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KR101933227B1 - 가스 스트림에서 아산화질소의 제거 방법 - Google Patents

가스 스트림에서 아산화질소의 제거 방법 Download PDF

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쉘 인터내셔날 리써취 마트샤피지 비.브이.
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Abstract

오염 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림에서 아산화질소를 제거하여 크게 감소된 농도의 아산화질소를 갖는 가스 스트림을 제공하는 방법을 설명한다. 본 방법은 공급 가스 스트림이 생성물 스트림과 열 교환 관계에 있는 제1 열 전달 구역을 통과하여, 열이 생성물 스트림으로부터 공급 가스 스트림으로 전달됨으로써 가열된 가스 스트림을 제공하는 단계; 상기 가열된 가스 스트림이 아산화질소 또는 다른 오염 물질의 분해를 제공하는 N2O 분해 촉매 및 임의로 다른 촉매와 조합물을 함유하는 반응 구역을 지나가고, 그로부터 감소된 농도의 아산화질소를 가지는 생성물 스트림을 산출하는 단계; 및 생성물 스트림이 제1 열 전달 구역을 지나, 냉각된 생성물 스트림을 제공하는 단계를 포함한다.

Description

가스 스트림에서 아산화질소의 제거 방법{A PROCESS FOR REMOVING NITROUS OXIDE FROM A GAS STREAM}
본 발명은 가스 스트림 내 오염 농도(contaminating concentration)로 함유되는 아산화질소 (N2O)를 제거하는 방법에 관한 것이다.
보통 소기(laughing gas)로 알려진, 아산화질소 (N2O)는 탄소-함유 물질, 예컨대 탄화수소, 및 질소 함유 화합물, 예컨대 암모니아 (NH3) 연소의 생성물일 수 있다. 다른 연소 생성물은 NO 및 NO2 (둘을 함께 NOx로 지칭할 수 있음)의 산화 질소를 포함한다. 아산화질소는 특정한 다른 온실 가스 예컨대 이산화탄소 (CO2)보다 온실 효과 및 지구 온난화에 더 큰 기여자로 생각되고 있으며, 대기중에 배출되는 연소 가스 내 함유된 오염 농도의 아산화질소를 경제적으로 제거할 수 있는 방법을 제공하는 것이 바람직할 것이다.
선행 기술은 일반적으로 아산화질소의 제거보다는 연소 가스에 함유된 산화 질소의 감소에 좀 더 초점을 맞추어 왔다. 가스 스트림에서 NOx를 제거하기 위해 사용되는 한가지 방법은 선택적인 촉매 환원 (SCR) 방법이다. 이 방법의 한 버전은 US 7,294,321에서 설명한다. 이 선택적인 촉매 환원 방법에서, 일정 농도의 NOx 및 암모니아 (NH3) (통상적으로 반응물로 연소 가스에 첨가됨)를 함유하는 연소 가스는 NOx가 암모니아 및 산소와 반응하여 질소 및 물을 산출하는 환원 반응을 촉진시키는 촉매와 접촉한다.
US 7,459,135에서 설명한 것은 NOx의 촉매 환원을 위해 사용되는 촉매이다. 이 촉매는 팔라듐-함유 제올라이트를 포함하고, 여기서 제올라이트는 또한 스칸듐 또는 이트륨 또는 란탄 계열 원소 또는 이들의 조합을 포함한다. 그러나, US 7,459,135의 교시는 아산화질소의 촉매적 분해와 관련되지 않는다. 반면에, 가스에 함유된 아산화질소의 촉매적 분해를 포함하는 한 방법이 US 6,143,262에서 설명하는 방법이다. 이 방법에서, 아산화질소를 함유하는 가스는 주로 산화 주석을 포함하나, 추가로 조-촉매로서 코발트를 함유할 수 있는 촉매와 접촉한다.
