KR101359192B1 - 에스테르화 반응 생성물, 이 생성물을 함유하는 겔화제 및 이들을 함유하는 화장료 - Google Patents
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Abstract
환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제를 둘 다, 또는 불휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제를 둘 다 겔화시킬 수 있는 에스테르화 반응 생성물, 이 생성물을 함유하는 겔화제, 및 상기 생성물 또는 상기 겔화제를 함유하는, 사용감이 우수한 화장료를 제공한다. 성분 A: 다가 알코올 또는 그의 축합물과, 성분 B: 탄소수 10 내지 28의 포화 이염기산과, 성분 C: 탄소수 16 내지 28의 직쇄 포화 지방산과, 성분 D: 탄소수 8 내지 28의 분지 포화 지방산을 성분 A:성분 B=1.0몰:0.10~0.20몰의 배합비로 에스테르화 반응시킴으로써 얻어지는 수산기가가 30 이하인 에스테르화 반응 생성물을 겔화제로서 이용하여 화장료에 함유시킨다.
환상 실리콘, 디메틸폴리실록산, 유제, 화장료, 에스테르화 반응 생성물, 겔화제
Description
본 발명은 에스테르화 반응 생성물, 이 생성물을 함유하는 겔화제 및 이들을 함유하는 화장료에 관한 것으로서, 특히 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산 및 유제(油劑)를 둘 다, 또는 불휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제를 둘 다 겔화시킬 수 있는 에스테르화 반응 생성물, 이 생성물을 함유하는 겔화제 및 이들을 함유하는 사용감이 우수한 화장료에 관한 것이다.
화장료의 제형은 액상의 것에서부터 고형의 것까지 다양하고, 겔화나 고화가 필요한 제형에서는 겔화제 등이 사용되고 있다.
종래 사용되고 있는 겔화제로서는 베헨산에이코산이산글리세릴, 12-히드록시스테아르산, 덱스트린 지방산 에스테르, 자당 지방산 에스테르, 이눌린 지방산 에스테르, 아실화 셀로비오스, 디벤질리덴모노소르비톨(DBMSA), 아미노산계 겔화제, 지방산 금속염, 무수 규산, 유기 변성 점토광물, 연무상 실리카, 알루미나, 가교형 오르가노폴리실록산 등이 알려져 있다.
한편, 화장료 등에 있어서는, 사용감 등의 향상을 목적으로 환상 실리콘, 휘 발성 디메틸폴리실록산, 불휘발성 디메틸폴리실록산 등의 각종 실리콘 화합물이나 알코올, 에스테르 유제 등의 유제가 사용되고 있다.
이러한 환상 실리콘, 휘발성 디메틸폴리실록산, 불휘발성 디메틸폴리실록산 등의 실리콘 화합물이나 알코올, 에스테르 유제 등의 유제를 배합한 화장료 등에 있어서도, 겔화나 고화가 필요한 제형에서는 마찬가지로 겔화제가 사용된다.
환상 실리콘, 휘발성 디메틸폴리실록산, 불휘발성 디메틸폴리실록산 등의 실리콘 화합물의 겔화제로서는 이눌린 지방산 에스테르가 개발되어 있다(예를 들면, 하기 특허 문헌 1 참조). 또한, 알코올, 에스테르 유제 등의 겔화제로서는 글리세린 등과 탄소수 2 내지 28의 직쇄상 포화 지방산과 탄소수 12 내지 28의 지방족 포화 이염기산과의 에스테르화 생성물이 개발되어 있다(예를 들면, 하기 특허 문헌 2, 3 참조).
특허 문헌 1: 일본 특허 공개 제2004-300094호 공보
특허 문헌 2: 일본 특허 공개 (평)7-126603호 공보
특허 문헌 3: 일본 특허 공개 (평)7-126604호 공보
<발명의 개시>
<발명이 해결하고자 하는 과제>
그러나, 이눌린 지방산 에스테르는 실리콘 화합물에 대해서는 폭넓게 겔화할 수 있지만, 유제에 대해서는 겔화할 수 있는 유제에 제한이 있었다. 한편, 글리세린 등과 탄소수 2 내지 28의 직쇄상 포화 지방산과 탄소수 12 내지 28의 지방족 포화 이염기산과의 에스테르화 생성물은 유제에 대해서는 폭넓게 겔화할 수 있지만, 실리콘 화합물에 대해서는 화장료 용도에 이용하는 메틸페닐폴리실록산 등의 극히 일부의 실리콘 화합물을 겔화시킬 수 있을 뿐, 화장료 등에서 범용되는 환상 실리콘이나 휘발성 디메틸폴리실록산에 대해서는 겔화시킬 수 없고, 또한 환상 실리콘이나 휘발성 디메틸폴리실록산에 대한 가열에 의한 용해성이 불량하였다. 또한, 글리세린 등과 탄소수 2 내지 28의 직쇄상 포화 지방산과 탄소수 12 내지 28의 지방족 포화 이염기산과의 에스테르화 생성물은 불휘발성 디메틸폴리실록산에 대해서도 겔화시킬 수 없고, 또한 불휘발성 디메틸폴리실록산에 대한 가열에 의한 용해성이 불량하였다.
