KR101416629B1 - 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법, 및 이에 의해 제조되는 제품 - Google Patents
미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법, 및 이에 의해 제조되는 제품 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법에 관한 것으로서, 공정이 간단하면서도 종래의 공정 결함 문제가 해소될 수 있고, 불량률 감소, 원가 절감, 생산 수율의 향상이 가능해지는 판상 제품의 제조 방법을 제공하는데 주된 목적이 있는 것이다. 또한 본 발명은 낮은 생산 단가로 저가 제품을 생산하는데 적합하며, 견고하고 다양한 시각적 효과를 제공하는 기능성 다층 구조의 미세 패턴을 형성할 수 있는 방법을 제공하는데 그 목적이 있는 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 빛에 반응하는 광 반응 수지를 기판 위에 도포한 뒤, 기판 위에 도포된 광 반응 수지의 선택된 영역에 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발함으로써, 기판 위의 수지층 내부에 투명도 차이에 의해 구분되는 미세 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 판상 제품의 제조 방법을 제공한다.
Description
본 발명은 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법에 관한 것으로서, 공정이 간단하면서 불량률 감소, 원가 절감, 생산 수율의 향상이 가능해지는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법에 관한 것이다.
기판 표면에 미세 패턴을 형성하기 위한 종래의 방법으로는, 나노 또는 마이크로 패턴이 가공된 몰드를 이용하여 미세 패턴이 형성된 필름을 직접 성형하거나, 마스터 몰드를 이용하여 필름형 몰드를 제작한 뒤 이 필름형 몰드를 이용하여 기판 표면에 미세 패턴을 성형하는 방법을 들 수 있다.
여기서, 필름형 몰드를 이용하는 방법은 마스터 몰드의 수명을 연장할 수 있는 이점이 있다.
이러한 공정의 선행문헌으로는 공개특허 제10-2009-0030932호와 등록특허 제10-0601264 등을 들 수 있다.
도 1은 종래의 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로서, 몰드(mold)를 이용한 열적 성형 방법을 나타내고 있다.
도시된 바와 같이, 미세 패턴이 형성된 몰드(3)를 이용하여 기판(1) 표면의 성형용 수지(2)를 일정한 온도로 가열한 뒤 압력을 가하여 미세 패턴을 성형한다.
그리고, 도 2는 종래의 또 다른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로서, 몰드를 이용한 자외선 성형 방법을 나타내고 있다.
도시된 바와 같이, 미세 패턴이 형성된 몰드(4) 위에 자외선 경화 수지(UV-curable resin)(5)를 균일하게 도포하고, 그 위에 투명 기판(6)을 덮은 다음, 투명 기판(6) 위에서 자외선 경화 수지(5) 쪽으로 자외선을 조사한다.
이때, 투명 기판(6)을 투과한 자외선에 의해 자외선 경화 수지(5)가 경화되는데, 몰드(4)에 의해 성형되고 자외선에 의해 경화된 수지(5)에 미세 패턴이 형성되며, 몰드(4)로부터 투명 기판(6)을 분리하고 나면, 투명 기판(6) 표면에 미세 패턴이 형성된 제품을 제작할 수 있게 된다.
또한 도 3은 종래의 또 다른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로서, 포토마스크와 감광제를 이용한 포토리소그래피(photolithography) 공정을 나타내고 있다.
도시된 바와 같이, 기판(7) 위에 감광제(8)를 균일하게 도포하고, 포토마스크(9)에 의해 노광되는 부분과 노광이 되지 않은 부분을 구분하여 기판(7) 표면의 감광제(8)를 선택적으로 제거함으로써, 기판(7) 위에 원하는 미세 패턴을 형성하게 된다.
이때, 기판 표면에서 노광 영역의 감광제 부분이 제거될 수 있도록 양성 감광제가 사용되거나, 노광이 되지 않은 부분이 제거될 수 있도록 음성 감광제가 사용될 수 있다.
그러나, 상기한 몰드를 이용하는 방법은 몰드 제작 공정이 복잡하고, 성형 공정시에 발생하는 공정 결함이 문제가 되고 있다.
특히, 기판에 마이크로 또는 나노 스케일의 패턴을 전사하기 위해 몰드(또는 스탬프)를 제작함에 있어서, 복잡한 패턴의 경우 몰드를 제작하는데 많은 비용이 소요되고, 이러한 몰드를 이용하여 미세 패턴을 성형하는 과정에서 많은 불량이 발생하여 생산 수율이 낮다는 문제점이 있다.