아산화질소의 촉매적 분해에 대한 또 다른 방법은 US 2008/044334에서 설명한다. 이 문헌은 아산화질소 (N2O)의 질소 (N2) 및 산소 (O2)를 산출하는 촉매적 분해에 사용되는 촉매를 교시한다. US 2008/044334에서 대략적으로 설명하는 촉매는 제1 귀 금속 및 제2 전이 금속이 로딩되어 있는 제올라이트를 포함한다. 제1 금속은 루테늄 (Ru), 로듐 (Rh), 오스뮴 (Os), 및 이리듐 (Ir)으로 구성되는 군에서 선택되고, 제2 금속은 철 (Fe), 코발트 (Co), 및 니켈 (Ni)로 구성되는 군에서 선택된다.
아산화질소가 특정한 다른 온실 가스보다 매우 더 큰 지구 온난화 지수(global warming potential)를 가지는 온실 가스이기 때문에, 고 농도의 아산화질소를 가지고 대기 중에 배출되는 가스 스트림에서 아산화질소를 제거하는 방법을 보유하는 것이 바람직하다. 추가적으로 이런 방법은 비용-효율적이고, 열적으로 효율적인 방식으로 아산화질소의 제거를 달성하는 것이 바람직하다.
따라서, 오염 농도의 아산화질소 (N2O)를 함유하는 가스 스트림에서 아산화질소를 제거하기 위한 방법이 제공되고, 여기서 상기 방법은 공급 가스 스트림이 생성물 스트림과 열 교환 관계에 있는 제1 열 전달 구역을 통과하여, 열이 생성물 스트림으로부터 공급 가스 스트림으로 전달됨으로써 가열된 가스 스트림을 제공하는 단계; 상기 가열된 가스 스트림이 아산화질소의 분해를 제공하는 N2O 분해 촉매를 함유하는 반응 구역을 지나가고, 그로부터 감소된 농도의 아산화질소를 가지는 생성물 스트림을 산출하는 단계; 및 생성물 스트림이 제1 열 전달 구역을 지나, 냉각된 생성물 스트림을 제공하는 단계를 포함한다.
도 1은 오염 농도의 아산화질소를 함유하는 가스 스트림에서 아산화질소를 제거하기 위한 본 발명 방법의 공정 흐름 및 시스템 배열에 대한 개략도이다.
본 발명 방법은 오염 또는 고 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림에서 아산화질소를 제거하는 매우 에너지 효율적인 방법이다. 아산화질소는 극도로 높은 지구 온난화 지수를 가지는 온실 가스이고 지구 대기의 오존층 감소에 기여한다. 본 발명 방법은 아산화질소를 함유하는 가스 스트림에서 제거되는 온실 가스, 즉, 아산화질소의 주어진 양에 대해 낮게 요구되는 에너지 투입을 제공하고, 본 방법은 아산화질소 및 이산화탄소 모두의 제거를 포함하는 총 온실 가스 제거의 높은 백분율을 제공한다.
아산화질소는 다양한 연소 수단 예컨대 소각로, 용광로, 보일러, 연소식 히터, 연소 엔진 및 다른 연소 장치에 의한 탄소질 물질 및 질소 함유 화합물의 다양한 유형의 연소 동안 생산될 수 있다. 연소될 수 있는 탄소질 및 질소 함유 물질은 예를 들어, 나무 및 다른 셀룰로오스성 물질, 석탄, 연료유 및 다른 석유 또는 미네랄 유래 연료, 연료 가스 및 다른 가스, 및 다른 탄소질 물질, 및 질소 함유 물질, 예컨대, 암모니아 및 아민을 포함할 수 있다. 본 발명 방법의 더 흔한 연소 물질은 암모니아일 것이고, 이것은 질산, 아디프산, 글리옥살, 및 글리옥실산의 파괴, 또는 사용, 또는 생산 중 어느 하나의 이런 공급원으로부터 생산될 수 있음이 고려된다. 통상적으로, 암모니아는 연소될 때 연소 가스를 산출하는 연소 혼합물을 제공하는 가스와 공기의 혼합을 제공하는 버너에서 태운다. 이들 연소 가스는 종종 바람직하지 않은 연소 생성물 예컨대 일산화탄소, 산화 질소 및 아산화질소를 함유한다.
