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KR101876960B1 - 박막형성 장치 - Google Patents

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KR101876960B1
KR101876960B1 KR1020170031670A KR20170031670A KR101876960B1 KR 101876960 B1 KR101876960 B1 KR 101876960B1 KR 1020170031670 A KR1020170031670 A KR 1020170031670A KR 20170031670 A KR20170031670 A KR 20170031670A KR 101876960 B1 KR101876960 B1 KR 101876960B1
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KR
South Korea
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gas
raw material
substrate
chamber unit
material gas
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Application number
KR1020170031670A
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Inventor
곽동주
강경우
김강희
Original Assignee
주식회사 에이치비테크놀러지
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Publication date
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Abstract

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 기판의 표면상에 원료가스가 공급되고, 공급된 원료가스에 레이저 광을 조사하며 레이저 광과 반응한 원료가스에 의해 기판에 박막을 형성시켜 기판의 결함을 보정하는 박막형성 장치에 있어서, 상기 기판의 상부에 챔버유닛이 구비되고, 상기 챔버유닛에는 원료가스를 체류시키는 가스체류공간부가 형성되고, 상기 가스체류공간부의 상단 개구부를 덮는 창이 형성되어 상기 창의 상부에서 레이저 광이 조사되되, 상기 챔버유닛의 내부로 가스를 공급 및 배기시키는 배관이 다수개 연결되는 것을 특징으로 하는 박막형성 장치가 제공된다.

Description

박막형성 장치{Thin film forming apparatus}
본 발명은 박막형성 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 포토 마스크(photo mask), LCD 및 OLED의 TFT배선 등과 같은 평면 패턴구조를 갖는 기판의 결함들을 보정하는 박막형성 장치에 관한 것이다.
레이저 화학기상증착(Laser assisted Chemical Vapor Deposition) 방식은 기판 상의 배선을 수정하는 부분 근방에 원료 가스(Source Gas)를 공급하는 동시에 그 기판 상의 수정 부분에 레이저광을 조사하고, 레이저광의 에너지에 의해 활성화한 원료 가스를 막으로 하여 수정 부분에 퇴적(deposition)함으로써 기판상의 배선이 수정된다.
이러한 레이저 화학기상증착(Laser assisted Chemical Vapor Deposition) 방식은 대한민국 등록특허 제10-0381940호에 개시되어 있다.
그러나 포화증기압곡선에 의해 일정 온도를 갖고 있는 원료 가스가 상온의 기판에 닿게 되면 기판의 낮은 온도로 인하여 원료 가스는 열에너지를 빼앗기게 됨으로써 원료 가스가 원활하게 분해되지 않아 도1에 도시된 바와 같이 고체화된 비정상 결정화에 의해 이물질이 생성된다.
즉, 원료 가스를 기판 표면에 공급하였을 때에 레이저광을 조사하고 있는 않은 부분에서도 원료가스와 기판의 온도차에 의해 원료 가스가 재결정화되고, 재결정화에 의해 생성된 이물질이 배선의 결함 부분으로 되어 기판의 품질을 저하시킨다.
대한민국 등록특허 10-0381940호
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 가스체류공간부로 원료가스가 방향성을 갖도록 유도하여 공급함으로써 증착 분위기가 형성되도록 하고, 기판의 가공 부위를 국부적으로 가열하는 열풍공급수단이 구비된 박막형성 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
그러나 본 발명의 목적은 상기에 언급된 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 기판의 표면상에 원료가스가 공급되고, 공급된 원료가스에 레이저 광을 조사하며 레이저 광과 반응한 원료가스에 의해 기판에 박막을 형성시켜 기판의 결함을 보정하는 박막형성 장치에 있어서, 상기 기판의 상부에 챔버유닛이 구비되고, 상기 챔버유닛에는 원료가스를 체류시키는 가스체류공간부가 형성되고, 상기 가스체류공간부의 상단 개구부를 덮는 창이 형성되어 상기 창의 상부에서 레이저 광이 조사되되, 상기 챔버유닛의 내부로 가스를 공급 및 배기시키는 배관이 다수개 연결되는 것을 특징으로 하는 박막형성 장치가 제공된다.
