KR19990072170A - 반도체장치및그제조방법,회로기판및필름캐리어테이프 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (22)
- 복수의 접속 리드를 갖고, 각 접속 리드에 있어서 한쪽 단부가 반도체 칩의 전극과의 접속에 사용되며, 다른 쪽 단부가 외부와의 접속에 사용되는 플렉시블 기판을 사용한 수지 밀봉형 반도체 장치의 제조 방법에 있어서,필름 캐리어 테이프의 상기 플렉시블 기판에 상당하는 부위를 상기 반도체 칩의 윗쪽에, 또한, 상기 접속 리드의 상기 한쪽 및 상기 다른 쪽의 단부가 상기 반도체 칩의 영역 내에 위치하도록 배치하는 제 1 공정과,상기 제 1 공정 이후에, 상기 접속 리드의 상기 한쪽 단부와 상기 반도체 칩의 전극을 접합하는 제 2 공정과,상기 제 2 공정 이후에, 상기 접합된 전극을 포함하는 상기 반도체 칩의 능동면과, 상기 접속 리드의 상기 한쪽 단부를 포함하는 영역을 수지 밀봉하는 제 3 공정과,상기 제 3 공정 이후에, 상기 필름 캐리어 테이프로부터 개개의 조각으로 떼어내는 제 4 공정을 포함하는 반도체 장치의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 4 공정은 상기 수지 밀봉된 영역의 외측에서 행하여지는 반도체 장치의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 공정 이전에, 상기 필름 캐리어 테이프를 형성하는 공정을 포함하는 반도체 장치의 제조 방법.
- 제 3 항에 있어서, 상기 필름 캐리어 테이프를 형성하는 공정은 상기 수지 밀봉되어야 되는 영역 내에 형성되어 상기 전극 및 상기 외부를 전기적으로 접속하는 상기 복수의 접속 리드와, 어느 하나의 상기 접속 리드에 접속되어 수지 밀봉의 영역외까지 연장 형성되는 복수의 접속부와, 상기 접속부와 상기 수지 밀봉의 영역외에서 접속된 적어도 하나의 도금 리드와, 해당 도금 리드가 접속되는 도금 전극의 모두를 전기적으로 도통시킨 상태의 도통 패턴을 필름에 형성하는 공정과,상기 도금 전극을 통해서 상기 도통 패턴에 전기 도금을 실시하는 공정과, 각각의 상기 접속부의 적어도 일부를 천공하는 공정을 포함하는 반도체 장치의 제조 방법.
- 제 4 항에 있어서, 복수의 상기 접속부를 일괄하여 천공하는 반도체 장치의 제조 방법.
- 필름 캐리어 테이프의 제조 방법에 있어서,밀봉될 예정 영역 내에 형성되어 반도체 칩의 전극 및 외부 전극에 접합되는 복수의 접속 리드와, 해당 접속 리드에 접속되어 상기 밀봉의 영역 외까지 형성되는 적어도 하나의 도금 리드와, 이 도금 리드가 접속되는 도금 전극을 갖고 모두가 도통한 상태의 도통 패턴을 필름에 형성하는 필름 캐리어 테이프의 제조 방법.
- 필름 캐리어 테이프의 제조 방법에 있어서,필름에 리드 구멍을 형성하는 공정과,상기 필름의 상기 리드 구멍을 포함하는 영역상에 금속박을 형성하는 공정과,상기 금속박으로부터 패드부, 접속 리드, 도금 리드, 도금 전극 및 접속부로 이루어진 도전 패턴을 형성하는 공정과,상기 도금 전극을 통해서, 상기 도전 패턴에 도금 처리를 실시하는 공정과, 상기 접속부를 가공하여 배선 패턴을 형성하는 공정을 포함하여 이루어진 필름 캐리어 테이프의 제조 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 배선 패턴을 형성하는 공정은 상기 접속부를 천공함으로써 행해지는 필름 캐리어 테이프의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서, 복수의 상기 접속부가 일괄해서 천공되는 필름 캐리어 테이프의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 천공은 각 접속부마다 대응하여 행해지는 필름 캐리어 테이프의 제조 방법.
