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KR102577635B1 - 광학 적층체 및 해당 광학 적층체를 이용한 화상 표시 장치 - Google Patents

광학 적층체 및 해당 광학 적층체를 이용한 화상 표시 장치 Download PDF

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KR102577635B1
KR102577635B1 KR1020187022497A KR20187022497A KR102577635B1 KR 102577635 B1 KR102577635 B1 KR 102577635B1 KR 1020187022497 A KR1020187022497 A KR 1020187022497A KR 20187022497 A KR20187022497 A KR 20187022497A KR 102577635 B1 KR102577635 B1 KR 102577635B1
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KR
South Korea
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layer
optical laminate
polarizer
substituent
retardation layer
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KR1020187022497A
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히로시 스미무라
타카시 시미즈
신고 나미키
유우이치 히라미
Original Assignee
미쯔비시 케미컬 주식회사
닛토덴코 가부시키가이샤
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Publication date
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Abstract

도전층이 위상차층에 직접 형성되고, 매우 얇으며, 또한 우수한 반사 방지 기능을 갖고, 또한 화상 표시 장치의 굴곡부에 적용하여도 우수한 표시 특성을 실현할 수 있는 광학 적층체가 제공된다. 본 발명의 광학 적층체는 편광자와 편광자에 첩합된 위상차층과 위상차층에 직접 형성된 도전층을 구비한다. 위상차층은 면내 위상차 Re(550)이 100nm∼180nm이고, 또한, Re(450)<Re(550)<Re(650)의 관계를 만족하며, 및 유리 전이 온도(Tg)가 150℃ 이상이고, 광 탄성 계수의 절대값이 20×10-12(m2/N) 이하이다. 위상차층의 지상축과 편광자의 흡수축이 이루는 각도는 35°∼55°이다.

Description

광학 적층체 및 해당 광학 적층체를 이용한 화상 표시 장치
본 발명은 광학 적층체 및 해당 광학 적층체를 이용한 화상 표시 장치에 관한 것이다.
최근 스마트폰으로 대표되는 스마트 디바이스 또는 디지털 사이니지(signage)나 윈도우 디스플레이 등의 표시 장치가 강한 외광하에서 사용되는 기회가 증가하고 있다. 이에 따라 표시 장치 자체 또는 표시 장치에 이용되는 터치 패널부나 유리 기판, 금속 배선 등의 반사체에 의한 외광 반사나 배경의 비침 등의 문제가 발생하고 있다. 특히, 최근 실용화되고 있는 유기 EL(Electro-Luminescence) 표시 장치는 반사성이 높은 금속층을 갖기 때문에 외광 반사나 배경의 비침 등의 문제를 일으키기 쉽다. 따라서, 위상차 필름(대표적으로는, λ/4판)을 갖는 원 편광판을 시인 측에 반사 방지 필름으로서 설치함으로써 이들의 문제를 방지하는 것이 알려져 있다.
또한, 최근 스마트폰으로 대표되는 바와 같이, 화상 표시 장치가 터치 패널형 입력 장치를 겸하는 터치 패널형 입력 표시 장치가 급증하고 있다. 특히, 표시 셀(예컨대, 액정 셀, 유기 EL 셀)과 편광판과의 사이에 터치 센서가 내장된 이른바 이너 터치 패널형 입력 표시 장치가 실용화되고 있다. 이와 같은 이너 터치 패널형 입력 표시 장치에서는, 터치 패널 전극으로 기능하는 투명 도전층은 등방성 기재 부착 도전층으로서 위상차 필름(대표적으로는 λ/4판)에 적층됨으로써 도입되고 있다. 표시 장치의 박형화의 관점에서는 투명 도전층을 위상차 필름에 직접 형성하는 것이 바람직하지만, 투명 도전층을 형성할 때의 스퍼터링 및 그 후처리에서의 고온 환경에서 위상차 필름의 광학 특성이 소망하는 특성에서 크게 벗어나게 되므로, 스퍼터링용의 기재를 이용하지 않을 수 없기 때문이다. 이와 같이, 투명 도전층을 위상차 필름에 직접 형성할 수 있는 기술이 강하게 요구되고 있다. 또한, 플렉서블 디스플레이에 대응해 나가기 위해 디스플레이의 굴곡부에 적용하여도 표시 특성을 해치지 않는 원 편광판이 요구되고 있다.
특허 문헌 1:일본국 특개 2015-69158호 공보
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 그 목적으로하는 바는 도전층이 위상차층에 직접 형성되어 있고, 매우 얇으며, 또한 우수한 반사 방지 기능을 갖고, 또한 화상 표시 장치의 굴곡부에 적용하여도 우수한 표시 특성을 실현할 수 있는 광학 적층체를 제공하는 것이다.
본 발명의 광학 적층체는 편광자와 위상차층과 해당 위상차층에 직접 형성된 도전층을 구비하고, 해당 위상차층은 면내 위상차 Re(550)이 100nm∼180nm이며, 또한, Re(450)<Re(550)<Re(650)의 관계를 만족하고, 및 유리 전이 온도(Tg)가 150℃ 이상이며, 광 탄성 계수의 절대값이 20×10-12(m2/N) 이하이고, 해당 위상차층의 지상축과 해당 편광자의 흡수축이 이루는 각도가 35°∼55°이다.
본 발명의 다른 국면에 의하면 화상 표시 장치가 제공된다. 이 화상 표시 장치는 상기의 광학 적층체를 시인 측에 구비하고, 해당 광학 적층체의 편광자가 시인 측에 배치되어 있다.
본 발명의 실시 형태에 따르면, 소정의 면내 위상차를 갖고, 역분산의 파장 의존성을 나타내며, 또한 소정의 유리 전이 온도 및 광 탄성 계수를 갖는 위상차 필름을 위상차층으로서 이용함으로써 도전층을 위상차층 표면에 직접 형성할 수 있으며, 또한 이와 같은 도전층의 형성에도 불구하고 위상차층이 소망하는 광학 특성을 유지할 수 있다. 결과로서 매우 얇고 또한 우수한 반사 방지 기능을 갖는 광학 적층체를 실현할 수 있다. 또한, 이와 같은 광학 적층체는 화상 표시 장치의 굴곡부에 적용하여도 우수한 표시 특성을 실현할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 광학 적층체의 개략 단면도이다.
이하, 본 발명의 대표적인 실시 형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시 형태에는 한정되지 않는다.
(용어 및 기호의 정의)
본 명세서에서의 용어 및 기호의 정의는 하기와 같다.
(1) 굴절률(nx, ny, nz)
"nx"는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절률이고, "ny"는 면내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절률이며, "nz"는 두께 방향의 굴절률이다.
(2) 면내 위상차(Re)
"Re(λ)"는 23℃에서의 파장 λnm의 광으로 측정한 필름의 면내 위상차이다. 예컨대, "Re(450)"은 23℃에서의 파장 450nm의 광으로 측정한 필름의 면내 위상차이다. Re(λ)는 필름의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식:Re=(nx-ny)×d에 의해 구할 수 있다.
(3) 두께 방향의 위상차(Rth)
"Rth(λ)"는 23℃에서의 파장 λnm의 광으로 측정한 필름의 두께 방향의 위상차이다. 예컨대, "Rth(450)"은 23℃에서의 파장 450nm의 광으로 측정한 필름의 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는 필름의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식:Rth=(nx-nz)×d에 의해 구할 수 있다.
(4) Nz 계수
Nz 계수는 Nz=Rth/Re에 의해 구할 수 있다.
(5) 각도
본 명세서에 있어서 각도를 언급할 때에는 특별히 명기하지 않는 한, 당해 각도는 시계 방향 및 반시계 방향의 양쪽의 방향의 각도를 포함한다.
A. 광학 적층체의 전체 구성
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 광학 적층체의 개략 단면도이다. 본 실시 형태의 광학 적층체(100)는 편광자(10)와 위상차층(20)과 위상차층(20)에 직접 형성된 도전층(30)을 구비한다. 광학 적층체(100)는 실용적으로는 도시예와 같이, 편광자(10)의 위상차층(20)과 반대 측에 첩합(貼合)된 보호층(40)을 추가로 구비하여도 된다. 또한, 편광자(10)와 위상차층(20)과의 사이에 보호층(도시하지 않음)를 추가로 구비하여도 된다. 이와 같은 구성에 의하면, 광학 적층체는 표시 셀 (예컨대, 액정 셀, 유기 EL 셀)과 편광자와의 사이에 터치 센서가 내장된, 이른바 이너 터치 패널형 입력 표시 장치에 적용될 수 있다.
각 층(각 광학 필름)은 임의의 적절한 접착층(대표적으로는 접착제층, 점착제층)을 개재하여 첩합되어 있다. 한편, 도전층(30)은 상기와 같이 위상차층(20)에 직접 형성되어 있다. 본 명세서에 있어서 "직접 형성된다"란 접착층을 개재시키지 않고 적층되어 있는 것을 말한다. 대표적으로는 도전층(30)은 위상차층(20)의 표면에 스퍼터링에 의해 형성될 수 있다. 도시예에서는 도전층(30)은 위상차층(20)의 편광자(10)와 반대 측(위상차층의 하측)에 형성되어 있지만, 위상차층(20)과 편광자(10)와의 사이(위상차층의 상측)에 형성되어도 된다. 또한, 위상차층과 도전층과의 사이에 목적에 따라 인덱스 매칭(IM)층 및/또는 하드 코트(HC)층이 형성되는 경우가 있는 바(어느 것도 도시하지 않음), 이와 같은 경우에는 도전층은 IM층 또는 HC층에 스퍼터링에 의해 직접 형성된다. 이와 같은 형태도 "직접 형성되는" 형태에 포함된다. IM층 및 HC층은 당업계에서 통상적으로 이용되는 구성이 채용될 수 있으므로 상세한 설명은 생략한다.
