 설명하는 도이다.
도 8은 가열 순서를 설명하는 도이다.
도 9는 가열하였을 때의 모식도를 설명하는 도이다.
도 10은 도체의 압입 공정 후의 상태를 설명하는 도이다.
도 11은 도체의 압입 공정 후의 상태를 설명하는 도이다.
도 12는 도체를 절연층에 압입하거나 또는 가라앉게 하는 압입 공정을 설명하는 도이다.
도 13은 도체를 절연층에 압입하거나 또는 가라앉게 하는 압입 공정을 설명하는 도이다.
도 14는 도체의 압입 공정 후의 상태를 설명하는 도이다.
도 15는 도체의 압입 공정 후의 상태를 설명하는 도이다.
도 16은 VIA 형성 공정을 설명하는 도이다.
도 17은 제 2 실시 형태와 관련된 전자 부품 탑재용 기판의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 18은 무전해 도금층과 도체와의 경계 부분의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 19는 요철의 제 1 예를 나타내는 확대도이다.
도 20은 요철의 제 2 예를 나타내는 확대도이다.
도 21은 절연층의 표면에서의 요철의 규칙성의 일례를 나타낸다.
도 22는 제 3 실시 형태와 관련된 전자 부품 탑재용 기판의 제조 방법의 설명도이다.
도 23은 도체 오목부를 가지는 도체를 제조하는 방법의 일례를 나타낸 단면도이다.
도 24는 도체 볼록부를 가지는 도체를 제조하는 방법의 일례를 나타낸 단면도이다.
1 is a diagram illustrating a conductor forming step of forming a conductor on an insulating layer.
It is a figure explaining the conductor formation process of forming a conductor on an insulating layer.
FIG. 3 is a diagram illustrating a press-fit process for pressurizing or sinking a conductor into an insulating layer. FIG.
4 is a diagram illustrating a heating sequence.
5 is a diagram illustrating a heating sequence.
6 is a diagram illustrating a heating procedure.
7 is a diagram illustrating a heating procedure.
8 is a diagram illustrating a heating procedure.
It is a figure explaining the schematic diagram at the time of heating.
It is a figure explaining the state after a press-fitting process of a conductor.
It is a figure explaining the state after a press-fitting process of a conductor.
It is a figure explaining the press-in process which injects or sinks a conductor into an insulating layer.
It is a figure explaining the press-in process which injects or sinks a conductor into an insulating layer.
It is a figure explaining the state after a press-fitting process of a conductor.
It is a figure explaining the state after a press-fitting process of a conductor.
It is a figure explaining a VIA formation process.
It is sectional drawing which shows an example of the board | substrate for electronic component mounting which concerns on 2nd Embodiment.
It is sectional drawing which shows an example of the boundary part of an electroless plating layer and a conductor.
19 is an enlarged view showing a first example of unevenness.
20 is an enlarged view showing a second example of unevenness.
21 shows an example of regularity of irregularities on the surface of the insulating layer.
It is explanatory drawing of the manufacturing method of the electronic component mounting board | substrate which concerns on 3rd Embodiment.
It is sectional drawing which shows an example of the method of manufacturing the conductor which has a conductor recessed part.
It is sectional drawing which shows an example of the method of manufacturing the conductor which has a conductor convex part.

첨부의 도면을 참조하여 본 개시의 실시 형태를 설명한다. 이하에 설명하는 실시 형태는 본 개시의 실시의 예이며, 본 개시는 이하의 실시 형태에 제한되는 것은 아니다. 또한, 본 명세서 및 도면에 있어서 부호가 동일한 구성 요소는, 서로 동일한 것을 나타내는 것으로 한다.Embodiments of the present disclosure will be described with reference to the accompanying drawings. Embodiments described below are examples of the embodiments of the present disclosure, and the present disclosure is not limited to the following embodiments. In addition, in this specification and drawing, the component same in code | symbol shall show the same thing mutually.

(제 1 실시 형태)(1st embodiment)

본 실시 형태에서는, 절연체층이 절연층인 경우에 대하여 설명한다. 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판의 제조 방법은, 이하에 서술하는 도체 형성 공정 및 압입 공정을 차례로 구비한다. 이에 따라, 본 개시는, 절연층과 도체와의 사이의 밀착성 즉 필 강도를 향상시킬 수 있다.In this embodiment, the case where an insulator layer is an insulating layer is demonstrated. The manufacturing method of the board | substrate for electronic component mounting which concerns on this indication is equipped with the conductor formation process and press-fit process which are described below in turn. Thereby, this indication can improve adhesiveness, ie, peeling strength, between an insulating layer and a conductor.

본 개시의 절연층 상에 도체를 형성하는 도체 형성 공정을 도 1의 (a)부터 도 1의 (c)에 나타낸다. 도 1의 (a)부터 도 1의 (c)에 있어서, 11은 절연층, 12는 도체, 121은 금속박, 122는 금속 도금을 나타낸다. 또한, 도 1의 상하 방향이 기판의 두께 방향이며, 도 1에 있어서의 상면이 표면이 되고, 도 1에 있어서의 하면이 이면이 된다.The conductor formation process of forming a conductor on the insulating layer of this indication is shown to FIG. 1 (a)-FIG. 1 (c). 1 (a) to 1 (c), 11 represents an insulating layer, 12 represents a conductor, 121 represents metal foil, and 122 represents metal plating. 1 is the thickness direction of a board | substrate, the upper surface in FIG. 1 becomes a surface, and the lower surface in FIG. 1 becomes a back surface.

절연층(11)은, 프린트 기판에 이용하는 것이 가능한 절연체이다. 절연층(11)에 이용되는 재료는, 예를 들면 수지이지만, 이에 한정되지 않고 절연성을 가지는 유리나 세라믹 등의 임의의 물질이 포함되어 있어도 된다. 절연층(11)은, 2종류 이상의 절연성의 물질이 혼합되어 있어도 된다. 예를 들면, 절연층(11)에, 섬유상(狀) 또는 입상(粒狀)의 절연체가 포함되어 있어도 된다.The insulating layer 11 is an insulator which can be used for a printed circuit board. Although the material used for the insulating layer 11 is resin, it is not limited to this, The arbitrary materials, such as glass and ceramic which have insulation, may be contained. Two or more types of insulating substances may be mixed in the insulating layer 11. For example, a fibrous or granular insulator may be included in the insulating layer 11.

절연층(11)은, 수지에 기재를 혼입한 절연체여도 된다. 수지로서는, 열효경화형 수지, 또는 자외선 경화형 수지가 바람직하다. 일정한 내열성이 있으면, 열가소성 수지를 사용해도 된다. 열경화성의 수지로서는, 폴리이미드 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 시아네이트 수지를 예시할 수 있다. 열가소성 수지는, 열변형 온도가 50도C 이상이면 된다. 변형 온도는 높으면 높을수록 좋다. 기재로서는, 유리 섬유, 세라믹 입자, 셀룰로오스 섬유를 예시할 수 있다. 거미집의 섬유 등의 자연물이어도 된다. 기재는, 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 유리 클로스에 상기의 수지를 함침시켜 반경화시킨 프리프레그를 적층하고, 가열·가압하여 절연층을 구성해도 된다. 이하의 어느 실시 형태에서도 마찬가지이다.The insulator which mixed the base material with resin may be sufficient as the insulating layer 11. As resin, thermosetting resin or ultraviolet curable resin is preferable. If it is constant heat resistance, you may use a thermoplastic resin. As thermosetting resin, a polyimide resin, an epoxy resin, a phenol resin, and a cyanate resin can be illustrated. The thermoplastic resin should just be 50 degreeC or more in heat distortion temperature. The higher the deformation temperature, the better. As a base material, glass fiber, ceramic particle, a cellulose fiber can be illustrated. Natural objects, such as a fiber of a cobweb, may be sufficient. The base material is not limited to these. Moreover, you may laminate | stack the prepreg which impregnated and semi-hardened the said resin to glass cloth, and may heat and pressurize and comprise an insulating layer. The same is true in any of the following embodiments.

도체(12)는, 프린트 기판의 도체에 이용하는 것이 가능한 임의의 재료에 의해 형성되어 있는 도체층이며, 금속박, 금속 도금, 압연판을 포함한다. 도체(12)를 구성하는 금속박(121), 금속 도금(122)의 재료는 도전성이 있는 모든 금속, 합금 또는 페이스트이다. 혹은, 도전성이 있으면, 카본이나 세라믹 등의 금속 이외의 모든 물질이어도, 도체(12)의 일부 또는 전부로서 이용할 수 있다. 도체(12)에 적용하는 금속으로서는, 구리, 금, 은, 알루미늄, 니켈 또는 이들의 금속을 질량%로 가장 많이 포함하는 합금이나 페이스트를 예시할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이하의 어느 실시 형태에서도 마찬가지이다.The conductor 12 is a conductor layer formed of any material which can be used for the conductor of a printed board, and contains a metal foil, metal plating, and a rolling plate. The materials of the metal foil 121 and the metal plating 122 constituting the conductor 12 are all conductive metals, alloys or pastes. Or if there is electroconductivity, even if it is all materials other than metals, such as carbon and a ceramic, it can use as one part or all part of the conductor 12. As a metal applied to the conductor 12, although the alloy and paste which contain copper, gold, silver, aluminum, nickel, or these metals by mass% most are mentioned, it is not limited to these. The same is true in any of the following embodiments.

금속박(121)이 붙여진 절연층(11)(도 1의 (a))의 금속박(121)에, 금속 도금을 행한다(도 1의 (b)). 이어서, 공지의 패널 도금법이나 패턴 도금법으로, 절연층(11)에 패턴화된 도체(12)를 형성한다(도 1의 (c)). 이와 같이 형성된 도체(12)는, 금속박과 그 금속박에 도금된 금속 도금층을 포함하게 된다.Metal plating is performed on the metal foil 121 of the insulating layer 11 (FIG. 1 (a)) to which the metal foil 121 was attached (FIG. 1 (b)). Next, the patterned conductor 12 is formed in the insulating layer 11 by the well-known panel plating method or the pattern plating method (FIG. 1 (c)). The conductor 12 thus formed includes a metal foil and a metal plating layer plated on the metal foil.

본 개시의 절연층 상에 도체를 형성하는 다른 도체 형성 공정을 도 2의 (a)부터 도 2의 (d)에 나타낸다. 이 제조 방법은 세미 애디티브법으로서 알려져 있다. 도 2의 (a)부터 도 2의 (d)에 있어서, 11은 절연층, 12는 도체, 13은 패턴 레지스트를 나타낸다.Another conductor forming step of forming a conductor on the insulating layer of the present disclosure is shown in Figs. 2A to 2D. This manufacturing method is known as a semiadditive process. 2 (a) to 2 (d), 11 represents an insulating layer, 12 represents a conductor, and 13 represents a pattern resist.

패턴 레지스트(13)의 재료로서는, 감광성 드라이 필름, 액상 레지스트, ED 레지스트를 예시할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이하의 어느 실시 형태에서도 마찬가지이다. 이러한 재료는 광경화형이나 광용해형이 있다.As a material of the patterned resist 13, although a photosensitive dry film, a liquid resist, and an ED resist can be illustrated, it is not limited to these. The same is true in any of the following embodiments. Such materials may be photocurable or photodissolved.

절연층(11)(도 2의 (a))에 패턴 레지스트를 도포하고, 최종적으로 도체가 되는 부분 이외의 패턴 레지스트를 제거한다(도 2의 (b)). 남겨진 패턴 레지스트(13) 이외의 부분에 무전해 도금 등으로 도체를 성장시킨다(도 2의 (c)). 패턴 레지스트(13)를 제거하고, 도체(12)를 남긴다. 이 때에, 후술하는 도 17에 나타내는 바와 같이, 절연층(11)에 수직인 단면에서는, 도체(12)의 상면(정상면)의 모서리(12E)가 둥그스름하다. 이 도체 형성 공정에서, 절연층(11)에 패턴화된 도체(12)를 형성한다. 도체 형성 공정은, 여기서 설명한 방법에 한정되는 것은 아니다.Pattern resist is apply | coated to the insulating layer 11 (FIG. 2 (a)), and the pattern resist other than the part used as a conductor finally is removed (FIG. 2 (b)). The conductors are grown on the portions other than the remaining pattern resist 13 by electroless plating or the like (Fig. 2 (c)). The pattern resist 13 is removed, leaving the conductor 12. At this time, as shown in FIG. 17 mentioned later, in the cross section perpendicular | vertical to the insulating layer 11, the edge 12E of the upper surface (normal surface) of the conductor 12 is round. In this conductor formation step, a patterned conductor 12 is formed on the insulating layer 11. The conductor forming step is not limited to the method described herein.

본 개시의 도체를 절연층에 압입하는 압입 공정을 도 3의 (a)부터 도 3의 (b)에 나타낸다. 도 3의 (a)부터 도 3의 (b)에 있어서, 11은 절연층, 12는 도체를 나타낸다. 절연층(11)의 표면에 형성된 도체(12)((도 3의 (a))를, 기계적으로 절연층(11)에 기계적으로 압입하면, 도체(12)의 일부가 절연층(11)의 표면에 묻힌다(도 3의 (b)). 도 3의 (b)는, 본 개시의 전자 부품 탑재용 기판의 예이다. 기계적으로 압입하는 작업은, 예를 들면, 평면의 프레스면을 가지는 프레스기를 이용하여, 절연층(11)의 표면에 형성된 도체(12)의 전부, 또는 일부를 절연층(11)에 압입한다.The press-in process which press-fits the conductor of this indication to an insulating layer is shown to FIG. 3 (a)-FIG. 3 (b). In FIG.3 (a)-FIG.3 (b), 11 represents an insulating layer and 12 represents a conductor. When the conductor 12 ((a) of FIG. 3 (a)) formed on the surface of the insulating layer 11 is mechanically press-fitted into the insulating layer 11, a part of the conductor 12 is formed of the insulating layer 11. It is buried on the surface ((b) of Fig. 3.) (b) is an example of the board | substrate for electronic component mounting of this indication. The operation | work which mechanically presses in is a press machine which has a flat press surface, for example. By using the above, all or part of the conductor 12 formed on the surface of the insulating layer 11 is press-fit into the insulating layer 11.