또한, 상기 챔버유닛에는 상기 가스체류공간부의 일측면으로부터 원료가스를 공급시키는 원료공급수단과, 가공부분 주변부의 기판을 국부적으로 가열하기 위한 가열가스를 공급시키는 열풍공급수단과, 상기 가스체류공간부에서 배출되는 원료가스 및 가열가스를 배기하는 배기수단이 형성된다.
그리고 상기 챔버유닛의 내부에는 상기 원료공급수단, 열풍공급수단 및 배기수단이 상기 배관과 각각 연통되도록 연결시켜주는 다수의 내부통로가 형성된다.
한편, 상기 원료공급수단은 상기 가스체류공간부에 원료 가스 도입구가 형성되어 가스체류공간부의 측면으로부터 원료가스가 분출되고, 상기 원료 가스 도입구가 기판을 향하도록 소정각도 기울어져 기판 상면의 가공부분으로 원료가스가 분출되는 흐름이 형성된다.
또한, 상기 열풍공급수단은 상기 챔버유닛 저면에 상기 가스체류공간부의 하단 개구부를 중심으로 방사상으로 열풍구가 다수개 형성되어 가열가스가 분출됨으로써 기판의 가공부분 주변부를 국부적으로 가열시킨다.
그리고 상기 배기수단은 상기 챔버유닛 저면에 상기 원료 가스 도입구와 대향되도록 원료가스 공급방향의 전방으로 배기구가 형성된다.
이때, 상기 배기구는 상기 가스체류공간부의 하단 개구부와 상기 열풍구 사이에 형성되되, 상기 배기구는 원료가스 공급방향과 수직을 이루는 수평방향으로 다수개 형성될 수 있다.
한편, 상기 챔버유닛에는 상기 원료 가스 도입구로부터 분기되는 바이패스 라인(Bypass Line)이 형성되어 기판이 존재하지 않거나 가공을 진행하지 않을 때, 원료 가스 도입구의 원료가스를 흡입하여 가스체류공간부로 분사되지 않도록 방지할 수 있다.
또한, 상기 배관에는 공급 및 배기되는 가스의 온도를 측정하기 위한 온도센서와, 가스의 유량을 조절하기 위한 유량 조절 장치가 각각 구비되어 가스의 유량을 조절할 수 있다.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.
이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니 되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 따르면, 바이패스 라인(bypass line)으로 원료 가스(source gas)의 비산을 방지할 수 있으며, 기판을 국부적으로 가열하여 균일한 증착막을 형성할 수 있는 효과가 있다.
또한, 가스체류공간부로 원료가스가 방향성을 갖도록 유도하여 공급하고, 원료 가스 도입구와 배기구가 대향되도록 배치되어 원료 가스(source gas)가 분산되지 않고 중앙으로 밀집됨으로써 레이저 화학기상 증착 가공의 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 원료 가스가 고체화되어 비정상 결정화된 상태를 나타낸 도,
도 2는 본 발명에 따른 챔버유닛을 개략적으로 나타낸 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 챔버유닛을 개략적으로 나타낸 단면도,
도 4는 본 발명에 따른 챔버유닛의 하면을 개략적으로 나타낸 배면도,
도 5는 본 발명에 따른 레이저 화학기상증착을 실행한 후의 균일한 증착막을 나타낸 도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다.
또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 하여 내려져야 할 것이다.
아울러, 아래의 실시예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것이 아니라 본 발명의 청구범위에 제시된 구성요소의 예시적인 사항에 불과하며, 본 발명의 명세서 전반에 걸친 기술사상에 포함되고 청구범위의 구성요소에서 균등물로서 치환 가능한 구성요소를 포함하는 실시예는 본 발명의 권리범위에 포함될 수 있다.