본 발명의 실시 형태에 있어서는 위상차층(20)은 대표적으로는 위상차 필름으로 구성되어 있다. 따라서, 위상차층은 편광자의 보호층(내측 보호층)으로도 기능할 수 있다. 그 결과, 광학 적층체(결과로서, 화상 표시 장치)의 박형화에 공헌할 수 있다. 또한, 상기와 같이, 필요에 따라 편광자와 위상차층과의 사이에 내측 보호층(내부 보호 필름)이 배치되어도 된다. 위상차층은 그 면내 위상차 Re(550)이 100nm∼180nm이고, 또한, Re(450)<Re(550)<Re(650)의 관계를 만족한다. 또한, 위상차층은 그 유리 전이 온도(Tg)가 150℃ 이상이고, 광 탄성 계수의 절대값이 20×10-12(m2/N) 이하이다. 이와 같은 위상차층이면, 스퍼터링 및 그에 부수하는 후처리에서의 고온 환경에서도 소망하는 광학 특성을 유지할 수 있다. 따라서, 위상차층 표면에 도전층을 스퍼터링에 의해 직접 형성할 수 있다. 그 결과, 제조 효율이 현격하게 향상되고, 또한 스퍼터링용의 기재 및 도전층/기재의 적층체를 첩합하기 위한 점착제층을 생략할 수 있기 때문에, 광학 적층체(결과로서, 화상 표시 장치)의 가일층의 박형화에 공헌할 수 있다. 또한, 이와 같은 광학 적층체는 화상 표시 장치의 굴곡부에 적용하여도 우수한 표시 특성을 실현할 수 있다. 보다 상세하게는 굴곡부와 평면부와의 색감의 변화를 억제할 수 있다.
위상차층(20)의 지상축과 편광자(10)의 흡수축이 이루는 각도는 대표적으로는 35°∼55°이다. 당해 각도가 이와 같은 범위이면, 위상차층의 면내 위상차를 상기와 같은 범위로 함으로써 매우 우수한 원 편광 특성(결과로서, 매우 우수한 반사 방지 특성)을 갖는 광학 적층체를 얻을 수 있다.
필요에 따라, 도전층(30)의 위상차층(20)과 반대측(광학 적층체의 최외측)에 안티 블로킹(AB)층을 설치하여도 된다. AB층의 헤이즈값은 바람직하게는 0.2%∼4%이다.
광학 적층체의 총 두께(예컨대, 보호층/접착층/편광자/접착층/보호층/접착층/위상차층/도전층의 합계 두께)는 바람직하게는 50㎛∼200㎛이고, 더 바람직하게는 80㎛∼170㎛이다. 본 발명의 실시 형태에 따르면, 도전층을 위상차층 표면에 직접 형성할 수 있고, 스퍼터링용의 기재를 생략할 수 있기 때문에 현저한 박형화를 실현할 수 있다.
일 실시 형태에 있어서는, 본 발명의 광학 적층체는 장척상(長尺狀)이다. 장척상의 광학 적층체는 예컨대, 롤 상으로 권회되어 보관 및/또는 운반될 수 있다.
상기의 실시 형태는 적절하게 조합하여도 되고, 상기의 실시 형태에서의 구성 요소에 당업계에서 자명한 변경을 가하여도 되며, 상기의 실시 형태에서의 구성을 광학적으로 등가인 구성으로 치환하여도 된다.
이하, 광학 적층체의 구성 요소에 대하여 설명한다.
B. 편광자
편광자(10)로서는 임의의 적절한 편광자가 채용될 수 있다. 예컨대, 편광자를 형성하는 수지 필름은 단층의 수지 필름이어도 되고, 2층 이상의 적층체이어도 된다.
단층의 수지 필름으로 구성되는 편광자의 구체예로는, 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분포멀화 PVA계 필름, 에틸렌·비닐아세테이트 공중합체계 부분비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것, PVA의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 바람직하게는 광학 특성이 우수한 점에서, PVA계 필름을 요오드로 염색하고, 1축 연신하여 얻어진 편광자가 이용된다.
상기 요오드에 의한 염색은 예컨대, PVA계 필름을 요오드 수용액에 침지함으로써 수행된다. 상기 1축 연신의 연신 배율은 바람직하게는 3∼7배이다. 연신은 염색 처리 후에 수행하여도 되고, 염색하면서 수행하여도 된다. 또한, 연신하고 나서 염색하여도 된다. 필요에 따라, PVA계 필름에 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예컨대, 염색 전에 PVA계 필름을 물에 침지하여 수세함으로써 PVA계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있을 뿐만 아니라, PVA계 필름을 팽윤시켜 염색 얼룩 등을 방지할 수 있다.
적층체를 이용하여 얻어지는 편광자의 구체예로는 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)과의 적층체, 또는 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자는, 예컨대, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재상에 PVA계 수지층을 형성하여 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것;에 의해 제작될 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 연신은 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은 필요에 따라 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 이용하여도 되고(즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 하여도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하여 당해 박리면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층하여 이용하여도 된다. 이와 같은 편광자의 제조 방법의 상세는 예컨대 일본국 특개 2012-73580호 공보에 기재되어 있다. 당해 공보는 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로 원용된다.
편광자의 두께는 바람직하게는 15㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 1㎛∼12㎛이며, 더욱 바람직하게는 3㎛∼10㎛이고, 특히 바람직하게는 3㎛∼8㎛이다. 편광자의 두께가 이와 같은 범위이면, 가열 시의 컬을 양호하게 억제할 수 있고, 및 양호한 가열 시의 외관 내구성이 얻어진다. 또한, 편광자의 두께가 이와 같은 범위이면, 광학 적층체(결과로서, 유기 EL 표시 장치)의 박형화에 공헌할 수 있다.
편광자는 바람직하게는 파장 380nm∼780nm의 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 편광자의 단체 투과율은 바람직하게는 43.0%∼46.0%이고, 보다 바람직하게는 44.5%∼46.0%이다. 편광자의 편광도는 바람직하게는 97.0% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.0% 이상이며, 더욱 바람직하게는 99.9% 이상이다.
C. 위상차층
위상차층(20)의 면내 위상차 Re(550)는 상기와 같이 100nm∼180nm이고, 바람직하게는 120nm∼160nm이며, 보다 바람직하게는 135nm∼155nm이다. 즉, 위상차층은 이른바 λ/4판으로 기능할 수 있다.
위상차층은 상술한 바와 같이, Re(450)<Re(550)<Re(650)의 관계를 만족한다. 즉, 위상차층은 위상차값이 측정광의 파장에 따라서 커지는 역분산의 파장 의존성을 나타낸다. 위상차층의 Re(450)/Re(550)은 바람직하게는 0.7 이상 1.0 미만이고, 보다 바람직하게는 0.8 이상 1.0 미만이며, 더욱 바람직하게는 0.8 이상 0.95 미만이고, 특히 바람직하게는 0.8 이상 0.9 미만이다. Re(550)/Re(650)은 바람직하게는 0.8 이상 1.0 미만이고, 보다 바람직하게는 0.8∼0.97이다.
위상차층은 대표적으로는 굴절률 특성이 nx>ny의 관계를 나타내고, 지상축을 갖는다. 위상차층(20)의 지상축과 편광자(10)의 흡수축이 이루는 각도는 상기와 같이 35°∼55°이고, 보다 바람직하게는 38°∼52°이며, 더욱 바람직하게는 42°∼48°이고, 특히 바람직하게는 약 45°이다. 당해 각도가 이와 같은 범위이면, 위상차층을 λ/4판으로 함으로써 매우 우수한 원 편광 특성(결과로서, 매우 우수한 반사 방지 특성)을 갖는 광학 적층체를 얻을 수 있다.
위상차층은 nx>ny의 관계를 갖는 한, 임의의 적절한 굴절률 타원체(굴절률 특성)를 나타낸다. 바람직하게는, 위상차층의 굴절률 타원체는 nx>ny≥nz 또는 nx>nz>ny의 관계를 나타낸다. 또한, 여기서 "ny=nz"는 ny와 nz가 완전히 동일한 경우뿐만 아니라, 실질적으로 동일한 경우를 포함한다. 따라서, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서 ny<nz가 되는 경우가 있을 수 있다. 위상차층의 Nz 계수는 바람직하게는 0.2∼2.0이고, 보다 바람직하게는 0.2∼1.5이며, 더욱 바람직하게는 0.2∼1.0이다. 이와 같은 관계를 만족함으로써 광학 적층체를 화상 표시 장치에 이용한 경우에 매우 우수한 반사 색상을 달성할 수 있다.
