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KR102647586B1 - 적외선 차단 필터의 구조 - Google Patents

적외선 차단 필터의 구조 Download PDF

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KR102647586B1
KR102647586B1 KR1020210150306A KR20210150306A KR102647586B1 KR 102647586 B1 KR102647586 B1 KR 102647586B1 KR 1020210150306 A KR1020210150306 A KR 1020210150306A KR 20210150306 A KR20210150306 A KR 20210150306A KR 102647586 B1 KR102647586 B1 KR 102647586B1
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Abstract

본 발명은 유리 기판;과 상기 유리 기판의 상단면에 형성되며, 복수의 고굴절률 소재 및 복수의 저굴절률 소재가 서로 겹쳐져 형성되어 입사각이 0°및 30°이고, 900nm 내지 1100nm의 파장 범위 내에서의 광선에 대한 광학밀도가 OD3내지 OD7로 이루어지도록 구비된 제1다층막; 및 상기 유리 기판의 하단면에 형성되며, 복수의 고굴절률 소재 및 복수의 저굴절률 소재가 서로 겹쳐져 형성되어 700nm 내지 900nm의 파장 범위 내에서의 광선에 대한 광학밀도가 OD3 내지 OD6으로 이루어지도록 구비된 제2다층막;을 포함하여 구성된 적외선 차단 필터의 구조를 개시한다. 이러한 구성을 통하여 본 발명에 따른 적외선 차단 필터는, 700nm 내지 1100nm의 파장 범위 내에서의 광선의 투과율을 0.1%에서 0.00001%까지 도달시킬 수 있다.

Description

적외선 차단 필터의 구조{Structure of IR Cut Filer}
본 발명은 적외선 차단 필터의 구조와 관련된 기술분야에 관한 것으로, 보다 상세하게는 적외선을 효과적으로 차단할 수 있고 아울러 가시광선을 통하여 정상적인 색상을 띈 이미지를 생성할 수 있는 적외선 차단 필터의 구조에 관한 것이다.
현재, 첨단 스마트폰 기술이 발전함에 따라 휴대폰에 탑재되는 카메라 모듈에 대한 수요가 갈수록 높이지고 있으며, 카메라 모듈은 일반적으로 CCD(Charge-Coupled Device)형 또는 CMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)형 이미지 센서 앞에 적외선 차단 필터를 설치하여 적외선을 차단하고 가시광선을 통하여 정상적인 색상을 띈 이미지를 생성시킨다. 따라서, 적외선 차단 필터는 카메라 모듈에서 가장 중요한 핵심 부품으로 대두되고 있다. 또한, 휴대폰 화소가 갈수록 높아짐에 따라 적외선 차단 필터에 대한 더욱 엄격해진 요구사항이 제시되고 있는데, 특히, 이미지 생성을 위한 색상 환원성 및 노이즈가 없는 해상도에 대한 요구사항이 더욱 심화되고 있다. 한편, 사람의 육안으로 식별이 가능한 가시광선의 파장 범위는 320nm 내지 760nm이며, 320nm 내재 760nm의 파장 범위를 초과하는 빛의 파장은 사람의 육안으로는 관찰할 수 없으나, 카메라의 이미지 생성 유닛인 CCD 또는 CMOS는 대부분의 파장 및 그에 따른 광선을 포착할 수 있다. 다양한 광선의 참여로 인하여 카메라 모듈에 의해 환원된 색상과 육안으로 관찰할 수 있는 색상 간에는 초록색 식물이 회백색으로 변한다던가, 붉은색 그림이 연한 적색으로 변한다던가, 또는 검정색이 자두색으로 변하는 등과 같은 편차가 존재하게 된다. 상술한 내용과 같이, 우수한 적외선 차단 필터의 적외선 차단 기능을 이용해 이미지로 생성되는 색상을 원색에 최대한 가깝게 연출되도록 개선하는 것은 매우 중요한 과제가 아닐 수 없다.