탄소질 물질의 연소는 오염 농도의 아산화질소를 포함할 수 있는 가스 스트림을 제공한다. 아산화질소를 제거하기 위한 본 발명 방법으로 처리될 수 있는 가스 스트림은 일반적으로, 약 100 ppmv 내지 약 600,000 ppmv (60 부피%) 범위로 오염 농도의 아산화질소를 통상적으로 가질 것이다. 그러나, 더욱 통상적으로, 가스 스트림 내 아산화질소 농도는 100 ppmv 내지 10,000 ppmv (1 부피%) 범위일 것이고, 가장 통상적으로는, 100 ppmv 내지 5,000 ppmv 범위이다.
연소 가스 스트림의 다른 성분은 공급원이 암모니아 및 질산과 같은 질소 함유 화합물에 함유될 수 있는 질소 및 수증기, 이산화탄소 및 탄소질 물질의 연소에 사용되는 공기를 어느 정도 포함할 수 있다. 연소 가스 스트림 내 이산화탄소의 양은 통상적으로 약 5 부피% 내지 약 20 부피% 범위일 수 있고 연소 스트림 내 수증기의 양은 통상적으로 약 5 부피% 내지 20 부피% 범위일 수 있다. 연소 가스 스트림 내 질소 분자는 50 부피% 내지 80 부피% 범위일 수 있다. 만약 과량의 산소가 탄소질 물질 연소에 사용된다면, 그 후에 산소 분자가 또한, 연소 가스 스트림에 존재할 수 있다. 보통은, 탄소질 물질을 태울 때 과량의 산소를 사용하는 것은 바람직하지 않으나, 과량의 산소가 연소에 사용될 때, 통상적으로, 산소가 0.1 부피% 내지 3.5 부피% 범위와 같은, 약 4 부피%, 또는 그 이상까지의 범위의 농도로 연소 가스 스트림에 존재할 수 있다.
연소 가스 스트림의 다른 성분은 NOx, CO, 및 SOx를 포함할 수 있다. NOx는 약 1 ppmv 내지 약 10,000 ppmv (1 부피%) 범위의 농도로 연소 가스 스트림에 존재할 수 있다. 일산화탄소는 1 ppmv 내지 2,000 ppmv 또는 그 이상의 범위의 농도로 존재할 수 있다. 본 방법은 연소 가스 스트림 내 NOx, CO, VOC, 다이옥신 및 다른 바람직하지 않은 성분의 환원에 유용한 촉매를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명 방법은 하나 이상의 열 전달 구역의 사용에 의한 고 열 회수를 제공한다. 본 방법은 원하는 경우, 병렬의 또는 직렬의 하나 이상의 반응 구역으로 작동될 수 있다. 본 방법 및 시스템은 또한 고 열 회수 효율과 함께 고 아산화질소 파괴 제거 효율을 제공한다.
본 공정 시스템의 각각의 반응 구역은 구조에 의해 형성되고, 이런 반응 구역 각각 내에 함유된 것은 N2O 분해 촉매이다. N2O 분해 촉매는 아산화질소의 촉매성 분해 또는 전환을 제공하여 질소 및 산소를 산출한다. 본 방법의 조건 하에서 사용될 수 있고 아산화질소 분해 반응을 촉매하는 임의의 적합한 촉매가 본 공정 시스템의 반응 구역에서 사용될 수 있다.
본 발명 방법에 특히 유용한 촉매는, 본 명세서에서 참고문헌으로 인용된 문헌인 미국 특허 공보 제2008/0044334호에서 개시된 것들을 포함한다. 이런 적합한 촉매는 US 2008/0044334에서 상세하게 설명되는 것들을 포함하고, 이것은, 일반적으로, 루테늄, 로듐, 은, 레늄, 오스뮴, 이리듐, 백금 및 금으로 구성된 군에서 선택되는 귀 금속이 로딩되고, 바나듐, 크로뮴, 망간, 철, 코발트, 니켈 및 구리로 구성된 군에서 선택되는 전이 금속이 로딩된 제올라이트를 포함한다.