도체(12)를 절연층(11)에 압입함으로써, 도체(12)의 저면(底面)뿐만 아니라, 도체(12)의 측면의 적어도 일부가 절연층(11)에 밀착되어, 절연층(11)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 향상된다.By injecting the conductor 12 into the insulating layer 11, not only the bottom face of the conductor 12, but also at least a part of the side surface of the conductor 12 adheres to the insulating layer 11, thereby insulating the insulating layer 11. And the peel strength between the conductors 12 is improved.

도체(12)가 절연층(11)에 매립된 전자 부품 탑재용 기판을 실현하는 방법은, 절연층(11)으로의 도체(12)의 기계적인 매립에 한정되지 않는다. 예를 들면, 압입 공정에 있어서, 도체(12)와 절연층(11)의 양방 또는 어느 것을 가열하여, 도체(12)를 절연층(11)에 가라앉게 해도 된다. 이에 따라, 도체(12)에 힘을 가하지 않고, 절연층(11)에 도체(12)를 매립할 수 있다.The method of realizing the board | substrate for mounting electronic components in which the conductor 12 was embedded in the insulating layer 11 is not limited to the mechanical embedding of the conductor 12 in the insulating layer 11. For example, in the press-fitting step, both or either of the conductor 12 and the insulating layer 11 may be heated to sink the conductor 12 to the insulating layer 11. Thereby, the conductor 12 can be embedded in the insulating layer 11 without applying a force to the conductor 12.

이 때, 도체(12)를 절연층(11)에 압입하지 않아도 되지만, 약한 힘으로 도체(12)를 절연층(11)에 압입해도 된다. 이에 따라, 도체(12)의 정상면인 상면의 위치를 용이하게 제어할 수 있다. 이와 같이, 본 개시에 있어서의 압입은, 미약한 힘으로의 압입도 포함한다. 이하, 압입 공정의 일례로서, 압입 공정에 있어서, 도체(12)를 절연층(11)에 기계적으로 압입하는 압입 순서에 추가해, 도체(12)와 절연층(11)의 양방 또는 어느 것을 가열하는 가열 순서를 가지는 예에 대하여 설명한다.At this time, the conductor 12 may not be press-fitted into the insulating layer 11, but the conductor 12 may be press-fitted into the insulating layer 11 with a weak force. Thereby, the position of the upper surface which is the top surface of the conductor 12 can be controlled easily. As described above, indentation in the present disclosure also includes indentation with a weak force. Hereinafter, as an example of the indentation process, in addition to the indentation order of mechanically indenting the conductor 12 into the insulation layer 11 in the indentation process, both or both of the conductor 12 and the insulation layer 11 are heated. An example having a heating sequence will be described.

압입 공정에 있어서, 도체(12)를 절연층(11)에 기계적으로 압입할 때에, 도체(12)와 절연층(11)의 양방 또는 어느 것을 가열해도 된다. 절연층이 지나치게 단단한 경우나 필 강도를 보다 향상시키고 싶은 경우에 유효하다. 가열은, 히터를 갖다 대거나, LED 라이트 광이나 적외선을 조사하거나, 열풍을 쐬게 하거나 함으로써 실현된다. 히터로 가열한 패널에 의해 도체(12)를 기계적으로 압입하는 것이어도 된다.In the press-fitting step, when the conductor 12 is mechanically press-fitted into the insulating layer 11, both or both of the conductor 12 and the insulating layer 11 may be heated. It is effective when the insulating layer is too hard or when the peel strength is to be further improved. The heating is realized by placing a heater, irradiating LED light light or infrared rays, or letting hot air flow. The conductor 12 may be mechanically press-fitted by the panel heated by the heater.

가열 순서를 도 4, 도 5, 도 6, 도 7, 도 8에 나타낸다. 도 4, 도 5, 도 6, 도 7, 도 8에 있어서, 11은 절연층, 12는 도체이다. 도 4, 도 5, 도 6, 도 7, 도 8에 있어서, (a), (b), (c)는 순서를 나타낸다. 열의 가열 순서로서는, 우선 가열하고(도 4의 (b)), 가열하면서 기계적으로 압입하는(도 4의 (c)) 순서여도 된다. 우선 가열하고(도 5의 (b)), 가열을 중지하고 기계적으로 압입하는(도 5의 (c)) 순서여도 된다. 가열하는 것과 기계적으로 압입하는 것을 동시에 진행하는(도 6의 (b)) 순서여도 된다. 우선 기계적으로 압입하고(도 7의 (b)), 기계적으로 압입하면서 가열하는(도 7의 (c)) 순서여도 된다. 우선 기계적으로 압입하고(도 8의 (b)), 기계적인 압입을 중지하고 가열하는(도 8의 (c)) 순서여도 된다.The heating sequence is shown in FIG. 4, FIG. 5, FIG. 6, FIG. 4, 5, 6, 7, and 8, 11 is an insulating layer, and 12 is a conductor. In FIG. 4, FIG. 5, FIG. 6, FIG. 7, and FIG. 8, (a), (b), (c) shows a procedure. As a heating order of heat, the order of first heating (FIG. 4 (b)) and mechanically indenting while heating (FIG. 4 (c)) may be sufficient. First, heating may be performed (FIG. 5B), and the heating may be stopped and mechanically press-fitted (FIG. 5C). The order of heating and mechanically press-fitting at the same time may be used (FIG. 6B). First, the procedure may be performed by mechanically indenting (FIG. 7B) and heating while mechanically indenting (FIG. 7C). First, mechanically press-fit (Fig. 8 (b)), mechanical press-in may be stopped and heated (Fig. 8 (c)).

가열하였을 때의 모식도를 도 9의 (a)에 나타낸다. 도체(12)는 금속이며, 절연층(11)은 수지이기 때문에, 팽창률은 절연층(11)보다 도체(12)쪽이 크다. 이 때문에, 적당한 온도로 가열함으로써, 도체(12)는 절연층(11)에 밀착되어, 앵커 효과가 얻어진다. 그 후, 서열(徐熱)해도(도 9의 (b), 도체(12)와 절연층(11)이 밀착도는 가열하기 전보다 향상되고 있다. 따라서, 절연층(11)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 향상된다.The schematic diagram at the time of heating is shown to Fig.9 (a). Since the conductor 12 is a metal and the insulating layer 11 is resin, the expansion rate is larger in the conductor 12 than the insulating layer 11. For this reason, by heating to moderate temperature, the conductor 12 adheres to the insulating layer 11, and an anchor effect is obtained. Subsequently, even if the sequence (Fig. 9 (b), the adhesion of the conductor 12 and the insulating layer 11 is improved than before heating. Therefore, the insulating layer 11 and the conductor 12 Peel strength between is improved.

압입 공정에 있어서, 도체의 압입 후의 상태를 도 10의 (a), 도 10의 (b), 도 11의 (a), 도 11의 (b), 도 11의 (c)로 설명한다. 도 10의 (a), 도 10의 (b), 도 11의 (a), 도 11의 (b), 도 11의 (c)는, 본 개시의 전자 부품 탑재용 기판의 예이다. 도 10의 (a), 도 10의 (b), 도 11의 (a), 도 11의 (b), 도 11의 (c)에 있어서, 11은 절연층, 12는 도체이다. 이들의 설명에 있어서, 도 10의 (a)에 나타내는 바와 같이, 도체(12)에서는, 절연층(11)의 측(절연층(11)에 가까운 측)을 저면, 저면에 대향하는 측((절연층으로부터 먼 측)을 상면(정상면), 상면과 저면에 끼워져 있는 측을 측면이라고 부르고, 절연층(11)에서는, 도체(12)가 얹혀있는 측을 표면이라고 하고, 반대측의 면을 이면이라고 한다.In the indentation step, the state after the indentation of the conductor will be described with reference to FIGS. 10A, 10B, 11A, 11B, and 11C. 10 (a), 10 (b), 11 (a), 11 (b) and 11 (c) are examples of the electronic component mounting substrate of the present disclosure. In Figs. 10A, 10B, 11A, 11B, and 11C, 11 is an insulating layer, and 12 is a conductor. In these descriptions, as shown in FIG. 10 (a), in the conductor 12, the side of the insulating layer 11 (the side close to the insulating layer 11) faces the bottom face and the bottom face (( The side which is far from the insulating layer) is called the side surface of the upper surface (normal surface), the upper surface, and the bottom surface. In the insulating layer 11, the side on which the conductor 12 is placed is called a surface, and the opposite surface is called the back surface. do.

도체(12)를, 도체(12)의 저면 및 측면의 일부가 절연층(11)의 표면보다 낮은 위치가 될 때까지 압입해도 된다(도 10의 (a)). 도체(12)의 저면의 전부 및 측면의 일부가 절연층(11)과 밀착되기 때문에, 절연층(11)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 향상된다. 또한, 도체(12)를, 도체(12)의 상면이 절연층(11)의 표면과 동일면이 되는 위치까지 압입해도 된다(도 10의 (b)). 도체(12)의 저면의 전부 및 측면의 전부가 절연층(11)과 밀착되기 때문에, 절연층(11)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 보다 향상된다.The conductor 12 may be press-fitted until a part of the bottom and side surfaces of the conductor 12 is lower than the surface of the insulating layer 11 (FIG. 10A). Since all of the bottom surface and part of the side surface of the conductor 12 are in close contact with the insulating layer 11, the peeling strength between the insulating layer 11 and the conductor 12 is improved. Moreover, you may press-in the conductor 12 to the position where the upper surface of the conductor 12 becomes the same surface as the surface of the insulating layer 11 (FIG. 10 (b)). Since all of the bottom and side surfaces of the conductor 12 are in close contact with the insulating layer 11, the peeling strength between the insulating layer 11 and the conductor 12 is further improved.

또한, 도 10의 (a)에서는, 저면의 양측에 배치되어 있는 측면이 함께 절연층(11)에 매립되는 예를 나타냈지만, 본 개시는 이에 한정되지 않고, 예를 들면 저면의 양측에 배치되어 있는 측면의 편방만이 절연층(11)에 매립되어 있어도 된다. 도 10의 (a)에서는 도체(12)의 상면이 x축 방향으로 넓어지고 있지만, 본 개시는 이에 한정되지 않고, 도체(12)의 상면은 x축 방향에 대하여 경사져 있어도 된다.In addition, although FIG. 10 (a) showed the example in which the side surface arrange | positioned at the both sides of the bottom surface was embedded together in the insulating layer 11, this indication is not limited to this, For example, it is arrange | positioned at the both sides of the bottom surface, Only one side of the side surface may be embedded in the insulating layer 11. In FIG. 10A, the upper surface of the conductor 12 is widened in the x-axis direction, but the present disclosure is not limited thereto, and the upper surface of the conductor 12 may be inclined with respect to the x-axis direction.

또한, 도 10의 (a) 및 도 10의 (b)에서는, 도체(12)의 단면 형상이 사각형인 예를 나타냈지만, 본 개시와 관련된 도체(12)의 단면 형상은 임의이다. 예를 들면, 도체(12)의 상면은 만곡되어 있어도 되고, 측면과 상면과의 경계가 연속된 곡선을 이루고 있어도 된다.In addition, although the cross-sectional shape of the conductor 12 was shown in FIG. 10A and FIG. 10B, the cross-sectional shape of the conductor 12 which concerns on this indication is arbitrary. For example, the upper surface of the conductor 12 may be curved, or the boundary between the side surface and the upper surface may form a continuous curve.

도체(12)를, 도체(12)의 저면, 측면뿐만 아니라, 상면이 절연층(11)의 표면보다 낮은 위치가 될 때까지 압입해도 된다(도 11의 (a), 도 11의 (b), 도 11의 (c)). 도 11의 (a)에서는, 도체(12)를, 도체(12)의 상면이 절연층(11)의 표면보다 낮은 위치가 될 때까지 압입하고 있지만, 도체(12)의 상면은 노출되어 있다. 도체(12)의 저면의 전부 및 측면의 전부가 절연층(11)과 밀착되기 때문에, 절연층(11)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 보다 향상된다. 도 11의 (b)에서는, 도체(12)를, 도체(12)의 상면이 절연층(11)의 표면보다 낮은 위치가 될 때까지 압입하고 있지만, 도체(12)의 상면의 일부는 노출되어 있다. 도체(12)의 저면의 전부, 측면의 전부 및 상면의 일부가 절연층(11)과 밀착되기 때문에, 절연층(11)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 한층 향상된다. 도 11의 (c)에서는, 도체(12)를, 도체(12)의 상면이 절연층(11)의 표면보다 낮은 위치가 될 때까지 압입하여, 도체(12)의 상면까지 절연층(11)에 묻혀 있다. 도체(12)의 저면의 전부, 측면의 전부 및 상면의 전부가 절연층(11)과 밀착되기 때문에, 절연층(11)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 한층 더 향상된다.Not only the bottom and side surfaces of the conductor 12, but also the top surface 12 may be press-fitted until the top surface becomes a position lower than the surface of the insulating layer 11 (Figs. 11 (a) and 11 (b)). , FIG. 11 (c)). In FIG. 11A, the conductor 12 is press-fitted until the upper surface of the conductor 12 is lower than the surface of the insulating layer 11, but the upper surface of the conductor 12 is exposed. Since all of the bottom and side surfaces of the conductor 12 are in close contact with the insulating layer 11, the peeling strength between the insulating layer 11 and the conductor 12 is further improved. In FIG. 11B, the conductor 12 is press-fitted until the upper surface of the conductor 12 becomes a lower position than the surface of the insulating layer 11, but a part of the upper surface of the conductor 12 is exposed. have. Since all of the bottom, all of the side surfaces, and some of the upper surface of the conductor 12 are in close contact with the insulating layer 11, the peeling strength between the insulating layer 11 and the conductor 12 is further improved. In FIG. 11C, the conductor 12 is press-fitted until the upper surface of the conductor 12 is at a position lower than the surface of the insulating layer 11, and the insulating layer 11 is applied to the upper surface of the conductor 12. Buried in. Since all of the bottom, all of the side, and all of the upper surface of the conductor 12 are in close contact with the insulating layer 11, the peeling strength between the insulating layer 11 and the conductor 12 is further improved.