종래의 적외선 차단 필터의 구조를 살펴보면, 대만 공개특허공보 제I557439호와 제I557440호에 따른 발명특허에 개시된 바와 같이, 그 구조적 설계에 따른 가장 우수한 효과는 파장 범위가 850nm 내지 1300nm인 광선(적외선)에 한하여 투과율이 1%보다 작되, 1%에 근접하도록 이루어져 있는데, 이러한 광선 투과율의 범위는 초기 광선 투과율에 대한 요구가 다소 높지 않았던 휴대폰에 탑재된 카메라 모듈에는 여전히 수용될 수 있으나, 휴대폰 화소가 갈수록 높아짐에 따라 현재 사용하고 있는 카메라 모듈에 의해 환원되는 색상과 육안으로 관찰할 수 있는 색상에 대해서는 상당히 큰 편차가 존재한다. 따라서, 종래의 적외선 차단 필터의 구조로 구현될 수 있는 적외선 차단 효과는 현재 첨단 휴대폰에 탑재된 카메라 모듈에 사용하기에는 다소 미흡한 점이 있다.
따라서, 본 발명자는 상기의 결점을 개선할 수 있다고 생각하여 예의 검토를 거듭한 결과, 합리적이며 효과적으로 문제를 개선할 수 있는 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
본 발명은 상술한 제반 문제점을 개선하기 위해 제안된 것으로, 그 주된 목적은 적외선을 효과적으로 차단할 수 있고 아울러 가시광선을 통하여 현재 고화소 휴대폰에 탑재된 카메라 모듈로 하여금 정상적인 색상을 띈 이미지를 환원시킬 수 있도록 함에 있다.
상술한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 유리 기판;과 상기 유리 기판의 상단면에 형성되며, 복수의 고굴절률 소재 및 복수의 저굴절률 소재가 서로 겹쳐져 형성되어 입사각이 0°및 30°이고, 900nm 내지 1100nm의 파장 범위 내에서의 광선에 대한 광학밀도(OD, Optical Density)가 OD3 내지 OD7로 이루어지도록 구비되는 제1다층막; 및 상기 유리 기판의 하단면에 형성되며, 복수의 고굴절률 소재 및 복수의 저굴절률 소재가 서로 겹쳐져 형성되어 700nm 내지 900nm의 파장 범위 내에서의 광선에 대한 광학밀도가 OD3 내지 OD6으로 이루어지도록 구비되는 제2다층막;을 포함하여 구성되는 적외선 차단 필터의 구조를 제공한다.
본 발명에 의해 제공되는 적외선 차단 필터의 구조는, 특수한 구조적 설계로 구성된 적외선 차단 필터로, 이는 700nm 내지 1100nm의 파장 범위 내에서의 광선(적외선)의 투과율을 0.1%에서 0.00001%까지 도달시킬 수 있기 때문에, 적외선을 효과적으로 차단할 수 있고 아울러 가시광선을 통하여 첨단 휴대폰에 탑재되는 카메라 모듈에 대한 니즈를 만족시킬 수 있는 정상적인 색상을 띈 이미지를 생성할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 구조를 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 제1다층막의 투과율 분광도이다.
도 3은 본 발명에 따른 제1다층막의 광학밀도 분광도이다.
도 4는 본 발명에 따른 제2다층막의 투과율 분광도이다.
도 5는 본 발명에 따른 제2다층막의 광학밀도 분광도이다.
도 6은 본 발명에 따른 유리 기판이 종래의 흰색 유리로 이루어진 경우의 투과율 분광도이다.
도 7은 본 발명에 따른 유리 기판이 종래의 흰색 유기로 이루어진 경우의 광학밀도 분광도이다.
도 8은 본 발명에 따른 푸른색 유리의 투과율 분광도이다.
도 9는 본 발명에 따른 유리 기판이 푸른색 유리로 이루어진 경우의 투과율 분광도이다.
도 10은 본 발명에 따른 유리 기판이 푸른색 유리로 이루어진 경우의 광학밀도 분광도이다.
도 11은 본 발명에 따른 푸른색 유사 유리의 투과율 분광도이다.
도 12는 본 발명에 따른 유리 기판이 푸른색 유사 유리로 이루어진 경우의 투과율 분광도이다.
도 13은 본 발명에 따른 유리 기판이 푸른색 유사 유리로 이루어진 경우의 광학밀도 분광도이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 한편, 본 발명은 이하에 설명하는 실시 형태에 한정되는 것은 아니다.