위상차층은 그 유리 전이 온도(Tg)가 상기와 같이 150℃ 이상이다. 유리 전이 온도의 하한은 155℃ 이상이 보다 바람직하고, 157℃ 이상이 더욱 바람직하며, 160℃ 이상이 보다 더 바람직하고, 163℃ 이상이 특히 바람직하다. 한편, 유리 전이 온도의 상한은 180℃ 이하가 바람직하고, 175℃ 이하가 더욱 바람직하며, 170℃ 이하가 특히 바람직하다. 유리 전이 온도가 지나치게 낮으면 스퍼터링 및 그에 부수하는 후처리의 고온 환경에서 광학 특성에 소망하지 않는 변화가 발생하는 경우가 있다. 유리 전이 온도가 지나치게 높으면 위상차층 형성 시의 성형 안정성이 나빠지는 경우가 있고, 또한 위상차층의 투명성을 해치는 경우가 있다. 또한, 유리 전이 온도는 JIS K 7121(1987)에 준하여 구할 수 있다.
위상차층은 그 광 탄성 계수의 절대값이 상기와 같이 20×10-12(m2/N) 이하이고, 바람직하게는 1.0×10-12(m2/N)∼15×10-12(m2/N)이며, 보다 바람직하게는 2.0×10-12(m2/N)∼12×10-12(m2/N)이다. 광 탄성 계수의 절대값이 이와 같은 범위이면, 스퍼터링 전후의 색감의 변화를 억제할 수 있다. 또한, 광학 적층체를 화상 표시 장치의 굴곡부에 적용한 경우에 당해 굴곡부에서도 우수한 표시 특성을 실현할 수 있다.
위상차층의 두께는 λ/4판으로서 가장 적절하게 기능할 수 있도록 설정될 수 있다. 바꾸어 말하면, 두께는 소망하는 면내 위상차가 얻어지도록 설정되어 있다. 구체적으로는, 두께는 바람직하게는 10㎛∼80㎛이고, 보다 바람직하게는 10㎛∼70㎛이며, 더욱 바람직하게는 20㎛∼65㎛이고, 특히 바람직하게는 20㎛∼60㎛이며, 가장 바람직하게는 20㎛∼50㎛이다.
위상차층은 상기와 같은 특성을 만족할 수 있는 임의의 적절한 수지를 포함하는 위상차 필름으로 구성된다. 위상차 필름을 형성하는 수지로는 폴리카보네이트 수지, 폴리비닐아세탈 수지, 시클로올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 셀룰로오스에스테르계 수지 등을 들 수 있다. 바람직하게는 폴리카보네이트 수지이다. 폴리카보네이트 수지는 복수 종의 모노머를 이용하여 공중합체를 합성하는 것이 비교적 용이하고, 다양한 물성 밸런스를 조정하기 위한 분자 설계가 가능하다. 또한, 내열성이나 연신성, 기계 물성 등도 비교적 양호하다. 또한, 본 발명에 있어서 폴리카보네이트 수지란 구조 단위에 카보네이트 결합을 갖는 수지를 총칭하며, 예컨대, 폴리에스테르카보네이트 수지를 포함한다. 폴리에스테르카보네이트 수지란 당해 수지를 구성하는 구조 단위로서 카보네이트 결합 및 에스테르 결합을 갖는 수지를 말한다.
본 발명에 이용되는 폴리카보네이트 수지는 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 구조 단위를 적어도 함유하는 것이 바람직하다.
[화학식 1]
[화학식 2]
(상기 화학식 1 및 화학식 2 중, R1∼R3은 각각 독립적으로 직접 결합, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼4의 알킬렌기이고, R4∼R9는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼10의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 4∼10의 아릴기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼10의 아실기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼10의 알콕시기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼10의 아릴옥시기, 치환기를 가져도 되는 아미노기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼10의 비닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼10의 에티닐기, 치환기를 갖는 황 원자, 치환기를 갖는 규소 원자, 할로겐 원자, 니트로기 또는 시아노기이다. 다만, R4∼R9는 서로 동일하여도, 상이하여도 되고, R4∼R9 중 인접하는 적어도 2개의 기가 서로 결합하여 환을 형성하여도 된다.)
상기 구조 단위는 수지 중의 함유량이 소량이어도 효율적으로 역파장 분산성을 발현시킬 수 있다. 또한, 상기 구조 단위를 함유하는 수지는 내열성도 양호하며 연신함으로써 높은 복굴절을 얻을 수 있으므로, 본 발명에 이용되는 위상차층에 적합한 특성을 가지고 있다.
상기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 구조 단위의 수지 중의 함유량은 위상차 필름으로서 최적의 파장 분산 특성을 얻기 위해서는, 폴리카보네이트 수지를 구성하는 모든 구조 단위 및 연결기의 중량의 합계량을 100중량%로 하였을 때에 1중량% 이상, 50중량% 이하 함유하는 것이 바람직하고, 3중량% 이상, 40중량% 이하가 보다 바람직하며, 5중량% 이상 30중량% 이하가 특히 바람직하다.
상기 화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 구조 단위 중, 바람직한 구조로는 구체적으로 하기 [A]군에 예시되는 골격을 갖는 구조를 들 수 있다.
[A]
[화학식 A1]
[화학식 A2]
[화학식 A3]
[화학식 A4]
[화학식 A5]
[화학식 A6]
상기 [A]군의 중에서도, 화학식 A1 및 화학식 A2의 디에스테르 구조 단위의 성능이 높고, 화학식 A1이 특히 바람직하다. 상기 특정의 디에스테르 구조 단위는 상기 화학식 1로 표시되는 디히드록시 화합물 유래의 구조 단위보다도 열 안정성이 양호하고, 역파장 분산의 발현성이나 광 탄성 계수 등의 광학 특성에 대해서도 양호한 특성을 나타내는 경향이 있다. 또한, 본 발명에 따른 폴리카보네이트 수지가 디에스테르의 구조 단위를 함유하는 경우, 그와 같은 수지를 폴리에스테르 카보네이트 수지라고 칭한다.
본 발명에 이용되는 폴리카보네이트 수지는 상기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 구조 단위와 함께, 다른 구조 단위를 함께 함유함으로써, 본 발명에 이용되는 위상차층에 요구되는 다양한 물성을 만족하는 수지를 설계할 수 있다. 특히 중요한 물성인 높은 내열성을 부여하기 위해서는 하기 화학식 3으로 표시되는 구조 단위를 함유하는 것이 바람직하다.
[화학식 3]
(상기 화학식 3 중, R10∼R15는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 아릴기, 탄소수 1∼12의 알콕시기 또는 할로겐 원자를 나타낸다.)
상기 화학식 3으로 표시되는 구조 단위는 높은 유리 전이 온도를 갖는 성분이고, 또한, 방향족 구조임에도 불구하고, 광 탄성 계수가 비교적 낮으며, 본 발명에 이용되는 위상차층에 요구되는 특성을 만족하고 있다.
상기 화학식 3으로 표시되는 구조 단위의 수지 중의 함유량은 폴리카보네이트 수지를 구성하는 모든 구조 단위 및 연결기의 중량의 합계량을 100중량%로 하였을 때에 1중량% 이상, 30중량% 이하 함유하는 것이 바람직하고, 2중량% 이상, 20중량% 이하가 보다 바람직하며, 3중량% 이상, 15중량% 이하가 특히 바람직하다. 이 범위이면 충분한 내열성을 부여하면서 수지가 지나치게 무르게 되지 않고 가공성이 우수한 수지를 얻을 수 있다.
상기 화학식 3으로 표시되는 구조 단위는, 해당 구조 단위를 함유하는 디히드록시 화합물을 중합함으로써 수지 중에 도입할 수 있다. 해당 디히드록시 화합물로는 물성이 양호하고, 입수의 용이성의 관점에서도 6,6'-디히드록시-3,3,3',3'-테트라메틸-1,1'-스피로비인단을 이용하는 것이 특히 바람직하다.
본 발명에 이용되는 폴리카보네이트 수지는 하기 화학식 4로 표시되는 구조 단위를 추가로 함유하는 것이 바람직하다.
[화학식 4]
상기 화학식 4로 표시되는 구조 단위는 수지를 연신한 때의 복굴절의 발현성이 높고, 광 탄성 계수도 낮은 특성을 갖고 있다. 상기 화학식 4로 표시되는 구조 단위를 도입 가능한 디히드록시 화합물로서는 입체 이성질체의 관계에 있는 이소소르비드(ISB), 이소만니드, 이소이디드를 들 수 있지만, 이들 중에서도, 입수 및 중합 반응성의 관점에서 ISB를 이용하는 것이 가장 바람직하다.
본 발명에 이용되는 폴리카보네이트 수지는 요구되는 물성에 따라, 상술한 구조 단위 이외에 그 밖의 구조 단위를 포함하여도 된다. 그 밖의 구조 단위를 함유하는 모노머로는, 예컨대, 지방족 디히드록시 화합물, 지환식 디히드록시 화합물, 아세탈 환을 함유하는 디히드록시 화합물, 옥시알킬렌글리콜류, 방향족 성분을 함유하는 디히드록시 화합물, 디에스테르 화합물 등을 들 수 있다. 다양한 물성의 밸런스가 양호한 점이나, 입수의 용이성의 관점에서, 1,4-시클로헥산디메탄올(이하, CHDM으로 간략하게 기재하기도 한다), 트리시클로데칸디메탄올(이하, TCDDM으로 간략하게 기재하기도 한다), 스피로글리콜(이하, SPG로 간략하게 기재하기도 한다) 등의 디히드록시 화합물이 바람직하게 이용된다.
