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KR19980042684A - 폴리카보네이트 수지 및 이를 이용한 전자 사진용 감광체 - Google Patents

폴리카보네이트 수지 및 이를 이용한 전자 사진용 감광체 Download PDF

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KR19980042684A
KR19980042684A KR1019970062245A KR19970062245A KR19980042684A KR 19980042684 A KR19980042684 A KR 19980042684A KR 1019970062245 A KR1019970062245 A KR 1019970062245A KR 19970062245 A KR19970062245 A KR 19970062245A KR 19980042684 A KR19980042684 A KR 19980042684A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
photosensitive member
polycarbonate resin
electrophotographic photosensitive
substituted
Prior art date
Application number
KR1019970062245A
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English (en)
Inventor
게니치 오쿠라
수미타카 노가미
Original Assignee
나까사또요시히꼬
후지덴끼가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 나까사또요시히꼬, 후지덴끼가부시끼가이샤 filed Critical 나까사또요시히꼬
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Abstract

윤활성이 우수하고, 균열이 잘 발생하지 않으며, 피막형성(filming) 등에 따른 화상 결함을 방지하고, 토너 분리가 양호한 고내구성의 전자 사진용 감광체를 제공하고, 전자 사진 감광체용 도공액(塗工液)의 안정성을 향상시킨다.
주쇄(主鎖)내에, 하기 화학식(1a) 또는 (1b)으로 나타내어지는 구성단위를 1종 이상 가지는 폴리카보네이트 수지이다:
상기 식에서,
A는 F 또는 F로 치환된 알킬기를 나타내고,
R1∼R7은, 각각 H 또는 F를 나타낸다.
또한, 이를 전자 사진용 감광체의 감광층 또는 표면보호층내에 함유시킨다.

Description

폴리카보네이트 수지 및 이를 이용한 전자 사진용 감광체
본 발명은 신규 폴리카보네이트 수지 및 이를 이용한 전자 사진용 감광체에 관한 것으로서, 이러한 전자 사진용 감광체는 주로 전도성 기판과 유기재료를 포함한 감광층으로 이루어지며, 전자 사진 방식의 프린터, 팩시밀리 등에 이용된다.
최근 들어, 전자 사진용 감광체로서는 유기 전도성 재료를 이용한 유기 전자 사진용 감광체가 무공해, 저비용, 재료선택의 자유와 같은 특성이 증대됨에 따라 감광체 특성을 다양하게 설계할 수 있다는 등의 점으로 인해, 빈번하게 제안되어 실용화되고 있다.
유기 전자 사진용 감광체의 감광층은, 주로 유기 광전도 재료를 수지에 분산시킨 층으로 이루어지며, 전하발생재료를 수지에 분산시킨 층(전하발생층)과 전하수송재료를 수지에 분산시킨 층(전하수송층)을 적층시킨 구조나, 전하발생재료 및 전하수송재료를 수지에 분산시킨 단층구조 등이 많이 제안되고 있다.
이들 수지로는 비스페놀 A형 폴리카보네이트가 널리 이용되고 있다.
또한, 이들 감광층은 유기 광전도성 재료와 수지가 유기용제에 분해 또는 분산된 도공액(塗工液)을 코팅함으로써 형성되는 것이 일반적이다.
그러나, 수지로서 비스페놀 A형 폴리카보네이트를 이용하면 하기와 같은 결점을 가진다. (1)상기 도공액을 제조할 때, 유기용제로서 테트라히드로푸란(THF)등을 이용하여 제조한 경우, 그 용액은 수일내로 겔화되고, 그 도공액을 이용하여 코팅하면, 균일하고 양호한 감광층을 형성할 수 없게 된다. (2)형성된 감광층은 솔벤트크랙(solvent crack)이 발생하거나 내부변형력에 의해 크랙이 발생되기 쉽다. 큰 크랙은 그대로 화상결함으로써 나타나며, 작은 크랙은 특히 접촉 대전 방식의 대전 장치를 이용한 전자 사진 장치에 있어서, 대전 부재로부터 감광체의 전도층으로 전류가 누출되는 원인이 되기 쉬우며, 이러한 전류 누출이 발생하면 곧 화상결함으로써 나타난다. (3)형성된 감광층은 윤활성이 떨어지고, 감광체의 반복적인 사용에 의해, 손상을 입기 쉬우며, 손상된 부분에 토너가 점착되어 클리닝 불량을 초래하는 피막형성(filming)현상을 발생시키며, 고형의 흑색 화상 위에 하얀 반점 형상의 결함이 발생하게 된다. 또한, 반복적인 사용에 의해 막이 깎이므로, 감광체 수명도 무기계 감광체에 비해 짧다.
상기 (1)의 결점에 대해, 유기 용제로서 염화메틸렌 등을 사용함으로써, 겔화되기까지의 시간을 연장시킬 수 있지만, 충분한 해결책이라고는 볼 수 없다. 또한, 예를 들면 일본 특허 공개 공보 제 1984-71057호, 일본 특허 공개 공보 제 1985-172044호에는, 비스페놀 Z형 폴리카보네이트 수지를 사용함으로써 (1)의 결점을 해결하는 방법이 개시되어 있다. 그러나, 비스페놀 Z형 폴리카보네이트 수지는, (2)의 결점에 대해서는, 그다지 효과가 없으므로, 이러한 결점을 해결하기 위해, 예를 들어 일본 특허 공개 공보 제 1986-62040호에는, 비스페놀 A형 폴리카보네이트 수지와 비스페놀 Z형 폴리카보네이트 수지를 혼합하는 것이 개시되어 있고, 일본 특허 공개 공보 제 1986-105550호에는, 비스페놀 A형 구조와 비스페놀 Z형 구조의 공중합체를 이용하는 것이 개시되어 있다. 그러나, 어떠한 방법도 (2)의 결점에 대해서는, 충분한 해결책이 되지 못하는 것이 현실정이다. (3)의 결점에 대해서는, 예를 들어 일본 특허 공개 공보 제 1982-212453호에는 윤활성을 향상시킬 목적으로, 실리콘 오일을 첨가하는 방법이 개시되어 있으며, 일본 특허 공개 공보제 1988-65444호에는 트리플루오로메틸기를 가진 변성 폴리카보네이트를 사용하는 방법이 개시되어 있다. 그러나, 실리콘 오일을 첨가하는 방법은, 실리콘 오일이 감광체의 표면 근방에만 존재하기 때문에, 반복적으로 사용되어 막이 깎이면 윤활성이 떨어지고, 효과를 지속시킬 수 없다는 결점을 가진다. 또한, 트리플루오로메틸기를 가지는 변성 폴리카보네이트를 사용하는 방법을 이용하면, 윤활성의 향상은 찾아 볼 수 있지만, 아직 효과는 충분하지 않고, 겔화되는 문제도 해결되지 않는다.