또한, 도 10의 (a), 도 10의 (b) 및 도 11의 (a)에서는 도체(12)의 3면이 절연층(11)과 밀착된다. y-z 평면에 대해서도 마찬가지의 구조를 가지는 경우, 도체(12)의 5면이, 절연층(11)과 밀착된다. 이와 같이, x축 방향으로 넓어지는 도체(12)의 저면에 더해, y축 방향으로 넓어지는 도체(12)의 측면의 일부 또는 전부가 절연층(11)과 밀착되기 때문에, 도체(12)에 인가되는 x, z축 방향의 부하에 대하여, 필 강도를 높일 수 있다.In addition, in FIG.10 (a), FIG.10 (b), and FIG.11 (a), the three surfaces of the conductor 12 are in close contact with the insulating layer 11. In the case where the y-z plane has the same structure, five surfaces of the conductor 12 are in close contact with the insulating layer 11. In this manner, in addition to the bottom surface of the conductor 12 widening in the x-axis direction, part or all of the side surfaces of the conductor 12 widening in the y-axis direction are in close contact with the insulating layer 11, Peel strength can be raised with respect to the applied x and z-axis loads.

또한, 도 11의 (b) 및 도 11의 (c)에서는 도체(12)의 4면이 절연층(11)과 밀착된다. y-z 평면에 대해서도 마찬가지의 구조를 가지는 경우, 도체(12)의 6면이, 절연층(11)과 밀착된다. 이와 같이, x축 방향으로 넓어지는 도체(12)의 저면에 더해, y축 방향으로 넓어지는 도체(12)의 측면의 일부 또는 전부, 및 x축 방향으로 넓어지는 도체(12)의 상면의 일부 또는 전부가 절연층(11)과 밀착되기 때문에, 도체(12)에 인가되는 x, y, z축 방향의 부하에 대하여, 필 강도를 높일 수 있다.In addition, in FIG.11 (b) and FIG.11 (c), the four surface of the conductor 12 is in close_contact with the insulating layer 11. In the case where the y-z plane has the same structure, the six surfaces of the conductor 12 are in close contact with the insulating layer 11. Thus, in addition to the bottom face of the conductor 12 widening in the x-axis direction, part or all of the side surface of the conductor 12 widening in the y-axis direction, and the part of the upper surface of the conductor 12 widening in the x-axis direction Or since all are in close contact with the insulating layer 11, the peeling strength can be raised with respect to the load of the x, y, z-axis direction applied to the conductor 12. FIG.

또한, 도 10 및 도 11에서는 도체(12)의 저면이 절연층(11)과 밀착되는 예를 나타냈지만, 본 개시는 이에 한정되지 않는다. 예를 들면, 본 개시는, 도 10의 (a), 도 10의 (b), 도 11의 (a)에 있어서, 도체(12)의 저면의 일부 또는 전부가 절연층(11)의 이면에 노출되는, 도체(12)의 2면이 절연층(11)과 밀착되는 형태도 포함한다. y-z 평면에 대해서도 마찬가지의 구조를 가지는 경우, 도체(12)의 4면이, 절연층(11)과 밀착된다. 이 경우, y축 방향으로 넓어지는 도체(12)의 측면의 일부 또는 전부가 절연층(11)과 밀착되기 때문에, 도체(12)에 인가되는 x, z축 방향의 부하에 대하여, 필 강도를 높일 수 있다.10 and 11 show an example in which the bottom surface of the conductor 12 is in close contact with the insulating layer 11, the present disclosure is not limited thereto. For example, in the present disclosure, in FIG. 10A, FIG. 10B, and FIG. 11A, a part or all of the bottom surface of the conductor 12 is formed on the rear surface of the insulating layer 11. It also includes the form in which two surfaces of the conductor 12 exposed are in close contact with the insulating layer 11. In the case where the y-z plane has the same structure, the four surfaces of the conductor 12 are in close contact with the insulating layer 11. In this case, part or all of the side surfaces of the conductors 12 extending in the y-axis direction are in close contact with the insulating layer 11, so that the peel strength is applied to the loads in the x- and z-axis directions applied to the conductors 12. It can increase.

또한, 도 11의 (b)에 있어서, 도체(12)의 저면의 전부가 절연층(11)의 이면에 노출되는, 도체(12)의 3면이 절연층(11)과 밀착되는 형태도 포함한다. y-z 평면에 대해서도 마찬가지의 구조를 가지는 경우, 도체(12)의 5면이, 절연층(11)과 밀착된다. 이 경우, x축 방향으로 넓어지는 도체(12)의 상면의 일부, y축 방향으로 넓어지는 도체(12)의 측면의 일부 또는 전부가 절연층(11)과 밀착되기 때문에, 도체(12)에 인가되는 x, y, z축 방향의 부하에 대하여, 필 강도를 높일 수 있다.In addition, in FIG.11 (b), the form in which the three surfaces of the conductor 12 are in close contact with the insulating layer 11 in which the whole bottom surface of the conductor 12 is exposed to the back surface of the insulating layer 11 is also included. do. In the case where the y-z plane has the same structure, five surfaces of the conductor 12 are in close contact with the insulating layer 11. In this case, part of the upper surface of the conductor 12 widening in the x-axis direction, part or all of the side surface of the conductor 12 widening in the y-axis direction are in close contact with the insulating layer 11, so that the conductor 12 Peel strength can be raised with respect to the applied x, y, and z-axis loads.

또한, 도 11의 (b)에 있어서, 도체(12)의 저면의 일부가 절연층(11)의 이면에 노출되는, 도체(12)의 4면이 절연층(11)과 밀착되는 형태도 포함한다. y-z 평면에 대해서도 마찬가지의 구조를 가지는 경우, 도체(12)의 6면이, 절연층(11)과 밀착된다. 이 경우, x축 방향으로 넓어지는 도체(12)의 상면의 일부, y축 방향으로 넓어지는 도체(12)의 측면의 전부, x축 방향으로 넓어지는 도체(12)의 저면의 일부가 절연층(11)과 밀착되기 때문에, 도체(12)에 인가되는 x, y, z축 방향의 부하에 대하여, 필 강도를 높일 수 있다.In addition, in FIG. 11B, the four surfaces of the conductors 12, in which a part of the bottom surface of the conductor 12 is exposed on the back surface of the insulating layer 11, are also included in close contact with the insulating layer 11. do. In the case where the y-z plane has the same structure, the six surfaces of the conductor 12 are in close contact with the insulating layer 11. In this case, part of the upper surface of the conductor 12 widening in the x-axis direction, all of the side surfaces of the conductor 12 widening in the y-axis direction, and a part of the bottom surface of the conductor 12 widening in the x-axis direction are insulated. Since it adheres to (11), peel strength can be raised with respect to the load of the x, y, z-axis direction applied to the conductor 12. As shown in FIG.

이어서, 전자 부품 탑재용 기판이, 절연층 및 도체의 조합층이 절연층 상에 형성되어 있는 다층 기판인 예에 대하여 설명한다. 이하의 예에서는, 절연층은, 적어도 1층의 조합층에 포함되는 절연층이며, 적어도 1층의 조합층에 포함되는 도체의 적어도 일부가, 절연층에 매립되어 있다. 구체적으로는, 절연층과, 상기 절연층에 형성된 도체와, 상기 도체 및 상기 절연체 기판의 상층에, 절연층 및 상기 절연층에 형성된 도체의 조합을 각 1세트 이상을 구비하고, 상기 도체 중 적어도 하나는, 상기 절연층 또는 절연층에 매립되어 있는 전자 부품 탑재용 기판에 대하여 설명한다.Next, the example in which the board | substrate for electronic component mounting is a multilayer board | substrate with which the combined layer of an insulating layer and a conductor is formed on an insulating layer is demonstrated. In the following examples, the insulating layer is an insulating layer included in at least one combination layer, and at least a part of the conductor contained in the at least one combination layer is embedded in the insulating layer. Specifically, the insulating layer, the conductor formed in the said insulating layer, and the combination of the insulating layer and the conductor formed in the said insulating layer in the upper layer of the said conductor and the said insulator substrate are each provided 1 or more sets, and it is at least among the said conductors. One explains the board | substrate for mounting electronic components embedded in the said insulating layer or the insulating layer.

도 12의 (a), 도 12의 (b), 도 12의 (c), 도 13의 (a), 도 13의 (b), 도 13의 (c)에 있어서, 11a는 적층 절연층, 12는 도체, 14는 적층 절연층이다. 도 12 및 도 13에서는, 적층 절연층(14) 및 도체(12)의 조합의 일례로서, 적층 절연층(14-1) 및 도체(12-1)의 조합층과, 적층 절연층(14-2) 및 도체(12-2)의 조합층과, 적층 절연층(14-3) 및 도체(12-3)의 조합층을 형성하는 예를 나타낸다. 적층 절연층(11a, 14)은 절연층을 구성하고 있다.12 (a), 12 (b), 12 (c), 13 (a), 13 (b) and 13 (c), 11a represents a laminated insulating layer, 12 is a conductor, 14 is a laminated insulating layer. 12 and 13, as an example of the combination of the laminated insulating layer 14 and the conductor 12, a combination layer of the laminated insulating layer 14-1 and the conductor 12-1 and the laminated insulating layer 14-. The example which forms the combined layer of 2) and the conductor 12-2, and the combined layer of the laminated insulating layer 14-3 and the conductor 12-3 is shown. The laminated insulating layers 11a and 14 constitute an insulating layer.

도체 형성 공정 또는 제 2 도체 형성 공정에서는, 적층 절연층(11a) 상에, 또는 각 적층 절연층(14) 상에 도체를 형성한다(도 12의 (a), 도 12의 (b), 도 12의 (c), 도 13의 (a), 도 13의 (b), 도 13의 (c)). 조합층에 도체를 형성하기 위해서는, 적층 절연층(11a) 상에 도체(12)를 형성한다(도체 형성 공정). 또한, 도체(12) 및 적층 절연층(11a)의 상층에, 적층 절연층(14)을 형성하고, 그 적층 절연층(14) 상에 추가로 도체를 형성한다(제 2 도체 형성 공정). 제 2 도체 형성 공정을 소용의 횟수만큼 반복한다.In a conductor formation process or a 2nd conductor formation process, a conductor is formed on the laminated insulation layer 11a or on each laminated insulation layer 14 (FIG. 12A, FIG. 12B, FIG. 12 (c), FIG. 13 (a), FIG. 13 (b), and FIG. 13 (c)). In order to form a conductor in the combination layer, the conductor 12 is formed on the laminated insulating layer 11a (conductor formation step). In addition, a laminated insulating layer 14 is formed on the conductor 12 and the laminated insulating layer 11a, and a conductor is further formed on the laminated insulating layer 14 (second conductor forming step). The second conductor forming step is repeated as many times as necessary.

적층 절연층(14)의 재료는, 적층 절연층(11a)에 적용할 수 있는 것과 동일해도 된다. 이하의 어느 실시 형태에서도 마찬가지이다.The material of the laminated insulating layer 14 may be the same as that applicable to the laminated insulating layer 11a. The same is true in any of the following embodiments.

도체(12)를 최상층의 적층 절연층(14)에 압입하거나 또는 가라앉게 하는 압입 공정에서는, 최상층의 적층 절연층(14)을 형성한 후(도 12의 (b)), 최상층의 도체(12)를 적층 절연층(14)에 압입하거나 또는 가라앉게 한다(도 12의 (c)).In the press-fitting process in which the conductor 12 is press-fitted or sinked into the uppermost laminated insulating layer 14, after forming the uppermost laminated insulating layer 14 (FIG. 12B), the uppermost conductor 12 ) Is pressed into the laminated insulating layer 14 or allowed to sink (FIG. 12C).

도체(12)를 적층 절연층(11a)에 압입하거나 또는 가라앉게 하는 압입 공정이나, 도체(12)를 중간의 적층 절연층(14)에 압입하거나 또는 가라앉게 하는 압입 공정에서는, 적층 절연층(11a)에 도체(12)를 형성한 후나, 적층 절연층(14)을 형성하고 도체(12)를 형성한 후에, 도체(12)를 적층 절연층(11a)이나 적층 절연층(14)에 기계적으로 압입한다(도 13의 (a)). 마지막의 제 2 도체 형성 공정에서는, 최상층의 적층 절연층(14) 상에 도체(12)를 형성하고(도 13의 (b)), 압입 공정에서는, 최상층의 도체(12)를 최상층의 적층 절연층(14)에 기계적으로 압입하거나 또는 가라앉게 한다(도 13의 (c)).In a press-in step of press-fitting or sinking the conductor 12 into the laminated insulating layer 11a, or a press-pressing step of press-pressing or sinking the conductor 12 into the intermediate layer of insulating layer 14, the laminated insulating layer ( After the conductor 12 is formed in 11a) or after the laminated insulating layer 14 is formed and the conductor 12 is formed, the conductor 12 is mechanically bonded to the laminated insulating layer 11a or the laminated insulating layer 14. It is press-fitted in (FIG. 13A). In the final second conductor forming step, the conductor 12 is formed on the uppermost laminated insulating layer 14 (Fig. 13 (b)), and in the press-fitting step, the uppermost conductor 12 is laminated insulated at the uppermost layer. Mechanically press or sink into layer 14 (FIG. 13C).

도체 형성 공정이나 제 2 도체 형성 공정에서 도체(12)를 형성하기 위해서는, 도 1의 (a)부터 도 1의 (c)에 나타내는 공정, 혹은 도 2의 (a)부터 도 2의 (d)에 나타내는 공정을 적용할 수 있다.In order to form the conductor 12 in the conductor forming step and the second conductor forming step, the steps shown in Figs. 1A to 1C, or Figs. 2A to 2D The process shown to can be applied.