또한 다층 구조의 미세 패턴을 형성하는 경우에는 매우 취약한 제품 구조를 가지게 된다.
아울러, 반도체나 디스플레이와 같은 고가의 제품을 제조함에 있어서는 포토리소그래피 공정을 적용하여 높은 수율을 얻고 있으나, 이와 같은 공정은 노광-현상-세정 등 공정의 단가가 높기 때문에 필름 제품과 같은 저가 제품에 적용하기에는 적합하지 않으며, 특히 다층 구조의 패턴을 형성하는 경우에 취약한 구조를 가지게 된다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출한 것으로서, 공정이 간단하면서도 종래의 공정 결함 문제가 해소될 수 있고, 불량률 감소, 원가 절감, 생산 수율의 향상이 가능해지는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
또한 본 발명의 다른 목적은 낮은 생산 단가로 저가 제품을 생산하는데 적합하며, 견고하고 다양한 시각적 효과를 제공하는 기능성 다층 구조의 미세 패턴을 형성할 수 있는 방법을 제공하는데에 있다.
또한 본 발명의 또 다른 목적은 휴대전화나 휴대용 PC와 같은 제품의 외장재 또는 외장 부품, 디스플레이 부품 등으로 사용 가능한 미세 패턴을 갖는 기능성 제품을 제조할 수 있는 방법을 제공하는데에 있다.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 빛에 반응하는 광 반응 수지를 기판 위에 도포한 뒤, 기판 위에 도포된 광 반응 수지의 선택된 영역에 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발함으로써, 기판 위의 수지층 내부에 투명도 차이에 의해 구분되는 미세 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법을 제공한다.
여기서, 상기 광 반응 수지의 선택된 영역에만 빛이 조사될 수 있도록 하기 위해, 빛이 통과되는 패턴 형상의 관통 영역을 가지는 선택적 광 투과 부재를 기판에 도포된 수지 위로 위치시킨 다음 빛을 조사하거나, 집속 렌즈에 의해 집속된 빛을 직접 원하는 수지 부분에 조사하는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 광 투과 부재로 포토마스크 또는 나노 스텐실을 이용하는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 빛이 자외선, 레이저, 전자빔 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.
또한 상기 기판은 고분자 기판, 유리 기판, 세라믹 기판, 또는 금속 기판인 것을 특징으로 한다.
또한 상기 수지층 위에서 광 반응 수지를 도포하고 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발하는 과정을 반복함으로써, 내부에 미세 패턴을 갖는 수지층을 기판 위에 이층 이상의 다층 구조로 형성하는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 기판과 미세 패턴이 형성된 수지층 사이에 색을 가지는 색구현층을 적층 형성하는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 색구현층은 염료를 포함하는 잉크를 사용하여 형성하거나, 금속, 산화물, 탄화물, 또는 질화물의 박막을 증착하여 형성하는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 기판과 색구현층 사이, 또는 상기 색구현층과 미세 패턴이 형성된 수지층 사이에 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴을 갖는 패턴 층을 적층 형성하는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 기판과 미세 패턴이 형성된 수지층 사이에 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴을 갖는 패턴 층을 적층 형성하는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 기판은 디스플레이용 윈도우에 부착되는 고분자 재질의 투명 기판 또는 디스플레이용 윈도우 부품으로 사용되는 투명 기판인 것을 특징으로 한다.
또한 상기 미세 패턴을 갖는 최 외곽 수지층의 표면에 내지문 필름을 적층하여 내지문 기능을 가지도록 제조하는 것을 특징으로 한다.
이에 따라, 본 발명의 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법에서는 기판 위에 도포된 광 반응 수지의 선택된 부분에 빛을 조사하여 빛을 받은 수지 부분과 빛을 받지 못한 수지 부분의 투명도 차이를 유발하는 간단한 공정으로 미세 패턴을 형성할 수 있는바, 저비용의 생산이 가능하면서도 종래의 공정 결함 문제가 해소될 수 있고, 불량률 감소, 원가 절감, 생산 수율의 향상이 가능해진다.
또한 본 발명은 다양한 형상의 패턴을 구현할 수 있고, 견고하고 다양한 시각적 효과를 제공하는 기능성 다층 구조의 미세 패턴 형성이 용이하며, 다층 구조에서 다양한 패턴 조합이 가능하므로 응용의 폭이 넓은 이점이 있다.
또한 본 발명은 평면 기판뿐만 아니라 곡면 기판을 사용하여 미세 패턴이 형성된 판상 제품을 제조하는데에도 적용 가능하며, 투명한 필름 기판을 사용하여 디스플레이용 필름을 제조하는데에도 적용될 수 있다.