또한, 감광층의 보호와 기계적 강도 및 표면 윤활성의 향상 등을 목적으로 하여, 감광층상에 표면보호층을 형성하는 방법이 제안되었다. 그러나, 이러한 표면보호층에도 상기 감광층과 동일한 결점이 발생한다.
일본 특허 공개 공보 제 1993-158271호에는 기계적 마모성 및 클리닝성을 개선하기 위하여, 표면보호층의 도액에 에폭시 변성 플루오로알킬화합물과 활성수소함유결착제를 함유시키고, 도포후 건조시에 반응경화시키는 방법이 기재되어 있다. 그러나, 상기 방법은 반응경화의 조건을 최적화하지 않으면, 미반응물인 에폭시 변성플루오로알킬화합물이 감광체내에 잔존하여, 감광체 전기특성의 악화를 초래하기 때문에, 감광체의 제조 및 관리가 용이하지 않다는 결점을 가진다.
그런데, 현재 일반적으로, 이들 전자 사진용 감광체는 (Ⅰ)표면에 대한 동일 전하의 부여(대전), (Ⅱ)그에 대한 빛투사(노광), (Ⅲ)대전과 노광에 의해 형성된 정전잠상(靜電潛像)에 착색분말(토너)을 부착함으로써 가시화(현상), (Ⅳ) 종이 등과 같은 최종기록매체에 대한 토너상(像)의 이전(전사;轉寫), (Ⅴ)전사토너상의 기록매체에 대한 융착(정착)과 같은 전자 사진 프로세스를 이용한 복사기, 프린터, 팩시밀리 등에 사용되고 있다.
여기서, (Ⅰ)의 대전 공정에서는 비접촉방식의 하나인 코로트론이나 스코로트론과 같은 코로나 방전에 의한 대전이 종래부터 많이 이용되어 왔지만, 최근들어서는, 고전압을 필요로 하지 않고, 오존 발생량이 적다는 장점으로 인해, 롤러나 브러시에 의한 접촉대전도 실용화되고 있다. 그러나, 접촉대전은 상기한 전류누출을 발생시키기 쉽고, 브러쉬 등에 의한 대전은, 감광체 표면에 손상을 입히기 쉬으므로 감광체의 수명이 단축된다.
(Ⅲ)의 현상 공정에서는, 절연성 액체내에 직경이 짧은 토너입자를 분산시킨 현상액을 사용하는 액체 현상법이나 건식 토너를 이용한 현상법 등이 이용되고 있다. 건식토너를 이용한 현상법에는 토너와 캐리어로 이루어진 현상제를 이용하는 2성분 현상법과 토너만으로 이루어진 현상제를 이용하는 1성분 현상법이 있으며, 각각 토너층과 감광체를 접촉 및 비접촉 방식을 통해 이용하는 방법이 쓰이고 있다. 이중, 자기 브러쉬를 이용하고, 자성토너와 절연성 캐리어를 이용한 2성분 접촉 현상법이나, 자성토너만을 이용한 1성분 접촉 현상법이 주류를 이루고 있으나, 근년들어, 비자성 토너를 이용한 1성분 접촉 현상법이나, 1성분 자성 토너를 이용하고 AC 바이어스를 인가한 점핑(jumping)현상법이라 불리우는 현상법도 주류를 이루는 추세이다. 또한, 최근에는, 현상시에, 클리닝을 동시에 실시하고, 클리닝 브레이드 등의 클리너시스템이 구비되지 않은 프린터도 제품화되고 있는데 여기에는, 직경이 짧고 구(球)형태인 중합토너가 이용되고 있다. 일반적으로 액체현상용 토너나 중합토너 등과 같은 입자직경이 짧은 토너는, 고해상도화가 기대되지만, 표면적이 커지기 때문에, 감광체와의 부착력이 증가하여, 피막이 형성되기 쉬워지거나, (Ⅳ)의 전사 공정에서, 종이 등의 기록매체에 토너가 완전히 전이되지 않을 뿐 아니라, 이후에 실시되는 클리닝 공정에 있어서도 토너가 감광체 상에 잔존하여, 화상결함으로서 나타나는 경우가 있다. 또한, 낮은 전사효율은 토너소비량이나 폐(廢) 토너가 증가하는 원인도 되어 환경문제로서도 대두되고 있기 때문에, 토너 분리가 쉬운 감광체가 요망되고 있다.
본 발명의 목적은 전도성 기판상에 감광층을 가지는 전자 사진용 감광체에 있어서, 상기 결점을 제거하고, 윤활성이 우수하며, 막이 잘 깎이지 않고, 손상을 잘 입지 않으며, 피막 형성등에 의한 화상결함을 방지하고, 토너분리가 양호한 고내구성의 전자 사진용 감광체를 제공할 수 있는 신규 폴리카보네이트 수지 및 이를 이용한 전자 사진용 감광체를 제공하고, 특히, 접촉 대전 공정, 비자성 1성분토너나 중합 토너를 이용한 현상 공정, 점핑 현상 공정, 액체 현상 공정에 적합한 전자 사진용 감광체를 제공하는 데 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 전자 사진 감광체용 도공액의 안정성을 향상시키고, 전자 사진용 감광체의 생산성을 향상시키는 데 있다.