압입 공정에 있어서, 도체(12)를 적층 절연층(11a)이나 적층 절연층(14)에 압입하거나 또는 가라앉게 할 때에, 적층 절연층(11a), 적층 절연층(14), 도체(12)의 적어도 어느 것에 가열해도 된다. 가열은, 히터를 갖다 대거나, 적외선을 조사하거나, 열풍을 쐬게 하거나 하여, 실현할 수 있다. 히터로 가열한 패널에 의해 도체(12)를 기계적으로 압입하는 것이어도 된다. 가열 순서는 도 4, 도 5, 도 6, 도 7, 도 8에 나타낸 것과 마찬가지의 순서가 가능하다.In the press-fitting step, when the conductor 12 is press-fitted or settled in the laminated insulating layer 11a or the laminated insulating layer 14, the laminated insulating layer 11a, the laminated insulating layer 14, and the conductor 12 are pressed. You may heat in at least any of. Heating can be realized by placing a heater, irradiating infrared rays, or letting hot air flow. The conductor 12 may be mechanically press-fitted by the panel heated by the heater. The heating order can be the same as that shown in Figs. 4, 5, 6, 7, and 8.

본 개시의 전자 부품 탑재용 기판에서는, 적층 절연층(11a)과 적층 절연층(14)이 일체화되어 있는 경우가 있다. 혹은, 적층 절연층(14)이 인접하여 복수 있는 경우에는, 인접하는 적층 절연층(14)끼리가 일체화되어 있는 경우가 있다.In the board | substrate for electronic component mounting of this indication, the laminated insulating layer 11a and the laminated insulating layer 14 may be integrated. Alternatively, when there are a plurality of laminated insulating layers 14 adjacent to each other, adjacent laminated insulating layers 14 may be integrated with each other.

압입 공정에 있어서, 적층 절연층(14)으로의 도체(12)의 압입 후의 상태는 도 10의 (a), 도 10의 (b), 도 11의 (a), 도 11의 (b), 도 11의 (c)와 마찬가지이다. 적층 절연층(14)으로의 도체(12)의 압입 후의 상태를 도 14의 (a), 도 14의 (b), 도 15의 (a), 도 15의 (b), 도 15의 (c)로 설명한다. 도 14의 (a), 도 14의 (b), 도 15의 (a), 도 15의 (b), 도 15의 (c)는, 본 개시의 전자 부품 탑재용 기판의 예이다. 도 14의 (a), 도 14의 (b), 도 15의 (a), 도 15의 (b), 도 15의 (c)에 있어서, 12는 도체, 14는 적층 절연층이다. 이러한 설명에 있어서, 도 14의 (a)에 나타내는 바와 같이, 도체(12)에서는, 적층 절연층(11a)의 측(적층 절연층(11a)에 가까운 측)을 저면, 저면에 대향하는 측(적층 절연층(11a)으로부터 먼 측)을 상면, 상면과 저면에 끼워져 있는 측을 측면이라고 부르고, 적층 절연층(14)이라도, 적층 절연층(11a)으로부터 먼 측을 상면이라고 부른다.In the press-fitting step, the state after the press-in of the conductor 12 into the laminated insulating layer 14 is shown in Figs. 10 (a), 10 (b), 11 (a), 11 (b), It is the same as that of FIG. The state after the press-in of the conductor 12 to the laminated insulating layer 14 is shown in FIG. 14 (a), FIG. 14 (b), FIG. 15 (a), FIG. 15 (b), and FIG. 15 (c). Explain. 14 (a), 14 (b), 15 (a), 15 (b) and 15 (c) are examples of the electronic component mounting substrate of the present disclosure. In FIGS. 14A, 14B, 15A, 15B, and 15C, 12 is a conductor, and 14 is a laminated insulating layer. In this description, as shown in Fig. 14A, in the conductor 12, the side of the laminated insulating layer 11a (the side close to the laminated insulating layer 11a) faces the bottom face and the bottom face ( The side sandwiched from the laminated insulating layer 11a to the upper surface, the upper surface and the bottom surface is called a side surface, and even the laminated insulating layer 14 is called the upper surface from the laminated insulating layer 11a.

도체(12)를, 도체(12)의 저면 및 측면의 일부가 적층 절연층(14)의 상면보다 낮은 위치가 될 때까지 압입해도 된다(도 14의 (a)). 도체(12)의 저면의 전부 및 측면의 일부가 적층 절연층(14)과 밀착되기 때문에, 적층 절연층(14)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 향상된다. 또한, 도체(12)를, 도체(12)의 상면이 적층 절연층(14)의 상면과 동일면이 되는 위치까지 압입해도 된다(도 14의 (b)). 도체(12)의 저면의 전부 및 측면의 전부가 적층 절연층(14)과 밀착되기 때문에, 적층 절연층(14)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 보다 향상된다.The conductor 12 may be press-fitted until a part of the bottom and side surfaces of the conductor 12 is lower than the upper surface of the laminated insulating layer 14 (FIG. 14A). Since all of the bottom surface and part of the side surface of the conductor 12 are in close contact with the laminated insulating layer 14, the peeling strength between the laminated insulating layer 14 and the conductor 12 is improved. In addition, the conductor 12 may be press-fitted to a position where the upper surface of the conductor 12 is flush with the upper surface of the laminated insulating layer 14 (FIG. 14B). Since all of the bottom and side surfaces of the conductor 12 are in close contact with the laminated insulating layer 14, the peeling strength between the laminated insulating layer 14 and the conductor 12 is further improved.

도체(12)를, 도체(12)의 저면, 측면뿐만 아니라, 상면이 적층 절연층(14)의 상면보다 낮은 위치가 될 때까지 압입해도 된다(도 15의 (a), 도 15의 (b), 도 15의 (c)). 도 15의 (a)에서는, 도체(12)를, 도체(12)의 상면이 적층 절연층(14)의 상면보다 낮은 위치가 될 때까지 압입하고 있지만, 도체(12)의 상면은 노출되어 있다. 도체(12)의 저면의 전부 및 측면의 전부가 적층 절연층(14)과 밀착되기 때문에, 적층 절연층(14)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 보다 향상된다. 도 15의 (b)에서는, 도체(12)를, 도체(12)의 상면이 적층 절연층(14)의 상면보다 낮은 위치가 될 때까지 압입하고 있지만, 도체(12)의 상면의 일부는 노출되어 있다. 도체(12)의 저면의 전부, 측면의 전부 및 상면의 일부가 적층 절연층(14)과 밀착되기 때문에, 적층 절연층(14)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 한층 향상된다. 도 15의 (c)에서는, 도체(12)를, 도체(12)의 상면이 적층 절연층(14)의 상면보다 낮은 위치가 될 때까지 압입하고, 도체(12)의 상면까지 적층 절연층(14)에 묻혀 있다. 도체(12)의 저면의 전부, 측면의 전부 및 상면의 전부가 적층 절연층(14)과 밀착되기 때문에, 적층 절연층(14)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 한층 더 향상된다.Not only the bottom and side surfaces of the conductor 12 but also the top surface 12 may be press-fitted until the top surface becomes a lower position than the top surface of the laminated insulating layer 14 (FIGS. 15A and 15B). ), Figure 15 (c)). In FIG. 15A, the conductor 12 is press-fitted until the upper surface of the conductor 12 is lower than the upper surface of the laminated insulating layer 14, but the upper surface of the conductor 12 is exposed. . Since all of the bottom and side surfaces of the conductor 12 are in close contact with the laminated insulating layer 14, the peeling strength between the laminated insulating layer 14 and the conductor 12 is further improved. In FIG. 15B, the conductor 12 is press-fitted until the upper surface of the conductor 12 is lower than the upper surface of the laminated insulating layer 14, but part of the upper surface of the conductor 12 is exposed. It is. Since all of the bottom, all of the side surfaces, and some of the upper surface of the conductor 12 are in close contact with the laminated insulating layer 14, the peeling strength between the laminated insulating layer 14 and the conductor 12 is further improved. In FIG. 15C, the conductor 12 is press-fitted until the upper surface of the conductor 12 is at a position lower than the upper surface of the laminated insulating layer 14, and the laminated insulating layer (to the upper surface of the conductor 12) ( Buried in 14). Since all of the bottom, all of the side, and all of the upper surface of the conductor 12 are in close contact with the laminated insulating layer 14, the peeling strength between the laminated insulating layer 14 and the conductor 12 is further improved.

최상층의 도체(12)를 적층 절연층(14)에 압입하거나 또는 가라앉게 함으로써, 최종 제품으로서의 전자 부품 탑재용 기판에 있어서, 적층 절연층(14)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 향상된다. 최상층의 도체(12) 이외의 도체를 적층 절연층(11a)이나 적층 절연층(14)에 압입하거나 또는 가라앉게 함으로써, 전자 부품 탑재용 기판의 제조 과정에 있어서, 적층 절연층(11a)이나 적층 절연층(14)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 향상되어, 제조 과정에서의 도체의 박리를 방지할 수 있다.By press-fitting or sinking the conductor 12 of the uppermost layer into the laminated insulating layer 14, the peeling strength between the laminated insulating layer 14 and the conductor 12 improves in the board | substrate for electronic component mounting as a final product. do. In the manufacturing process of the board | substrate for electronic component mounting, the conductor other than the conductor 12 of the uppermost layer is press-fitted or submerged in the laminated insulating layer 11a or the laminated insulating layer 14, and the laminated insulating layer 11a or lamination | stacking is carried out. Peel strength between the insulating layer 14 and the conductor 12 is improved, and peeling of a conductor in a manufacturing process can be prevented.

도체 형성 공정이나 제 2 도체 형성 공정에서는 압입하는 공정을 가진다. 그 압입 공정에서는, 조합층에 형성된 도체(12) 중, 상이한 층에 형성된 도체(12)끼리를, 전기적으로 접속하는 도체부의 일례인 VIA를 형성하는 VIA 형성 공정을 포함해도 된다. VIA 형성 공정 후에, 도체(12)를 적층 절연층(14)에 압입하거나 또는 가라앉게 한다.In a conductor formation process and a 2nd conductor formation process, it has a process to press-fit. In the indentation step, a VIA forming step of forming a VIA which is an example of a conductor part that electrically connects the conductors 12 formed in different layers among the conductors 12 formed in the combination layer may be included. After the VIA forming process, the conductor 12 is pressed into the laminated insulating layer 14 or allowed to sink.

적층 절연층(14)에서 조합층에 형성된 도체(12) 중, 상이한 층에 형성된 도체(12)끼리를 전기적으로 접속하는 도체부의 일례인 VIA에 대하여 설명한다. 도 16의 (a), 도 16의 (b), 도 16의 (c), 도 16의 (d)에 VIA 형성 공정을 나타낸다. 도 16의 (a), 도 16의 (b), 도 16의 (c), 도 16 (d)에 있어서, 11a는 적층 절연층, 12는 도체, 14는 적층 절연층, 15은 VIA이다.The VIA which is an example of the conductor part which electrically connects the conductors 12 formed in the different layer among the conductors 12 formed in the combination layer in the laminated insulation layer 14 is demonstrated. The VIA formation process is shown to FIG. 16A, FIG. 16B, FIG. 16C, and FIG. 16D. In Figs. 16A, 16B, 16C, and 16D, 11a is a laminated insulating layer, 12 is a conductor, 14 is a laminated insulating layer, and 15 is a VIA.

도체 형성 공정이나 제 2 도체 형성 공정에서는, 적층 절연층(11a) 상에 도체(12), 적층 절연층(14), 도체(12)를 순차 형성해 나간다(도 16의 (a), 도 16의 (b)). 상이한 층에 형성된 도체(12)끼리를 VIA(15)로 전기적으로 접속한다(도 16의 (c)). 이 후, 도체(12)를 적층 절연층(14)에 기계적으로 압입하거나 또는 가라앉게 하면, VIA(15)가 압축되어, 앵커 효과가 높아져, 적층 절연층(14)과 도체(12)와의 사이의 필 강도가 향상된다. 여기서는, 적층 절연층(11a) 상의 도체(12)와 적층 절연층(14) 상의 도체(12)끼리를 전기적으로 접속하는 VIA(15)에 대하여 설명하였지만, 적층 절연층(14) 상의 도체(12)와 적층 절연층(14) 상의 도체(12)끼리를 전기적으로 접속하는 VIA(15)에 대해서도 마찬가지이다. 최상층의 도체(12)와 그 하층의 도체(12)끼리를 전기적으로 접속하는 VIA(15)에 대해서도 마찬가지이다.In the conductor forming step and the second conductor forming step, the conductor 12, the laminated insulating layer 14, and the conductor 12 are sequentially formed on the laminated insulating layer 11a (Figs. 16 (a) and 16). (b)). The conductors 12 formed in the different layers are electrically connected to the VIA 15 (Fig. 16 (c)). After that, when the conductor 12 is mechanically press-fitted or settled in the laminated insulating layer 14, the VIA 15 is compressed, and the anchor effect is increased, and the laminated insulating layer 14 and the conductor 12 are separated. The peel strength of the is improved. Although the VIA 15 which electrically connects the conductor 12 on the laminated insulation layer 11a and the conductors 12 on the laminated insulation layer 14 was demonstrated here, the conductor 12 on the laminated insulation layer 14 was demonstrated. The same applies to the VIA 15 that electrically connects the conductors 12 on the multilayer insulating layer 14). The same applies to the VIA 15 which electrically connects the uppermost conductor 12 and the lower conductors 12 to each other.

상기에서는, VIA 형성 공정 후에, 도체(12)를 적층 절연층(11a)이나 적층 절연층(14)에 기계적으로 압입하거나 또는 가라앉게 했지만, 도체(12)를 적층 절연층(11a)이나 적층 절연층(14)에 기계적으로 압입하거나 또는 가라앉게 한 후에 VIA(15)를 형성해도 되는 것은 말할 필요도 없다.In the above, the conductor 12 is mechanically press-fitted or settled in the laminated insulating layer 11a or the laminated insulating layer 14 after the VIA forming step, but the conductor 12 is laminated in the laminated insulating layer 11a or laminated insulation. It goes without saying that the VIA 15 may be formed after mechanically indenting or sinking the layer 14.