첨부된 도 2는 본 발명에 따른 챔버유닛을 개략적으로 나타낸 사시도, 도 3은 본 발명에 따른 챔버유닛을 개략적으로 나타낸 단면도, 도 4는 본 발명에 따른 챔버유닛의 하면을 개략적으로 나타낸 배면도, 도 5는 본 발명에 따른 레이저 화학기상증착을 실행한 후의 균일한 증착막을 나타낸 도이다.
도 2 이하에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 박막형성 장치는 기판(substrate)의 표면상에 원료가스(source gas)가 공급되고, 공급된 원료 가스(source gas)에 레이저 광을 조사하며 레이저 광과 반응한 원료 가스(source gas)에 의해 기판에 박막을 형성시켜 기판의 결함을 보정한다.
또한, 더욱 상세하게는 포토 마스크(photo mask), LCD 및 OLED의 TFT배선 등과 같은 평면 패턴구조를 갖는 기판(substrate)의 결함들을 보정하는 박막형성 장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 박막형성 장치는 상기 기판의 상부에 챔버유닛이(10) 구비되고, 상기 챔버유닛(10)에는 원료 가스(source gas)를 체류시키는 가스 체류 공간부(110)가 형성된다.
이때, 상기 가스체류공간부(110)의 상단 개구부를 덮는 창(20)이 구비된다.
즉, 상기 챔버유닛(10)의 상단부와 하단부를 관통하여 개방되는 개구부가 형성되며, 챔버유닛(10)의 상면에는 레이저 광을 조사하는 레이저 유닛(미도시)이 구비된다.
그리고 상기 창(20)의 상부에서 레이저 광이 조사되며, 상기 챔버유닛(10)의 내부로 가스를 공급 및 배기시키는 배관(30)이 다수개 연결된다.
이때, 상기 배관(30)에는 공급 및 배기되는 가스의 온도를 측정하기 위한 온도센서(미도시)와, 가스의 유량을 조절하기 위한 유량 조절 장치(미도시)가 각각 구비되어 가스의 유량을 조절할 수 있다.
또한, 상기 챔버유닛(10)에는 상기 가스 체류 공간부(110)의 일측면으로부터 원료 가스(source gas)를 공급시키는 원료 공급 수단과, 가공부분 주변부의 기판(substrate)을 국부적으로 가열하기 위한 가열 가스(heating gas)를 공급시키는 열풍공급수단과, 상기 가스 체류 공간부(110)에서 배출되는 원료 가스(source gas) 및 가열 가스(heating gas)를 배기하는 배기수단이 형성된다.
그리고 상기 챔버유닛(10)의 내부에는 상기 원료공급수단, 열풍공급수단 및 배기수단이 상기 배관(30)과 각각 연통되도록 연결시켜주는 다수의 내부통로(미도시)가 형성된다.
한편, 상기 원료 공급 수단은 상기 가스 체류 공간부(110)에 원료 가스 도입구(120)가 형성되어 가스 체류 공간부(110)의 측면으로부터 원료 가스(source gas)가 분출된다.
이때, 상기 원료 가스 도입구(120)가 기판(substrate)을 향하도록 소정각도 기울어져 기판(substrate) 상면의 가공부분으로 원료 가스(source gas)가 분출되는 흐름이 형성된다.
즉, 상기 원료 가스 도입구(120)가 기판의 면에 평행하게 설치된다면 원료 가스(source gas)는 기판의 상면에 거의 수직으로 하강하는 흐름으로 형성되어 챔버유닛(10)과 기판 사이의 공간으로 많은 양의 원료 가스(source gas)가 확산된다.
따라서 상기 원료 가스 도입구(120)가 기판(substrate)을 향하도록 기울어지게 형성시킴으로써 기판(substrate) 상면의 가공부분으로 원료 가스(source gas)가 분출되도록 유도할 수 있어 증착 분위기를 형성시킬 수 있는 효과가 있다.
또한, 상기 열풍공급수단은 상기 챔버유닛(10) 저면에 상기 가스 체류 공간부(110)의 하단 개구부를 중심으로 방사상으로 열풍구(130)가 다수개 형성되어 가열 가스(heating gas)가 분출됨으로써 기판(substrate)의 가공부분과 가공부분의 주변부를 국부적으로 가열시킨다.