도 1(a)∼도 1(e)는 전자 사진용 감광체의 모식적인 단면도로서, 도 1(a) 및 도 1(b)는 음으로 대전된 기능분리형 감광체의 구성을 나타내고, 도 1(c)는 양으로 대전된 기능분리형 감광체의 구성을 나타내며, 도1(d) 및 도 1(e)는 양으로 대전된 단층형 감광체의 구성을 각각 나타낸다.
도 2는 본 발명의 실시예에 이용된 티타닐프탈로시아닌의 X선 회절 스펙트럼을 나타낸 도면이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
1 : 전도성 기판 2 : 하부피복층
3 : 전하발생층 4 : 전하수송층
5 : 표면보호층 6 : 감광층
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 주도 면밀히 검토한 결과, 신규 폴리카보네이트수지로서 하기 화학식(1a) 또는(1b)으로 나타내어진 구조단위를 가지는 폴리카보네이트수지(여기서, 폴리카보네이트란, 주쇄내에 -O-C0-0-를 가지는 고분자로서, 다른 구조를 가지는 고분자와의 공중합체도 포함하고, 고분자의 말단기는 특정되지 않으며, 수산기나 t-부틸기 등 각종의 기를 가질 수 있다)를 전자 사진용 감광체의 감광층 혹은 표면보호층에 사용함으로써 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다:
상기 식에서,
A는 불소원자 또는 불소원자로 치환된 알킬기를 나타내며,
R1∼R7은 수소원자 또는 불소원자를 나타내고, 각각 동일하거나 상이할 수 있다.
또한, 상기 일본 특허 공개 공보 제 1993-158271호에 기재된 표면보호층의 도액은 에폭시기와 활성수소의 반응물로서 본 발명의 에폭시기와 카보네이트기의 반응물인 폴리카보네이트 수지와는 다르며, 주쇄(主鎖)내에 불소함유기를 가지는 본 발명에 비해 그 효과는 낮은 것이다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 신규 폴리카보네이트수지는,
(1)주쇄에, 하기 화학식(1a) 또는(1b)로 나타낸 구성단위를 1종 또는 2종 이상 가지는 것을 특징으로 한다:
상기 식에서,
A는 불소원자 또는 불소원자로 치환된 알킬기를 나타내며,
R1∼R7은 수소원자 또는 불소원자를 나타낸다.
여기서, 상기 불소로 치환된 알킬기의 탄소수는, 바람직하게는 3∼10이다.
또한, 본 발명의 전자 사진용 감광체는 전도성 기판상에 감광층을 가지는 전자 사진용 감광체에 있어서, 상기 감광층내에 상기 폴리카보네이트수지를 가지는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 전자 사진용 감광체는 전도성 기판상에 감광층과 표면보호층을 가지는 전자 사진용 감광체에 있어서, 상기 표면보호층내에 상기 폴리카보네이트수지를 함유하는 것을 특징으로 한다.
상기 감광층 또는 상기 표면보호층내에는 하기 화학식(2)의 구성단위를 1종 또는 2종 이상 가지는 공중합체를 함유할 수 있다.
상기 식에서,
X는, 단결합, -O-, -S-, -CO-, -SO-, -SO2-, -CR16R17-, -SiR16R17-, -SiR16R17-O-(R16,R17은, 각각 수소원자, 할로겐원자, 탄소수 1 내지 8의 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 트리플루오로메틸기, 또는 폴리실록산기), 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 5의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 8의 알킬리덴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 10의 시클로알킬리덴기, 치환 또는 비치환된 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 방향족 복소환기, 또는, 이들을 복수 결합시킨 2가(價)의 기를 나타내고,
R8∼R15는 각각 수소원자, 할로겐원자, 탄소수 1 내지 8의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕실기, 탄소수 5 내지 10의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 또는 폴리실록산기를 나타낸다.
특히 상기 감광층 또는 상기 표면보호층내에 적어도 하기 화학식(3)으로 나타낸 구성단위와 하기 화학식(4)으로 나타낸 구조단위를 가지는 공중합체, 하기 화학식(5)으로 나타낸 비스페놀 A형 폴리카보네이트수지, 하기 화학식(6)으로 나타낸 비스페놀 Z형 폴리카보네이트 수지, 하기 화학식(7)으로 나타낸 폴리카보네이트 수지 및 /또는 하기 화학식(8)으로 나타낸 폴리카보네이트 수지를 함유할 수 있다:
본 발명에 따르면, 상기 감광층은 전하발생층 상에 전하수송층을 적층한 구조에 알맞게 적용될 수 있다.
상기 화학식(1a) 또는 (1b)의 구조단위를 가지는 폴리카보네이트수지는, 공지된 방법, 예를 들면, 문헌(참조: Journal of Applied Polymer Science, Vol. 56, 1-8(1995))에 기재된 방법을 이용하여 합성할 수 있다. 즉, 폴리카보네이트 화합물과 에폭시드를 4차 암모늄염, 3차 아민, 금속알콕시드 등의 촉매가 존재하는 상태하에서 반응시킴으로써 합성할 수 있다. 이러한 반응을 모식적으로 나타내면, 하기 반응식으로 나타낼 수 있다:
폴리카보네이트내의 카보네이트기와 에폭시기가 반응함으로써, 폴리카보네이트내에 상기 화학식(1a) 또는 (1b)로 나타내어지는 골격을 도입할 수 있다. 본 발명의 폴리카보네이트수지를 합성하기 위한 원료가 되는 에폭시드로는 예를 들면, 하기 화학식(1-1)∼(1-12)으로 나타내는 화합물을 이용할 수 있다. 또한, 본 발명의 폴리카보네이트수지를 합성하기 위해 원료가 되는 폴리카보네이트수지로는 가령, 비스페놀 A형, 비스페놀 Z형 폴리카보네이트 이외에, 하기 화학식(2-1)∼(2-82)으로 나타낸 구성단위를 1종 또는 2종 이상 가지는 폴리카보네이트수지를 이용할 수 있다. 단, 본 발명은 예시한 내용에 한정되는 것은 아니다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해, 도면을 참조하면서 설명한다.