상기 각 실시 형태에서는, 적층 절연층의 편측을 나타내면서 설명했지만, 편면 기판에 적용할뿐만 아니라, 양면 기판이나 다층 기판의 경우에는, 적층 절연층의 양측의 각각의 측에 본 개시의 기술을 적용할 수 있다. 양면 기판이나 다층 기판의 경우, 본 실시 형태에서 말하는 상층이나 상면은, 적층 절연층으로부터 먼 측의 층이나 면을 상층이나 상면이라고 생각해도 된다.In each said embodiment, it demonstrated while showing one side of a laminated insulation layer, but not only applies to a single-sided board | substrate, In the case of a double-sided board or a multilayer board | substrate, the technique of this indication can be applied to each side of both sides of a laminated insulation layer. Can be. In the case of a double-sided board or a multi-layer board, the upper layer or the upper surface in the present embodiment may be considered to be the upper layer or the upper surface of the layer or the surface far from the laminated insulating layer.

다층 기판의 경우, 적층 절연층 상의 도체, 적층 절연층으로부터 가장 먼 최외층의 도체 및 적층 절연층과 최외층의 사이의 층인 임의의 층의 도체 중, 임의의 도체를 적층 절연층이나 적층 절연층에 압입하거나 또는 가라앉게 해도 된다. 예를 들면, 최외층의 도체가 압입되거나 또는 가라앉아 있으며, 또한, 적층 절연층과 최외층의 사이의 중간층의 도체가 압입되거나 또는 가라앉은 형태, 혹은 적층 절연층과 최외층의 사이의 중간층의 도체가 압입되거나 또는 가라앉은 형태 모두 포함된다.In the case of a multilayer board | substrate, any of the conductors of the laminated insulating layer, the conductor of the outermost layer farthest from a laminated insulating layer, and the conductor of the arbitrary layer which is a layer between a laminated insulating layer and an outermost layer is made into a laminated insulating layer or a laminated insulating layer It may be pressed in or allowed to sink. For example, the conductor of the outermost layer is press-fitted or sinked, and the conductor of the intermediate layer between the laminated insulation layer and the outermost layer is press-fitted or sinked, or the intermediate layer between the laminated insulation layer and the outermost layer. Both indented or submerged conductors are included.

양면 기판이나 다층 기판의 경우, 양측의 도체를 압입하거나 또는 가라앉게 할 때에는, 양측으로부터 동시에 도체에 압력을 가하여, 압입하거나 또는 가라앉게 해도 된다.In the case of a double-sided board or a multilayer board, when the conductors on both sides are press-fitted or sinked, pressure may be applied to both conductors from both sides at the same time to press-fit or sink.

추가해 얇은 프린트 기판을 만들 때에, 구리박이 파손되기 쉽고, 캐리어를 가지는 구리박의 이용을 어쩔수 없이 하고 있는 현상이 있으며, 이 현상은, 첫번째로 캐리어를 가지는 구리박의 가격이 비쌈, 두번째로 불량율이 높음, 세번째로 제조 공정의 관리도에 대한 요구가 높다고 하는 과제도 있었다. 본 개시에 의하면, 캐리어를 가지는 구리박을 사용하지 않아도, 기판 두께가 얇은 일층 프린트 기판 혹은 다층 프린트 기판을 만들 수 있다. 또한, VIA를 만드는 것에 의한 빌드업법,혹은 관통 구멍을 만드는 것에 의한 스루홀법도 본 개시의 기술 중에서 이용할 수 있다.In addition, when we make thin printed board, copper foil is easy to be damaged, and there is phenomenon that there is inevitable use of copper foil having carrier, and this phenomenon is price of copper foil having carrier first, and second defective rate There was also a problem that the demand for control chart of the manufacturing process was high. According to the present disclosure, even if a copper foil having a carrier is not used, a single layer printed board or a multilayer printed board having a thin substrate thickness can be produced. In addition, the build-up method by making a VIA or the through-hole method by making a through hole can also be utilized in the technique of this indication.

(제 2 실시 형태)(2nd embodiment)

제 1 실시 형태에 있어서, 절연층(11) 중 도체(12)와 접하는 표면에, 도체(12)와의 밀착성이 높은 밀착층(도시 생략)이 마련되어도 된다. 밀착층은, 절연체층(11) 및 도체(12)와의 밀착성이 높은 절연성이 임의의 물질이다. 이 경우, 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판의 제조 방법은, 도체 형성 공정 전에 추가로 밀착층 형성 공정을 구비한다.In 1st Embodiment, the adhesion layer (not shown) with high adhesiveness with the conductor 12 may be provided in the surface which contact | connects the conductor 12 among the insulating layers 11. The adhesive layer is any material having high insulating property with high adhesion to the insulator layer 11 and the conductor 12. In this case, the manufacturing method of the board | substrate for electronic component mounting which concerns on this indication further includes an adhesion layer formation process before a conductor formation process.

밀착층 형성 공정에서는, 절연층(11) 상에 밀착층을 형성한다. 도체 형성 공정에서는, 밀착층의 상면에 도체(12)를 형성한다. 밀착층은, 절연층(11) 상의 도체(12)가 배치되는 영역의 적어도 일부에 형성된다. 밀착층은, 도체(12)가 배치되는 전체 영역에 형성되어 있는 것이 바람직하고, 절연층(11)의 전체에 형성되어 있어도 된다.In the adhesion layer forming step, the adhesion layer is formed on the insulating layer 11. In a conductor formation process, the conductor 12 is formed in the upper surface of an adhesion layer. The adhesion layer is formed in at least a part of the region where the conductors 12 on the insulating layer 11 are arranged. It is preferable that the adhesion layer is formed in the whole area | region where the conductor 12 is arrange | positioned, and may be formed in the whole insulating layer 11. As shown in FIG.

밀착층은, 절연층(11)보다 도체(12)와의 밀착성이 높은 임의의 물질이다. 밀착층은, 절연층(11)과 도체(12)와의 사이의 적어도 일부에 배치되어 있다. 밀착층은, 절연층(11)과 도체(12)와의 사이의 적어도 일부에 배치되어 있으면 절연층(11)과 도체(12)와의 밀착 강도를 높일 수 있어, 절연층(11)과 도체(12)와의 사이의 전체 영역에 배치되어 있어도 된다. 밀착층은, 절연층(11)과 도체(12)와의 밀착 강도를 높이는 물질을 포함한다. 밀착 강도를 높이는 물질은, 화학적 상호 작용, 물리적 상호 작용 및 기계적 결합 중 어느 것를 이용한 것이어도 된다. 기계적 결합으로서는, 예를 들면, 후술하는 제 2 실시 형태에 설명하는 요철을 예시할 수 있다.The adhesive layer is any material having higher adhesion to the conductor 12 than the insulating layer 11. The adhesion layer is disposed at least in part between the insulating layer 11 and the conductor 12. If the adhesion layer is arrange | positioned at least in part between the insulating layer 11 and the conductor 12, the adhesive strength of the insulating layer 11 and the conductor 12 can be improved, and the insulating layer 11 and the conductor 12 will be improved. It may be arrange | positioned in the whole area | region between and. The adhesion layer contains a substance that enhances the adhesion strength between the insulating layer 11 and the conductor 12. The substance which raises adhesive strength may use what kind of chemical interaction, physical interaction, and a mechanical bond. As mechanical coupling, the unevenness demonstrated in 2nd Embodiment mentioned later can be illustrated, for example.

화학적 상호 작용에 의해 밀착 강도를 높이는 물질로서, 밀착층의 일부 또는 전부에, 접착제로서 이용되고 있는 물질 등이 포함되어 있어도 된다. 예를 들면, 일부 또는 전부의 절연성 물질에 의한 밀착층의 수지 재료로서는, 폴리이미드 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 시아네이트 수지 등 외에, 무기 재료 등, 도체(12)와 절연층(11)의 쌍방에 대하여 밀착성이 높은 물질이면 무엇이어도 된다. 금속 산화물, 금속 질화물, 금속 탄화물 및 산화 환원제 등의 무기계의 물질이, 일부 또는 전부에 포함되어 있어도 된다.As a substance which raises adhesive strength by chemical interaction, the substance etc. which are used as an adhesive agent may be contained in one part or all part of an adhesion layer. For example, as the resin material of the adhesive layer by some or all of the insulating materials, in addition to polyimide resin, epoxy resin, phenol resin, cyanate resin, etc., the conductor 12 and the insulating layer 11, such as inorganic materials, may be used. Whatever may be sufficient as the substance with high adhesiveness with respect to both. Inorganic substances, such as a metal oxide, a metal nitride, a metal carbide, and a redox agent, may be contained in some or all.

물리적 상호 작용에 의해 밀착 강도를 높이는 물질로서, 밀착층의 일부 또는 전부에, 환원 작용을 가지는 환원제 및 산화 작용을 가지는 산화제의 적어도 어느 것이 포함되어 있어도 된다. 환원제는, 도체(12), 절연층(11) 및 밀착층의 적어도 어느 것에 포함되는 물질을 환원하는 작용을 가진다. 산화제는, 도체(12), 절연층(11) 및 밀착층의 적어도 어느 것에 포함되는 물질을 산화하는 작용을 가진다. 환원제 및 산화제는, 도체(12), 절연층(11) 및 밀착층뿐만 아니라, 공기나 물 등의 주변 환경 그 밖의 촉매 등과 단독 또는 상호 조합에 의해 반응시키는 것이어도 된다.As a substance which improves the adhesive strength by physical interaction, at least any one of a reducing agent having a reducing action and an oxidizing agent having an oxidizing action may be contained in part or all of the adhesive layer. The reducing agent has a function of reducing a substance contained in at least any one of the conductor 12, the insulating layer 11, and the adhesion layer. The oxidant has an effect of oxidizing a substance contained in at least any one of the conductor 12, the insulating layer 11, and the adhesion layer. The reducing agent and the oxidizing agent may be reacted not only with the conductor 12, the insulating layer 11, and the adhesion layer, but also by a single or mutual combination with an environment or other catalyst such as air or water.

환원제는, 밀착층의 전체에 포함되어 있어도 되고, 밀착층의 도체(12)측의 표면에만 포함되어 있어도 되며, 절연층(11)측의 표면에만 포함되어 있어도 된다. 산화제에 대해서도 마찬가지이다. 예를 들면, 밀착층의 도체(12)측의 표면에 환원제가 포함되고, 밀착층의 절연층(11)측의 표면에 산화제가 포함되어 있어도 된다. 밀착층에 포함되어 있는 환원제의 비율은 임의이며, 환원하는 성질이 있으면 미량이어도 된다. 산화제에 대해서도 마찬가지이다.The reducing agent may be contained in the whole adhesion layer, may be included only in the surface of the conductor 12 side of an adhesion layer, and may be included only in the surface of the insulating layer 11 side. The same applies to the oxidizing agent. For example, the reducing agent may be contained in the surface of the conductor 12 side of the adhesion layer, and the oxidizing agent may be contained in the surface of the insulating layer 11 side of the adhesion layer. The proportion of the reducing agent contained in the adhesion layer is arbitrary, and may be a small amount as long as there is a property to reduce. The same applies to the oxidizing agent.

밀착층의 절연층(11)측의 표면에 포함되어 있는 환원제는, 밀착층의 도체(12)측의 표면에 포함되어 있는 환원제와 상이해도 되고, 동일해도 된다. 상이한 예로서는, 예를 들면, 밀착층의 도체(12)측에 도체(12)의 환원에 적합한 환원제가 포함되고, 밀착층의 절연층(11)측에 절연층(11)에 적합한 환원제가 포함되어 있는 구성도 채용할 수 있다. 동일한 예로서는 예를 들면, 절연층(11)과 도체(12)와의 사이에 환원제로서 기능하는 물질이 포함되어 있으면, 본 개시와 관련된 밀착층을 구비하게 된다. 산화제도 마찬가지이다.The reducing agent contained in the surface on the insulating layer 11 side of the adhesion layer may be different from or the same as the reducing agent contained in the surface of the conductor 12 side of the adhesion layer. As another example, a reducing agent suitable for the reduction of the conductor 12 is included on the conductor 12 side of the adhesion layer, and a reducing agent suitable for the insulating layer 11 is included on the insulating layer 11 side of the adhesion layer. It is also possible to adopt a configuration. As a similar example, if the substance which functions as a reducing agent is contained between the insulating layer 11 and the conductor 12, the contact bonding layer which concerns on this indication is provided. The same is true for oxidants.

도 12~도 13에 나타내는 다층 기판의 예에서는, 조합층에 밀착층을 마련할 수 있다. 예를 들면, 절연층(11)과 그 위에 형성되는 도체(12)와의 사이, 조합층을 구성하는 절연층(14-1) 및 도체(12-1)의 사이에 밀착층(도시 생략)을 마련한다. 또한, 조합층을 구성하는 절연층(14-1) 상에 형성되어 있는 도체(12-1)와 그 위에 형성되는 절연층(14-2)과의 사이에, 밀착층(도시 생략)을 형성해도 된다. 이 경우, 절연층(14-2) 및 도체(12-2)의 조합층 대신에, 밀착층 및 도체(12-2)의 조합층이 형성되어 있어도 된다.In the example of the multilayer board | substrate shown in FIGS. 12-13, an adhesion layer can be provided in a combination layer. For example, an adhesion layer (not shown) is provided between the insulating layer 11 and the conductor 12 formed thereon, and between the insulating layer 14-1 and the conductor 12-1 constituting the combined layer. Prepare. In addition, an adhesion layer (not shown) is formed between the conductor 12-1 formed on the insulating layer 14-1 constituting the combination layer and the insulating layer 14-2 formed thereon. You may also In this case, instead of the combination layer of the insulating layer 14-2 and the conductor 12-2, the combination layer of the contact | adhesion layer and the conductor 12-2 may be formed.

본 실시 형태와 관련된 전자 부품 탑재용 기판의 제조 방법은, 도체 형성 공정 후에, 제 1 실시 형태에서 설명한 압입 공정을 추가로 가지고 있어도 된다. 이에 따라, 필 강도를 더 향상시킬 수 있다.The manufacturing method of the board | substrate for electronic component mounting which concerns on this embodiment may further have the indentation process demonstrated in 1st Embodiment after a conductor formation process. Thereby, peeling strength can be improved further.