본 공정 시스템의 각각의 열 전달 구역은 구조에 의해 형성된다. 열 전달 구역은 이 분야의 통상의 기술자에게 공지된 열 교환기의 임의의 유형을 포함할 수 있다. 제1 열 전달 구역은 바람직하게는 공급 가스 스트림 및 생성물 스트림이 직접 접촉하지 않도록 설계된다. 제1 열 전달 구역은 쉘(shell) 및 튜브, 판 유형의 교환기, 또는 열 교환 시스템의 임의의 다른 유형을 포함할 수 있다. 제2 열 교환 구역은 전기의 또는 가스-연소의 또는 스팀 가열용 또는 이들의 조합을 위한 열 교환기 또는 장치를 포함할 수 있다. 게다가 제2 열 전달 구역은 가열된 가스 스트림에 열을 제공하는 같거나 또는 다른 방법 중 하나를 사용하는 수 개의 열 전달 구역을 포함할 수 있다. 제3 열 전달 구역은 바람직하게는 절약 장치 또는 폐열 보일러 또는 열 전달 유체 교환기이다.
이미 기재한 것처럼, 본 발명 방법은 오염 농도의 아산화질소를 함유하는 가스 스트림에서 아산화질소의 제거를 제공한다. 통상적으로, 본 방법의 가스 스트림은 연소 가스를 포함하고 일정 농도의 아산화질소를 추가로 포함하는 연소 배기 가스 스트림이고, 이것은 또한 일정 농도의 NOx 화합물을 추가로 포함할 수 있다. 그러나, 비록 NOx 화합물의 제거가 얻어질 수 있을지라도 본 발명 방법의 특별한 목적은 가스 스트림에서의 이들의 제거가 아니다.
연소 배기 가스 스트림에서 NOx의 제거에 사용되는 통상적인 선택적 촉매 환원 방법에서, NOx를 전환하기 위해서 환원 촉매와 가스 스트림의 접촉과 함께 무수 암모니아, 암모니아수 또는 요소와 같은 반응물 또는 환원제의 존재가 요구된다. 반면에, 본 발명 방법에서는, N2O 분해 촉매와 접촉하여 아산화질소 분해가 일어나는 아산화질소 함유 가스 스트림에 환원제가 있을 필요는 없다. 일정 농도의 암모니아 또는 요소, 또는 둘 다가 실질적으로 없는 가스 스트림이 더 바람직하고; 따라서, 본 발명 방법의 가스 스트림은 일정 농도의 암모니아 또는 요소, 또는 둘 다, 또는 약 10,000 ppmv 미만, 바람직하게는 1,000 ppmv 미만, 및 가장 바람직하게는 10 ppmv 미만을 포함해야 한다.
또한 본 발명 방법의 한 바람직한 양상은 가스 스트림이 저 농도의 탄화수소 화합물을 포함하는 것이다. 따라서, 본 발명 방법의 가스 스트림의 바람직한 탄화수소 농도는 총 가스 스트림의 200 ppmv 미만, 바람직하게는 50 ppmv 미만, 및 더욱 바람직하게는 20 ppmv 미만을 함유하는 것이다. 탄화수소는 일반적으로 표준 압력 및 표준 온도 조건에서 보통 가스인 것들일 것이고 메탄, 에탄, 프로판 및 부탄을 포함할 수 있다.
본 발명 방법에서, 오염 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림이 제1 열 전달 구역 내로 지나가고 유입된다. 공급 가스 스트림은 제1 열 전달 구역 내로 유입되고 여기서 생성물 스트림과 공급 가스 스트림 사이에서 열적 또는 열 에너지가 교환된다. 본 방법의 착수 시, 열이 제1 열 전달 구역을 통과하는 또 다른 스트림에 의해 제공될 수 있다. 대안으로, 본 시스템 착수 시에 요구되는 열은 전기식 가열, 가스-연소 가열 또는 스팀 가열을 포함하는 이 분야의 통상의 기술자에게 공지된 임의의 가열 수단에 의해 제공될 수 있다.