도 1은, 각각 본 발명에 따른 감광체의 일실시예를 나타내는 개념적 단면도로서, 도면부호 1은 전도성 기판, 2는 하부피복층, 3은 전하 발생층, 4는 전하수송층, 5는 표면보호층, 6은 감광층을 나타낸다. 감광층(6)은, 전하발생층(3)과 전하수송층(4)으로 분리된 기능분리형과, 전하발생물질과 전하수송물질을 함유하는 단층형으로 대별된다. 도 1(a) 및 (b)의 감광층(6)은 전하발생층(3), 전하수송층(4)의 순으로 적층된 음으로 대전된 타입이고, 도1(c)의 감광층(6)은 도 1과 반대로 전하수송층(4), 전하발생층(3)의 순으로 적층된 양으로 대전된 타입이며, 도 1(d) 및 (e)의 감광층(6)은, 단층형으로서 주로 양으로 대전된 타입이다.
전도성 기판(1)은, 감광체의 전극으로서 기능하는 동시에 각각의 층에 대한 지지체가 되고, 원통 형상, 판형상, 필름 형상 중 어느 것이라도 좋으며, 재질적으로는 알루미늄, 스테인레스강, 니켈 등의 금속이나 혹은 유리, 수지 등의 위에 전도처리를 실시한 것이어도 좋다.
하부 피복층(2)은 수지를 주성분으로 하는 층이나 알마이트와 같은 산화피막 등으로 이루어지며, 전도성 기판으로부터 감광층에 불필요한 전하가 주입되는 것을 방지하고, 기판표면의 결함을 피복하며, 감광층의 접착성을 향상시킬 목적으로 필요에 따라 설치된다. 수지결착제로서 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스틸렌, 아크릴수지, 염화비닐수지, 비닐 아세테이트수지, 폴리우레탄수지, 에폭시수지, 폴리에스테르수지, 멜라민수지, 실리콘수지, 폴리부티럴수지, 폴리아미드수지 및 이들의 공중합체 등을 적절히 조합하여 사용할 수 있다. 또한 수지결착제 내에 금속산화물미립자 등을 함유하여도 좋다. 금속산화물미립자로서는, SiO2, TiO2, In2O3, ZrO2등을 이용할 수 있다.
하부피복층(2)의 막두께는 하부피복층(2)의 배합조성에도 의존하지만, 반복적인 연속사용시에 잔류전위가 증대하는 등의 악영향이 미치지 않는 범위내에서 임의로 설정할 수 있다.
전하발생층(3)은 유기광전도성물질을 진공증착하거나 또는 유기광전도성물질의 입자를 수지결착제내에 분산시킨 재료를 도포하여 형성되고, 빛을 수용하여 전하를 발생한다. 또한, 전하발생의 효율과 발생된 전하의 전하수송층(4)에 대한 주입성이 중요하므로, 전장의존성이 적고 저전장에서도 주입이 양호한 것이 바람직하다.
전하발생층(3)은 전하발생기능을 가지는 것이 바람직하므로, 그 막두께는 전하발생물질의 광흡수계수에 의해 결정되고 일반적으로는 5μm 이하이며, 바람직하게는 1μm이하이다. 전하발생층(3)은 전하발생물질을 주체로 하며 이에 전하수송물질 등을 첨가하여 사용할 수도 있다. 전하발생물질로서, 프탈로시아닌계 안료, 아조안료, 안토안트론안료, 페릴렌안료, 페리논안료, 스크아리리움안료, 티아필리리움안료, 퀴나클리돈안료 등을 이용할 수 있고, 또한 이들 안료를 조합하여 이용할 수도 있다. 특히 프탈로시아닌계 안료로서는, 무금속프탈로시아닌, 동프탈로시아닌, 티타닐프탈로시아닌이 바람직하고, 또한, X형 무금속 프탈로시아닌, τ형 무금속 프탈로시아닌, ε형 동 프탈로시아닌, β형 티타닐프탈로시아닌, Y형 티타닐 프탈로시아닌, 일본 특허 출원 공보 제 1994-289363호에 기재된 CuKα: X선 회절스펙트럼에서 블록각(2θ)이 9.6°를 최대피크로 하는 티타닐프탈로시아닌이 바람직하다.
전하발생층(3)으로 이용되는 수지결착제로서는, 본 발명의 폴리카보네이트수지, 및 그 밖의 폴리카보네이트수지, 폴리에스테르수지, 폴리아미드수지, 폴리우레탄수지, 에폭시수지, 폴리부티럴수지, 염비계공중합체, 페녹시수지, 실리콘수지, 메타크릴산에스테르수지 및 이들의 공중합체 등을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.
전하수송층(4)은 수지결착제내에 전하수송물질을 분산시킨 재료로 이루어진 도막으로서, 어두운 곳에서는 절연체층으로서 감광체의 전하를 유지시키고, 빛을 수용할 때는 전하발생층으로부터 주입된 전하를 수송하는 기능을 발휘한다.
전하수송물질로는 히드라존화합물, 필라졸린화합물, 필라졸론화합물, 옥사디아졸화합물, 옥사졸화합물, 아릴아민화합물, 벤디딘화합물, 스틸벤화합물, 스티릴화합물이나 폴리비닐칼바졸 등의 전하수송성 폴리머 등을 이용할 수 있다. 특히, 하기 화학식(3-1)∼(3-11)과 같은 구조의 화합물이 바람직하다:
전하수송층(4)으로 이용되는 수지결착제로서는 본 발명의 폴리카보네이트수지 및 기타 폴리카보네이트수지, 폴리에스테르수지, 폴리스틸렌수지, 메타크릴산 에스테르의 중합체 및 공중합체 등을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.
전하수송층(4)의 막두께는 실용적으로 유효한 표면전위를 유지하기 위해 3∼50μm의 범위가 바람직하며, 10∼40μm이 보다 바람직하다.