본 발명에 이용되는 폴리카보네이트 수지에는 본 발명의 목적을 해치지 않는 범위에서 통상적으로 이용되는 열 안정제, 산화 방지제, 촉매 실활(失活)제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 이형제, 염안료, 충격 개량제, 대전 방지제, 활제, 윤활제, 가소제, 상용화제, 핵제, 난연제, 무기 충전제, 발포제 등이 포함되어도 무방하다.
본 발명에 이용되는 폴리카보네이트 수지는 기계 특성이나 내용제성 등의 특성을 개질할 목적으로 방향족 폴리카보네이트, 지방족 폴리카보네이트, 방향족 폴리에스테르, 지방족 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리스티렌, 폴리올레핀, 아크릴, 아몰퍼스폴리올레핀, ABS, AS, 폴리락트산, 폴리부틸렌숙시네이트 등의 합성수지 나 고무 등의 1종 또는 2종 이상과 혼련(混練)하여 이루어지는 폴리머알로이로 하여도 된다.
상기의 첨가제나 개질제는 본 발명에 이용되는 수지에 상기 성분을 동시에 또는 임의의 순서로 텀블러, V형 믹서, 나우타 믹서, 반바리 믹서, 혼련 롤, 압출기 등의 혼합기로 혼합하여 제조할 수 있지만, 그 중에서도 압출기, 특히 2축 압출기로 혼련하는 것이 분산성 향상의 관점에서 바람직하다.
본 발명에 이용되는 폴리카보네이트 수지의 분자량은 환원 점도로 표시할 수 있다. 환원 점도는 용매로서 염화메틸렌을 이용하고, 폴리카보네이트 수지 농도를 0.6g/dL로 정밀하게 조제하여 온도 20.0℃±0.1℃에서 우베로데 점도관을 이용하여 측정된다. 환원 점도의 하한은 통상적으로 0.25dL/g 이상이 바람직하고, 0.30dL/g 이상이 보다 바람직하며, 0.32dL/g 이상이 특히 바람직하다. 환원 점도의 상한은 통상적으로 0.50dL/g 이하가 바람직하고, 0.45dL/g 이하가 보다 바람직하며, 0.40dL/g 이하가 특히 바람직하다. 환원 점도가 상기 하한값보다 작으면 성형품의 기계적 강도가 작아진다는 문제가 발생하는 경우가 있다. 한편, 환원 점도가 상기 상한값보다 크면 성형할 때의 유동성이 저하하여 생산성과 성형성이 저하한다는 문제가 발생하는 경우가 있다.
본 발명에 이용되는 폴리카보네이트 수지는 측정 온도 240℃, 전단 속도 91.2sec-1에서의 용융 점도가 1000Pa·s 이상, 9000Pa·s 이하인 것이 바람직하다. 용융 점도의 하한은 2000Pa·s 이상이 보다 바람직하고, 2500Pa·s 이상이 더욱 바람직하며, 3000Pa·s 이상이 특히 바람직하다. 용융 점도의 상한은 8000Pa·s 이하가 보다 바람직하고, 7000Pa·s 이하가 더욱 바람직하며, 6500Pa·s 이하가 보다 더욱 바람직하고, 6000Pa·s 이하가 특히 바람직하다.
본 발명에 이용되는 위상차층은 높은 내열성이 요구되고 있으며, 통상적으로 내열성(유리 전이 온도)이 높을수록 수지는 무르게 되는 방향이지만, 상기와 같은 용융 점도 범위로 함으로써, 수지의 가공 시에 최소한으로 필요한 기계 물성을 유지하면서 수지를 용융 가공하는 것도 가능하게 된다.
본 발명에 이용되는 폴리카보네이트 수지는 나트륨 d선(589nm)에서의 굴절률이 1.49 이상, 1.56 이하인 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 굴절률이 1.50 이상, 1.55 이하이다.
본 발명에 이용되는 위상차층에 요구되는 광학 특성을 부여하기 위해서는, 수지 중에 방향족 구조를 도입할 필요가 있다. 그러나 방향족 구조는 굴절률을 높임으로써 위상차층의 투과율의 저하를 초래한다. 또한, 일반적으로 방향족 구조는 높은 광 탄성 계수를 갖고 있고, 광학 특성을 전반적으로 저하시킨다. 본 발명에 이용되는 폴리카보네이트 수지로는 요구되는 특성을 효율적으로 발현하는 구조 단위를 선택하고, 수지 중의 방향족 구조의 함유량을 최소한으로 억제하는 것이 바람직하다.
본 발명에 이용되는 위상차층은 상기 폴리카보네이트 수지로부터 필름을 형성하고, 추가로 그 필름을 연신함으로써 얻어진다. 폴리카보네이트 수지로부터 필름을 형성하는 방법으로는 임의의 적절한 성형 가공법이 채용될 수 있다. 구체예로는 압축 성형법, 트랜스퍼 성형법, 사출 성형법, 압출 성형법, 블로우 성형법, 분말 성형법, FRP 성형법, 캐스트 도공법(예컨대, 유연법), 캘린더 성형법, 열 프레스 법 등을 들 수 있다. 그 중에서도 얻어지는 필름의 평활성을 높이고, 양호한 광학적 균일성을 얻을 수 있는 압출 성형법 또는 캐스트 도공법이 바람직하다. 캐스트 도공법에서는 잔존 용매에 의한 문제가 발생할 우려가 있으므로 특히 바람직하게는 압출 성형법, 그 중에서도 T다이를 이용한 용융 압출 성형법이 필름의 생산성이나 다음의 연신 처리의 용이성의 관점에서 바람직하다. 성형 조건은 사용되는 수지의 조성이나 종류, 위상차층에 소망되는 특성 등에 따라 적절하게 설정될 수 있다.
수지 필름(미연신 필름)의 두께는 얻어지는 위상차 필름의 소망하는 두께, 소망하는 광학 특성, 후술하는 연신 조건 등에 따라 임의의 적절한 값으로 설정될 수 있다. 바람직하게는 50㎛∼300㎛이다.
상기 연신은 임의의 적절한 연신 방법, 연신 조건(예컨대, 연신 온도, 연신 배율, 연신 방향)이 채용될 수 있다. 구체적으로는 자유단 연신, 고정단 연신, 자유단 수축, 고정단 수축 등의 다양한 연신 방법을 단독으로 이용하는 것도, 동시 또는 순차적으로 이용하는 것도 가능하다. 연신 방향에 관해서도, 길이 방향, 폭 방향, 두께 방향, 경사 방향 등, 다양한 방향이나 차원으로 수행할 수 있다.
상기 연신 방법, 연신 조건을 적절히 선택함으로써 상기 소망하는 광학 특성(예컨대, 굴절률 특성, 면내 위상차, Nz 계수)을 갖는 위상차 필름을 얻을 수 있다.
일 실시 형태에 있어서는, 위상차 필름은 수지 필름을 1축 연신 혹은 고정 단 1축 연신함으로써 제작된다. 고정단 1축 연신의 구체예로는 수지 필름을 길이 방향으로 주행시키면서 폭 방향(가로 방향)으로 연신하는 방법을 들 수 있다. 연신 배율은 바람직하게는 1.1배∼3.5배이다.
다른 실시 형태에 있어서는, 위상차 필름은 장척상의 수지 필름을 길이 방향에 대하여 소정의 각도의 방향으로 연속적으로 경사 연신함으로써 제작될 수 있다. 경사 연신을 채용함으로써 필름의 길이 방향에 대하여 소정의 각도의 배향각(소정의 각도 방향으로 지상축)을 갖는 장척상의 연신 필름이 얻어지고, 예컨대, 편광자와 적층 시에 롤 투 롤이 가능하게 되어, 제조 공정을 간략화할 수 있다. 또한, 도전층이 위상차층(위상차 필름)에 직접 형성할 수 있는 것과의 상승적인 효과에 의해, 제조 효율이 현격하게 향상될 수 있다. 또한, 상기 소정의 각도는 광학 적층체에 있어서 편광자의 흡수축과 위상차층의 지상축이 이루는 각도일 수 있다. 당해 각도는 상기와 같이, 바람직하게는 35°∼55°이고, 보다 바람직하게는 38°∼52°이며, 더욱 바람직하게는 42°∼48°이고, 특히 바람직하게는 약 45°이다.
경사 연신에 이용하는 연신기로는 예컨대, 가로 및/또는 세로 방향으로 좌우 상이한 속도의 이송력 또는 인장력 또는 인취력을 부가할 수 있는 텐터식 연신기를 들 수 있다. 텐터식 연신기로는 가로 1축 연신기, 동시 2축 연신기 등이 있지만, 장척상의 수지 필름을 연속적으로 경사 연신할 수 있는 한, 임의의 적절한 연신기가 이용될 수 있다.