따라서, 본 발명의 목적은 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제를 둘 다 겔화시킬 수 있는 에스테르화 반응 생성물, 및 상기 생성물을 함유하는 겔화제를 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 목적은 불휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제를 둘 다 겔화시킬 수 있는 에스테르화 반응 생성물, 및 상기 생성물을 함유하는 겔화제를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 목적은 상기 에스테르화 반응 생성물 또는 상기 겔화제를 함유하는 사용감이 우수한 화장료를 제공하는 것이다.
<과제를 해결하기 위한 수단>
본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 하기 성분 A와, 성분 B와, 성분 C와, 성분 D를 에스테르화 반응시킴으로써 얻어지는, 수산기가가 30 이하인 에스테르화 반응 생성물로서, 에스테르화 반응시의 성분 A와 성분 B의 배합비가 성분 A:성분 B=1.0몰:0.10~0.20몰인 것을 특징으로 하는 에스테르화 반응 생성물을 제공한다.
성분 A: 다가 알코올 또는 그의 축합물
성분 B: 탄소수 10 내지 28의 포화 이염기산
성분 C: 탄소수 16 내지 28의 직쇄 포화 지방산
성분 D: 탄소수 8 내지 28의 분지 포화 지방산
또한, 본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 상기 본 발명에 따른 에스테르화 반응 생성물을 함유하는 것을 특징으로 하는 겔화제를 제공한다.
본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 상기 본 발명에 따른 에스테르화 반응 생성물 또는 상기 본 발명에 따른 겔화제를 함유하는 화장료를 제공한다.
<발명의 효과>
본 발명에 따르면, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제를 둘 다 겔화시킬 수 있는 에스테르화 반응 생성물, 및 상기 생성물을 함유하는 겔화제를 제공할 수 있다. 또한, 불휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제를 둘 다 겔화시킬 수 있는 에스테르화 반응 생성물, 및 상기 생성물을 함유하는 겔화제를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 에스테르화 반응 생성물 또는 상기 겔화제를 함유하는, 사용감이 우수한 화장료를 제공할 수 있다.
<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>
〔본 발명의 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물〕
본 발명의 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물은 하기 성분 A와, 성분 B와, 성분 C와, 성분 D를 에스테르화 반응시킴으로써 얻어지는, 수산기가가 30 이하인 에스테르화 반응 생성물로서, 에스테르화 반응시의 성분 A와 성분 B의 배합비가 성분 A:성분 B=1.0몰:0.10~0.20몰인 것을 특징으로 한다.
성분 A: 다가 알코올 또는 그의 축합물
성분 B: 탄소수 10 내지 28의 포화 이염기산
성분 C: 탄소수 16 내지 28의 직쇄 포화 지방산
성분 D: 탄소수 8 내지 28의 분지 포화 지방산
본 실시 형태에 있어서, 에스테르화 반응이란, 직쇄상 또는 망상 구조가 되는 에스테르화, 올리고에스테르화 중 어느 쪽이어도 됨을 의미한다.
(성분 A: 다가 알코올 또는 그의 축합물)
성분 A의 다가 알코올로서는, 그의 탄소수가 3 내지 30인 것이 바람직하고, 3 내지 6인 것이 보다 바람직하고, 3 내지 5인 것이 특히 바람직하다. 다가 알코올의 탄소수가 상기 범위에 있으면, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력이 양호해지게 된다.
다가 알코올의 구체예로서는, 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨을 들 수 있고, 특히 글리세린, 트리메틸올프로판이 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력 면에서 바람직하다.