또한 본 발명은 필름이나 시트, 판재 등과 같은 다양한 형태의 기판을 사용한 제품을 제조하는데 적용될 수 있으며, 이러한 기판 제품은 휴대전화나 휴대용 PC, 그 밖에 알려진 여러 기기나 장치 등의 고급 외장재 또는 외장 부품으로 유용하게 사용될 수 있다.
또한 본 발명은 필름, 유리, 석영, 기타 세라믹이나 금속판 등 기판의 종류에 상관없이 패턴을 형성할 수 있으며, 특히 기판에 압력을 가하는 방식이 아니므로 쉽게 깨질 수 있는 유리 기판에 대해서도 미세 패턴을 형성할 수 있는 이점이 있다.
도 1은 종래의 미세 패턴 형성 방법으로서 몰드를 이용한 열적 성형 방법을 나타내는 도면이다.
도 2는 종래의 또 다른 미세 패턴 형성 방법으로서 몰드를 이용한 자외선 성형 방법을 나타내는 도면이다.
도 3은 종래의 또 다른 미세 패턴 형성 방법으로서 포토마스크와 감광제를 이용한 포토리소그래피 공정을 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 제4실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명의 제5실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 2는 종래의 또 다른 미세 패턴 형성 방법으로서 몰드를 이용한 자외선 성형 방법을 나타내는 도면이다.
도 3은 종래의 또 다른 미세 패턴 형성 방법으로서 포토마스크와 감광제를 이용한 포토리소그래피 공정을 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 제4실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명의 제5실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명하기로 한다.
본 발명은 공정이 간단하고 저비용으로 생산이 가능하면서도 불량률 감소, 원가 절감, 생산 수율의 향상이 가능하고, 견고하고 다양한 시각적 효과를 제공할 수 있는 기능성 미세 패턴 구조를 형성할 수 있는 방법에 관한 것이다.
본 발명에서 미세 패턴이라 함은 나노 스케일 또는 마이크로 스케일까지 포함하는 미세한 패턴을 의미한다.
먼저, 본 발명은, 기판 위에 미세 패턴을 가지는 수지층을 형성하는 방법으로서, 기판 위에 빛에 반응하는 수지를 도포한 뒤, 기판에 도포된 수지의 선택된 영역에 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발함으로써, 기판 위의 수지층 내부에 투명도 차이에 의해 육안 식별되는 미세 패턴을 형성하는 점에 주된 특징이 있는 것이다.
이때, 수지의 선택된 부분에 빛을 조사하는 방법으로는, 포토마스크(photomask)나 나노 스텐실과 같이 패턴 형상의 관통 영역을 가지는 선택적 광 투과 부재를 수지 위로 위치시킨 뒤 빛을 조사하는 방법, 또는 집속 렌즈 등에 의해 집속된 빛을 원하는 수지 부분에 직접 조사하는 방법 등이 이용될 수 있다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 좀더 상세히 설명하기로 한다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로서, 빛과 포토마스크를 이용하여 미세 패턴을 형성하는 방법을 나타내고 있다.
도시된 바와 같이, 빛에 반응하는 수지(12a)를 기판(11) 표면에 균일하게 도포한 뒤, 형성하고자 하는 패턴 형상의 관통 영역을 가지는 선택적 광 투과 부재(13)를 수지(12a)가 도포된 기판(11) 위로 위치시킨다.
이어 선택적 광 투과 부재(13) 위에서 광 조사 장치(도시하지 않음)를 이용하여 아래쪽, 즉 선택적 광 투과 부재(13) 및 기판(11) 쪽으로 빛을 조사하는데, 이때 기판(11) 표면에 도포된 광 반응 수지(12a)의 전체 영역 중 선택적 광 투과 부재(13)의 관통 영역을 통해 빛을 받은 수지 부분(12b)이 반응하게 된다.
이에 따라, 수지 전체 영역 중 광 조사 장치의 빛에 의해 반응된 수지 부분(12b), 즉 선택적 광 투과 부재의 관통 영역을 통해 빛을 받은 수지 부분과, 선택적 광 투과 부재(13)(관통 영역을 제외한 나머지 부분)에 의해 가려져 빛을 받지 못한 수지 부분(12a) 사이에는 투명도(투과도)의 차이가 발생하게 된다.
이러한 투명도의 차이로 인해 수지 전체 영역에서 빛과 반응한 수지 부분(12b)이 나머지 수지 부분(12a)과 외관상으로 구분되어지는 수지층(12) 내부의 미세 패턴을 이루게 되며, 이에 내부에 미세 패턴(12b)을 갖는 수지층(12)과 기판(11)이 적층된 제품을 제조할 수 있게 된다.