상기 연신기에 있어서 좌우의 속도를 각각 적절하게 제어함으로써 상기 소망하는 면내 위상차를 갖고, 또한 상기 소망하는 방향으로 지상축을 갖는 위상차 필름(실질적으로는 장척상의 위상차 필름)을 얻을 수 있다.
경사 연신의 방법으로는, 예컨대, 일본국 특개소 50-83482호 공보, 일본국 특개평 2-113920호 공보, 일본국 특개평 3-182701호 공보, 일본국 특개 2000-9912호 공보, 일본국 특개 2002-86554호 공보, 일본국 특개 2002-22944호 공보 등에 기재된 방법을 들 수 있다.
상기 필름의 연신 온도는 위상차 필름에 소망되는 면내 위상차값 및 두께, 사용되는 수지의 종류, 사용되는 필름의 두께, 연신 배율 등에 따라 변화할 수 있다. 구체적으로는 연신 온도는 바람직하게는 Tg-30℃∼Tg+30℃, 더욱 바람직하게는 Tg-15℃∼Tg+15℃, 가장 바람직하게는 Tg-10℃∼Tg+10℃이다. 이와 같은 온도에서 연신함으로써, 본 발명에 있어서 적절한 특성을 갖는 위상차 필름을 얻을 수 있다. 또한, Tg는 필름의 구성 재료의 유리 전이 온도이다.
D.도전층
도전층(30)은 대표적으로는 투명하다(즉, 도전층은 투명 도전층이다). 위상차층의 편광자와 반대 측에 도전층을 형성함으로써, 광학 적층체는 표시 셀(예컨대, 액정 셀, 유기 EL 셀)과 편광자와의 사이에 터치 센서가 내장된 이른바 이너 터치 패널형 입력 표시 장치에 적용될 수 있다.
도전층은 필요에 따라 패턴화될 수 있다. 패턴화에 의해 도통부(導通部)와 절연부(絶緣部)가 형성될 수 있다. 결과로서, 전극이 형성될 수 있다. 전극은 터치 패널에 대한 접촉을 감지하는 터치 센서 전극으로서 기능할 수 있다. 패턴의 형상은 터치 패널(예컨대, 정전 용량 방식 터치 패널)로서 양호하게 동작하는 패턴이 바람직하다. 구체예로는, 일본국 특표 2011-511357호 공보, 일본국 특개 2010-164938호 공보, 일본국 특개 2008-310550호 공보, 일본국 특표 2003-511799호 공보, 일본국 특표 2010-541109호 공보에 기재된 패턴을 들 수 있다.
도전층의 전광선 투과율(total light transmittance)은 바람직하게는 80% 이상이고, 보다 바람직하게는 85% 이상이며, 더욱 바람직하게는 90% 이상이다.
도전층의 밀도는 바람직하게는 1.0g/cm3∼10.5g/cm3이고, 보다 바람직하게는 1.3g/cm3∼3.0g/cm3이다.
도전층의 표면 저항값은 바람직하게는 0.1Ω/□∼1000Ω/□이고, 보다 바람직하게는 0.5Ω/□∼500Ω/□이며, 더욱 바람직하게는 1Ω/□∼250Ω/□이다.
도전층의 대표예로는, 금속 산화물을 포함하는 도전층을 들 수 있다. 금속 산화물로서는 예컨대, 산화인듐, 산화주석, 산화아연, 인듐-주석 복합 산화물, 주석-안티몬 복합 산화물, 아연-알루미늄 복합 산화물, 인듐-아연 복합 산화물을 들 수 있다. 그 중에서도 바람직하게는 인듐-주석 복합 산화물(ITO)이다.
도전층의 두께는 바람직하게는 0.01㎛∼0.05㎛(10nm∼50nm)이고, 보다 바람직하게는 0.01㎛∼0.03㎛(10nm∼30nm)이다. 이와 같은 범위이면, 도전성 및 광 투과성이 우수한 도전층을 얻을 수 있다.
E.보호층
보호층(40)은 편광자의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로는 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지나 폴리에스테르계, 폴리비닐알코올계, 폴리카보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르설폰계, 폴리설폰계, 폴리스티렌계, 폴리노보넨계, 폴리올레핀계, (메트)아크릴계, 아세테이트계 등의 투명 수지 등을 들 수 있다. 또한, (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지 등도 들 수 있다. 이 밖에도, 예컨대, 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머도 들 수 있다. 또한, 일본국 특개 2001-343529호 공보(WO01/37007)에 기재된 폴리머 필름도 사용할 수 있다. 이 필름의 재료로는 예컨대, 측쇄에 치환 또는 비치환의 이미드기를 갖는 열가소성 수지와 측쇄에 치환 또는 비치환의 페닐기 및 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 사용할 수 있으며, 예컨대, 이소부텐과 N-메틸말레이미드로 이루어지는 교대 공중합체와 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 갖는 수지 조성물을 들 수 있다. 당해 폴리머 필름은 예컨대, 상기 수지 조성물의 압출 성형물일 수 있다.
본 발명의 광학 적층체는 후술하는 바와 같이 대표적으로는 화상 표시 장치의 시인 측에 배치되고, 보호층(40)은 대표적으로는 그 시인 측에 배치된다. 따라서, 보호층(40)에는 필요에 따라 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티글레어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 또한/또는, 보호층(40)에는 필요에 따라 편광 선글라스를 개재하여 시인하는 경우의 시인성을 개선하는 처리(대표적으로는 (타)원 편광 기능을 부여하는 것, 초고위상차를 부여하는 것)가 실시되어 있어도 된다. 이와 같은 처리를 실시함으로써 편광 선글라스 등의 편광 렌즈를 개재하여 표시 화면을 시인한 경우에도 우수한 시인성을 실현할 수 있다. 따라서 광학 적층체는 옥외에서 이용될 수 있는 화상 표시 장치에도 바람직하게 적용될 수있다.
보호층의 두께는 바람직하게는 20㎛∼200㎛, 보다 바람직하게는 30㎛∼100㎛, 더욱 바람직하게는 35㎛∼95㎛이다.
내측 보호층을 설치하는 경우에는 당해 내측 보호층은 광학적으로 등방성인것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서 "광학적으로 등방성인"이란 면내 위상차 Re(550)이 0nm∼10nm이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550)가 -10nm∼+10nm인 것을 말한다.
내측 보호층의 재료 및 두께 등은 보호층(40)에 관하여 상기에서 설명한 바와 같다.
F.안티블로킹층
안티블로킹층은 대표적으로는 요철(凹凸) 표면을 갖는다. 요철 표면은 미세한 요철 표면이어도 되고 평탄부와 돌기부를 갖는 표면이어도 된다. 일 실시 형태에 있어서 안티블로킹층은 그 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 바람직하게는 50nm 이상이다. 요철 표면은 예컨대, 안티블로킹층을 형성하는 수지 조성물에 미립자를 함유시키는 것 및/또는 안티블로킹층을 형성하는 수지 조성물을 상분리시킴으로써 형성될 수 있다.
수지 조성물에 이용되는 수지로는, 예컨대, 열경화형 수지, 열가소형 수지, 자외선 경화형 수지, 전자선 경화형 수지, 2액 혼합형 수지를 들 수 있다. 자외선 경화형 수지가 바람직하다. 간단한 가공 조작으로 효율적으로 안티블로킹층을 형성할 수 있기 때문이다.
자외선 경화형 수지로는 임의의 적절한 수지를 이용할 수 있다. 구체예로는 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 실리콘계 수지, 에폭시계 수지를 들 수 있다. 자외선 경화형 수지는 자외선 경화형의 모노머, 올리고머, 폴리머를 포함한다. 본 발명의 실시 형태에 있어서는, 자외선 경화형 수지로서 우레탄(메트)아크릴레이트가 바람직하게 이용될 수 있다.
우레탄(메트)아크릴레이트로는 (메트)아크릴산, (메트)아크릴산 에스테르, 폴리올 및 디이소시아네이트를 구성 성분으로 함유하는 것이 이용될 수 있다. 예컨대, (메트)아크릴산 및 (메트)아크릴산 에스테르의 적어도 하나의 모노머와 폴리올을 이용하여 수산기를 1개 이상 갖는 히드록시(메트)아크릴레이트를 제작하고, 당해 히드록시(메트)아크릴레이트를 디이소시아네이트와 반응시킴으로써 우레탄(메트)아크릴레이트를 제조할 수 있다. 우레탄(메트)아크릴레이트는 한 종류를 단독으로 사용하여도 되고, 두 종류 이상을 병용하여도 된다.
미립자로는 임의의 적절한 미립자를 이용할 수 있다. 미립자는 바람직하게는 투명성을 갖는다. 이와 같은 미립자를 구성하는 재료로는 금속 산화물, 유리, 수지를 들 수 있다. 구체예로는 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 산화칼슘 등의 무기계 미립자, 폴리메틸메트크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리우레탄, 아크릴계 수지, 아크릴-스티렌 공중합체, 벤조구아나민, 멜라민, 폴리카보네이트 등의 유기계 미립자, 실리콘계 입자 등을 들 수 있다. 미립자는 1종류를 단독으로 이용하여도 되고, 2종 이상을 병용하여도 된다. 바람직하게는 유기계 미립자이고, 보다 바람직하게는 아크릴계 수지의 미립자이다. 굴절률이 적절하기 때문이다.