성분 A의 다가 알코올 축합물은 다가 알코올에 대해서는 상기와 같고, 축합물의 중합도에 대해서는 1 내지 10인 것이 바람직하고, 1 내지 4인 것이 보다 바람직하고, 1 또는 2인 것이 특히 바람직하다. 다가 알코올 축합물의 중합도가 상기 범위에 있으면, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력이 양호해지게 된다.
다가 알코올 축합물의 구체예로서는, 디글리세린, 트리글리세린, 테트라글리세린, 데카글리세린 등의 폴리글리세린 등, 디트리메틸올프로판, 디펜타에리트리톨 등을 들 수 있고, 특히 디글리세린이 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력 면에서 바람직하다.
(성분 B: 탄소수 10 내지 28의 포화 이염기산)
성분 B의 포화 이염기산으로서는 그의 탄소수가 10 내지 28인 것이 바람직하고, 16 내지 24인 것이 보다 바람직하고, 18 또는 20인 것이 특히 바람직하다. 포화 이염기산의 탄소수가 상기 범위에 있으면, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력이 양호해지게 된다.
포화 이염기산의 구체예로서는, 에이코산이산, 옥타데칸이산, 세박산 등을 들 수 있고, 특히 에이코산이산이 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력 면에서 바람직하다.
(성분 C: 탄소수 16 내지 28의 직쇄 포화 지방산)
성분 C의 직쇄 포화 지방산으로서는 그의 탄소수가 16 내지 28인 것이 바람직하고, 16 내지 24인 것이 보다 바람직하고, 18 내지 22인 것이 특히 바람직하다. 직쇄 포화 지방산의 탄소수가 상기 범위에 있으면, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력이 양호해지게 된다.
직쇄 포화 지방산의 구체예로서는, 팔미트산, 스테아르산, 에이코산산, 베헨산, 몬탄산, 리그노세르산 등을 들 수 있고, 특히 팔미트산, 스테아르산, 베헨산이, 그 중에서도 베헨산이 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력 면에서 바람직하다.
(성분 D: 탄소수 8 내지 28의 분지 포화 지방산)
성분 D의 분지 포화 지방산으로서는, 그의 탄소수가 8 내지 28인 것이 바람직하고, 12 내지 22인 것이 보다 바람직하고, 16 내지 18인 것이 특히 바람직하다. 또한, 분지 포화 지방산의 분지 구조에 대해서는 메틸분지형, 다분지형 중 어느 쪽이든 사용하는 것이 가능하다. 분지 포화 지방산의 탄소수가 상기 범위에 있으면, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력이 양호해지게 된다. 또한, 화장료로 사용했을 때의 감촉이 양호해지게 된다.
분지 포화 지방산의 구체예로서는, 이소옥틸산, 이소팔미트산, 이소스테아르산, 이소에이코산산 등을 들 수 있다. 특히 메틸분지형의 이소스테아르산이 화장료로 사용했을 때의 감촉 면에서 바람직하다.
(수산기가)
상기 에스테르화 반응 생성물의 수산기가는 30 이하이고, 20 이하인 것이 바람직하고, 10 이하인 것이 특히 바람직하다. 에스테르화 반응 생성물의 수산기가가 상기 범위에 있으면, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력이 양호해지게 된다. 또한, 수산기가란, 화장품 원료 기준 신정판(화장품 원료 기준)에 기재된 일반 시험법 수산기가 측정법에 의해 얻어진 값을 말한다.
〔본 발명의 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물의 제조 방법〕
본 발명의 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물은 상기 성분 A의 다가 알코올 또는 그의 축합물과, 상기 성분 B의 포화 이염기산과, 상기 성분 C의 직쇄 포화 지방산과, 상기 성분 D의 분지 포화 지방산을 에스테르화 반응시켜 얻어지고, 예를 들면 이하의 방법에 의해 제조할 수 있다.
상기 성분 A의 다가 알코올 또는 그의 축합물과, 상기 성분 B의 포화 이염기산과, 상기 성분 C의 직쇄 포화 지방산과, 상기 성분 D의 분지 포화 지방산을 반응 용기에 투입하고, 불활성 가스 기류 중에 있어서 160 내지 240℃에서 반응에서 생성되는 물을 제거하면서 5 내지 30 시간 정도 에스테르화 반응을 행하고, 에스테르화 반응 종료 후, 통상법에 의한 탈색, 탈취 등의 정제 처리를 행함으로써 에스테르화 반응 생성물을 얻을 수 있다.