본 발명에서 기판(11)은 두께가 일정하거나 부분적으로 상이한 판상의 기재가 될 수 있고, 이때 기판의 두께에 대해서는 특정하게 한정하지 않는다.
또한 상기 기판(11) 대신 미세 패턴이 형성될 표면을 갖는 특정 형상의 부재나 부품이 사용될 수도 있으며, 평판의 선택적 광 투과 부재뿐만 아니라 휨 가능한 가요성의 선택적 광 투과 부재(13), 곡면판 형상의 선택적 광 투과 부재가 사용될 수 있으므로, 기판(11) 역시 평판의 기판뿐만 아니라 곡면판의 기판을 사용하는 것이 가능하다.
즉, 곡면판에 미세 패턴이 형성된 제품을 제작할 수가 있는 것이다.
또한 재질이나 두께에 따라 필름, 시트, 판재 등이 될 수 있으며, 가요성 재질의 기판, 연질의 필름이 될 수도 있다.
기판(11)의 재질로는 투명, 반투명 또는 불투명 재질의 기판이 사용될 수 있는데, PET, PC, PMMA 등의 고분자 기판이 사용될 수 있고, 그 밖에 유리 기판이나, 석영, Si, SiO2, TiO2, ZrO2, Al2O3, SiC, WC, TiN, Si3N4, BN 등의 세라믹 기판, 또는 Al, Cu, Ti, W, Ni, Cr, Pt, Au, Ag 등의 금속 기판이 사용될 수 있다.
또한 광 조사 장치에 의해 조사되는 빛으로는 자외선(UV), 레이저, 전자빔(electron beam) 등이 될 수 있고, 리소그래피 공정에 사용되는 알려진 다양한 빛 중 하나가 될 수 있다.
자외선을 이용하는 경우에서 광 반응 수지(12a)로는 자외선에 반응하는 자외선 반응 수지를 사용하며, 이때 공지의 자외선 경화 수지를 이용하거나, 기존 자외선 경화 수지의 성분 중 일부를 조절하여(수지의 조성을 조절하여) 자외선에 효율적으로 반응할 수 있도록 한 수지를 이용하는 것이 가능하다.
또한 자외선을 이용하는 경우에서 기판(11) 표면에 도포된 자외선 반응 수지(12a) 중 자외선을 받은 부분(12b)은 반응과 동시에 경화가 이루어지고, 자외선을 받지 못한 나머지 부분(12a)의 경우에도 건조를 통한 자연 경화가 가능하다.
레이저나 전자빔을 이용하는 경우에는 광 반응 수지(12a)로 레이저 반응 수지, 전자빔 반응 수지를 사용하며, 이를 기판(11) 표면에 도포하고 경화시킨 뒤 빛을 조사하게 된다.
이때, 레이저 및 전자빔에 의한 수지의 반응은, 경화된 수지층(12)에서 선택적 광 투과 부재(13,도 5에서 도면부호 14)의 관통 영역에 의해 노출된 부분을 레이저 또는 전자빔을 이용하여 깨뜨리는 형태의 물리적인 반응이라 할 수 있다.
이러한 반응을 이용하여 빛이 조사된 영역(노광 영역)과 빛이 조사되지 않은 영역(비노광 영역) 간의 투명도 차이를 유발할 수 있으며, 빛이 조사된 영역이 빛이 조사되지 않은 영역에 비해 투명도가 낮아지면서, 수지층(12) 내부에 투명도 차이로 인한 미세 패턴(12b)이 식별 가능하게 형성될 수 있게 된다.
물론, 본 발명에서 사용되는 수지(12a)는 노광, 비노광에 따라 국부적으로 빛에 반응하여 투명도 차이가 발생할 수 있는 것이어야 하므로, 투명 재질, 또는 완전 투명 재질이 아니더라도, 비노광 상태로 자연 경화되었을 때 어느 정도는 재료 고유의 광 투과도를 가지는 것(투명하거나, 반투명과 같이 일정 수준 이상의 광 투과도를 갖는 재질)이 사용되어야 한다.
또한 상기 선택적 광 투과 부재(13,14)로는 자외선과 레이저를 이용하는 경우에 포토마스크(13)를 이용하는 것이 가능하며, 전자빔의 경우 나노 스텐실(nanostencil)(14)을 이용하는 것이 가능하다.