미립자의 최빈(最頻) 입자경은 안티블로킹층의 안티블로킹성, 헤이즈 등에 따라 적절하게 설정할 수 있다. 미립자의 최빈 입자경은 예컨대, 안티블로킹층의 두께의 ±50%의 범위 내이다. 또한, 본 명세서에 있어서 "최빈 입자경"이란 입자 분포의 극대값을 나타내는 입자를 말하고, 플로우식 입자상 분석 장치(Sysmex사 제조, 제품명 "FPTA-3000S")를 이용하여 소정의 조건하(Sheath액:에틸아세테이트, 측정 모드:HPF 측정, 측정 방식:토털 카운트)에서 측정함으로써 구할 수 있다. 측정 시료로는 입자를 에틸아세테이트로 1.0중량%로 희석하고, 초음파 세정기를 이용하여 균일하게 분산시킨 분산액이 이용될 수 있다.
미립자의 함유량은 수지 조성물의 고형분 100중량부에 대하여 바람직하게는 0.05중량부∼1.0중량부이고, 보다 바람직하게는 0.1중량부∼0.5중량부이며, 더욱 바람직하게는 0.1중량부∼0.2중량부이다. 미립자의 함유량이 지나치게 적으면 안티블로킹성이 불충분하게 되는 경우가 있다. 미립자의 함유량이 지나치게 많으면 안티블로킹층의 헤이즈가 높아져 광학 적층체(최종적으로는 화상 표시 장치)의 시인성이 불충분하게 되는 경우가 있다.
수지 조성물은 목적에 따라 임의의 적절한 첨가제를 추가로 함유할 수 있다. 첨가제의 구체예로는 반응성 희석제, 가소제, 계면 활성제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 레벨링제, 틱소트로피제, 대전 방지제를 들 수 있다. 첨가제의 수, 종류, 조합, 첨가량 등은 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다.
안티블로킹층은 대표적으로는 수지 조성물을 기재(30)의 표면에 도포하고, 경화시킴으로써 형성될 수 있다. 도포 방법으로는 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 도포 방법의 구체예로는, 딥 코트법, 에어나이프 코트법, 커튼 코트법, 롤러 코트법, 와이어 바 코트법, 그라비아 코트법, 다이 코트법, 압출 코트법을 들 수 있다.
경화 방법은 수지 조성물에 포함되는 수지의 종류에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 예컨대, 자외선 경화 수지를 이용하는 경우에는, 예컨대 150mJ/cm2 이상, 바람직하게는 200mJ/cm2∼1000mJ/cm2의 노광량으로 자외선을 조사함으로써 수지 조성물을 적절하게 경화시켜 안티블로킹층을 형성할 수 있다.
안티블로킹층의 두께는 바람직하게는 0.5㎛∼2.0㎛이고, 보다 바람직하게는 0.8㎛∼1.5㎛이다. 이와 같은 두께라면 광학 적층체에 소망되는 광학 특성에 악영향을 주지 않고 양호한 안티블로킹성을 확보할 수 있다.
안티블로킹층의 헤이즈값은 상기와 같이 바람직하게는 0.2%∼4%이고, 보다 바람직하게는 0.5%∼3%이다. 헤이즈값이 이와 같은 범위이면 시인성을 잃지 않고 필름끼리의 블로킹을 방지할 수 있다는 이점을 갖는다.
안티블로킹층의 구성, 재료, 형성 방법 등의 자세한 내용은 예컨대, 일본국 특허 공개 제2015-115171호 공보, 일본국 특개 2015-141674호 공보, 일본국 특개 2015-120870호 공보, 일본국 특개 2015-005272호 공보에 기재되어 있다. 이들의 기재는 본 명세서에 참고로 원용된다.
G. 화상 표시 장치
상기 A항 내지 F항에 기재된 광학 적층체는 화상 표시 장치에 적용될 수 있다. 따라서, 본 발명은 그와 같은 광학 적층체를 이용한 화상 표시 장치를 포함한다. 화상 표시 장치의 대표예로는 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다. 본 발명의 실시 형태에 따른 화상 표시 장치는 그 시인 측에 상기 A항 내지 F항에 기재된 광학 적층체를 구비한다. 광학 적층체는 도전층이 표시 셀(예컨대, 액정 셀, 유기 EL 셀) 측이 되도록(편광자가 시인 측이 되도록) 배치되어 있다. 화상 표시 장치는 일 실시 형태에 있어서는 굴곡 가능(bendable)하고, 다른 실시 형태에 있어서는 접이 가능(foldable)하다.
[실시예]
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다.
(1) 두께
도전층에 대해서는 오오츠카 전자 제조의 MCPD 2000을 이용하여 간섭 막 두께 측정법에 의해 측정하였다. 그 밖의 필름에 대해서는 디지털 마이크로미터(안리츠사 제조 KC-351C)를 이용하여 측정하였다.
(2) 위상차층의 위상차값
실시예 및 비교예에서 이용한 위상차층(위상차 필름)의 굴절률 nx, ny 및 nz를 자동 복굴절 측정 장치(오우시 계측 기기 주식회사 제조, 자동 복굴절계 KOBRA-WPR)로 계측하였다. 면내 위상차(Re)의 측정 파장은 450nm 및 550nm이고, 두께 방향 위상차(Rth)의 측정 파장은 550nm이며, 측정 온도는 23℃이었다.
(3-1) 반사 색상
얻어진 유기 EL 표시 장치 대체품에 광학 적층체를 실장하고 코니카미놀타 사 제조의 분광 측색기 CM-2600d를 이용하여 반사 색상을 측정하였다. a* , b* 모두 절대값이 10 이하이고, 반사율(Y)이 30% 이하인 경우는 "○", a*, b* 및 반사율의 적어도 하나가 그 범위를 초과하는 경우는 "×"로 하였다.
(3-2) 굴곡부 색 얼룩 평가
얻어진 곡면 표시 장치 대체품에 실장한 광학 적층체의 색감을 육안으로 관찰하고 굴곡부와 평면부와의 색 변화가 작은 것을 "○", 색 변화가 큰 것을 "×"라고 하였다.
(4) 광 탄성 계수
실시예 및 비교예에서 이용한 위상차 필름을 20mm×100mm의 크기로 절취하여 시료를 제작하였다. 이 시료를 분광 타원기(일본 분광사 제조, M-150)에 의해 파장 550nm의 광으로 측정하고 광 탄성 계수를 얻었다.
(5) 환원 점도
수지 시료를 염화메틸렌에 용해시키고, 정밀하게 0.6g/dL의 농도의 수지 용액을 조제하였다. 모리토모 리카 공업사 제조의 우베로데형 점도관을 이용하여 온도 20.0℃±0.1℃에서 측정을 실시하고, 용매의 통과 시간(t0) 및 용액의 통과 시간(t)을 측정하였다. 얻어진 t0 및 t의 값을 이용하여 다음 식(i)에 의해 상대 점도(ηrel)를 구하고, 추가로, 얻어진 상대 점도(ηrel)를 이용하여 다음 식(ii)에 의해 비점도η(sp)를 구하였다.
ηrel=t/t0 ( i )
ηsp=(η-η0)/η0=ηrel-1 (ii)
그 후, 얻어진 비점도(ηsp)를 농도(c)[g/dL]로 나누어 환원 점도(ηsp/c)를 구하였다.
(6) 유리 전이 온도
에스아이아이·나노테크놀로지사 제조의 시차 주사 열량계 DSC6220을 이용하여 측정하였다. 약 10mg의 수지 시료를 동사 제조의 알루미늄 팬에 넣고 밀봉하여 50mL/분의 질소 기류하, 승온 속도 20℃/분에서 30℃에서 220℃까지 승온하였다. 3분간 온도를 유지한 후, 30℃까지 20℃/분의 속도로 냉각하였다. 30℃에서 3분 유지하고 재차 220℃까지 20℃/분의 속도로 승온하였다. 2회째의 승온에서 얻어진 DSC 데이터로부터, 저온 측의 베이스 라인을 고온 측으로 연장한 직선과 유리 전이의 계단상 변화 부분의 곡선의 구배가 최대가 되는 점에서 그은 접선과의 교점의 온도인, 외삽(extrapolated) 유리 전이 개시 온도를 구하여 이를 유리 전이 온도로 하였다.
(7) 용융 점도
펠렛상의 수지 시료를 90℃에서 5시간 이상 진공 건조시켰다. 건조한 펠렛을 이용하여 (주)토요 정기 제작소 제조의 캐필러리 레오미터로 측정하였다. 측정 온도는 240℃로 하고, 전단 속도 9.12∼1824sec-1 사이에서 용융 점도를 측정하여 91.2sec-1에서의 용융 점도의 값을 이용하였다. 또한, 오리피스에는 다이스 직경이 φ1mm×10mmL인 것을 이용하였다.
(8) 굴절률
후술의 실시예와 비교예에서 제작한 미연신 필름에서 길이 40mm, 폭 8mm의 직사각형 시험편을 절취하여 측정 시료로 하였다. 589nm(D선)의 간섭 필터를 이용하여 (주)아타고 제조의 다파장 아베 굴절률계 DR-M4/1550로 굴절률(nD)을 측정하였다. 측정은 계면액으로서 모노브로모나프탈렌을 이용하여 20℃에서 수행하였다.