에스테르화 반응에 있어서는 필요에 따라 산 촉매, 금속 촉매, 환류 용매를 사용할 수 있다.
에스테르화 반응의 반응 종점은 원료인 성분 A의 다가 알코올 또는 그의 축합물, 성분 B의 포화 이염기산, 성분 C의 직쇄 포화 지방산, 성분 D의 분지 포화 지방산의 투입비 및 에스테르화 반응 중의 산가로부터 용이하게 확인할 수 있다. 또한, 얻어지는 에스테르화 반응 생성물은 악취 및 착색이 적은 것이다.
상기 에스테르화 반응에 있어서는 특히 성분 A의 다가 알코올 또는 그의 축합물과 성분 B의 포화 이염기산과의 배합비가 중요하고, 성분 A의 다가 알코올 또는 그의 축합물과 성분 B의 포화 이염기산과의 배합비는 1.0몰의 성분 A에 대하여 성분 B가 0.10 내지 0.20몰인 것이 바람직하고, 0.12 내지 0.18몰인 것이 보다 바람직하고, 0.15 내지 0.17몰인 것이 특히 바람직하다. 성분 A와 성분 B의 배합비가 상기 범위에 있으면, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력과 유제에 대한 겔화 능력이 양호해지게 된다.
상기 에스테르화 반응에 있어서, 성분 A의 다가 알코올 또는 그의 축합물과 성분 C의 직쇄 포화 지방산과의 배합비는 1.0몰의 성분 A에 대하여 성분 C가 1.0 내지 7.5몰인 것이 바람직하고, 1.3 내지 3.0몰인 것이 보다 바람직하고, 1.5 내지 2.5몰인 것이 특히 바람직하다. 성분 A와 성분 C의 배합비가 상기 범위에 있으면, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력과 유제에 대한 겔화 능력이 양호해지게 된다.
상기 에스테르화 반응에 있어서, 성분 A의 다가 알코올 또는 그의 축합물과 성분 D의 분지 포화 지방산의 배합비는 1.0몰의 성분 A에 대하여 성분 D가 0.2 내지 2.3몰인 것이 바람직하고, 0.3 내지 1.5몰인 것이 보다 바람직하고, 0.5 내지 1.0몰인 것이 특히 바람직하다. 성분 A와 성분 D와의 배합비가 상기 범위에 있으면, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제에 대한 겔화 능력과 유제에 대한 겔화 능력이 양호해지게 된다. 또한, 화장료로 사용했을 때의 감촉이 양호해진다.
〔본 발명의 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물의 물성·용도·사용 형태〕
상기 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물은 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산에 대한 가열에 의한 용해성이 양호한 것이다.
여기서, 본 실시 형태에 있어서, 가열에 의한 용해성이 양호하다란, 70℃에서, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산의 합계 질량을 1로 하면, 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물이 질량비로 1까지는 적어도 가열 용해되는 것이다.
또한, 상기 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물은 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제를 둘 다 겔화 가능하여, 이들의 겔화제로서 사용할 수 있다. 따라서, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제를 둘 다 겔화시킬 필요가 있는 제제에 사용할 수 있다.
또한, 상기 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물은 어느 특정 폴리에테르 변성 실리콘(예를 들면, 신에쓰 가가꾸 고교(주) 제조의 KF-6017, KF-6015, GE 도시바 실리콘(주) 제조의 SILSOFT305)나 종래의 겔화제로도 겔화 가능한 화장료 용도에 이용하는 메틸페닐폴리실록산(예를 들면, 신에쓰 가가꾸 고교(주) 제조의 KF-56)에 대해서도 겔화시킬 수 있다.
여기서, 본 실시 형태에 있어서, 겔화란 환상 실리콘, 휘발성 디메틸폴리실록산, 유제 등을 겔화 또는 고화시킬 수 있는 것을 의미한다. 또한, 환상 실리콘이란, 환상 분자 구조를 갖는 실리콘을 의미한다. 또한, 휘발성 디메틸폴리실록산이란, 상온에서 휘발성이 있는 디메틸폴리실록산을 의미한다(디메틸폴리실록산은 메틸폴리실록산이라 불릴 수도 있음). 또한, 유제란, 에스테르 유제, 탄화수소, 지방, 왁스 등을 의미한다.