먼저, 도 1을 참조하면, 이는 본 발명에 따른 적외선 차단 필터의 구조를 나타낸 것으로, 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 적외선 차단 필터의 구조는 유리 기판(10), 제1다층막(20) 및 제2다층막(30)을 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 유리 기판(10)은 0.1mm 내지 1.1mm의 두께로 구성되며, 종래의 흰색 유리(제1실시 예), 푸른색 유리(제2실시 예) 또는 흰색 유리 위에 적외선 흡수를 위한 유기막층이 증착된 푸른색 유사 유리(제3실시 예)로 구성될 수 있다.
한편, 상기 제1다층막(20)은 진공증착(PVD, Physical Vapor Deposition) 방식에 의해 상기 유리 기판(10)의 상단면에 형성되며, 복수의 고굴절률 소재 및 복수의 저굴절률 소재가 서로 겹쳐져 형성되어 입사각이 0º 및 30º이고, 900nm 내지 1100nm의 파장 범위 내에서의 광선에 대한 상기 제1다층막(20)의 광학밀도가 OD3 내지 OD7(도 2 및 도 3 참조 바람)로 이루어지도록 구비된다. 상기 고굴절률 소재는 300nm 내지 1100nm의 파장 범위 내에서의 굴절률이 2 내지 3이며, 소광계수가 0에 근접한 Ti3O5, TiO2, Ta2O5, Nb2O5 등과 같은 산화물 중 어느 하나 또는 다수의 산화물로 구성된다. 그리고 상기 저굴절률 소재는 300nm 내지 1100nm의 파장 범위 내에서의 굴절률이 1.3 내지 2이며, 소광계수가 0에 근접한 SiO2, MgF2 등과 같은 산화물 중 어느 하나 또는 다수의 산화물로 구성된다. 바람직한 일 실시 예에서, 상기 제1다층막(20)의 구조는 아래에 제시된 표와 같다.
층의 수 소재 막의 두께(nm) 층의 수 소재 막의 두께(nm) 층의 수 소재 막의 두께(nm)
1 Nb2O5 12.74 21 Nb2O5 82.61 41 Nb2O5 109.11
2 SiO2 32.84 22 SiO2 18.84 42 SiO2 173.39
3 Nb2O5 96.19 23 Nb2O5 6.12 43 Nb2O5 106.95
4 SiO2 10.31 24 SiO2 141.84 44 SiO2 176.5
5 Nb2O5 8.45 25 Nb2O5 111.58 45 Nb2O5 110.69
6 SiO2 157.12 26 SiO2 186.03 46 SiO2 175.54
7 Nb2O5 106.84 27 Nb2O5 114.89 47 Nb2O5 105.87
8 SiO2 183.37 28 SiO2 181.17 48 SiO2 171.34
9 Nb2O5 117.73 29 Nb2O5 107.64 49 Nb2O5 108.56
10 SiO2 178.49 30 SiO2 171.21 50 SiO2 179.16
11 Nb2O5 81.65 31 Nb2O5 106.24 51 Nb2O5 106.29
12 SiO2 25.72 32 SiO2 177.15 52 SiO2 161.47
13 Nb2O5 13.97 33 Nb2O5 111.76 53 Nb2O5 10.28
14 SiO2 94.61 34 SiO2 178.75 54 SiO2 6.92
15 Nb2O5 107.3 35 Nb2O5 107.76 55 Nb2O5 78.32
16 SiO2 94.61 36 SiO2 172.17 56 SiO2 79.6
17 Nb2O5 17.27 37 Nb2O5 106.86
18 SiO2 27.71 38 SiO2 177.85
19 Nb2O5 65.51 39 Nb2O5 111.19
20 SiO2 166.98 40 SiO2 179.91
한편, 상기 제2다층막(30)은 진공증착(PVD) 방식에 의해 상기 유리 기판(10)의 하단면에 형성되며, 복수의 고굴절률 소재 및 복수의 저굴절률 소재가 서로 겹쳐져 형성되어 700nm 내지 900nm의 파장 범위 내에서의 광선에 대한 상기 제2다층막(30)의 광학밀도가 OD3 내지 OD6(도 4 및 도 5 참조 바람)로 이루어지도록 구비된다. 상기 고굴절률 소재는 300nm 내지 1100nm의 파장 범위 내에서의 굴절률이 2내지 3이며, 소광계수가 0에 근접한 Ti3O5, TiO2, Ta2O5, Nb2O5 등과 같은 산화물 중 어느 하나 또는 다수의 산화물로 구성된다. 그리고 상기 저굴절률 소재는 300nm 내지 1100nm의 파장 범위 내에서의 굴절률이 1.3 내지 2이며, 소광계수가 0에 근접한 SiO2, MgF2 등과 같은 산화물 중 어느 하나 또는 다수의 산화물로 구성된다. 바람직한 일 실시 예에서, 상기 제2다층막(30)의 구조는 아래에 제시된 표와 같다.