(9) 전광선 투과율
상기의 미연신 필름을 측정 시료로 이용하여 니혼 덴쇼쿠 공업(주) 제조의 탁도계 COH400을 이용하여 전광선 투과율을 측정하였다.
(모노머의 합성예)
[합성예 1] 비스[9-(2-페녹시카보닐에틸)플루오렌-9-일]메탄(BPFM)의 합성
일본국 특개 2015-25111호에 기재된 방법으로 합성하였다.
[합성예 2] 6,6'-디히드록시-3,3,3',3'-테트라메틸-1,1'-스피로비인단(SBI)의 합성
일본국 특개 2014-114281호에 기재된 방법으로 합성하였다.
[폴리카보네이트 수지의 합성예 및 특성 평가]
이하의 실시예 및 비교예에서 이용한 화합물의 약호 등은 다음과 같다.
· BPFM:비스[9-(2-페녹시카보닐에틸)플루오렌-9-일]메탄
· BCF:9,9-비스(4-히드록시-3-메틸페닐)플루오렌(오사카 가스 케미컬(주) 제조)
· BHEPF:9,9-비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]플루오렌(오사카 가스 케미컬(주) 제조)
· ISB:이소소르비드(로켓 프레르사 제조, 상품명:POLYSORB)
· SBI:6,6'-디히드록시-3,3,3', 3'-테트라메틸-1,1'-스피로비인단
· SPG:스피로글리콜(미츠비시 가스 화학(주) 제조)
· PEG:폴리에틸렌글리콜 수 평균 분자량:1000(산요 화성(주) 제조)
· DPC:디페닐카보네이트(미츠비시 화학(주) 제조)
[실시예 1]
(위상차층의 제작)
SBI 6.04중량부(0.020mol), ISB 59.58중량부(0.408mol), BPFM 34.96중량부(0.055mol), DPC 79.39중량부(0.371mol) 및 촉매로서 칼슘아세테이트 1수화물 7.53×10-4중량부(4.27×10-6mol)을 반응 용기에 투입하여 반응 장치 내를 감압 질소 치환하였다. 질소 분위기하, 150℃에서 약 10분간 교반하면서 원료를 용해시켰다. 반응 1단째의 공정으로서 220℃까지 30분에 걸쳐 승온하고, 60분간 상압에서 반응하였다. 이어서 압력을 상압에서 13.3kPa까지 90분에 걸쳐 감압하고, 13.3kPa에서 30분간 유지하여 발생하는 페놀을 반응계 밖으로 빼내었다. 이어서 반응 2단째의 공정으로서 열매(熱媒) 온도를 15분에 걸쳐 245℃까지 승온하면서 압력을 0.10kPa 이하까지 15분에 걸쳐 감압하고, 발생하는 페놀을 반응계 밖으로 빼내었다. 소정의 교반 토크에 도달 후, 질소로 상압까지 복압하여 반응을 정지하고, 생성한 폴리에스테르카보네이트 수지를 수중에 압출하여 스트랜드를 절단하여 펠릿을 얻었다. 얻어진 수지의 환원 점도는 0.375dL/g, 유리 전이 온도는 165℃, 용융 점도는 5070Pa·s, 굴절률은 1.5454, 광 탄성 계수는 15×10-12m2/N이었다.
100℃에서 5시간 이상, 진공 건조를 한 수지 펠릿을, 이스즈 화공기(주) 제조의 단축 압출기(스크류 직경 25mm, 실린더 설정 온도:255℃)를 이용하여 T다이 (폭 200mm, 설정 온도:250℃)로부터 압출하였다. 압출한 필름을 칠롤(chill roll, 설정 온도:155℃)로 냉각하면서 권취기로 롤상으로 하여, 미연신 필름을 100㎛ 두께의 필름으로 제작하였다. 상기와 같이 하여 얻어진 폴리카보네이트 수지 필름을 120mm×150mm의 직사각형의 시험편을 안전 면도칼로 절취하고, 배치식 2축 연신 장치(브루크너사 제조)로 길이 방향으로 연신 온도 171℃, 연신 속도 5mm/sec로 1×2.4 배의 1축 연신을 수행하였다.
이상과 같이하여, 위상차 필름(두께 64㎛)을 얻었다. 얻어진 위상차 필름의 Re(550)은 147nm, Rth(550)은 147nm이고, nx>ny=nz의 굴절률 특성을 나타내었다. 또한, 얻어진 위상차 필름의 Re(450)/Re(550)은 0.81이었다. 위상차 필름의 지상축방향은 길이 방향에 대하여 0°이었다.
(위상차층/도전층의 적층체의 제작)
상기 위상차 필름(위상차층) 표면에 인듐-주석 복합 산화물로 이루어지는 투명 도전층(두께 20nm)을 스퍼터링에 의해 형성하고, 위상차층/도전층의 적층체를 제작하였다. 구체적인 순서는 다음과 같다:Ar 및 O2(유량비는 Ar:O2=99.9:0.1)를 도입한 진공 분위기하(0.40Pa)에서, 10중량%의 산화 주석과 90중량%의 산화 인듐과의 소결체를 대상으로 이용하여 필름 온도를 130℃로 하고, 수평 자장(磁場)을 100mT로 하는 RF 중첩 DC 마그네트론 스퍼터링법(방전 전압 150V, RF 주파수 13.56MHz, DC 전력에 대한 RF 전력의 비(RF전력/DC 전력)는 0.8)을 이용하였다. 얻어진 투명 도전층을 150℃ 온풍 오븐에서 가열하여 결정 전화 처리를 실시하였다.
(편광자의 제작)
두께 30㎛의 폴리비닐알코올(PVA)계 수지 필름(쿠라레사 제조, 제품명 "PE3000")의 장척 롤을 롤 연신기에 의해 길이 방향으로 5.9배가 되도록 길이 방향 으로 1축 연신하면서 동시에 팽윤, 염색, 가교, 세정 처리를 실시하고, 마지막으로 건조 처리를 실시함으로써 두께 12㎛의 편광자를 제작하였다.
구체적으로는 팽윤 처리는 20℃의 순수로 처리하면서 2.2배로 연신하였다. 이어서, 염색 처리는 얻어지는 편광자의 단체 투과율이 45.0%가 되도록 요오드 농도가 조정된 요오드와 요오드화 칼륨의 중량비가 1:7인 30℃의 수용액 중에서 처리하면서 1.4배로 연신하였다. 또한, 가교 처리는 2단계의 가교 처리를 채용하여, 1단계째의 가교 처리는 40℃의 붕산과 요오드화 칼륨을 용해한 수용액에서 처리하면서 1.2배로 연신하였다. 1단계째의 가교 처리 수용액의 붕산 함유량은 5.0중량%이고, 요오드화 칼륨 함유량은 3.0중량%로 하였다. 2단계째의 가교 처리는 65℃의 붕산과 요오드화 칼륨을 용해한 수용액에서 처리하면서 1.6배로 연신하였다. 2단계째의 가교 처리의 수용액의 붕산 함유량은 4.3중량%이고, 요오드화 칼륨 함유량은 5.0중량%로 하였다. 또한, 세정 처리는 20℃의 요오드화 칼륨 수용액으로 처리하였다. 세정 처리의 수용액의 요오드화 칼륨 함유량은 2.6중량%로 하였다. 마지막으로, 건조 처리는 70℃에서 5분간 건조시켜 편광자를 얻었다.
(편광판의 제작)
상기 편광자의 편측에, 폴리비닐알코올계 접착제를 개재하여 TAC 필름을 첩합하여 보호층/편광자의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.
(광학 적층체의 제작)
상기에서 얻어진 편광판의 편광자면과 상기에서 얻어진 위상차층/도전층의 적층체의 위상차층면을, 아크릴계 점착제를 개재하여 첩합하였다. 또한, 위상차 필름은 첩합 시에, 그 지상축과 편광자의 흡수축이 45도의 각도를 이루도록 절취하였다. 또한, 편광자의 흡수축은 길이 방향으로 평행이 되도록 배치하였다. 이와 같이하여 보호층/편광자/위상차층/도전층의 구성을 갖는 광학 적층체를 얻었다.
(화상 표시 장치 대체품의 제작)
유기 EL 표시 장치의 대체품을 다음과 같이 제작하였다. 유리판에 알루미늄 증착 필름(도레이 필름 가공사 제조, 상품명 "DMS 증착 X-42", 두께 50㎛)을 점착제로 첩합하여 유기 EL 표시 장치의 대체품으로 하였다. 얻어진 광학 적층체의 도전층 측에 아크릴계 점착제로 점착제층을 형성하고, 치수 50mm×50mm로 절취하여, 유기 EL 표시 장치 대체품에 실장하고, 그 반사 색상을 상기 (3-1)의 순서로 측정하였다. 이 때, 컨트롤로서, 도전층을 형성하지 않았던 것 이외에는 상기와 동일하게 하여 제작한 보호층/편광자/위상차층의 구성을 갖는 광학 적층체를 이용한 실장품에 대해서도 동일하게 그 반사 색상을 상기 (3-1)의 순서로 측정하였다.