본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물은 상기 에스테르화 생성물을 단독으로 겔화제로서 사용할 수 있을 뿐만 아니라, 다른 성분을 조합한 겔상 조성물로서 사용할 수도 있다. 이 겔상 조성물은 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물과 다른 성분을 조합함으로써 얻을 수 있다. 다른 성분으로서는 유제 등을 들 수 있고, 구체예로서는 트리 2-에틸헥산산글리세릴(관용명: 트리옥타노인), 팔미트산옥틸, 옥탄산세틸, 이소노난산이소노닐, 이소노난산이소트리데실, 디데칸산네오펜틸글리콜, 트리이소스테아르산폴리글리세릴-2 등의 에스테르 유제, 유동 파라핀, 경질 유동 이소파라핀, 중질 유동 이소파라핀 등의 탄화수소를 들 수 있다. 이 겔상 조성물은 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물을 미리 다른 물질에 대하여 가열 혼합하여 분산 용해시킴으로써 얻을 수 있다. 이 겔상 조성물은 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물을 미리 유제에 분산 용해시키고 있기 때문에 취급성이 향상된 것이다.
본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물은 단독으로는 불휘발성 디메틸폴리실록산에 대한 가열에 의한 용해성이 나쁘지만, 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물과 유제를 조합하여 사용하면, 불휘발성 디메틸폴리실록산에 대한 가열에 의한 용해성이 양호해지게 된다. 또한, 유제와 조합하여 사용함으로써, 불휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제를 둘 다 겔화시킬 수 있어, 이들의 겔화제로서 사용할 수 있다. 불휘발성 디메틸폴리실록산이란, 상온에서 불휘발성의 디메틸폴리실록산을 의미한다(디메틸폴리실록산은 메틸폴리실록산이라 불릴 수도 있음).
본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물을, 불휘발성 디메틸폴리실록산에 가열에 의해 용해시키기 위해, 또는 불휘발성 디메틸폴리실록산을 겔화시키기 위해 사용 가능한 유제의 구체예로서 바람직한 것은, 이소노난산이소노닐, 이소노난산이소트리데실, 트리 2-에틸헥산산글리세릴, 디데칸산네오펜틸글리콜, 2-에틸헥산산네오펜틸글리콜, 테트라옥탄산펜타에리트리틸, 트리에틸헥산산에리트리틸, 유동 파라핀 등을 들 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물은 유동 파라핀, 트리 2-에틸헥산산글리세릴, 팔미트산옥틸, 옥탄산세틸, 탄산디카프릴 등의 유제를 함유하는 제제에 있어서 틱소트로피성을 부여하기 때문에, 틱소트로피성 부여제로서 사용할 수 있다. 틱소트로피란 등온 가역적인 졸(액체)-겔(고체) 변화로서, 고체인 것이 외력에 의해 액체가 되는 것이다. 즉, 틱소트로피성을 갖는 것은 통상적으로 고체이지만, 힘을 가하면 액상이 된다. 따라서, 틱소트로피성을 갖는 것은 가소성이 있는 용기 등에 충전하면, 통상적으로는 용기 등으로부터 흘러넘치는 일은 없지만, 필요한 때에만 압출할 수 있다. 또한, 틱소트로피성을 갖는 것은 사용 시에 자유롭게 도포 전개할 수 있다. 틱소트로피성을 갖는 것의 구체예로서는 케첩, 크림, 세면 화장품류 분야의 방향제, 도료 등을 들 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물은 유중수(油中水)형(W/O형) 유화물의 유화 안정성을 향상시키는 효과가 있기 때문에, 유화 안정제로서 사용할 수 있다. 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물을 배합함으로써, 경시 안정성이 우수하고, 사용감이 양호한 유중수형 유화물을 얻을 수 있다. 이 때 해당 에스테르화 반응 생성물의 함유량은 유화물의 총량을 100 질량％로 하면, 0.01 내지 40 질량％인 것이 바람직하고, 0.05 내지 30 질량％인 것이 보다 바람직하고, 0.1 내지 15 질량％인 것이 특히 바람직하다.
〔본 발명의 실시 형태에 따른 겔화제〕
본 발명의 실시 형태에 따른 겔화제는 상기 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물을 함유하는 것을 특징으로 한다. 유제 등과 조합한 상기 겔상 조성물로 한 것을 함유하는 것일 수도 있다.