층의 수 소재 막의 두께(nm) 층의 수 소재 막의 두께(nm) 층의 수 소재 막의 두께(nm)
1 Nb2O5 8.55 21 Nb2O5 81.1 41 Nb2O5 93.4
2 SiO2 33.83 22 SiO2 136.71 42 SiO2 169.43
3 Nb2O5 96.95 23 Nb2O5 81.4 43 Nb2O5 20.65
4 SiO2 150.53 24 SiO2 136.9 44 SiO2 8.12
5 Nb2O5 85.43 25 Nb2O5 81.91 45 Nb2O5 87.28
6 SiO2 140.59 26 SiO2 137.52 46 SiO2 22.4
7 Nb2O5 83.01 27 Nb2O5 83.45 47 Nb2O5 5.77
8 SiO2 138.23 28 SiO2 140.24 48 SiO2 142.34
9 Nb2O5 82.05 29 Nb2O5 91.16 49 Nb2O5 94.13
10 SiO2 137.33 30 SiO2 143.89 50 SiO2 147.82
11 Nb2O5 81.52 31 Nb2O5 7.37 51 Nb2O5 92.71
12 SiO2 136.92 32 SiO2 22.5 52 SiO2 164.87
13 Nb2O5 81.13 33 Nb2O5 109.53 53 Nb2O5 105.22
14 SiO2 136.71 34 SiO2 17.04 54 SiO2 17.91
15 Nb2O5 80.86 35 Nb2O5 8.4 55 Nb2O5 3.43
16 SiO2 136.59 36 SiO2 150.36 56 SiO2 154.31
17 Nb2O5 80.79 37 Nb2O5 90.99 57 Nb2O5 99.34
18 SiO2 136.59 38 SiO2 143.06 58 SiO2 143.15
19 Nb2O5 80.88 39 Nb2O5 85.75 59 Nb2O5 7.18
20 SiO2 136.64 40 SiO2 144.98 60 SiO2 10.55
61 Nb2O5 77.66
62 SiO2 74.8
이와 같이 구성된 본 발명에 따른 적외선 차단 필터는, 700nm 내지 1100nm의 파장 범위 내에서의 광선(적외선)의 투과율을 0.1%에서 0.00001%까지 도달시킬 수 있기 때문에, 적외선을 효과적으로 차단할 수 있고 아울러 가시광선을 통하여 첨단 휴대폰에 탑재되는 카메라 모듈에 대한 니즈를 만족시킬 수 있는 정상적인 색상을 띈 이미지를 생성할 수 있다. 제1실시 예에서, 상기 유리 기판(10)은 종래의 흰색 유리로 이루어지며, 상기 유리 기판(10)의 상단면에 상기 제1다층막(20)이 형성되고, 상기 유리 기판(10)의 하단면에 상기 제2다층막(30)이 형성되는 경우, 이에 의해 구성된 적외선 차단 필터의 투과율 분광도는 도 6, 광학밀도 분광도는 도 7에 도시된 바와 같다.