단층형 감광층의 경우에는 수지결착제내에 전하발생물질과 전하수송물질을 분산시킨 재료로 이루어진 도막이며, 상기 전하발생층(3) 및 전하수송층(4)으로 이용되는 재료를 마찬가지로 이용할 수 있다. 막두께는 실용적으로 유효한 표면전위를 유지하기 위해 3∼50μm의 범위가 바람직하며, 10∼40μm이 보다 바람직하다.
이들 감광층(6)내에는 감도를 향상시키거나 잔류전위를 감소시키고, 혹은 반복적으로 사용할 때 특성 변동을 저감시킬 목적으로, 필요에 따라 전자 수용물질을 함유할 수 있다. 전자수용물질로는 무수숙신산, 무수말레인산, 디블롬무수숙신산, 무수프탈산, 3-니트로무수프탈산, 4-니트로무수프탈산, 무수필로메리트산, 필로메리트산, 트리메리트산, 무수트리메리트산, 프탈이미드, 4-니트로프탈이미드, 테트라시아노에틸렌, 테트라시아노시노디메탄, 클로라닐, 블로마닐, o-니트로안식(安息)향산 등과 같이 전자 친화력이 우수한 화합물을 들 수 있다.
또한, 감광층(6)내에는 내환경성이나 유해한 빛에 대한 안정성을 향상시킬 목적으로, 산화방지제나 광안정제 등의 열화방지제를 함유시킬 수도 있다. 이와 같은 목적으로 이용되는 화합물로는, 토코페롤 등의 클로마놀유도체 및 에테르화화합물, 에스테르화화합물, 폴리아릴알칸화합물, 하이드로퀴논유도체, 에테르화화합물, 디에테르화화합물, 벤조페논유도체, 벤조트리아졸유도체, 티오에테르화합물, 페닐렌디아민 유도체, 호스혼산에스테르, 아린산에스테르, 페놀화합물, 힌다드페놀화합물, 직쇄(直鎖)아민화합물, 환형상 아민화합물, 힌다드아민화합물 등을 들 수 있다.
또한, 감광층(6)내에는 형성막의 레벨링(leveling)성의 향상이나 윤활성의 부여를 목적으로 하여, 실리콘오일이나 불소계 오일등의 레벨링제를 함유시킬 수도 있다.
표면보호층(5)은 필요에 따라 설치할 수 있고, 도 1(b),(c) 및 (e)에 도시된 형태로 설계할 수 있다. 표면보호층(5)은 윤활성이 우수하고, 기계적 스트레스에 대한 내구성이 뛰어나며, 화학적으로 안정된 물질로 구성되며, 어두운 곳에서는 코로나 방전의 전하를 수용하여 유지하도록 기능하고, 전하발생층(3)이 감응하는 빛을 투과하는 성능을 가지며, 노광시에 빛을 투과하여 전하발생층(3)에 도달시키며, 발생한 전하를 주입하여 표면전하를 중화소멸시키는 작업이 필요하다. 또한, 사용되는 재료는 상기한 바와 같이, 전하발생물질의 빛흡수가 극대가 되는 파장영역에 있어서 가능한 한 투명한 것이 바람직하다.
표면보호층(5)의 재료로는 본 발명의 폴리카보네이트수지 외에, 변성 실리콘 수지로서, 아크릴 변성 실리콘 수지, 에폭시 변성 실리콘 수지, 알키드 변성실리콘 수지, 폴리에스테르 변성 실리콘 수지, 우레탄 변성 실리콘 수지 등이 있으며, 하드코트제로서 기능하는 실리콘 수지 등을 적용할 수 있다. 이들 수지는 단독으로 사용할 수도 있지만, 내구성을 향상시키기 위해 SiO2, TiO2, In2O3,ZrO2이 주성분이 되는 피막을 형성할 수 있도록 금속알콕시화합물을 축합물과 혼합시킨혼합재료가 보다 바람직하다. 또한, 표면보호층(5)의 레벨링성 향상 및 윤활성의 부여를 위해, 실리콘 오일이나 불소계 오일 등의 레벨링제를 함유하여도 좋다.
표면보호층(5)의 막두께는, 반복적인 연속사용시에 잔류전위가 증대되는 등의 악영향이 발생하지 않는 범위내에서 임의로 설정할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예에 근거하여 설명한다.
우선, 본 발명의 폴리카보네이트수지의 합성예(합성예 1 ∼7)에 대하여 설명한다.