통상적으로, 열 전달 구역 내로 유입되는 가스 스트림의 온도는 약 10 ℃ 내지 약 400 ℃의 범위이다. 제1 열 전달 구역으로부터 산출된 가열된 가스 스트림은 제2 열 전달 구역을 지난다. 가스 스트림은 생성물 스트림과의 열 전달에 의해 제1 열 전달 구역에서 가열된다. 생성물 스트림은 N2O 분해 반응의 발열 성질 및 가열 단계 때문에 공급물 스트림보다 더 뜨겁다. 제2 열 전달 구역은 스트림을 적합한 N2O 분해 반응 조건으로 가열하는데 필요한 임의의 추가 열을 제공하기 위해 이 분야의 통상의 기술자에게 공지된 임의의 가열 방법을 사용한다. 열은 가스-연소 버너, 전기식 가열, 스팀, 촉매성 연소, 또는 또 다른 스트림과의 열 교환에 의해 제공될 수 있다.
한 실시양태에서, N2O 농도는 본 방법이 제2 열 전달 구역으로 열 유입없이 작동될 수 있을 만큼 충분히 높다.
가열된 가스 스트림은 그 후에 반응 구역 내로 유입된다. 반응 구역 내에는 N2O 분해 촉매가 함유되어 있다. 이 N2O 분해 촉매는 본 명세서의 다른 곳에서 설명되는 바와 같은 조성을 갖는다. 가열된 가스 스트림은 반응 구역의 N2O 분해 촉매와 접촉할 때 아산화질소 분해 반응이 발생하게 하는 온도를 보유한다. 따라서, 가열된 가스 스트림의 온도는 일반적으로 400 ℃ 내지 700 ℃의 범위여야 한다.
반응 구역 내는, 가열된 가스 스트림 내 함유된 아산화질소의 적어도 한 부분의 질소 및 산소로의 분해를 제공하기에 적합한 반응 조건이고, 그 후에, 감소된 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림이 반응 구역으로부터 산출된다. 통상적으로, 이 단계에서는, 아산화질소 분해 반응의 발열 성질 때문에, 감소된 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림이 반응 구역 내 유입된 가열된 가스 스트림의 온도 초과의 다소 상승된 온도를 가질 것이다. 열 전달 구역으로부터 지나가고 반응 구역 내로 유입되는 가열된 가스 스트림의 온도와 반응 구역으로부터 산출되는 감소된 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림의 온도 사이의 온도 차이인, 발열은 최저 온도에서 200 ℃의 증가까지 증가하는 범위일 수 있다. 그러나, 더욱 통상적으로, 발열은 5 ℃ 내지 200 ℃의 범위이고, 가장 통상적으로는, 10 ℃ 내지 45 ℃의 범위이다.
감소된 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림은 그 후에 반응 구역에서 제1 열 전달 구역을 통과한다.
제1 열 전달 구역 내로 유입된 감소된 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림은 반응 구역으로부터 산출될 때 그 온도와 근접한 온도를 가질 수 있거나, 또는 임의로, 이 온도는 감소된 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림이 제1 열 전달 구역을 통과하기 전에 추가의 열 에너지를 도입하여 추가로 상승될 수 있다. 따라서, 제1 열 전달 구역 내로 유입되는 감소된 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림의 온도는 약 400 ℃ 내지 약 700 ℃ 범위의 온도를 가질 것이다. 더욱 통상적으로, 온도는 450 ℃ 내지 550 ℃의 범위일 수 있다.
그 후에 감소된 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림은 제1 열 전달 구역에서 제3 열 전달 구역으로 통과한다. 냉각된 가스 스트림은 그 후에 제3 열 전달 구역으로부터 산출된다. 제3 열 전달 구역으로부터 지나가는 냉각된 가스 스트림은 본 공정 시스템의 제1 열 전달 구역 내에 유입되는 가스 스트림의 온도와 근접한 온도를 가질 것이다.
냉각된 가스 스트림은 그 후에 제3 열 전달 구역으로부터 추가적인 처리를 위해 배기 스택(flue stack) 또는 하류부로 통과할 것이다. 아산화질소의 농도는 본 공정 시스템의 열 전달 구역을 통과하는 초기의 가스 스트림의 아산화질소의 오염 농도보다 훨씬 더 낮다.