본 발명의 실시 형태에 따른 겔화제는 통상, 상기 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물을 그대로 겔화제로서 이용하지만(겔화제가 에스테르화 반응 생성물만으로 이루어지고, 겔화제 중의 에스테르화 반응 생성물의 함량이 100％인 것), 항산화제로서 토코페롤, BHT(디부틸히드록시톨루엔) 등을 0.01 질량％ 내지 0.1 질량％ 정도 함유시킬 수 있다.
본 실시 형태에 따른 겔화제로 겔화가 가능한 환상 실리콘의 구체예로서는, 옥타메틸시클로테트라실록산, 데카메틸시클로펜타실록산, 도데카메틸시클로헥사실록산 등을 들 수 있고, 특히 데카메틸시클로펜타실록산을 바람직하게 겔화시킬 수 있다. 가열 용해가 가능한 구체예에 대해서도 동일하다.
본 실시 형태에 따른 겔화제로 겔화가 가능한 휘발성 디메틸폴리실록산의 구체예로서는 디메틸폴리실록산 2 cs, 디메틸폴리실록산 1 cs 등을 들 수 있고, 특히 디메틸폴리실록산 2 cs를 바람직하게 겔화시킬 수 있다(cs는 점도를 나타내고 있고, 1 cs=1 mm2/s이다. 이하 동일). 가열 용해가 가능한 구체예에 대해서도 동일하다.
본 실시 형태에 따른 겔화제로 겔화가 가능한 유제의 구체예로서는, 말산디이소스테아릴, 트리 2-에틸헥산산글리세릴, 모노이소스테아르산폴리글리세릴, 디이소스테아르산폴리글리세릴, 트리이소스테아르산폴리글리세릴, 테트라이소스테아르산폴리글리세릴, 팔미트산에틸헥실, 옥탄산세틸, 이소노난산이소노닐, 이소노난산이소트리데실, 미리스트산이소스테아릴, 디에틸헥산산네오펜틸글리콜, 디데칸산네오펜틸글리콜, 트리(옥탄산/데칸산)글리세릴, 트리이소스테아린, 트리이소스테아르산트리메틸올프로판, 테트라옥탄산펜타에리트리틸, 테트라이소스테아르산펜타에리트리틸, 락트산옥틸도데실, (이소스테아르산/세박산)디트리메틸올프로판올리고에스테르, 트리에틸헥산산디트리메틸올프로판, 트리에틸헥산산에리트리틸 등의 에스테르 유제, 수소 첨가 폴리이소부텐, 이소파라핀, 폴리부텐, 유동 파라핀, 스쿠알란, 올레핀올리고머 등의 탄화수소유제 등을 들 수 있고, 특히 말산디이소스테아릴, 트리 2-에틸헥산산글리세릴, 트리이소스테아르산폴리글리세릴, 팔미트산에틸헥실, 디데칸산네오펜틸글리콜, 유동 파라핀, 이소도데칸을 바람직하게 겔화시킬 수 있다.
본 실시 형태에 따른 겔화제와 유제를 조합함으로써 겔화가 가능한 불휘발성 디메틸폴리실록산의 구체예로서는, 디메틸폴리실록산 5 cs, 디메틸폴리실록산 10 cs, 디메틸폴리실록산 100 cs를 들 수 있다. 가열 용해가 가능한 구체예에 대해서도 동일하다.
환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산의 합계 질량을 1로 하면, 본 실시 형태에 따른 겔화제는 질량비로 1까지는 적어도 가열 용해된다.
환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제를 겔화시키기 위해 필요한 겔화제의 양은 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제의 합계량에 의존한다. 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제의 합계 질량에 대한 겔화제의 배합비(질량비)는 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제의 합계 질량을 1로 하면, 0.01 내지 0.40인 것이 바람직하고, 0.015 내지 0.25인 것이 보다 바람직하고, 0.02 내지 0.15인 것이 특히 바람직하다.
본 실시 형태에 따른 겔화제는 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제의 병용 제제에 한정되지 않고, 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산 단독, 혹은 유제 단독 제제의 겔화제로서도 사용할 수 있다.
또한, 불휘발성 디메틸폴리실록산에 가열에 의해 양호하게 용해시키기 위해 필요한 유제의 양은 불휘발성 디메틸폴리실록산의 양에 의존한다. 불휘발성 디메틸폴리실록산의 질량에 대한 유제의 배합비(질량비)는 불휘발성 디메틸폴리실록산의 질량을 1로 하면, 0.4 내지 10.0인 것이 바람직하고, 0.5 내지 10.0인 것이 보다 바람직하고, 0.6 내지 10.0인 것이 특히 바람직하다. 불휘발성 디메틸폴리실록산의 질량에 대한 유제의 배합비가 이 범위에 있으면, 불휘발성 디메틸폴리실록산 및 유제의 합계 질량을 1로 하면, 본 실시 형태에 따른 겔화제는 질량비로 1까지는 적어도 가열 용해된다.