따라서 80℃~100℃의 고온의 가열 가스(heating gas)를 이용해 기판을 국부적으로 가열(50℃ 이상)하여 원료 가스(source gas)의 재결정화를 방지함으로써, 성장형 이물이 감소되기 때문에 균일한 증착막을 형성할 수 있는 효과가 있다.
또한, 상기 열풍구(130)는 원료 가스(source gas)가 분출되고 체류하는 가스 체류 공간부(110)의 주변부를 일정간격 방사상으로 감싸도록 배치됨으로써 에어 커튼(air curtain)의 역할을 수행함으로써 원료 가스(source gas)가 외부로 노출되는 것을 방지하고, 외부의 불필요한 가스가 가공부분으로 유입되는 것을 차단시켜 증착막의 질을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
그리고 상기 배기수단은 상기 챔버유닛(10) 저면에 상기 원료 가스 도입구(120)와 대향되도록 원료 가스(source gas) 공급방향의 전방(180ㅀ)으로 배기구(140)가 형성된다.
이때, 상기 배기구(140)는 상기 가스 체류 공간부(110)의 하단 개구부와 상기 열풍구(130) 사이에 형성된다.
또한, 상기 다수개의 열풍구(130)는 원으로 형성되되, 상기 열풍구(130)들의 중심은 하나의 원으로 연결되고, 각 열풍구(130)의 중심은 상기 레이저 광이 조사되는 중심에서 동일한 거리에 위치하며, 상기 하나의 원의 내부에 상기 배기구가(140) 위치된다.
또한, 상기 다수개의 열풍구(130)의 중심을 연결하는 하나의 원(C1)의 중심과 상기 레이저광이 조사되는 중심이 동일하며, 상기 다수개의 열풍구(130)는 상기 하나의 원을 동일각도로 분할하여 배치된다.
따라서 상기 다수개의 열풍구(130)는 상기 가스 체류 공간부(110)의 하단 개구부의 주변부를 동일간격으로 에워싸게 배치됨으로써 기판(substrate)의 가공부분과 가공부분의 주변부를 국부적으로 가열시켜 원료 가스(source gas)의 재결정화를 방지함으로써, 성장형 이물이 감소되기 때문에 균일한 증착막을 형성할 수 있는 효과가 있다.
즉, 도 1과 도 5를 참조하여 비교하면, 종래에는 기판을 가열하지 않아 원료 가스가 상온의 기판에 닿게 되면 기판의 낮은 온도로 인하여 원료 가스는 열에너지를 빼앗기게 됨으로써 원료 가스가 원활하게 분해되지 않아 고체화된 비정상 결정이 생성되었지만. 본 발명에 따른 박막형성 장치는, 다수개의 열풍구(130)를 상기 가스 체류 공간부(110)의 하단 개구부의 주변부를 동일간격으로 애워싸게 배치됨으로써 판(substrate)의 가공부분과 가공부분의 주변부를 국부적으로 가열시켜 원료 가스(source gas)의 재결정화를 방지하여 균일한 증착막을 형성할 수 있다.
그리고 상기 배기구(140)는 원료 가스(source gas) 공급방향과 수직을 이루는 수평방향으로 다수개 형성될 수 있다.
즉, 상기 배기구(140)가 원료 가스 도입구(120)의 원료 가스(source gas) 공급방향의 전방으로 형성됨에 따라 원료 가스(source gas)를 밀집도를 향상시킬 수 있다.
따라서 상기 원료 가스 도입구(120)가 기판(substrate)을 향하도록 기울어지게 형성시킴으로써 기판(substrate) 상면의 가공부분으로 원료 가스(source gas)가 분출되도록 유도하며, 상기 배기구(140)가 원료 가스 도입구(120)의 원료 가스(source gas) 공급방향의 전방으로 형성됨에 따라 원료 가스(source gas)를 가공부분으로의 밀집도를 향상시켜 증착 분위기를 형성시킬 수 있는 효과가 있다.