본 발명 방법에 의해 파괴된 아산화질소 양의 측정은 본 발명 방법의 전체적인 아산화질소 파괴 제거 효율 백분율로 반영될 수 있다. 이 값은 본 공정 시스템으로 통과하는 오염 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림에 함유된 아산화질소 및 냉각된 가스 스트림에 함유된 아산화질소의 농도의 차이를 계산하고 그 차이를 가스 스트림 내 아산화질소의 오염 농도로 나누고 그 비율에 100을 곱하여 계산된다. 본 공정 시스템에 걸친 아산화질소 파괴 제거 효율 (Deff)은 그 후에 식, ((Ci-Co)/Ci)×100으로 나타낼 수 있고, 여기서 Ci는 오염 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림의 아산화질소 농도이며, Co는 냉각된 가스 스트림의 아산화질소의 농도이다.
본 공정 시스템에 걸친 아산화질소 파괴 제거 효율이 중요하고 75 %보다 클 수 있다. 아산화질소 파괴 제거 효율이 85 % 초과인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는, 이것은 95 % 초과이다. 본 발명 방법의 가장 바람직한 실시양태는, 아산화질소 파괴 제거 효율이 97.5 % 초과 및 심지어 99.9 % 초과일 수 있다. 냉각된 가스 스트림 내 아산화질소의 농도가 100 ppmv 미만인 것이 바람직하고, 바람직하게는, 이것은 75 ppmv 미만이다. 더욱 바람직하게는, 냉각된 가스 스트림 내 아산화질소의 농도는 50 ppmv 미만이다.
이제 도 1을 참고로 하는데, 이는 오염 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림에서 아산화질소를 제거하는 본 발명 방법의 공정 스트림 및 공정 시스템 (10)의 개략도를 나타낸다.
공정 시스템 (10)은 제1 열 전달 구역 (12)을 포함한다. 열 전달 구역 (12)은 각각 별도의 열 전달 구역을 형성하는 하나 이상의 또는 많은 유닛을 포함할 수 있음이 이해된다.
오염 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림은 도관(conduit) (20)을 거쳐 지나가고 열 전달 구역 (12) 내에 유입된다. 공정 시스템 (10)의 초기 작동에서, 도관 (20) 내 가스 스트림의 온도는 가열된 시작 스트림과 접촉함으로써 또는 이 분야의 통상의 기술자에게 공지된 임의의 다른 가열 방법에 의해 상승될 수 있다.
제1 열 전달 구역 (12)은 도관 (22)에 의해 제2 열 전달 구역 (14)과 유효하게 연결되고 유체 흐름 소통(fluid flow communication)한다. 제2 열 전달 구역은 도관 (24)에 의해 반응 구역 (16)과 유효하게 연결되고 유체 흐름 소통한다.
반응 구역 (16)은 N2O 분해 촉매를 포함하는 별도의 N2O 분해 반응 구역을 각각 형성하는 하나 이상의 또는 많은 반응기를 포함할 수 있음이 이해된다.
가스 스트림이 열 전달 구역 (12) 및 (14)를 통과함으로써, 열적 또는 열 에너지가 먼저, 생성물 스트림 (열 전달 구역 (12) 내)으로부터 및 이어서 또 다른 가열 방법 (열 전달 구역 (14) 내)으로부터 가스 스트림에 전달된다. 가열된 가스 스트림이 산출되고 도관 (24)에 의해 열 전달 구역 (14)으로부터 지나고 반응 구역 (16) 내로 유입된다.
반응 구역 (16) 내, 가스 스트림은 가스 스트림에 함유된 아산화질소의 적어도 일 부분의 질소 및 산소로의 분해를 촉진하는데 적합한 N2O 분해 반응 조건 하에서 N2O 분해 촉매와 접촉한다. N2O 분해 반응기 (16)는 제1 열 전달 구역 (12)과 유효하게 연결되고 이것과 유체 흐름 소통하고 있다.