합성예 1
상기 (2-5) 구성단위를 가지는 비스페놀 A형 폴리카보네이트 화합물(상품명: 판라이트 K1300, 제인화성(주)제조)10g과, 상기 (1-7)의 3-(페르플루오로-7-메틸옥틸)1, 2-에폭시프로판(상품명:E-3830,다이킹화성(주)제조) 3g과, 테트라부틸암모니움요디드(TBAI)0.05g를 염화메틸렌 50g에 용해하고, 교반하였다. 그 후, 염화 메틸렌을 제거하여 얻어진 고체를 60℃에서 24시간동안 가열하였다. 이를 염화메틸렌200g에 용해하고, 메탄올 500g을 첨가하여 다시 침전시키고 여과한 후 건조시켰다. 이로써, 하기 화학식(4-1a)과(4-1b)의 구성단위로 이루어진 폴리카보네이트수지(4-1)를 11.2g얻었다:
합성예 2
원료 폴리카보네이트화합물로서, 합성예 1의(판라이트K1300)대신에 상기 (2-37)의 구성단위를 가지는 비스페놀 Z형 폴리카보네이트화합물(상품명:판라이트 TS2050, 제인화성(주)제조)을 이용한 이외에는, 합성예 1 와 동일하게 합성하고, 하기 화학식(4-2a)과 (4-2b)의 구성단위로 이루어진 폴리카보네이트수지(4-2)를 9.8g얻었다:
합성예 3
원료 폴리카보네이트화합물로서, 합성예 1의(판라이트K1300)대신에 상기 (2-1)의 구성단위와 상기(2-5)의 구성단위를 가지는 공중합체 폴리카보네이트(상품명:터프젯 BPPC-3, 출광흥산(주)제조)를 이용한 것 이외에는, 합성예 1 와 동일하게 합성하여, 하기 화학식(4-3a)과 (4-3b) 및 (4-3c)의 구성단위로 이루어진 폴리카보네이트수지(4-3)를 10.4g얻었다:
합성예 4
원료 에폭시드로서, 합성예 1의(E3830)을 0.5g, TBAI를 0.01g으로 한 것 이외에는, 합성예3와 동일하게 합성하여, 하기 화학식(4-4a)과 (4-4b) 및 (4-4c)의 구성단위로 이루어진 폴리카보네이트수지(4-4)를 9.3g얻었다:
합성예 5
원료 에폭시드로서, 합성예 1의(E3830)대신에 상기 (1-12)의 3-(1H, 1H, 9H-헥사디카플로론오닐옥시)-1, 2-에폭시프로판(상품명:E5844, 다이킹화성(주)제조)을 이용한 것 외에는, 합성예 1 와 동일하게 합성하여, 하기 화학식(4-5a)과 (4-5b)의 구성단위로 이루어진 폴리카보네이트수지(4-5)를 11.1g얻었다:
합성예 6
원료 에폭시드로서, 합성예 3의(E3830)대신에 상기 (1-12)의 3-(1H, 1H, 9H-헥사디카플루오론오닐옥시)-1, 2-에폭시프로판(상품명:E5844, 다이킹화성(주)제조)을 이용한 것 외에는, 합성예3와 동일하게 합성하여, 하기 화학식(4-6a)과 (4-6b) 및 (4-6c)의 구성단위로 이루어진 폴리카보네이트수지(4-6)를 9.8g얻었다:
합성예 7
원료 에폭시드로서, 합성예 3의(E3830)대신에 상기 (1-3)의 3-페르플루오로옥틸-1, 2-에폭시프로판(상품명:E1830, 다이킹화성(주)제조)을 이용한 것 외에는, 합성예3와 동일하게 합성하여, 하기 화학식(4-7a)과 (4-7b) 및 (4-7c)의 구성단위로 이루어진 폴리카보네이트수지(4-7)를 10.0g얻었다:
다음으로, 본 발명에 관련된 전자 사진용 감광체의 실시예에 대하여 설명한다. 또한, 이하에서 「부」란 「중량부」를 나타내는 것이다.
실시예 1
전기 특성을 평가하기 위해 드럼감광체(30mmψ)를 제조하였다. 알루미늄소관(素管)상에 이하와 같이 조성된 하부피복층 분산액을 침적도공하고, 100℃에서 30분간 건조시켜 막두께 3μm의 하부피복층을 형성하였다.
알콜가용성 나일론(CM8000:도오레(주)) 5부
아미노시란처리된 산화티탄미립자 5부
메탄올, 염화메틸렌 혼합용제(6/4(v/v)) 90부
이어서, 이하와 같이 조성된 전하발생층분산액을 침적도공하고, 100℃에서 30분간 건조시켜 막두께 0.3μm의 전하발생층을 형성하였다.
티타닐프탈로시아닌(특허출원1994-289363호공보 제조실시예 1)
1부
염화비닐계 공중합체수지(MR-110:일본제온(주)) 1부
연화메틸렌 98부
또한, 본 실시예에서 이용한 상기 티탄일 프탈로시아닌의 X선 회절 스펙트럼을 도 2에 나타낸다.
다음으로, 이하와 같이 조성된 전하수송층 용액을 침적도공하고, 100℃에서 30분간 건조시켜 막두께 20μm의 전하수송층을 형성하였다.
히드라존화합물(상기 (3-4) CTC191:아난향료(주)) 9부
부타디엔화합물(상기(3-1) T405:아난향료(주)) 1부
폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1)) 10부
염화메틸렌 90부
이상과 같은 과정을 통해 전자 사진용 감광체를 제조하였다.
실시예 2
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 폴리카보네이트수지(합성예2(4-2))10부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
실시예 3
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 폴리카보네이트수지(합성예3(4-3))10부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
실시예 4
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 폴리카보네이트수지(합성예4(4-4))10부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
실시예 5
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 폴리카보네이트수지(합성예6(4-6))10부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
실시예 6
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 폴리카보네이트수지(합성예7(4-7))10부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
실시예 7
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))7부와 비스페놀 Z형 폴리카보네이트수지(상품명:판라이트TS2050, 제인화성(주)제조)3부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
실시예 8
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 폴리카보네이트수지(합성예5(4-5))7부와 비스페놀 Z형 폴리카보네이트수지(상품명:판라이트TS2050, 제인화성(주)제조)3부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
실시예 9
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 비스페놀 A형 폴리카보네이트수지(상품명:판라이트K1300, 제인화성(주)제조)7부와 폴리카보네이트수지(합성예2(4-2))3부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
실시예 10
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 폴리카보네이트수지(합성예3(4-3))7부와 비스페놀 Z형 폴리카보네이트수지(상품명:판라이트TS2050, 제인화성(주)제조)3부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
실시예 11
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 공중합 폴리카보네이트수지(상품명:터프젯 BPPC-3, 출광흥산(주)제조)7부와 폴리카보네이트수지(합성예2(4-2))3부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
실시예 12
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 폴리카보네이트수지(합성예6(4-6))7부와 폴리카보네이트수지(합성예2(4-2))3부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
실시예 13
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 폴리카보네이트수지(합성예6(4-6))7부와 폴리카보네이트수지(상품명:APEC HT KUI-9371, 바이엘(주)제조)3부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
비교예 1
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 비스페놀 A형 폴리카보네이트수지(상품명:판라이트K1300, 제인화성(주)제조)10부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
비교예 2
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 비스페놀 Z형 폴리카보네이트수지(상품명:판라이트 TS2050, 제인화성(주)제조)10부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
비교예 3
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 공중합체 폴리카보네이트수지(상품명:터프젯 BPPC-3, 출광흥산(주)제조)10부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
비교예 4
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 비스페놀 A형 폴리카보네이트수지(상품명:판라이트K1300, 제인화성(주)제조)7부와 비스페놀 Z형 폴리카보네이트수지(상품명:판라이트TS2050, 제인화성(주)제조)3부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
비교예 5
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 공중합체 폴리카보네이트수지(상품명:터프젯 BPPC-3, 출광흥산(주)제조)7부와 비스페놀 Z형 폴리카보네이트수지(상품명:판라이트TS2050, 제인화성(주)제조)3부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
비교예 6
실시예 1에서 사용한 폴리카보네이트수지(합성예 1 (4-1))10부 대신에, 공중합체 폴리카보네이트수지(상품명:터프젯 BPPC-3, 출광흥산(주)제조)7부와 폴리카보네이트수지(상품명:APEC HT KUI-9371, 바이엘(주)제조)3부를 이용한 것 이외에는 실시예 1와 동일하게 감광체를 제조하였다.