- 제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 각 접속부는 원형 구멍에 의해서 천공되는 필름 캐리어 테이프의 제조 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 원형 구멍은 타원형을 이루고, 상기 타원형의 긴 직경 방향은 반도체 장치의 외측 주변을 형성하는 부근과 대략 직교하는 방향을 향하게 되는 필름 캐리어 테이프의 제조 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 도금 처리를 실시하는 공정 이전에, 상기 도전 패턴에 있어서의 상기 도금 처리가 행하여지는 영역을 제외한 영역에 보호막이 형성되는 필름 캐리어 테이프의 제조 방법.
- 제 13 항에 있어서, 상기 보호막으로서 수지가 이용되는 필름 캐리어 테이프의 제조 방법.
- 제 14 항에 있어서, 상기 수지로서 솔더 레지스트가 사용되는 필름 캐리어 테이프의 제조 방법.
- 복수의 전극을 갖는 반도체 칩과, 상기 반도체 칩상에 있어서 상기 반도체 칩과 소정 거리를 두고 또한 서로 겹치도록 위치하는 플렉시블 기판과, 상기 반도체 칩과 상기 플렉시블 기판 사이에 위치하여 상기 반도체 칩의 상기 전극을 갖는 면을 밀봉하는 수지를 갖고,상기 플렉시블 기판상에, 한쪽 단부가 상기 반도체 칩의 상기 전극에 접합 됨과 동시에 다른 쪽 단부 외부와의 접속에 이용되는 복수의 접속 리드를 갖고,상기 접속 리드는 상기 한쪽 및 다른 쪽 단부가 상기 수지로써 밀봉된 영역 내에 위치되어 있고, 어느 하나의 단부는 상기 반도체 칩의 외측 가장자리 부근에 위치함과 동시에 측면부까지 상기 수지로써 완전히 덮히는 반도체 장치.
- 제 16 항에 있어서, 상기 플렉시블 기판에는 상기 접속 리드에 있어서의 상기 수지로써 완전히 피복되는 상기 단부가 위치하는 부위에, 원형 및 타원형 중의 어느 하나가 한쪽의 형상의 구멍이 형성되어 이루어진 반도체 장치.
- 제 16 항 또는 제 17 항의 반도체 장치가 해당 반도체 장치의 베드부를 통해 전기적으로 접속되어 탑재된 회로 기판.
- 수지 밀봉형 반도체 장치에 사용되는 필름 캐리어 테이프에 있어서,수지 밀봉되어야 되는 영역내에서 외부 전극이 형성된 패드부와,수지 밀봉 되어야 되는 영역내에 배치되어, 각각의 상기 외부 전극과 반도체 칩의 각 전극을 접속하는 복수의 접속 리드와,수지 밀봉의 영역 외에 형성되는 적어도 하나의 도금 리드와,적어도 하나를 제외한 상기 접속 리드와 전기 도금 리드를 전기적으로 접속하는 복수의 접속부와,상기 제외된 접속 리드와 전기 도금 리드의 전기적 절연을 꾀하기 위한 적어도 하나의 구멍과,상기 도금 리드가 접속되는 도금 전극을 갖고,상기 패드부, 상기 접속 리드, 상기 도금 리드, 상기 접속부 및 상기 도금 전극에는 전기 도금이 실시되어 있는 필름 캐리어 테이프.
- 제 19 항에 있어서, 상기 구멍은 직사각형의 구멍으로 이루어지고, 복수의 상기 접속부에 대하여 걸쳐 형성되어진 필름 캐리어 테이프.
- 제 19 항에 있어서, 복수의 상기 구멍을 갖고, 각 구멍은 원형 또는 타원형의 구멍으로 이루어지고, 각각의 상기 접합부에 대응하여 형성되어 이루어진 필름 캐리어 테이프.