즉, 원료 가스(source gas)가 분출되면서 퍼지지 않고 기판(substrate) 상면의 가스 체류 공간부(110) 중심부 측인 중심으로 밀집되어 증착 분위기를 형성함으로써 더 적은 양의 원료 가스(source gas)로도 종래와 동일양의 증착막을 형성할 수 있다.
한편, 상기 챔버유닛(10)에는 상기 원료 가스 도입구(120)로 부터 분기되는 바이패스 라인(Bypass Line)(150)이 형성되어 기판(substrate)이 존재하지 않거나 가공을 진행하지 않을 때, 원료 가스 도입구(120)의 원료 가스(source gas)를 흡입하여 가스 체류 공간부(110)로 분사되지 않도록 방지할 수 있다.
또한, 상기 바이패스 라인(Bypass Line)(150)은 상기 배관(30)과 연통되도록 연결시켜주는 내부통로가 형성된다.
따라서 본 발명에 따른 상기 챔버유닛(10)에 의하면, 레이저 화학기상 증착 가공을 진행하지 않을 때, 바이패스 라인(150)을 가동시켜 원료 가스(source gas)의 입자(particle)의 비산을 방지할 수 있는 효과가 있다.
한편, 도 2 내지 도 4를 참조하면 소정 두께를 갖는 판 형상으로 상기 챔버유닛(10)이 구비된다.
그리고 상기 챔버유닛(10)의 일측에는 다수개의 배관(30)이 챔버유닛(10)을 기준으로 대향되도록 연결된다.
또한, 상기 챔버유닛(10)의 타측 소정의 위치에는 챔버유닛(10)을 관통하는 개구부인 가스 체류 공간부(110)가 형성되며, 상기 가스체류공간부(110)의 상단 개구부를 덮는 창(20)이 구비된다.
또한, 도 4에 나타나 있지 않지만 상기 가스 체류 공간부(110)에 원료 가스 도입구(120)가 형성되고, 상기 원료 가스 도입구(120)로 부터 분기되는 바이패스 라인(Bypass Line)(150)이 형성된다.
또한, 상기 챔버유닛(10)의 저면에는 상기 가스 체류 공간부(110)의 하단 개구부를 중심으로 방사상으로 열풍구(130)가 다수개 형성되며, 상기 원료 가스 도입구(120)와 대향되도록 원료 가스(source gas) 공급방향의 전방(180ㅀ)으로 배기구(140)가 형성된다.
이때, 상기 챔버유닛(10)의 내부에는 상기 원료가스 도입구(120) 바이패스라인(150), 열풍구(130) 및 배기구(140)와 상기 배관(30)이 각각 연통되도록 연결시켜주는 다수의 내부통로(미도시)가 형성된다.
또한, 다수개 형성되는 열풍구(130)와 배기구(140)는 챔버유닛(10) 내에서 열풍구(130)와 배기구(140)를 연결하는 각각의 연결통로가 형성되고, 이 연결통로와 내부통로가 연결되어 가스가 공급되거나 배기된다.
즉, 상기 챔버유닛(10)에는 원료가스(source gas)를 공급하는 원료가스공급배관이 구비되어 연결되고, 상기 챔버유닛(10)의 내부에는 상기 원료가스 도입구(120)와 원료가스공급배관이 연통되도록 원료가스내부통로가 형성된다.
또한, 바이패스라인(150)과 연통되는 바이패스배관이 챔버유닛(10)에 연결되며, 챔버유닛(10)의 내부에는 바이패스라인(150)과 바이패스배관이 연통되도록 바이패스내부통로가 형성된다.
그리고 상기 열풍구(130)는 챔버유닛(10)의 내부에서 다수의 열풍구가 연결되도록 링형상의 열풍구연결통로가 형성되고, 상기 열풍구연결통로와 가열가스를 공급하는 가열가스공급배관을 연통시키는 열풍구내부통로가 챔버유닛(10)의 내부에 형성된다.
또한, 상기 배기구(140)는 챔버유닛(10)의 내부에서 다수의 배기구가 연결되도록 배기구연결통로가 형성되고, 상기 배기구연결통로와 가스를 배기시키는 배기배관을 연통시키는 배기구내부통로가 챔버유닛(10) 내부에 형성된다.