물론, 포토마스크(13)와 나노 스텐실(14) 모두 미세 패턴 형상의 관통 영역을 가지도록 제작되는 것으로서, 본 명세서에서 나노 또는 마이크로 스케일의 관통 영역이 형성된 포토마스크의 제조나, 나노 스케일의 관통 영역이 형성된 나노 스텐실의 제조에 대해서는 공지의 기술이므로 상세한 설명을 생략하기로 한다.
또한 상기와 같은 선택적 광 투과 부재(13,14)를 이용함에 있어서, 선택적 광 투과 부재를 광 조사시에 기판(11) 위의 광 반응 수지(12a)로부터 이격시켜 배치하거나, 광 반응 수지에 밀착시켜 배치하는 것이 모두 가능하다.
또한 본 발명에서는 수지 위로 선택적 광 투과 부재를 위치시킨 뒤 수지에 빛을 조사할 뿐, 기판에 압력을 가하지는 않으므로, 쉽게 깨질 수 있는 유리 기판에 대해서도 미세 패턴을 형성할 수 있는 이점이 있다.
종래 공정의 경우 접촉 및 가압을 통한 미세 패턴의 성형이 이루어지므로, 얇은 두께의 유리 기판을 사용하게 되면, 쉽게 깨지거나 기판에 크랙 등의 결함이 발생할 수 있는바, 얇은 두께의 유리 기판에 대해서는 미세 패턴의 형성이 불가하거나 어려움이 있었다.
반면, 본 발명에서는 기판에 압력을 가하지 않으므로 상기한 문제가 해소될 수 있고, 유리 기판에 대해서도 미세 패턴의 형성이 가능하다.
상기와 같이 유리 기판을 사용하는 경우, 미세 패턴이 형성된 유리 제품을 휴대전화, 휴대용 PC, 대형 가전제품의 외장용 또는 디스플레이용 부품으로 사용하거나, 조명, 창문 등의 건축용 유리로 사용하는 것이 가능하다.
또한 투명 기판을 사용하는 경우에는 미세 패턴이 형성된 판상 제품을 휴대전화, 휴대용 PC, TV, PC 모니터 등 전기기기의 디스플레이용 윈도우 부품으로 사용하는 것이 가능하다.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로, 이는 상술한 나노 스텐실과 전자빔을 이용하여 기판(11) 표면에 미세 패턴을 형성하는 방법을 보여주고 있다.
기판(11) 위에 광 반응 수지(12a)로서 전자빔 반응 수지를 균일하게 도포한 뒤 경화시키고, 나노 스텐실(14)을 이용하여 수지(12a)에 일정 패턴을 갖도록 선택적으로 빛을 조사하게 된다.
이 경우에도 완성된 수지층(12)에서 나노 스텐실(14)의 미세한 관통 영역(나노 스케일의 관통 영역)을 통과한 전자빔에 의해 노출된 부분(미세 패턴 부분)(12b)과 노출되지 않은 부분(12a)에서 투명도의 차이가 발생한다.
이러한 투명도 차이에 의해 외관상 구분이 가능한 미세 패턴(12b)을 수지층(12) 내부에 형성할 수 있게 된다.
이때, 도 4의 실시예뿐만 아니라 도 5의 실시예에서도, 빛에 노출된 수지 부분과 노출되지 않는 수지 부분의 투명도를 조절할 수 있는 광 반응 수지 조성, 빛의 양과 세기 등의 여러 공정 조건을 적절히 설정하면 수지층 내부에 원하는 미세 패턴을 형성할 수 있게 된다.
예시된 도 4 및 도 5의 실시예를 설명함에 있어서, 광 반응 수지(12a)의 선택된 부분에 빛을 조사하기 위해 포토마스크(13)나 나노 스텐실(14)의 선택적 광 투과 부재를 이용하는 것으로 설명하였으나, 집속 렌즈 등에 의해 집속된 빛을 원하는 수지 부분에 직접 조사하는 방법도 이용 가능하다.
또한 도 4 및 도 5에 예시된 단층 구조 외에, 내부에 미세 패턴(12b)을 가지는 복수개의 수지층(12)을 적층하여 다층 구조를 형성하는 것도 가능하며, 도 4 및 도 5의 미세 패턴 형성 과정을 반복 실시하는 경우 기판(11) 표면에 다층 구조를 형성할 수 있다.
한편, 도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로, 이는 기판(11) 표면에 색을 구현할 수 있는 색구현층(13)을 추가로 형성하는 실시예를 나타낸 것이다.