실시예 14
비교예2와 동일하게 제조한 감광체상에, 이하의 조성을 가지는 표면보호층 용액을 침적도공하고, 120℃에서 60분간 건조하여 막두께가 4μm인 표면보호층을 형성하였다.
폴리카보네이트 수지(합성예 3(4-3)) 2부
THF 98부
이상과 같은 과정을 통해 감광체를 제조하였다.
또한, 감광체 제조에 사용한 전하수송층용액(CTL액)을, 어두운 곳에서, 온도 20℃, 습도 50%인 환경하에서 1개월간 방치하고, 전하수송층 용액의 겔화유무를 확인하였다.
다음으로, 얻어진 감광체의 내구성을 이하와 같은 과정을 통해 평가하였다.
즉, 감광체를 휴렛패커드사 제조의 레이저프린터(Laser Jet 4 plus)에 장착하고, 인자율(印字率) 약 5%의 화상을 1만매 인쇄하고, 천매마다 전면이 흑색인 화상과 전면이 백색인 화상을 인쇄하였다. 평가항목은 다음과 같다.
①시각에 의한 화상 평가
②시각에 의한 감광체 표면 평가
③1만매 화상검출 이후 막균열양 평가
이들 평가결과를 하기의 표 1에 나타낸다.
시료 초기 화상 감광체상의피막형성 피막형성원인에 의한 화상결합 1만매 이후막이 깍인양 CTL 액 1개월후 겔화
실시예 1 양호 없음 없음 3.9 없음
실시예 2 양호 없음 없음 3.4 없음
실시예 3 양호 없음 없음 2.6 없음
실시예 4 양호 없음 없음 3.0 없음
실시예 5 양호 없음 없음 2.5 없음
실시예 6 양호 없음 없음 2.8 없음
비교예 1 양호 2천매에서 발생 4천매에서 발생 5.1 겔화
비교예 2 양호 6천매에서 발생 8천매에서 발생 4.5 없음
비교예 3 양호 4천매에서 발생 6천매에서 발생 3.2 없음
실시예 7 양호 없음 없음 3.6 없음
실시예 8 양호 없음 없음 3.2 없음
실시예 9 양호 없음 없음 4.0 없음
비교예 4 양호 3천매에서 발생 5천매에서 발생 4.3 없음
실시예 10 양호 없음 없음 2.5 없음
실시예 11 양호 없음 없음 2.5 없음
실시예 12 양호 없음 없음 2.2 없음
비교예 5 양호 7천매에서 발생 없음 2.9 없음
실시예 13 양호 없음 없음 1.8 없음
비교예 6 양호 7천매에서 발생 8천매에서 발생 2.7 없음
실시예 14 양호 없음 없음 1.5 없음
이상과 같이, 본 발명에 따르면, 윤활성이 우수하고, 균열이 잘 생기지 않고, 손상을 잘 입지 않으며, 피막형성(filming) 등에 의한 화상결함을 방지하고, 토너 분리성이 우수한 고내구성의 전자 사진용 감광체가 얻어지며, 전자 사진 방식을 이용한 프린터, 복사기, 팩시밀리 등에 유용하다. 또한, 전자 사진 감광체용 도공액의 안정성을 향상시킬 수 있다.

Claims (17)

  1. 주쇄에 하기 화학식(1a) 또는 (1b)의 구성단위를 1종 또는 2종 이상 가지는 것을 특징으로 하는 폴리카보네이트수지:
    상기 식에서,
    A는 불소원자 또는 불소원자로 치환된 알킬기를 나타내며,
    R1∼R7은 수소원자 또는 불소원자를 나타낸다.
  2. 전도성 기판상에 감광층을 가진 전자 사진용 감광체에 있어서, 상기 감광층내에 제 1항에 따른 폴리카보네이트수지를 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체.
  3. 전도성 기판상에 감광층과 표면보호층을 가진 전자 사진용 감광체에 있어서, 상기 표면보호층내에 제 1 항에 따른 폴리카보네이트수지를 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체.
  4. 제 2항에 있어서, 상기 감광층내에 하기의 화학식(2)의 구성단위를 1종 또는 2종이상 가지는 공중합체를 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체:
    상기 식에서,
    X는, 단결합, -O-, -S-, -CO-, -SO-, -SO2-, -CR16R17-, -SiR16R17-, -SiR16R17-O-(R16,R17은, 각각 수소원자, 할로겐원자, 탄소수 1 내지 8의 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 트리플루오로메틸기, 또는 폴리실록산기), 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 5의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 8의 알킬리덴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 10의 시클로알킬리덴기, 치환 또는 비치환된 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 방향족 복소환기, 또는, 이들을 복수 결합시킨 2가(價)의 기를 나타내고,
    R8∼R15는 각각 수소원자, 할로겐원자, 탄소수 1 내지 8의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕실기, 탄소수 5 내지 10의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 또는 폴리실록산기를 나타낸다.