(제 3 실시 형태)(Third embodiment)

도 17에, 본 개시의 실시 형태와 관련된 전자 부품 탑재용 기판의 일례를 나타낸다. 본 실시 형태와 관련된 전자 부품 탑재용 기판은, 절연층(11) 상에 도체(12)가 형성되어 있다. 도체(12)는, 절연층(11)측의 최하층에, 무전해 도금층(21)을 포함한다. 예를 들면, 도체(12)는, 절연층(11)측의 최하층으로부터, 차례로, 무전해 도금층(21) 및 전해 도금층(22)이 적층되어 있다. 이와 같이, 절연층(11)과 무전해 도금층(21)이 접하고 있음로써, 절연층(11) 및 도체(12)의 밀착 강도를 높일 수 있다.17 shows an example of an electronic component mounting board according to the embodiment of the present disclosure. As for the board | substrate for electronic component mounting which concerns on this embodiment, the conductor 12 is formed on the insulating layer 11. The conductor 12 includes the electroless plating layer 21 in the lowermost layer on the insulating layer 11 side. For example, as for the conductor 12, the electroless plating layer 21 and the electrolytic plating layer 22 are laminated | stacked in order from the lowest layer on the insulating layer 11 side. As described above, the insulating layer 11 and the electroless plating layer 21 contact each other, whereby the adhesion strength between the insulating layer 11 and the conductor 12 can be increased.

무전해 도금층(21)은, 전해 도금이 아닌 임의의 방법으로 형성된 임의의 도체이다. 도 17에서는, 무전해 도금층(21) 상에 전해 도금층(22)이 적층되어 있는 예를 나타내지만, 전해 도금층(22)이 배치되어 있지 않은, 도체(12)의 전체가 무전해 도금층(21)으로 형성되어 있는 형태도 있을 수 있다.The electroless plating layer 21 is an arbitrary conductor formed by any method other than electrolytic plating. In FIG. 17, although the electroplating layer 22 is laminated | stacked on the electroless plating layer 21, the whole of the conductor 12 in which the electroplating layer 22 is not arrange | positioned is the electroless plating layer 21. In FIG. It may also be formed in the form.

도 18에, 절연층(11) 및 도체(12)의 경계 부분의 확대도를 나타낸다. 도 18의 (b)는 절연층(11)의 표면(11U)에서의 단면 형상을 나타내고, 도 18의 (a)는 A-A' 단면 형상을 나타낸다. 절연층(11)은, 도체(12)측의 표면(11U)에, 요철을 가진다. 요철은, 오목부 혹은 볼록부 또는 이들 양방일 수 있다.18, the enlarged view of the boundary part of the insulating layer 11 and the conductor 12 is shown. FIG. 18B shows the cross-sectional shape at the surface 11U of the insulating layer 11, and FIG. 18A shows the A-A 'cross-sectional shape. The insulating layer 11 has irregularities on the surface 11U on the conductor 12 side. Unevenness | corrugation may be a recessed part, convex part, or both.

본 개시에서는, 절연층(11)의 표면(11U)에 요철을 형성하고, 그 위에서부터 무전해 도금층(21)을 형성한다. 이 때문에, 도 19에 나타내는 바와 같이, 무전해 도금층(21)은, 절연층(11)측에 배치되어 있는 도체(12) 하부로부터 성장하고, 절연층(11)의 표면(11U)과 직접 접한다. 여기서, 부호 112-6 및 112-9에 나타내는 볼록부는, 형성되어 있어도 되고, 형성되어 있지 않아도 된다.In the present disclosure, irregularities are formed on the surface 11U of the insulating layer 11, and the electroless plating layer 21 is formed thereon. For this reason, as shown in FIG. 19, the electroless plating layer 21 grows from the lower part of the conductor 12 arrange | positioned at the insulating layer 11 side, and is in direct contact with the surface 11U of the insulating layer 11. . Here, the convex parts shown at 112-6 and 112-9 may or may not be formed.

앵커 효과를 얻기 위해 도체(12)에 볼록 형상을 형성한 경우, 밀착층의 표면(U)와 무전해 도금층(21)과의 사이에는, 볼록 형상을 형성하기 위한 Ni나 Fe 등의 입상 물질이 포함되어 있다. 한편, 본 개시는, 밀착층의 표면에 요철을 형성하기 때문에, 도체(12)에 볼록 형상을 형성하기 위한 입상 물질이 포함되어 있지 않다. 이 때문에, 도체(12)의 최하층에 있어서의, 무전해 도금층(21)과는 상이한 물질의 함유량이 30% 이하이다. 예를 들면, 본 개시의 도체(12)의 최하층은, 무전해 도금층(21)이 단일의 물질로 형성되어 있다. 여기서, 「단일의 물질」은, 금속 및 합금을 포함한다. 또한, 본 개시의 도체(12)측으로부터 밀착층측으로의 도체 볼록부끼리에서는, 도 22에 나타내는 터널(113)과 같은, 밀착층 내에서의 도통부가 형성되어 있지 않다. 즉, 무전해 도금층(21)은, 밀착층의 표면의 편측에만 형성되어 있다.In the case where the convex shape is formed on the conductor 12 in order to obtain the anchor effect, a granular material such as Ni or Fe for forming the convex shape is formed between the surface U of the adhesion layer and the electroless plating layer 21. Included. In addition, since this indication forms an unevenness | corrugation on the surface of an adhesion layer, the granular material for forming a convex shape in the conductor 12 is not contained. For this reason, content of the substance different from the electroless plating layer 21 in the lowest layer of the conductor 12 is 30% or less. For example, in the lowermost layer of the conductor 12 of the present disclosure, the electroless plating layer 21 is formed of a single material. Here, a "single substance" includes a metal and an alloy. In addition, in the conductor convex parts from the conductor 12 side to the adhesion layer side of this indication, the conduction part in the adhesion layer like the tunnel 113 shown in FIG. 22 is not formed. In other words, the electroless plating layer 21 is formed only on one side of the surface of the adhesion layer.

도체(12)에 형성된 볼록 형상을 이용하여 앵커가 형성되어 있는 경우, 도체(12)의 위치로부터 밀착층의 중심 방향을 향해 도체(12)가 성장하고 있다. 이 때문에, 도체(12)가 배치되어 있는 밀착층의 표면 부근으로부터 밀착층의 중심 방향을 향해 도체(12)가 가늘어진다. 이에 비하여, 본 개시는, 밀착층의 표면에 요철을 형성하기 때문에, 밀착층의 표면 부근으로부터 절연층(11)을 향해 도체(12)가 가늘어지는 형상뿐만 아니라, 도 18의 오목부(111-1, 111-3, 111-6)에 나타나 있는 바와 같은, 밀착층(21)의 표면 부근으로부터 절연층(11)을 향해 넓어지는 형상도 있을 수 있다.When an anchor is formed using the convex shape formed in the conductor 12, the conductor 12 grows from the position of the conductor 12 toward the center direction of an adhesion layer. For this reason, the conductor 12 becomes thinner toward the center direction of an adhesion layer from the surface vicinity of the adhesion layer in which the conductor 12 is arrange | positioned. In contrast, the present disclosure forms concavities and convexities on the surface of the adhesive layer, so that not only the shape of the conductor 12 is tapered from the vicinity of the surface of the adhesive layer toward the insulating layer 11, but also the concave portions 111-11 of FIG. 18. As shown in 1, 111-3, and 111-6, the shape which spreads toward the insulating layer 11 from the vicinity of the surface of the adhesion layer 21 may be sufficient.

도 18의 오목부(111-8 및 111-9)는, 도 20에 나타내는 바와 같이, 절연층(11)의 표면(11U) 부근으로부터 절연층(11)의 중심 방향을 향해 비스듬히 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 오목부(111-8)와 오목부(111-9)와의 거리는, 표면(11U) 부근보다도 절연층(11)의 깊은 쪽이 가까운 것이 바람직하다. 이에 따라, 오목부(111-8)와 오목부(111-9)로 절연층(11)을 끌어안아, 도체(12)와 절연층(11)과의 필 강도를 보다 높일 수 있다.As shown in FIG. 20, the recesses 111-8 and 111-9 in FIG. 18 may be formed obliquely toward the center direction of the insulating layer 11 from the vicinity of the surface 11U of the insulating layer 11. . In this case, it is preferable that the distance between the recessed part 111-8 and the recessed part 111-9 is closer to the deeper side of the insulating layer 11 than near the surface 11U. Thereby, the insulating layer 11 is attracted to the recessed part 111-8 and the recessed part 111-9, and the peeling strength of the conductor 12 and the insulating layer 11 can be improved more.

또한, 본 개시는, 절연층(11)의 표면(11U)에 요철을 형성하기 때문에, 절연층(11)의 표면(11U)에서의 요철의 배치가, 요철의 형성 방법에 기인하는 규칙성을 가진다.In addition, since this indication forms an unevenness | corrugation on the surface 11U of the insulating layer 11, the regularity which the arrangement | positioning of the unevenness | corrugation in the surface 11U of the insulating layer 11 originates in the uneven | corrugated formation method is carried out. Have

평면 상 또는 롤 상에 형성된 요철 형상을 이용하여 요철을 형성한 경우, 평면 또는 롤의 요철 형상이 그대로 표면(11U)에 나타난다. 예를 들면, 요철 형상에 일정 폭 또는 일정한 간격의 직선이 포함되는 경우, 도 18에 나타내는 부호 111-8, 111-9 및 도 21의 (a)에 나타나 있는 바와 같은, 일정 폭 또는 일정한 간격의 오목부 또는 볼록부가 남는다. 표면(11U)을 절삭하여 요철을 형성한 경우, 도 21의 (b) 및 도 21의 (c)에 나타나 있는 바와 같은, 절삭 방향으로 선 형상의 자국이 남는다.When the unevenness is formed by using the uneven shape formed on the plane or on the roll, the uneven shape of the plane or the roll appears on the surface 11U as it is. For example, when a concave-convex shape includes a straight line having a constant width or a constant interval, as shown in numerals 111-8, 111-9 and FIG. Recesses or convexities remain. When the unevenness is formed by cutting the surface 11U, a linear mark remains in the cutting direction as shown in FIGS. 21B and 21C.

기포성의 약품을 이용하여 요철을 형성한 경우, 도 18에 나타내는 부호 111-1~111-7 및 도 21의 (d)에 나타내는 바와 같은, 원 형상의 거품의 자국이 남는다. 오목부(111-1~111-7)의 내경은, 일정해도 되고, 상이해도 된다. 또한, 오목부(111-1)와 같이, 오목부(111-1) 내에 볼록부(112-1)이 형성되어 있는 이중 원 형상도 있다. 이 볼록부(112-1)는, 오목부(111-2~111-7)에도 형성되어 있어도 된다. 또한, 요철에 포함되는 원형은, 오목부뿐만 아니라 볼록부에 형성되어 있어도 된다. 또한, 도 18의 (a) 및 도 18의 (b)의 각각에 나타내는 요철의 단면 형상은, 상기 서술의 형상에 한정되지 않고, 요철을 형성할 때에 형성되는 임의의 형상을 포함한다. 예를 들면, 쐐기 형상, 갈고리 형상, 사다리꼴, 진자, 2개의 산을 가진 사다리꼴 등을 예시할 수 있다.When uneven | corrugated is formed using a foamable chemical | medical agent, the marks of circular bubbles remain as shown to 111-1 to 111-7 shown in FIG. 18, and (d) of FIG. The inner diameters of the recesses 111-1 to 111-7 may be constant or different. Moreover, like the recessed part 111-1, there exists also the double circular shape in which the convex part 112-1 is formed in the recessed part 111-1. This convex part 112-1 may be formed also in the recessed parts 111-2 to 111-7. In addition, the circle | round | yen contained in unevenness | corrugation may be formed not only in a recess but a convex part. In addition, the cross-sectional shape of the unevenness shown in each of FIGS. 18A and 18B is not limited to the shape described above, and includes any shape formed when the unevenness is formed. For example, a wedge shape, a hook shape, a trapezoid, a pendulum, a trapezoid having two peaks, and the like can be exemplified.

요철의 규칙성은, 좁은 범위에서 규칙성이 보이지 않아도, 넓은 범위까지 포함시키면 규칙성을 찾아낼 수 있다. 특히, 전자 부품 탑재용 기판은 칩으로 분리되어 전자 부품 등에 탑재되기 때문에, 요철의 형성 방법에 따라서는 요철의 규칙성은 1칩 내에서는 나타나지 않는 경우도 있을 수 있다. 이 경우에는, 2 이상의 임의의 수의 칩에서 처음으로 요철 형성 물질의 흔적이 나타날 수 있다.Even if the regularity of the unevenness is not seen in a narrow range, regularity can be found by including a wide range. In particular, since the substrate for mounting an electronic component is separated into chips and mounted on an electronic component, etc., depending on the method of forming the unevenness, the regularity of the unevenness may not appear within one chip. In this case, traces of the asperity forming material may appear for the first time in any number of chips of two or more.

도 22를 참조하면서, 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판의 제조 방법을 설명한다. 본 실시 형태와 관련된 전자 부품 탑재용 기판의 제조 방법은, 도체 형성 공정 전에 요철 형성 공정을 가진다.With reference to FIG. 22, the manufacturing method of the board | substrate for electronic component mounting which concerns on this indication is demonstrated. The manufacturing method of the board | substrate for electronic component mounting which concerns on this embodiment has an uneven | corrugated formation process before a conductor formation process.