한편, 제2실시 예에서, 상기 유리 기판(10)은 푸른색 유리로 이루어지며, 상기 유리 기판(10)의 상단면에 상기 제1다층막(20)이 형성되고, 상기 유리 기판(10)의 하단면에 상기 제2다층막(30)이 형성되는 경우, 상기 푸른색 유리는 소재 자체의 특성상 근적외선에 대한 흡수 효과가 있고 아울러 T50%이 대략 640nm±10nm의 위치에서의 0°및 30°에서 매우 작은 전위가 존재하며, 이에 따른 투과율 분광도는 도 8, 그리고 이에 의해 구성된 적외선 차단 필터의 투과율 분광도는 도 9, 광학밀도 분광도는 도 10에 도시된 바와 같다.
한편, 제3실시 예에서, 상기 유리 기판(10)은 푸른색 유사 유리로 이루어지며, 상기 유리 기판(10)의 상단면에 상기 제1다층막(20)이 형성되고, 상기 유리 기판(10)의 하단면에 상기 제2다층막(30)이 형성되는 경우, 상기 푸른색 유사 유리는 소재 자체의 특성상 근적외선 구간에 대한 흡수 효과가 있고 아울러 T50%이 대략 640nm±10nm의 위치에서의 0°및 30°에서 매우 작은 전위가 존재하며, 이에 따른 투광율 분광도는 도 11에 도시된 바와 같다. 그리고 이에 의해 구성된 적외선 차단 필터는 700nm 내지 1100nm의 파장 범위 내에서의 광선 차단율이 OD3 내지 OD6이고, T50% 전위량이 5nm보다 작으며, 이에 따른 투과율 분광도는 도 12, 광학밀도 분광도는 도 13에 도시된 바와 같다.
10: 유리 기판
20: 제1다층막
30: 제2다층막

Claims (9)

  1. 유리 기판;
    상기 유리 기판의 상단면에 형성되며, 복수의 고굴절률 소재 및 복수의 저굴절률 소재가 서로 겹쳐져 형성되어 입사각이 0°및 30°이고, 900nm 내지 1100nm의 파장 범위 내에서의 광선에 대한 광학밀도가 OD3 내지 OD7로 이루어지도록 구비되는 제1다층막; 및
    상기 유리 기판의 하단면에 형성되며, 복수의 고굴절률 소재 및 복수의 저굴절률 소재가 서로 겹쳐져 형성되어 700nm 내지 900nm의 파장 범위 내에서의 광선에 대한 광학밀도가 OD3 내지 OD6으로 이루어지도록 구비되는 제2다층막;
    을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하고;

    상기 제1다층막의 구조는 1층부터 56층을 포함하고, 상기 1층은 Nb2O5으로 막의 두께는 12.74nm, 상기 2층은 SiO2으로 막의 두께는 32.84nm, 상기 3층은 Nb2O5으로 막의 두께는 96.19nm, 상기 4층은 SiO2으로 막의 두께는 10.31nm, 상기 5층은 Nb2O5으로 막의 두께는 8.45nm, 상기 6층은 SiO2으로 막의 두께는 157.12nm, 상기 7층은 Nb2O5으로 막의 두께는 106.84nm, 상기 8층은 SiO2으로 막의 두께는 183.37nm, 상기 9층은 Nb2O5으로 막의 두께는 117.73nm, 상기 10층은 SiO2으로 막의 두께는 178.49nm, 상기 11층은 Nb2O5으로 막의 두께는 81.65nm, 상기 12층은 SiO2으로 막의 두께는 25.72nm, 상기 13층은 Nb2O5으로 막의 두께는 13.97nm, 상기 14층은 SiO2으로 막의 두께는 94.61nm, 상기 15층은 Nb2O5으로 막의 두께는 107.3nm, 상기 16층은 SiO2으로 막의 두께는 94.61nm, 상기 17층은 Nb2O5으로 막의 두께는 17.27nm, 상기 18층은 SiO2으로 막의 두께는 27.71nm, 상기 19층은 Nb2O5으로 막의 두께는 65.51nm, 상기 20층은 SiO2으로 막의 두께는 166.98nm, 상기 21층은 Nb2O5으로 막의 두께는 82.61nm, 상기 22층은 SiO2으로 막의 두께는 18.84nm, 상기 23층은 Nb2O5으로 막의 두께는 6.12nm, 상기 24층은 SiO2으로 막의 두께는 141.84nm, 상기 25층은 Nb2O5으로 막의 두께는 111.58nm, 상기 26층은 SiO2으로 막의 