이는 고급 외장재 또는 외장 부품을 제조하는데 적용할 수 있는 것으로, 색구현층(13)을 미세 패턴이 형성된 수지층(12)과 기판(11) 표면 사이에 형성할 수 있는데, 이러한 색구현층(13)은, 기판(11) 표면의 전체 또는 일부에 대해서, 염료를 포함하는 잉크를 사용하여 인쇄하는 방법이나 금속이나 산화물, 탄화물 또는 질화물의 박막을 증착하는 방법으로 형성할 수 있다.
상기 금속이나 산화물, 탄화물, 질화물의 경우 얇은 두께의 박막으로 증착 형성하게 되면 고유의 색을 나타내므로 색구현층의 재료로 사용하는 것이 가능하다.
이때, 금속으로는 Al, Cu, Ti, W, Ni, Cr, Pt, Au, Ag 등이 사용될 수 있고, 산화물로는 SiO2, TiO2, ZrO2, Al2O3, Nb2O5 등이, 탄화물로는 SiC, WC, SiC 등이, 질화물로는 TiN, Si3N4, BN 등이 사용될 수 있다.
증착 방법으로는 스퍼터링 등의 진공 증착 방식이나 공지의 박막 형성 방법 또는 코팅 방법이 적용될 수 있다.
색구현층(13) 위에 형성되는 수지층, 즉 미세 패턴(12b)을 가지는 수지층(12)의 형성 방법은 도 4 및 도 5의 실시예와 동일하며, 기판(11) 표면 위에 색구현층(13)을 먼저 적층 형성한 뒤 동일한 방법으로 수지층을 형성한다.
물론, 투명한 제품을 제작하기 위해 도 4 및 도 5의 실시예와 같이 색구현층이 생략될 수 있다.
도 7은 본 발명의 제4실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로서, 이에 도시된 실시예 역시 색구현층(13)을 형성하는 실시예로서, 고급 외장재 또는 외장 부품을 제조하는데 적용 가능한 방법이다.
도 6과 비교할 때 내부에 미세 패턴(12b)을 가지는 수지층(12)을 다층 구조로 형성한 점에서 차이가 있으며, 기판(11) 표면에 색구현층(13)을 동일한 방법으로 적층 형성한 뒤, 색구현층(13) 위에 미세 패턴(12b)을 가지는 제1수지층(12)을, 이어 상기 제1수지층(12) 위에 미세 패턴(12b)을 가지는 제2수지층(12')을 차례로 형성한다.
제1수지층(12)과 제2수지층(12')을 형성함에 있어서는 도 4 또는 도 5의 실시예와 동일한 방법이 이용될 수 있고, 각 수지층(12,12') 내 미세 패턴(12b)의 위치는 전체가 모두 다르거나 일부가 같도록 할 수 있다.
또한 도 7에 예시된 실시예에서는 수지층을 제1 및 제2수지층의 이층 구조로 형성하였으나, 수지층의 적층 개수는 3개 이상으로 다양하게 변경될 수 있으며, 투명 제품을 제조하기 위해서는 상기 색구현층 없이 다층 구조의 수지층(12,12')만 기판(11)에 형성한다.
그리고, 도 8은 본 발명의 제5실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로서, 이에 도시된 실시예 역시 색구현층(13)을 형성하는 실시예로서, 고급 외장재 또는 외장 부품을 제조하는데 적용 가능한 방법이다.
특히, 도 8의 실시예에는 별도의 나노 또는 마이크로 패턴층(15)을 추가로 형성하는 실시예로서, 색구현층(13), 나노 또는 마이크로 패턴 층(15), 내부에 미세 패턴(12b)을 가지는 수지층(12)을 포함하는 다층 구조를 형성하는 실시예이다.
즉, 기판(11) 표면에 색구현층(13)을 형성한 뒤, 상기 색구현층(13) 위의 전체 또는 일부 영역에 대해 나노 또는 마이크로 패턴을 형성하고, 이 나노 또는 마이크로 패턴으로 이루어진 층(15) 위로 미세 패턴(12b)을 가지는 수지층(12)을 단층 또는 다층으로 형성하는 것이다.
이때, 색구현층(13) 위에 나노 또는 마이크로 패턴을 형성하는 방법은 공지의 방법이 이용 가능하나, 나노 패턴의 경우 본 발명에서 제시하는 도 5의 나노 패턴 형성 방법, 즉 나노 스텐실과 전자빔을 이용하여 수지층에 나노 패턴을 형성하는 방법이 적용될 수 있다.
또는 색구현층(13) 위에 공지의 나노임프린트(nanoimprint) 공정을 이용하여 나노 패턴을 전사시킬 수도 있다.