또한, 상기 챔버유닛(10)의 내부에 형성된 다수의 내부통로는 서로 겹치지 않도록 형성되는 것은 당연하다.
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 범주에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 명확해질 것이다.
10 : 챔버유닛 20 : 창
30 : 배관 110 : 가스체류공간부
120 : 원료 가스 도입구 130 : 열풍구
140 : 배기구 150 : 바이패스 라인(bypass line)

Claims (8)

  1. 기판의 표면상에 원료가스가 공급되고, 공급된 원료가스에 레이저 광을 조사하며, 레이저 광과 반응한 원료가스에 의해 기판에 박막을 형성시켜 기판의 결함을 보정하는 박막형성 장치에 있어서,
    상기 기판의 상부에 챔버유닛이 구비되고,
    상기 챔버유닛에는 원료가스를 체류시키는 가스체류공간부가 형성되고, 상기 가스체류공간부의 상단 개구부를 덮는 창이 형성되어 상기 창의 상부에서 레이저 광이 조사되되,
    상기 챔버유닛의 내부로 가스를 공급 및 배기시키는 배관이 다수개 연결되고,
    상기 챔버유닛에는 상기 가스체류공간부의 일측면으로부터 원료가스를 공급시키는 원료공급수단과, 가공부분 주변부의 기판을 국부적으로 가열하기 위한 가열가스를 공급시키는 열풍공급수단과, 상기 가스체류공간부에서 배출되는 원료가스 및 가열가스를 배기하는 배기수단이 형성되되,
    상기 챔버유닛의 내부에는 상기 원료공급수단, 열풍공급수단 및 배기수단이 상기 배관과 각각 연통되도록 연결시켜주는 다수의 내부통로가 형성되며,
    상기 원료공급수단은 상기 가스체류공간부에 원료 가스 도입구가 형성되어 가스체류공간부의 측면으로부터 원료가스가 분출되고,
    상기 열풍공급수단은 상기 챔버유닛 저면에 상기 가스체류공간부의 하단 개구부를 중심으로 방사상으로 열풍구가 다수개 형성되어 가열가스가 분출됨으로써 기판의 가공부분과 상기 가공부분의 주변부를 국부적으로 가열시키며,
    상기 원료 가스(source gas)는 기판의 상면에 수직으로 하강하는 흐름을 방지하기 위해, 상기 원료 가스 도입구는 상기 기판의 상면을 향하도록 소정각도 기울어져 기판의 가공부분으로 원료가스를 분출시킴으로써, 상기 원료 가스 도입구로부터 분출된 원료가스는 방향성을 갖도록 유도되어 원료가스의 확산을 방지하여 증착 분위기를 효과적으로 형성시킬 수 있되,
    상기 배기수단은 상기 챔버유닛 저면에 상기 원료 가스 도입구와 대향되도록 원료가스 공급방향의 전방에 배기구가 형성되고,
    상기 배기구는 상기 가스체류공간부의 하단 개구부와 상기 열풍구 사이에 형성되되, 상기 배기구는 원료가스 공급방향과 수직을 이루는 수평방향으로 다수개 형성되어 원료가스를 가스 체류 공간부 중심의 가공부분으로 밀집도를 향상시키며,
    상기 챔버유닛에는 상기 원료 가스 도입구로부터 분기되는 바이패스 라인(Bypass Line)이 형성되어 기판이 존재하지 않거나 가공을 진행하지 않을 때, 원료 가스 도입구의 원료가스를 흡입하여 가스체류공간부로 분사되지 않도록 방지하는 것을 특징으로 하는 박막형성 장치.
  2. 삭제
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  7. 삭제
  8. 제1항에 있어서,
    상기 배관에는 공급 및 배기되는 가스의 온도를 측정하기 위한 온도센서와, 가스의 유량을 조절하기 위한 유량 조절 장치가 각각 구비되어 가스의 유량을 조절하는 것을 특징으로 하는 박막형성 장치.
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