(곡면 표시 장치 대체품의 제작)
곡면 표시 장치의 대체품을 다음과 같이 제작하였다. 탁상 네임 플레이트(플러스사 제조, L형 카드 홀더, 폭×깊이×높이가 120mm×29mm×60mm)에 상기 알루미늄 증착 필름 "DMS 증착 X-42"을 점착제로 첩합하여 곡면 표시 장치의 대체품으로 하였다. 도전층을 형성하지 않았던 것 이외에는 상기와 동일하게 하여 제작한 보호층/편광자/위상차층의 구성을 갖는 광학 적층체를 당해 대체품에 아크릴계 점착제를 개재하여 첩합하여 실장품을 얻었다. 또한, 광학 적층체에 있어서, 위상차 필름(위상차층)은 그 지상축과 편광자의 흡수축이 45도의 각도를 이루도록 절취하였다. 또한, 광학 적층체는 위상차층의 지상축과 굴곡부가 늘어나는 방향이 직교하도록 배치하였다. 실장품에서의 굴곡부 및 평면부의 색감을 육안으로 관찰하여 상기 (3-2)의 기준으로 평가하였다.
화상 표시 장치 대체품 및 굴곡 표시 장치 대체품에서의 상기 (3-1) 및 (3-2)의 평가 지표로부터 스퍼터를 직접 형성하는 원 편광판의 실력 지표로 하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 2]
SBI 15.10중량부(0.049mol), ISB 42.27중량부(0.289mol), SPG 15.10중량부(0.050mol), BPFM 26.22중량부(0.041mol), DPC 75.14중량부(0.351mol) 및 촉매로서 칼슘아세테이트 1수화물 2.05×10- 3중량부(1.16×10-5mol)를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 폴리에스테르 카보네이트 수지를 얻었다. 얻어진 수지의 환원 점도는 0.334dL/g, 유리 전이 온도는 157℃, 용융 점도는 3020Pa·s, 굴절률은 1.5360, 광 탄성 계수는 12×10-12m2/N이었다.
상기의 폴리카보네이트 수지를 이용하고, 및 길이 방향으로 연신 온도 162℃, 연신 속도 5mm/sec로 1×2.4배의 1축 연신을 수행한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 위상차 필름(두께 65㎛)을 얻었다. 얻어진 위상차 필름의 Re(550)은 140nm , Rth(550)은 140nm이고, nx>ny=nz의 굴절률 특성을 나타내었다. 또한, 얻어진 위상차 필름의 Re(450)/Re(550)은 0.86이었다. 위상차 필름의 지상축 방향은 길이 방향에 대하여 0°이었다.
[비교예 1]
위상차층으로서 시판되는 폴리카보네이트 수지 필름(테이진사 제조, 상품명 "퓨어에이스 WR")을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 광학 적층체 및 유기 EL 표시 장치 대체품을 제작하였다. 얻어진 유기 EL 표시 장치 대체품을 실시예 1과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 2]
SPG 60.43중량부(0.199mol), BCF 32.20중량부(0.085mol), DPC 64.40중량부(0.301mol) 및 촉매로서 칼슘아세테이트 1수화물 2.50×10- 3중량부(1.42×10-5 mol)를 이용하고, 최종 중합 온도를 260℃로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 수행하여 폴리카보네이트 수지를 얻었다. 얻어진 수지의 환원 점도는 0.499dL/g, 유리 전이 온도는 135℃, 용융 점도는 2940Pa·s, 굴절률은 1.5334, 광 탄성 계수는 13×10-12m2/N이었다. 이 폴리카보네이트 수지로 형성한 필름을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 광학 적층체 및 유기 EL 표시 장치 대체품을 제작하였다. 얻어진 유기 EL 표시 장치 대체품을 실시예 1과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 3]
위상차층으로서 시판되는 시클로올레핀계 수지 필름(일본 제온사 제조, 상품명 "ZEONOR", 면내 위상차 147nm)을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 광학 적층체 및 유기 EL 표시 장치 대체품을 제작하였다. 얻어진 유기 EL 표시 장치 대체품을 실시예 1과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 4]
비교예 1에서 이용한 위상차층을 실시예 1에서 이용한 편광판에 첩합하여 보호층/편광자/위상차층의 구성을 갖는 원 편광판을 얻었다. 한편, 시판의 시클로올레핀계 수지 필름(일본 제온사 제조, 상품명 "ZEONOR", 면내 위상차 3nm)을 기재로 이용하고, 당해 기재의 표면에 실시예 1과 동일하게 하여 인듐-주석 복합 산화물로 이루어지는 투명 도전층을 스퍼터링에 의해 형성하였다. 원 편광판의 위상차층면과 기재/도전층의 적층체의 도전층면을 아크릴계 점착제로 첩합하여 보호층/편광자/위상차층/도전층/기재의 구성을 갖는 광학 적층체를 얻었다. 이 광학 적층체를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 유기 EL 표시 장치를 제작하였다. 얻어진 유기 EL 표시 장치를 실시예 1과 동일하게 하여 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[표 1]
[평가]
표 1로부터 명확한 바와 같이, 위상차층의 Tg, 광 탄성 계수 및 파장 의존성을 조합하여 소정의 범위로 설정함으로써, 스퍼터링으로 도전층을 표면에 직접 형성하여도 소망하는 광학 특성을 유지할 수 있다는 것을 알 수 있다. 광 탄성 계수가 큰 위상차층을 이용한 비교예 1은 굴곡부의 색 얼룩이 불량하다. Tg가 낮은 위상차층을 이용한 비교예 2는 도전층의 형성(스퍼터링)에 의해 반사 색상이 불량하다. 플랫한 파장 분산 특성을 갖는 위상차층을 이용한 비교예 3은 도전층(스퍼터링)의 유무에 관계없이 반사 색상이 불량하다. 기재에 도전층을 형성하고 기판/도전층의 적층체를 첩합한 비교예 4는 기재 및 첩합을 위한 점착제층의 두께만큼이 두꺼워져 있다. 또한, 비교예 4는 굴곡부의 색 얼룩이 불량하다.
본 발명의 광학 적층체는 화상 표시 장치(대표적으로는 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치)에 바람직하게 이용될 수 있다.
10 : 편광자
20 : 위상차층(위상차 필름)
30 : 도전층
40 : 보호층
100 : 광학 적층체

Claims (9)

  1. 편광자와, 위상차층과, 상기 위상차층의 표면에 직접 형성된 도전층을 구비하고,
    상기 위상차층은 면내 위상차 Re(550)이 100nm∼180nm이며, 또한, Re(450)<Re(550)<Re(650)의 관계를 만족하고, 및 유리 전이 온도(Tg)가 155℃ 이상 180℃ 이하이며, 광 탄성 계수의 절대값이 1.0×10-12(m2/N) 이상 20×10-12(m2/N) 이하이고,
    상기 위상차층의 지상축과 상기 편광자의 흡수축이 이루는 각도가 35°∼55°인,
    광학 적층체.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 위상차층이 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 구조 단위를 적어도 함유하는 폴리카보네이트 수지로 구성되는, 광학 적층체.
    [화학식 1]

    [화학식 2]

    (상기 화학식 1 및 화학식 2 중, R1∼R3은 각각 독립적으로 직접 결합, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼4의 알킬렌기이고, R4∼R9는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼10의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 4∼10의 아릴기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼10의 아실기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼10의 알콕시기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼10의 아릴옥시기, 치환기를 가져도 되는 아미노기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼10의 비닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼10의 에티닐기, 치환기를 갖는 황 원자, 치환기를 갖는 규소 원자, 할로겐 원자, 니트로기 또는 시아노기이다. 다만, R4∼R9는 서로 동일하여도, 상이하여도 되고, R4∼R9 중 인접하는 적어도 2개의 기가 서로 결합하여 환을 형성하여도 된다.)
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 위상차층이 하기 화학식 3으로 표시되는 구조 단위를 적어도 함유하는 폴리카보네이트 수지로 구성되는, 광학 적층체.
    [화학식 3]

    (상기 화학식 3 중, R10∼R15는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기, 아릴기, 탄소수 1∼12의 알콕시기 또는 할로겐 원자를 나타낸다.)
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 위상차층이 하기 화학식 4로 표시되는 구조 단위를 적어도 함유하는 폴리카보네이트 수지로 구성되는, 광학 적층체.
    [화학식 4]
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 폴리카보네이트 수지의 측정 온도 240℃, 전단 속도 91.2sec-1에서의 용융 점도가 3000Pa·s 이상 7000Pa·s 이하인, 광학 적층체.
  6. 제 2 항에 있어서,
    상기 폴리카보네이트 수지의 나트륨 d선(589nm)에서의 굴절률이 1.49 이상 1.56 이하인, 광학 적층체.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 편광자의 상기 위상차층과 반대 측에 첩합된 보호층을 추가로 구비하는, 광학 적층체.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 편광자와 상기 위상차층과의 사이에 보호층을 추가로 구비하는, 광학 적층체.
  9. 제 1 항에 기재된 광학 적층체를 시인 측에 구비하고, 상기 광학 적층체의 편광자가 시인 측에 배치되는, 화상 표시 장치.
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