두께는 186.03nm, 상기 27층은 Nb2O5으로 막의 두께는 114.89nm, 상기 28층은 SiO2으로 막의 두께는 181.17nm, 상기 29층은 Nb2O5으로 막의 두께는 107.64nm, 상기 30층은 SiO2으로 막의 두께는 171.21nm, 상기 31층은 Nb2O5으로 막의 두께는 106.24nm, 상기 32층은 SiO2으로 막의 두께는 177.15nm, 상기 33층은 Nb2O5으로 막의 두께는 111.76nm, 상기 34층은 SiO2으로 막의 두께는 178.75nm, 상기 35층은 Nb2O5으로 막의 두께는 107.76nm, 상기 36층은 SiO2으로 막의 두께는 172.17nm, 상기 37층은 Nb2O5으로 막의 두께는 106.86nm, 상기 38층은 SiO2으로 막의 두께는 177.85nm, 상기 39층은 Nb2O5으로 막의 두께는 111.19nm, 상기 40층은 SiO2으로 막의 두께는 179.91nm, 상기 41층은 Nb2O5으로 막의 두께는 109.11nm, 상기 42층은 SiO2으로 막의 두께는 173.39nm, 상기 43층은 Nb2O5으로 막의 두께는 106.95nm, 상기 44층은 SiO2으로 막의 두께는 176.5nm, 상기 45층은 Nb2O5으로 막의 두께는 110.69nm, 상기 46층은 SiO2으로 막의 두께는 175.54nm, 상기 47층은 Nb2O5으로 막의 두께는 105.87nm, 상기 48층은 SiO2으로 막의 두께는 171.34nm, 상기 49층은 Nb2O5으로 막의 두께는 108.56nm, 상기 50층은 SiO2으로 막의 두께는 179.16nm, 상기 51은 Nb2O5으로 막의 두께는 106.29nm, 상기 52층은 SiO2으로 막의 두께는 161.47nm, 상기 53층은 Nb2O5으로 막의 두께는 10.28nm, 상기 54층은 SiO2으로 막의 두께는 6.92nm, 상기 55층은 Nb2O5으로 막의 두께는 78.32nm, 56층은 Nb2O5으로 막의 두께는 79.6nm이고:

    상기 제2다층막의 구조는 1층부터 62층을 포함하고, 상기 1층은 Nb2O5으로 막의 두께는 8.55nm, 상기 2층은 SiO2으로 막의 두께는 33.84nm, 상기 3층은 Nb2O5으로 막의 두께는 96.95nm, 상기 4층은 SiO2으로 막의 두께는 150.53nm, 상기 5층은 Nb2O5으로 막의 두께는 85.43nm, 상기 6층은 SiO2으로 막의 두께는 140.59nm, 상기 7층은 Nb2O5으로 막의 두께는 83.01nm, 상기 8층은 SiO2으로 막의 두께는 138.23nm, 상기 9층은 Nb2O5으로 막의 두께는 82.05nm, 상기 10층은 SiO2으로 막의 두께는 137.33nm, 상기 11층은 Nb2O5으로 막의 두께는 81.52nm, 상기 12층은 SiO2으로 막의 두께는 136.92nm, 상기 13층은 Nb2O5으로 막의 두께는 81.13nm, 상기 14층은 SiO2으로 막의 두께는 136.71nm, 상기 15층은 Nb2O5으로 막의 두께는 80.86nm, 상기 16층은 SiO2으로 막의 두께는 136.59nm, 상기 17층은 Nb2O5으로 막의 두께는 80.79nm, 상기 18층은 SiO2으로 막의 두께는 136.59nm, 상기 19층은 Nb2O5으로 막의 두께는 80.88nm, 상기 20층은 SiO2으로 막의 두께는 136.64nm, 상기 21층은 Nb2O5으로 막의 두께는 81.1nm, 상기 22층은 SiO2으로 막의 두께는 136.71nm, 상기 23층은 Nb2O5으로 막의 두께는 81.4nm, 상기 24층은 SiO2으로 막의 두께는 136.9nm, 상기 25층은 Nb2O5으로 막의 두께는 81.91nm, 상기 26층은 SiO2으로 막의 두께는 137.52nm, 상기 27층은 Nb2O5으로 막의 두께는 83.45nm, 상기 28층은 SiO2으로 막의 두께는 140.24nm, 상기 29층은 Nb2O5으로 막의 두께는 91.16nm, 상기 30층은 SiO2으로 막의 두께는 143.89nm, 