요철 형성 공정에서는, 절연층(11)을 준비하고(도 22의 (a)), 절연층(11)의 표면(11U)에 요철을 형성한다(도 22의 (b)). 요철의 형성은, 표면(11U) 중 도체(12)의 배선 패턴이 형성될 수 있는 전체의 영역에 행한다. 표면(11U)의 전체에 요철을 형성한 경우, 절연층(11)의 도체(12)가 존재하는 표면(11U)의 측의 도체(12)가 배치되어 있지 않은 영역에도, 도 18에 나타내는 바와 같은 요철이 형성되어 있다.In the uneven | corrugated formation process, the insulating layer 11 is prepared (FIG. 22 (a)), and unevenness | corrugation is formed in the surface 11U of the insulating layer 11 (FIG. 22 (b)). Uneven | corrugated formation is performed in the whole area | region where the wiring pattern of the conductor 12 can be formed among 11U of surfaces. In the case where the unevenness is formed on the entire surface 11U, the region shown in FIG. 18 is also shown in the region where the conductor 12 on the side of the surface 11U on which the conductor 12 of the insulating layer 11 is present is not disposed. The same unevenness is formed.

요철의 형성 방법은 임의이며, 예를 들면, 평면 상 또는 롤 상에 형성된 요철 형상을 표면(11U)에 전사하거나, 혹은 요철 형상을 가지는 절연성의 시트를 표면(11U)에 매립하는 등의 물리적인 형성, 브러시 등에 의해 표면(11U)을 절삭하는 등의 기계적인 형성, 약품을 이용하여 표면(11U)을 용해 또는 팽윤시키는 등의 화학적인 형성을 예시할 수 있고, 이들을 조합시켜도 된다. 또한, 절연층(11)의 표면(11U)의 요철 형상은, 도체(12)가 배치되어 있는 영역과 그렇지 않은 영역에서 상이해도 된다.The method of forming the unevenness is arbitrary, and for example, the physical shape such as transferring the uneven shape formed on the plane or the roll onto the surface 11U, or embedding an insulating sheet having the uneven shape on the surface 11U, or the like. Mechanical formation, such as cutting the surface 11U by a formation, a brush, etc., chemical formation, such as dissolving or swelling the surface 11U using a chemical | medical agent, can be illustrated, and these may be combined. In addition, the uneven | corrugated shape of the surface 11U of the insulating layer 11 may differ in the area | region where the conductor 12 is arrange | positioned, and the area | region which is not.

도체 형성 공정은, 전술의 제 1 실시 형태에 있어서 설명한 바와 같지만, 본 실시 형태는 무전해 도금층(21)을 구비하는 점에서 상이하다. 무전해 도금층(21)을 형성하고(도 22의 (c)), 전해 도금층(22)을 형성하며(도 22의 (d)), 무전해 도금층(21)을 제거한다(도 22의 (e)). 무전해 도금층(21)의 형성은, 화학 도금 외에, 액상 또는 페이스트상의 도체의 도포를 예시할 수 있다. 무전해 도금층(21)의 형성은, 표면(11U) 중 도체(12)의 배선 패턴이 형성될 수 있는 전체의 영역에 행한다. 전해 도금층(22)은, 배선 패턴의 형상으로 형성한다. 무전해 도금층(21)의 제거는, 전해 도금층(22)을 남기면서, 배선 패턴 이외의 영역에 형성되어 있는 무전해 도금층(21)을 제거한다. 이 때에, 도체(12)의 모서리(도 17에 나타내는 부호 12E)가 둥그렇게 된다. 본 개시에서는, 도체(12)를 절연층(11)측으로부터 성장시키기 때문에, 절연층(11)에 수직인 단면에서는, 도체(12)의 절연층(11)측의 면에 대향하는 상면의 모서리가 둥그스름하게 되어 있다.The conductor forming step is as described in the first embodiment described above, but the present embodiment differs in that the electroless plating layer 21 is provided. The electroless plating layer 21 is formed (FIG. 22C), the electrolytic plating layer 22 is formed (FIG. 22D), and the electroless plating layer 21 is removed (FIG. 22E). )). Formation of the electroless plating layer 21 can illustrate coating of a liquid or paste-like conductor other than chemical plating. The electroless plating layer 21 is formed in the entire region where the wiring pattern of the conductor 12 can be formed in the surface 11U. The electroplating layer 22 is formed in the shape of a wiring pattern. Removal of the electroless plating layer 21 removes the electroless plating layer 21 formed in regions other than the wiring pattern, leaving the electrolytic plating layer 22. At this time, the edge (12E shown in FIG. 17) of the conductor 12 becomes round. In the present disclosure, since the conductors 12 are grown from the insulating layer 11 side, in the cross section perpendicular to the insulating layer 11, the edges of the upper surface of the conductor 12 facing the surface of the insulating layer 11 side. Is rounded.

또한, 절연층(11)의 표면(11U) 중 요철을 형성하는 영역, 및, 무전해 도금층(21)을 형성하는 영역은, 표면(11U) 중 도체(12)의 배선 패턴이 형성되는 영역만이도 된다.In addition, the area | region which forms unevenness | corrugation among the surface 11U of the insulating layer 11, and the area | region which forms the electroless plating layer 21 are only the area | regions in which the wiring pattern of the conductor 12 is formed among the surface 11U. You may also

또한, 전해 도금층(22)을 형성하지 않고, 배선 패턴의 형상으로 무전해 도금층(21)을 직접 형성해도 된다. 이 경우, 도체(12)의 전체가 무전해 도금층(21)으로 구성된다.In addition, the electroless plating layer 21 may be directly formed in the shape of a wiring pattern without forming the electrolytic plating layer 22. In this case, the entire conductor 12 is composed of the electroless plating layer 21.

또한, 본 실시 형태에서는, 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판의 일례로서 편면 기판을 예시했지만, 본 개시는 이에 한정되지 않는다. 예를 들면, 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판은 양면 기판어도 된다. 이 경우, 본 실시 형태에서 설명한 절연층(11) 및 도체(12)의 구조가 편면에만 형성되어 있어도 되고, 양면에 형성되어 있어도 된다. 또한, 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판은 다층 기판이어도 된다. 이 경우, 본 실시 형태에서 설명한 절연층(11) 및 도체(12)의 구조가 다층 기판의 적어도 하나의 층에 포함되어 있으면 된다.In addition, in this embodiment, although the single-sided board | substrate was illustrated as an example of the board | substrate for electronic component mounting which concerns on this indication, this indication is not limited to this. For example, the board for mounting electronic components according to the present disclosure may be a double-sided board. In this case, the structures of the insulating layer 11 and the conductor 12 described in this embodiment may be formed only on one side, or may be formed on both sides. In addition, the board | substrate for electronic component mounting which concerns on this indication may be a multilayer board | substrate. In this case, the structures of the insulating layer 11 and the conductor 12 described in this embodiment should just be included in at least one layer of a multilayer substrate.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 실시 형태는, 도체(12)가 절연층(11)측의 최하층에 무전해 도금층(21)을 포함하고, 절연층(11) 및 무전해 도금층(21)이 접하고 있다. 이 때문에, 본 실시 형태는, 필 강도가 강한 전자 부품 탑재용 기판을 제공할 수 있다.As described above, in the present embodiment, the conductor 12 includes the electroless plating layer 21 at the lowermost layer on the insulating layer 11 side, and the insulating layer 11 and the electroless plating layer 21 are in contact with each other. . For this reason, this embodiment can provide the board | substrate for mounting electronic components with strong peeling strength.

또한, 본 실시 형태에서는 제 1 실시 형태에 대한 적용례에 대하여 설명했지만, 본 실시 형태는 제 2 실시 형태에 적용해도 된다. 이 경우, 요철을 형성하는 것은, 도체(12)에 접하는 밀착층의 표면이어도 되고, 절연층(11)에 접하는 밀착층의 표면이어도 되며, 밀착층에 접하는 절연층(11)의 표면(11U)이어도 된다.In addition, although the application example to 1st embodiment was demonstrated in this embodiment, you may apply this embodiment to 2nd embodiment. In this case, the unevenness may be the surface of the adhesion layer in contact with the conductor 12, the surface of the adhesion layer in contact with the insulation layer 11, or the surface 11U of the insulation layer 11 in contact with the adhesion layer. It may be.

(제 4 실시 형태)(4th embodiment)

이어서, 제 4 실시 형태에 대하여 설명한다. 본 실시 형태의 도체(12)는 측면에 도체 오목부(오목부)(200)를 가진다.Next, 4th Embodiment is described. The conductor 12 of this embodiment has a conductor recessed part (concave part) 200 in a side surface.

이 도체 오목부(200)는, 입상 물질(250)을 함유하는 레지스트 재료를 이용함으로써 형성되어도 된다. 구체적인 일례를 나타낸다.The conductor recess 200 may be formed by using a resist material containing the particulate matter 250. A specific example is shown.

우선, 입상 물질(250)을 함유하는 레지스트 재료를 이용하여 레지스트층(290)을 형성한다(도 23의 (a) 참조).First, the resist layer 290 is formed using the resist material containing the granular material 250 (see FIG. 23A).

그 후, 레지스트층(290) 중 도체(12)를 마련하는 개소를 엣징 등에 의해 제거한다(도 23의 (b) 참조). 이 때, 엣징제를 선택하는 등 하여, 입상 물질(250)을 제거하지 않도록 한다. 또한, 레지스트층(290) 내에 함유되어 있는 입상 물질(250)은 레지스트층(290)과 함께 제거되게 된다.Thereafter, the portion in which the conductor 12 is provided in the resist layer 290 is removed by etching or the like (see FIG. 23B). At this time, the particulate matter 250 is not removed by selecting an edging agent. In addition, the particulate matter 250 contained in the resist layer 290 is removed together with the resist layer 290.

그 후, 레지스트층(290)에 마련된 개구(295)의 측면으로부터 입상 물질(250)을 노출시킨 상태로 무전해 도금 또는 전해 도금 등에 의한 도금을 행하여, 도체(12)를 형성한다. 이 결과, 도체 오목부(200)를 가지는 도체(12)가 형성되게 된다(도 23의 (c) 참조).Thereafter, plating is performed by electroless plating, electrolytic plating, or the like in a state where the particulate matter 250 is exposed from the side surface of the opening 295 provided in the resist layer 290, thereby forming the conductor 12. As a result, the conductor 12 which has the conductor recessed part 200 is formed (refer FIG. 23 (c)).

그 후, 레지스트층(290) 및 입상 물질(250)을 에칭 등에 의해 제거한다. 이 때에도, 레지스트층(290) 내에 함유되어 있는 입상 물질(250)은 레지스트층(290)과 함께 제거되게 된다(도 23의 (d) 참조).Thereafter, the resist layer 290 and the particulate matter 250 are removed by etching or the like. Also at this time, the granular material 250 contained in the resist layer 290 is removed together with the resist layer 290 (see FIG. 23D).

이어서, 도체 오목부(200)를 가지는 도체(12)를 반경화 상태의 절연층(11)에 압입하고(도 23의 (e) 참조), 그 후에 절연층(11)을 경화시킨다.Subsequently, the conductor 12 having the conductor recess 200 is pressed into the insulating layer 11 in a semi-cured state (see FIG. 23E), and then the insulating layer 11 is cured.

이상과 같은 공정을 거침으로써, 도체(12)의 도체 오목부(200) 내에 절연층(11)의 일부가 위치하는 것이 되며, 도체(12)의 절연층(11)에 대한 밀착력을 높일 수 있다.By going through the above process, a part of the insulating layer 11 is located in the conductor recessed part 200 of the conductor 12, and the adhesive force with respect to the insulating layer 11 of the conductor 12 can be improved. .

(제 5 실시 형태)(5th embodiment)

이어서, 제 5 실시 형태에 대하여 설명한다. 본 실시 형태의 도체(12)의 측면이 도체 볼록부(볼록부)(210)를 가진다. 또한, 도체(12)의 측면에는 도체 볼록부(210)와 도체 오목부(200)가 혼재하여 마련되어도 된다.Next, 5th Embodiment is described. The side surface of the conductor 12 of this embodiment has a conductor convex part (convex part) 210. In addition, the convex part 210 and the concave part 200 may be provided in the side surface of the conductor 12 in mixture.

이 도체 볼록부(210)는, 입상 물질(250)을 함유하는 레지스트 재료를 이용함으로써 형성되어도 된다. 구체적인 일례를 나타낸다.The conductor convex portion 210 may be formed by using a resist material containing the particulate matter 250. A specific example is shown.

우선, 입상 물질(250)을 함유하는 레지스트 재료를 이용하여 레지스트층(290)을 형성한다(도 24의 (a) 참조).First, the resist layer 290 is formed using the resist material containing the granular material 250 (see FIG. 24A).

그 후, 레지스트층(290) 중 도체(12)를 마련하는 개소를 엣징 등에 의해 제거한다(도 24의 (b) 참조). 이 때, 엣징제를 선택하는 등 하여, 입상 물질(250)을 제거하도록 한다. 또한, 레지스트층(290) 내에 함유되어 있는 입상 물질(250)은 레지스트층(290)과 함께 제거되게 된다.Thereafter, the portion in which the conductor 12 is provided in the resist layer 290 is removed by etching or the like (see FIG. 24B). At this time, the particulate matter 250 is removed by selecting an edging agent or the like. In addition, the particulate matter 250 contained in the resist layer 290 is removed together with the resist layer 290.

그 후, 무전해 도금 또는 전해 도금 등에 의한 도금을 행하여, 도체(12)를 형성한다(도 24의 (c) 참조). 이 결과, 도체 볼록부(210)를 가지는 도체(12)가 형성되게 된다.Thereafter, plating is performed by electroless plating, electrolytic plating, or the like to form the conductor 12 (see FIG. 24C). As a result, the conductor 12 having the conductor convex portion 210 is formed.

그 후, 레지스트층(290)을 에칭 등에 의해 제거한다(도 24의 (d) 참조). 이 때에도, 레지스트층(290) 내에 함유되어 있는 입상 물질(250)은 레지스트층(290)과 함께 제거되게 된다.Thereafter, the resist layer 290 is removed by etching or the like (see FIG. 24D). At this time, the particulate matter 250 contained in the resist layer 290 is removed together with the resist layer 290.

이어서, 도체 볼록부(210)를 가지는 도체(12)를 반경화 상태의 절연층(11)에 압입하고, 그 후에 절연층(11)을 경화시킨다(도 24의 (e) 참조).Subsequently, the conductor 12 having the conductor convex portion 210 is pressed into the insulating layer 11 in a semi-cured state, and then the insulating layer 11 is cured (see FIG. 24E).