- 제 21 항에 있어서, 상기 구멍은 타원형을 이루며, 상기 타원형 중의 긴 직경 방향은 반도체 장치의 외측 가장자리를 형성하는 변과 대략 직교하는 방향을 향하게 되는 필름 캐리어 테이프.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29753196 | 1996-10-17 | ||
JP96-297531 | 1996-10-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19990072170A true KR19990072170A (ko) | 1999-09-27 |
KR100459968B1 KR100459968B1 (ko) | 2005-04-28 |
Family
ID=17847745
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-1998-0704524A Expired - Fee Related KR100459968B1 (ko) | 1996-10-17 | 1997-09-29 | 반도체장치및그제조방법,회로기판및필름캐리어테이프 |
KR10-1998-0704526A Expired - Fee Related KR100496762B1 (ko) | 1996-10-17 | 1997-10-08 | 필름캐리어테이프및반도체장치,이들의제조방법및회로기판 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-1998-0704526A Expired - Fee Related KR100496762B1 (ko) | 1996-10-17 | 1997-10-08 | 필름캐리어테이프및반도체장치,이들의제조방법및회로기판 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US6274405B1 (ko) |
JP (2) | JP3608205B2 (ko) |
KR (2) | KR100459968B1 (ko) |
CN (3) | CN1124644C (ko) |
AU (2) | AU4321997A (ko) |
TW (2) | TW358231B (ko) |
WO (2) | WO1998018161A1 (ko) |
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-
1997
- 1997-09-29 CN CN97191451A patent/CN1124644C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-29 CN CNB031198171A patent/CN1272837C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-29 JP JP51551298A patent/JP3608205B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-29 WO PCT/JP1997/003458 patent/WO1998018161A1/ja active IP Right Grant
- 1997-09-29 US US09/077,804 patent/US6274405B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-29 KR KR10-1998-0704524A patent/KR100459968B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-29 AU AU43219/97A patent/AU4321997A/en not_active Abandoned
- 1997-10-04 TW TW086114535A patent/TW358231B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-10-08 WO PCT/JP1997/003599 patent/WO1998018162A1/ja active IP Right Grant
- 1997-10-08 US US09/091,127 patent/US6262473B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-10-08 CN CN97191450A patent/CN1126163C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-08 AU AU44713/97A patent/AU4471397A/en not_active Abandoned
- 1997-10-08 JP JP51920098A patent/JP3584469B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-08 KR KR10-1998-0704526A patent/KR100496762B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-15 TW TW086115153A patent/TW365694B/zh not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-06-19 US US09/883,390 patent/US6452257B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-04-12 US US10/120,534 patent/US6867068B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1998018161A1 (en) | 1998-04-30 |
TW365694B (en) | 1999-08-01 |
US6262473B1 (en) | 2001-07-17 |
CN1272837C (zh) | 2006-08-30 |
US6867068B2 (en) | 2005-03-15 |
CN1206494A (zh) | 1999-01-27 |
CN1206496A (zh) | 1999-01-27 |
KR19990072172A (ko) | 1999-09-27 |
KR100496762B1 (ko) | 2005-09-30 |
US20010029062A1 (en) | 2001-10-11 |
CN1516250A (zh) | 2004-07-28 |
US6274405B1 (en) | 2001-08-14 |
AU4471397A (en) | 1998-05-15 |
KR100459968B1 (ko) | 2005-04-28 |
CN1124644C (zh) | 2003-10-15 |
WO1998018162A1 (en) | 1998-04-30 |
JP3584469B2 (ja) | 2004-11-04 |
CN1126163C (zh) | 2003-10-29 |
AU4321997A (en) | 1998-05-15 |
US6452257B2 (en) | 2002-09-17 |
TW358231B (en) | 1999-05-11 |
JP3608205B2 (ja) | 2005-01-05 |
US20020110943A1 (en) | 2002-08-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0105 | International application |
Patent event date: 19980616 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20020409 Comment text: Request for Examination of Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20040217 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20040917 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20041125 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20041126 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20071106 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20081110 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20091110 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20101124 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20111028 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121114 Year of fee payment: 9 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20121114 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131018 Year of fee payment: 10 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20131018 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
PC1903 | Unpaid annual fee |
Termination category: Default of registration fee Termination date: 20151009 |