감소된 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림은 반응 구역 (16)으로부터 산출되고 도관 (26)을 지나 제1 열 전달 구역 (12)에 유입된다. 감소된 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림은 제1 열 전달 구역을 통과하여 공급 가스 스트림에 열 또는 열적 에너지를 전달한다.
감소된 농도의 아산화질소를 가지는 가스 스트림은 제3 열 전달 구역 (18)을 지나 냉각된 가스 스트림을 생산한다. 냉각된 가스 스트림이 산출되고 도관 (30)에 의해 제3 열 전달 구역 (18)으로부터 하류부로 지나간다.
냉각된 가스 스트림은 도관 (20)에 의해 열 전달 구역 (12) 내에 유입되는 가스 스트림의 아산화질소의 오염 농도보다 훨씬 더 낮은 아산화질소의 농도를 가질 것이다.
한 실시양태에서, 반응 구역은 또한 NH3 및 NOx의 제거를 위한 선택적인 촉매 환원 (SCR) 촉매를 함유한다. NH3는 이미 스트림에 존재하고 통상적인 SCR 반응 시스템에서처럼 시약으로 첨가할 필요가 없다.
또 다른 실시양태에서, 반응 구역은 또한 NOx, NH3, SOx, VOC, CO, 다이옥신 등의 환원에 적합한 촉매를 함유한다.

Claims (10)

  1. (a) 오염 농도의 아산화질소 (N2O)를 함유하는 공급 가스 스트림이 생성물 스트림과 열 교환 관계에 있는 제1 열 전달 구역을 통과하여, 열이 생성물 스트림으로부터 공급 가스 스트림으로 전달됨으로써 가열된 가스 스트림을 제공하는 단계;
    (b) 상기 가열된 가스 스트림이 아산화질소 분해를 제공하는 N2O 분해 촉매를 함유하는 반응 구역을 지나가고, 그로부터 감소된 농도의 아산화질소를 가지는 생성물 스트림을 산출하는 단계; 및
    (c) 생성물 스트림이 제1 열 전달 구역을 지나, 냉각된 생성물 스트림을 제공하는 단계
    를 포함하는, 오염 농도의 아산화질소를 함유하는 공급 가스 스트림에서 아산화질소의 제거 방법.
  2. 제1항에 있어서, 단계 (a)로부터의 가열된 가스 스트림이 제2 열 전달 구역을 지나, 가열된 가스 스트림이 추가로 가열되는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 냉각된 생성물 스트림이 제3 열 전달 구역을 지나, 냉각된 생성물 스트림으로부터 추가의 열을 회수하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 냉각된 생성물 스트림이 대기를 지나기 전에 추가의 처리 공정을 지나 추가의 온실 가스 성분을 제거하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 오염 농도의 아산화질소가 약 100 ppmv 내지 약 600,000 ppmv의 범위이고, 상기 방법의 아산화질소 파괴 제거 효율 (Deff)이 75 % 초과인 방법.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 N2O 분해 촉매가 루테늄, 로듐, 은, 레늄, 오스뮴, 이리듐, 백금 및 금으로 구성된 군에서 선택된 귀 금속이 로딩되고, 바나듐, 크로뮴, 망간, 철, 코발트, 니켈 및 구리로 구성된 군에서 선택된 전이 금속이 로딩된 제올라이트를 포함하는 것인 방법.
  7. 제2항에 있어서, 상기 제2 열 전달 구역이 전기식 히터, 가스 버너, 스팀 히터 또는 촉매성 변환기(converter)를 포함하는 것인 방법.
  8. 제3항에 있어서, 상기 제3 열 전달 구역이 물 또는 스팀을 가열하여 스팀을 생산하거나 또는 스팀을 가열하는 것인 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 반응 구역이 추가의 촉매를 포함하는 것인 방법.
  10. 제1항, 제2항, 제7항 및 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 가스 스트림이 촉매와 접촉하여 가스 스트림 내 NOx, CO, VOC 또는 다이옥신의 함량을 감소시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
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