상기 31층은 Nb2O5으로 막의 두께는 7.37nm, 상기 32층은 SiO2으로 막의 두께는 22.5nm, 상기 33층은 Nb2O5으로 막의 두께는 109.53nm, 상기 34층은 SiO2으로 막의 두께는 17.04nm, 상기 35층은 Nb2O5으로 막의 두께는 8.4nm, 상기 36층은 SiO2으로 막의 두께는 150.36nm, 상기 37층은 Nb2O5으로 막의 두께는 90.99nm, 상기 38층은 SiO2으로 막의 두께는 143.06nm, 상기 39층은 Nb2O5으로 막의 두께는 85.75nm, 상기 40층은 SiO2으로 막의 두께는 144.98nm, 상기 41층은 Nb2O5으로 막의 두께는 93.4nm, 상기 42층은 SiO2으로 막의 두께는 169.43nm, 상기 43층은 Nb2O5으로 막의 두께는 20.65nm, 상기 44층은 SiO2으로 막의 두께는 8.12nm, 상기 45층은 Nb2O5으로 막의 두께는 87.28nm, 상기 46층은 SiO2으로 막의 두께는 22.4nm, 상기 47층은 Nb2O5으로 막의 두께는 5.77nm, 상기 48층은 SiO2으로 막의 두께는 142.34nm, 상기 49층은 Nb2O5으로 막의 두께는 94.13nm, 상기 50층은 SiO2으로 막의 두께는 147.82nm, 상기 51은 Nb2O5으로 막의 두께는 92.71nm, 상기 52층은 SiO2으로 막의 두께는 164.87nm, 상기 53층은 Nb2O5으로 막의 두께는 105.22nm, 상기 54층은 SiO2으로 막의 두께는 17.91nm, 상기 55층은 Nb2O5으로 막의 두께는 3.43nm, 상기 56층은 SiO2으로 막의 두께는 154.31nm, 상기 57층은 Nb2O5으로 막의 두께는 99.34nm, 상기 58층은 SiO2으로 막의 두께는 143.15nm, 상기 59층은 Nb2O5으로 막의 두께는 7.18nm, 상기 60층은 SiO2으로 막의 두께는 10.55nm, 상기 61층은 Nb2O5으로 막의 두께는 77.66nm, 상기 62층은 SiO2으로 막의 두께는 74.8nm 인 것을 특징으로 하는
    적외선 차단 필터의 구조.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 유리 기판은 종래의 흰색 유리로 구성되는 것을 특징으로 하는 적외선 차단 필터의 구조.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 유리 기판은 푸른색 유리로 구성되는 것을 특징으로 하는 적외선 차단 필터의 구조.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 유리 기판은 흰색 유리 위에 적외선 흡수를 위한 유기막층이 증착된 푸른색 유사 유리로 구성되는 것을 특징으로 하는 적외선 차단 필터의 구조.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1다층막에 따른 고굴절률 소재는 Ti3O5, TiO2, Ta2O5 또는 Nb2O5 중 어느 하나로 구성되는 것을 특징으로 하는 적외선 차단 필터의 구조.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제1다층막에 따른 저굴절률 소재는 SiO2 또는 MgF2 중 어느 하나로 구성되는 것을 특징으로 하는 적외선 차단 필터의 구조.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제2다층막에 따른 고굴절률 소재는 Ti3O5, TiO2, Ta2O5 또는 Nb2O5 중 어느 하나로 구성되는 것을 특징으로 하는 적외선 차단 필터의 구조.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제2다층막에 따른 저굴절률 소재는 SiO2 또는 MgF2 중 어느 하나로 구성되는 것을 특징으로 하는 적외선 차단 필터의 구조.
  9. 삭제
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