또한 나노 또는 마이크로 패턴 층(15)의 패턴은 요철(凹凸)을 가지는 구조가 될 수 있는데, 이때 요부 또는 철부가 선, 도트(dot)(예, 상부가 편평한 면을 이루고 있는 도트 모양), 볼록면 또는 오목면을 가지는 렌즈 모양(예, 요부 또는 철부가 반구형인 모양 등), 삼각 단면 형상을 가지는 프리즘 모양, 렌티큘러 렌즈 모양(예, 곡선의 외곽 라인을 가지는 단면 형상 부분이 특정 방향으로 길게 연장된 모양, 비닐하우스 모양), 동심원 구조를 이루는 스핀 모양 등의 다양한 형상으로 형성될 수 있다.
그리고, 기판(11) 표면에 색구현층(13)을 형성하는 방법, 미세 패턴(12b)을 가지는 수지층(12)을 형성하는 방법은 앞서 설명한 바와 동일한 방법이 이용될 수 있고, 투명 제품을 제조하기 위해, 상기 색구현층 없이, 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴 층(15)과, 내부에 미세 패턴(12b)을 가지는 수지층(12)만을 형성하는 것도 가능하다.
또한 색구현층(13)과 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴 층(15)의 적층 순서가 반대가 될 수도 있는데, 즉 상기 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴 층(15)을 먼저 형성한 뒤 그 위에 색구현층(13)을 형성하는 것이 가능하다.
또한 수지층(12)의 미세 패턴(12b)과 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴 층(15)에서 나노 패턴과 마이크로 패턴을 복합적으로 형성하는 것이 가능하며, 이를 통해 외장 고급화 패턴을 구현할 수 있게 된다.
이상으로 본 발명의 실시예에 대해 상세히 설명하였는바, 본 발명에 따라 제조되는 판상 제품은 상기한 용도 외에 다양한 용도로 사용하는 것이 가능한데, 예를 들면, PET나 PC와 같은 고분자 필름에 단층 또는 다층의 패턴 층을 형성한 뒤 이 필름을 인몰드 사출용 필름으로 적용하는 것이 가능하다.
또한 고분자 재질의 기판을 사용하여 단층 또는 다층 구조로 제조한 뒤 기판 후면에 점착 물질을 도포한 판상 제품을 휴대전화, 휴대용 PC 등의 윈도우에 부착할 수 있는 기능성 필름으로 적용하는 것이 가능하다.
이때, 수지층 내 미세 패턴의 패턴 폭 대비 높이 비를 크게 하여 필름 기판 위에 구현하면, 휴대용 디스플레이를 위한 개인 프라이버시 보호용 보안 필름으로 적용하는 것이 가능하다.
또한 미세 패턴을 갖는 수지층의 표면에 최 외곽 층으로서 내지문 필름을 적층하여 내지문 기능을 부여하는 것도 가능하다.
본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되지 않고, 다음의 특허청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 포함된다.
11 : 기판
12a : 광 반응 수지(또는 빛을 받지 못한 수지 부분)
12b : 미세 패턴(또는 빛을 받아 반응된 수지 부분)
13 : 포토마스크(또는 선택적 광 투과 부재)
14 : 나노 스텐실(또는 선택적 광 투과 부재)
15 : 나노 또는 마이크로 패턴 층
12a : 광 반응 수지(또는 빛을 받지 못한 수지 부분)
12b : 미세 패턴(또는 빛을 받아 반응된 수지 부분)
13 : 포토마스크(또는 선택적 광 투과 부재)
14 : 나노 스텐실(또는 선택적 광 투과 부재)
15 : 나노 또는 마이크로 패턴 층
Claims (20)
- 빛에 반응하는 광 반응 수지(12a)를 기판(11) 위에 도포한 뒤, 기판(11) 위에 도포된 광 반응 수지(12a)의 선택된 영역에 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발함으로써, 기판(11) 위의 수지층(12) 내부에 투명도 차이에 의해 구분되면서 육안 식별되는 미세 패턴(12b)을 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
- 청구항 1에 있어서,
상기 광 반응 수지(12a)의 선택된 영역에만 빛이 조사될 수 있도록 하기 위해, 빛이 통과되는 패턴 형상의 관통 영역을 가지는 선택적 광 투과 부재(13,14)를 기판(11)에 도포된 수지(12a) 위로 위치시킨 다음 빛을 조사하거나, 집속 렌즈에 의해 집속된 빛을 직접 원하는 수지 부분에 조사하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
- 청구항 2에 있어서,
상기 광 투과 부재로 포토마스크(13) 또는 나노 스텐실(14)을 이용하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
- 청구항 2에 있어서,
상기 빛이 자외선, 레이저, 전자빔 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
- 청구항 1에 있어서,
상기 기판(11)은 고분자 기판, 유리 기판, 세라믹 기판, 또는 금속 기판인 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
- 청구항 1에 있어서,
상기 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 위에서 광 반응 수지(12a)를 도포하고 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발하는 과정을 반복함으로써, 내부에 미세 패턴(12b)을 갖는 수지층(12)을 기판(11) 위에 이층 이상의 다층 구조로 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
- 청구항 1 또는 청구항 6에 있어서,
상기 기판(11)과 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 사이에 색을 가지는 색구현층(13)을 적층 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
- 청구항 7에 있어서,
상기 색구현층(13)은 염료를 포함하는 잉크를 사용하여 형성하거나, 금속, 산화물, 탄화물, 또는 질화물의 박막을 증착하여 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
- 청구항 7에 있어서,
상기 기판(11)과 색구현층(13) 사이, 또는 상기 색구현층(13)과 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 사이에 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴을 갖는 패턴 층(15)을 적층 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