이상과 같은 공정을 거침으로써, 절연층(11) 내에 도체 볼록부(210)가 위치하는 것이 되어, 도체(12)의 절연층(11)에 대한 밀착력을 높일 수 있다.By passing through the above processes, the conductor convex part 210 will be located in the insulating layer 11, and the adhesive force with respect to the insulating layer 11 of the conductor 12 can be improved.

(제 6 실시 형태)(6th Embodiment)

본 실시 형태에서는, 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판의 적용례에 대하여 설명한다. 본 실시 형태와 관련된 전자 부품은, 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판을 구비하고, 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판을 이용하여 미리 정해진 처리를 실행한다. 처리는 전자 부품에 의한 임의의 처리이다.In this embodiment, the application example of the board | substrate for electronic component mounting which concerns on this indication is demonstrated. The electronic component which concerns on this embodiment is equipped with the electronic component mounting board which concerns on this indication, and performs a predetermined process using the electronic component mounting board which concerns on this indication. The processing is any processing by the electronic component.

본 실시 형태와 관련된 전자 디바이스는, 탑재되어 있는 전자 부품의 적어도 하나에, 본 개시와 관련된 전자 부품이 이용되고 있다. 본 실시 형태와 관련된 실장 장치는, 탑재되어 있는 전자 부품 및 전자 디바이스 중 적어도 하나에, 본 개시와 관련된 전자 부품 또는 전자 디바이스가 이용되고 있다.In the electronic device according to the present embodiment, the electronic component according to the present disclosure is used for at least one of the mounted electronic components. In the mounting apparatus according to the present embodiment, the electronic component or the electronic device according to the present disclosure is used for at least one of the mounted electronic component and the electronic device.

본 개시는, 전자 부품 탑재용 기판을 구비하는 모든 장치에 적용 가능하다. 본 개시를 적용 가능한 장치의 일례를 들면, 예를 들면, 자동차, 가전 제품, 통신기기, 제어 기기, 센서, 로봇, 드론, 비행기, 우주선, 배, 생산 기계, 공사용 기계, 시험용 기계, 측량용 기계, 컴퓨터 관련 제품, 디지털 기기, 유희 기기 및 시계를 예시할 수 있다.The present disclosure is applicable to all devices including the board for mounting electronic components. Examples of devices to which the present disclosure can be applied include, for example, automobiles, home appliances, communication devices, control devices, sensors, robots, drones, airplanes, spacecrafts, ships, production machines, construction machines, test machines, and surveying machines. , Computer-related products, digital devices, games and watches.

장치에는, 장치에 따른 임의의 기능이 탑재되어 있다. 이 기능을 실행할 때에 이용되는 전자 칩 등의 전자 디바이스에, 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판을 이용한다. 본 개시와 관련된 전자 부품 탑재용 기판은, 필 강도를 향상시킬 수 있기 때문에, 전자 부품, 전자 디바이스 및 장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.The apparatus is equipped with arbitrary functions according to the apparatus. The electronic component mounting board which concerns on this indication is used for electronic devices, such as an electronic chip used when performing this function. Since the peeling strength can be improved for the board | substrate for electronic component mounting which concerns on this indication, the reliability of an electronic component, an electronic device, and an apparatus can be improved.

본 개시의 전자 부품 탑재용 기판 및 그 제조법은, 각종의 전자 장치에 실장하거나, 전자 장치의 제조에 적용할 수 있다.The board | substrate for electronic component mounting of this indication, and its manufacturing method can be mounted in various electronic devices, or it can apply to manufacture of an electronic device.

11: 절연층
12: 도체
121: 금속박
122: 금속 도금
13: 패턴 레지스트
14: 절연층
15: VIA
11U: 표면
111-1~111-9: 오목부
112-1, 112-6, 112-9: 볼록부
113: 터널
21: 무전해 도금층
22: 전해 도금층
11: insulation layer
12: conductor
121: metal foil
122: metal plating
13: pattern resist
14: insulation layer
15: VIA
11U: surface
111-1 to 111-9: recess
112-1, 112-6, 112-9: convex
113: tunnel
21: electroless plating layer
22: electrolytic plating layer

Claims (12)

절연층과,
상기 절연층에 마련된 도체를 구비하고,
상기 도체는, 저면 및 측면의 적어도 일부가, 상기 절연층의 표면보다 이면측에 위치하고 있는 것을 특징으로 하는 기판.
With insulation layer,
A conductor provided in the insulating layer,
The said conductor is a board | substrate characterized in that at least one part of a bottom face and a side surface is located in the back surface side rather than the surface of the said insulating layer.
제 1 항에 있어서,
상기 도체의 측면의 전부(全部)가, 상기 절연층의 표면보다 이면측에 위치하고 있는 것을 특징으로 하는 기판.
The method of claim 1,
The whole side surface of the said conductor is located in the back surface side rather than the surface of the said insulating layer, The board | substrate characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 도체의 정상면과 상기 절연층의 표면과는 두께 방향에 있어서 동일한 높이에 위치하는 것을 특징으로 하는 기판.
The method according to claim 1 or 2,
And a top surface of the conductor and a surface of the insulating layer are located at the same height in the thickness direction.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 도체의 정상면은, 상기 절연층의 표면보다 이면측에 위치하는 것을 특징으로 하는 기판.
The method according to claim 1 or 2,
The top surface of the said conductor is located in the back surface side rather than the surface of the said insulating layer, The board | substrate characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 도체의 상기 측면은 오목부를 가지는 것을 특징으로 하는 기판.
The method according to any one of claims 1 to 4,
And said side surface of said conductor has a recess.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 도체의 상기 측면은 볼록부를 가지는 것을 특징으로 하는 기판.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The side surface of the conductor has a convex portion.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 절연층은, 적층된 복수의 적층 절연층을 가지고,
상기 적층 절연층의 하나 이상에 상기 도체가 마련되며,
상기 도체는, 저면 및 측면의 적어도 일부가, 상기 적층 절연층의 표면보다 이면측에 위치하고 있는 것을 특징으로 하는 기판.
The method according to any one of claims 1 to 6,
The insulating layer has a plurality of laminated insulating layers laminated,
The conductor is provided on at least one of the laminated insulating layers,
The said board | substrate is at least one part of a bottom face and a side surface is located in the back surface side rather than the surface of the said laminated insulation layer, The board | substrate characterized by the above-mentioned.
제 7 항에 있어서,
하나 이상의 상기 도체는, 당해 도체가 마련되어 있는 적층 절연층의 표면보다 정상면이 표면측에 위치하고,
상기 도체의 정상면 및 측면은, 상기 어느 적층 절연층에 적층된 다른 적층 절연층 내에 매설되어 있는 것을 특징으로 하는 기판.
The method of claim 7, wherein
The one or more said conductors have a top surface located on the surface side rather than the surface of the laminated insulating layer provided with the conductors,
The top surface and the side surface of the said conductor are embed | buried in the other laminated insulation layer laminated | stacked on any one said laminated insulation layer, The board | substrate characterized by the above-mentioned.
제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
어느 적층 절연층에 마련된 도체와, 상기 어느 적층 절연층에 적층된 다른 적층 절연층에 마련된 도체는, 도체부를 개재하여 접속되는 것을 특징으로 하는 기판.
The method according to claim 7 or 8,
A conductor provided in one laminated insulating layer and a conductor provided in another laminated insulating layer laminated on the one laminated insulating layer are connected via a conductor portion.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 절연층은 밀착층을 가지고,
상기 밀착층에 상기 도체가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 기판.
The method according to any one of claims 1 to 9,
The insulating layer has an adhesive layer,
The said conductor is provided in the said contact layer, The board | substrate characterized by the above-mentioned.
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 기판과,
상기 기판에 마련된 전자 부품을 구비하고,
상기 전자 부품은 상기 도체에 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 전자 장치.
The substrate of any one of Claims 1-10,
An electronic component provided on the substrate,
The electronic component is provided in the conductor.
제 11 항에 기재된 전자 장치를 구비한 실장 장치.The mounting apparatus provided with the electronic device of Claim 11.
KR1020197037396A 2017-05-19 2018-05-02 Substrate for mounting electronic components and manufacturing method thereof Active KR102631808B1 (en)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017099580 2017-05-19
JPJP-P-2017-099580 2017-05-19
JPJP-P-2017-221807 2017-11-17
JP2017221807 2017-11-17
PCT/JP2018/017502 WO2018211991A1 (en) 2017-05-19 2018-05-02 Board for mounting electronic component, and manufacturing method therefor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200010363A true KR20200010363A (en) 2020-01-30
KR102631808B1 KR102631808B1 (en) 2024-01-31

Family

ID=64274049

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020197037396A Active KR102631808B1 (en) 2017-05-19 2018-05-02 Substrate for mounting electronic components and manufacturing method thereof

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7048593B2 (en)
KR (1) KR102631808B1 (en)
CN (1) CN110915307B (en)
WO (1) WO2018211991A1 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10107435A (en) * 1996-09-27 1998-04-24 Ibiden Co Ltd Printed wiring board and manufacturing method thereof and plate resist composition
JP2003209343A (en) * 2002-01-16 2003-07-25 Airex Inc Printed circuit board
JP2003273509A (en) * 2002-03-14 2003-09-26 Fujitsu Ltd Wiring board and method of manufacturing the same
JP2008103559A (en) * 2006-10-19 2008-05-01 Japan Gore Tex Inc Electronic circuit board manufacturing method
JP2012169600A (en) 2011-01-26 2012-09-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd Method for manufacturing printed wiring board

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3664533B2 (en) * 1995-11-28 2005-06-29 信越ポリマー株式会社 Laminated board for printed wiring boards
JP4351129B2 (en) * 2004-09-01 2009-10-28 日東電工株式会社 Printed circuit board
TW200820853A (en) * 2006-09-29 2008-05-01 Nippon Steel Chemical Co Manufacturing method of flexible substrate
JP5069449B2 (en) * 2006-11-14 2012-11-07 新光電気工業株式会社 Wiring board and manufacturing method thereof
JP2011014644A (en) * 2009-06-30 2011-01-20 Kyocer Slc Technologies Corp Wiring board and manufacturing method thereof
JP5662551B1 (en) * 2013-12-20 2015-01-28 新光電気工業株式会社 WIRING BOARD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND WIRING BOARD MANUFACTURING METHOD

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10107435A (en) * 1996-09-27 1998-04-24 Ibiden Co Ltd Printed wiring board and manufacturing method thereof and plate resist composition
JP2003209343A (en) * 2002-01-16 2003-07-25 Airex Inc Printed circuit board
JP2003273509A (en) * 2002-03-14 2003-09-26 Fujitsu Ltd Wiring board and method of manufacturing the same
JP2008103559A (en) * 2006-10-19 2008-05-01 Japan Gore Tex Inc Electronic circuit board manufacturing method
JP2012169600A (en) 2011-01-26 2012-09-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd Method for manufacturing printed wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
CN110915307A (en) 2020-03-24
CN110915307B (en) 2023-02-03
JP7048593B2 (en) 2022-04-05
JPWO2018211991A1 (en) 2020-04-09
KR102631808B1 (en) 2024-01-31
WO2018211991A1 (en) 2018-11-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6926789B2 (en) Wiring transfer sheet and method for producing the same, and wiring board and method for producing the same
TWI555451B (en) Circuit board, production method of circuit board, and electronic equipment
JP2008124398A (en) Semiconductor package and its manufacturing method
TWI296492B (en) Un-symmetric circuit board and method for fabricating the same
US20090242238A1 (en) Buried pattern substrate
JP4691763B2 (en) Method for manufacturing printed wiring board
US8161634B2 (en) Method of fabricating a printed circuit board
CN110771270B (en) Substrate for mounting electronic component and method for manufacturing same
JP2007005815A (en) Multilayer printed-circuit support and method for manufacturing it
JP2011155097A (en) Manufacturing method for resin-sealed module, and resin-sealed module
CN102427679A (en) Flexible printed circuit board with embedded bump interconnection structure and manufacturing method thereof
KR20200010363A (en) Board for mounting electronic components and manufacturing method thereof
CN107231757B (en) Flexible circuit board and manufacturing method thereof
TW200425367A (en) Flexible circuit board, method for making the same, flexible multi-layer wiring circuit board, and method for making the same
JP2007208229A (en) Manufacturing method of multilayer wiring board
JP2012169486A (en) Base material, wiring board, production method of base material and production method of wiring board
JP4742409B2 (en) Method for manufacturing printed wiring board
KR100733814B1 (en) Printed Circuit Board Manufacturing Method
TWI448220B (en) Method for fabricating a circuit board
WO2019097745A1 (en) Substrate for mounting electronic component, and method for manufacturing same
KR100871031B1 (en) Bump Formation Method of Printed Circuit Board
JP2007311723A (en) Multi-layer circuit board
JP5607573B2 (en) MULTILAYER WIRING BOARD, COMPONENT BUILT-IN BOARD, AND METHOD FOR PRODUCING MULTILAYER WIRING BOARD
JP2009218553A (en) Press sheet and method for manufacturing three-dimensional printed circuit board using the same
JP2001068796A (en) Resin circuit molded product for mounting electronic components and method of manufacturing electronic components

Legal Events

Date Code Title Description
PA0105 International application

Patent event date: 20191218

Patent event code: PA01051R01D

Comment text: International Patent Application

AMND Amendment
PG1501 Laying open of application
A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20210419

Comment text: Request for Examination of Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20220929

Patent event code: PE09021S01D

E601 Decision to refuse application
PE0601 Decision on rejection of patent

Patent event date: 20230530

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PE06012S01D

Patent event date: 20220929

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event code: PE06011S01I

AMND Amendment
PX0701 Decision of registration after re-examination

Patent event date: 20231030

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event code: PX07013S01D

Patent event date: 20230831

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event code: PX07012R01I

Patent event date: 20230530

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PX07011S01I

Patent event date: 20191227

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event code: PX07012R01I

X701 Decision to grant (after re-examination)
PG1601 Publication of registration