  5. 제 3항에 있어서, 상기 표면보호층내에 하기 화학식(2)의 구성단위를 1종 또는 2종이상 가지는 공중합체를 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체:
    상기 식에서,
    X는, 단결합, -O-, -S-, -CO-, -SO-, -SO2-, -CR16R17-, -SiR16R17-, -SiR16R17-O-(R16,R17은, 각각 수소원자, 할로겐원자, 탄소수 1 내지 8의 알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 트리플루오로메틸기, 또는 폴리실록산기), 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 5의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 8의 알킬리덴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 5 내지 10의 시클로알킬리덴기, 치환 또는 비치환된 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 방향족 복소환기, 또는, 이들을 복수 결합시킨 2가(價)의 기를 나타내고,
    R8∼R15는 각각 수소원자, 할로겐원자, 탄소수 1 내지 8의 알킬기, 탄소수 1 내지 8의 알콕실기, 탄소수 5 내지 10의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 또는 폴리실록산기를 나타낸다.
  6. 제 4항에 있어서, 상기 감광층내에 적어도 하기 화학식(3)의 구성단위와 하기 화학식(4)의 구성단위를 가지는 공중합체를 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체:
  7. 제 5항에 있어서, 상기 표면보호층내에 적어도 하기 화학식(3)의 구성단위와 하기 화학식(4)의 구성단위를 가지는 공중합체를 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체:
  8. 제 4항에 있어서, 상기 감광층이 하기 화학식(5)의 비스페놀 A형 폴리카보네이트수지를 추가로 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체:
  9. 제 5항에 있어서, 상기 표면보호층이 하기 화학식(5)의 비스페놀 A형 폴리카보네이트수지를 추가로 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체:
  10. 제 4항에 있어서, 상기 감광층이 하기 화학식(6)의 비스페놀 Z형 폴리카보네이트수지를 추가로 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체:
  11. 제 5항에 있어서, 상기 표면보호층이 하기 화학식(6)의 비스페놀 Z형 폴리카보네이트수지를 추가로 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체:
  12. 제 4항에 있어서, 상기 감광층이 하기 화학식(7)의 폴리카보네이트수지를 추가로 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체:
  13. 제 5항에 있어서, 상기 표면보호층이 하기 화학식(7)의 폴리카보네이트수지를 추가로 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체:
  14. 제 4항에 있어서, 상기 감광층이 하기 화학식(8)의 폴리카보네이트수지를 추가로 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체:
  15. 제 5항에 있어서, 상기 표면보호층이 하기 화학식(8)의 폴리카보네이트수지를 추가로 함유함을 특징으로 하는 전자 사진용 감광체:
  16. 제 2항에 있어서, 상기 감광층이 전하발생층상에 전하수송층을 적층한 구조로 이루어진 전자 사진용 감광체.
  17. 제 3항에 있어서, 상기 감광층이 전하발생층상에 전하수송층을 적층한 구조로 이루어진 전자 사진용 감광체.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100371517B1 (ko) * 2000-07-31 2003-02-06 제일모직주식회사 내마모성이 우수한 전자사진용 유기 감광체 드럼의제조방법
KR100492168B1 (ko) * 2002-03-15 2005-06-03 삼성전자주식회사 전자사진용 유기감광체
KR100864020B1 (ko) * 2005-12-26 2008-10-16 후지제롯쿠스 가부시끼가이샤 전자 사진 감광체, 프로세스 카트리지 및 화상 형성 장치
KR101388348B1 (ko) * 2006-08-02 2014-04-22 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 폴리카보네이트 수지 및 그것을 사용한 전자사진 감광체

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6001523A (en) * 1998-10-29 1999-12-14 Lexmark International, Inc. Electrophotographic photoconductors
TW527363B (en) * 1999-09-08 2003-04-11 Shinetsu Chemical Co Polymers, chemical amplification resist compositions and patterning process
JP4317853B2 (ja) 2006-01-12 2009-08-19 シャープ株式会社 電子写真感光体、その製造方法およびそれを用いた画像形成装置
JP4283854B2 (ja) 2007-01-29 2009-06-24 シャープ株式会社 芳香族ポリカーボネート、電子写真感光体および画像形成装置
WO2011024732A1 (ja) * 2009-08-28 2011-03-03 旭硝子株式会社 ポリカーボネートの製造方法
JP5834496B2 (ja) 2010-05-31 2015-12-24 三菱化学株式会社 電子写真感光体及び画像形成装置
US20110311271A1 (en) * 2010-06-17 2011-12-22 Mitsubishi Chemical Corporation Electrophotographic photoreceptor, electrophotographic cartridge, and image-forming apparatus
JP5886825B2 (ja) * 2011-02-24 2016-03-16 出光興産株式会社 ポリカーボネート共重合体、それを用いた塗工液、電子写真感光体、およびポリカーボネート共重合体の製造方法
JP2013200417A (ja) * 2012-03-23 2013-10-03 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置
CN105633468B (zh) * 2015-02-13 2019-01-11 中国科学院青岛生物能源与过程研究所 一种固态钠电池电解质及其制备和应用
EP3441416A4 (en) 2016-04-08 2019-09-25 Sumitomo Seika Chemicals CO. LTD. ALIPHATIC POLYCARBONATE RESIN, SEPARATING MATERIAL, SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD, MANUFACTURING METHOD FOR CIRCUIT SUBSIDY AND CIRCUIT MANUFACTURING METHOD

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100371517B1 (ko) * 2000-07-31 2003-02-06 제일모직주식회사 내마모성이 우수한 전자사진용 유기 감광체 드럼의제조방법
KR100492168B1 (ko) * 2002-03-15 2005-06-03 삼성전자주식회사 전자사진용 유기감광체
KR100864020B1 (ko) * 2005-12-26 2008-10-16 후지제롯쿠스 가부시끼가이샤 전자 사진 감광체, 프로세스 카트리지 및 화상 형성 장치
KR101388348B1 (ko) * 2006-08-02 2014-04-22 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 폴리카보네이트 수지 및 그것을 사용한 전자사진 감광체

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Publication number Publication date
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