- 청구항 1 또는 청구항 6에 있어서,
상기 기판(11)과 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 사이에 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴을 갖는 패턴 층(15)을 적층 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
- 청구항 1 또는 청구항 6에 있어서,
상기 기판(11)은 디스플레이용 윈도우에 부착되는 고분자 재질의 투명 기판 또는 디스플레이용 윈도우 부품으로 사용되는 투명 기판인 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
- 청구항 1 또는 청구항 6에 있어서,
상기 미세 패턴(12b)을 갖는 최 외곽 수지층(12)의 표면에 내지문 필름을 적층하여 내지문 기능을 가지도록 제조하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
- 청구항 1의 제품의 제조 방법에 의해 제조되어 내부에 외관상으로 구분되어지는 미세 패턴(12b)을 갖는 수지층(12)이 기판(11) 위에 적층된 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
- 청구항 13에 있어서,
상기 수지층(12) 위에 내부에 미세 패턴(12b)을 갖는 또 다른 수지층(12')이 적층되어, 기판(11) 위에 복수개의 수지층(12,12')으로 이루어진 이층 이상의 다층 구조가 형성되고, 상기 또 다른 수지층(12')은 광 반응 수지(12a)를 도포하고 빛을 광 반응 수지(12a)에 선택적으로 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발하는 과정을 반복하여 형성한 것임을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
- 청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 기판(11)과 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 사이에 색을 가지는 색구현층(13)이 개재되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
- 청구항 15에 있어서,
상기 색구현층(13)은 염료를 포함하는 잉크를 사용하여 형성되거나, 금속, 산화물, 탄화물, 또는 질화물의 박막을 증착하여 형성되는 것임을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
- 청구항 15에 있어서,
상기 기판(11)과 색구현층(13) 사이, 또는 상기 색구현층(13)과 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 사이에 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴을 갖는 패턴 층(15)이 개재되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
- 청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 기판(11)과 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 사이에 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴을 갖는 패턴 층(15)이 개재되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
- 청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 기판(11)은 디스플레이용 윈도우에 부착되는 고분자 재질의 투명 기판 또는 디스플레이용 윈도우 부품으로 사용되는 투명 기판인 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
- 청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 미세 패턴(12b)을 갖는 수지층(12)의 표면에 최 외곽 층으로서 내지문 필름을 적층 형성하여 내지문 기능을 가지도록 제조되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
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| KR1020120035781A KR101416629B1 (ko) | 2012-04-06 | 2012-04-06 | 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법, 및 이에 의해 제조되는 제품 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220147403A (ko) | 2021-04-27 | 2022-11-03 | 그린산업 주식회사 | 미세 패턴을 갖는 데코필름 제작 방법 및 데코필름 제작용 소프트 몰드 제작 장치 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110192633A1 (en) * | 2010-02-05 | 2011-08-11 | Cambrios Technologies Corporation | Photosensitive ink compositions and transparent conductors and method of using the same |
-
2012
- 2012-04-06 KR KR1020120035781A patent/KR101416629B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110192633A1 (en) * | 2010-02-05 | 2011-08-11 | Cambrios Technologies Corporation | Photosensitive ink compositions and transparent conductors and method of using the same |
Cited By (1)
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| KR20220147403A (ko) | 2021-04-27 | 2022-11-03 | 그린산업 주식회사 | 미세 패턴을 갖는 데코필름 제작 방법 및 데코필름 제작용 소프트 몰드 제작 장치 |
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