또한, 불휘발성 디메틸폴리실록산 및 유제를 겔화시키기 위해 필요한 본 실시 형태에 따른 겔화제의 양은 불휘발성 디메틸폴리실록산 및 유제의 합계량에 의존한다. 불휘발성 디메틸폴리실록산 및 유제의 합계 질량에 대한 본 실시 형태에 따른 겔화제의 배합비(질량비)는 불휘발성 디메틸폴리실록산 및 유제의 합계 질량을 1로 하면, 0.03 내지 0.40인 것이 바람직하고, 0.05 내지 0.30인 것이 보다 바람직하고, 0.10 내지 0.20인 것이 특히 바람직하다.
본 실시 형태에 따른 겔화제는 화장료, 유제의 처리제, 안료의 처리제, 염료의 처리제, 유화 안정제, 틱소트로피성 부여제, 실리콘의 마찰감 개선제 등에 사용할 수 있다. 특히 화장료에 바람직하게 사용할 수 있다.
〔본 발명의 실시 형태에 따른 틱소트로피성 부여제〕
또한, 본 실시 형태에 따른 틱소트로피성 부여제는 통상, 상기 본 실시 형태에 따른 에스테르화 반응 생성물 또는 겔화제를 그대로 틱소트로피성 부여제로서 이용하지만(틱소트로피성 부여제가 에스테르화 반응 생성물 또는 겔화제만을 포함하고, 틱소트로피성 부여제 중의 에스테르화 반응 생성물 또는 겔화제의 함량이 100％인 것), 항산화제로서 토코페롤, BHT(디부틸히드록시톨루엔) 등을 0.01 질량％ 내지 0.1 질량％ 정도 함유시킬 수도 있다(이하는 에스테르화 반응 생성물의 함량이 100％인 겔화제를 그대로 틱소트로피성 부여제로서 이용하는 경우에 대하여 설명함). 틱소트로피성을 부여하기 위해 필요한 겔화제의 배합 비율은 유제의 합계량에 의존한다. 유제의 합계 질량에 대한 겔화제의 배합비(질량비)는 유제의 합계 질량을 1로 하면, 0.04 내지 0.25인 것이 바람직하고, 0.045 내지 0.20인 것이 보다 바람직하고, 0.05 내지 0.15인 것이 특히 바람직하다.
〔본 발명의 실시 형태에 따른 화장료〕
본 발명의 실시 형태에 따른 화장료는 상기 본 실시 형태에 따른 겔화제를 함유한다(이하의 겔화제의 배합량의 설명에 있어서는 에스테르화 반응 생성물을 그대로 겔화제로서 이용하는 경우에 대하여 설명한다. 겔화제가 에스테르화 반응 생성물 이외의 물질을 함유하고 있는 경우에는, 함유되어 있는 에스테르화 반응 생성물 이외의 물질의 종류 등에 따라서도 다르지만, 대강 비례 계산에 의해, 바람직한 배합량을 하기 배합량으로부터 산출할 수 있음). 해당 겔화제의 화장료 중에의 배합량은 화장료 전량에 대하여 0.01 내지 40 질량％인 것이 바람직하고, 0.05 내지 30 질량％인 것이 보다 바람직하고, 0.1 내지 15 질량％인 것이 특히 바람직하다. 화장료 중에서의 겔화제의 배합량이 이 범위에 있으면, 화장료의 사용감이 양호하고, 실리콘의 마찰감을 느낄 수 없게 된다.
본 실시 형태에 따른 화장료는 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및/또는 유제를 함유한다. 본 실시 형태에 따른 화장료에서 사용하는 환상 실리콘, 휘발성 디메틸폴리실록산, 유제는 상술한 본 실시 형태에 따른 겔화제로 겔화시킬 수 있는 환상 실리콘, 휘발성 디메틸폴리실록산, 유제와 마찬가지이다.
또한, 본 실시 형태에 따른 화장료는 불휘발성 디메틸폴리실록산 및 유제를 함유한다. 불휘발성 디메틸폴리실록산은 유제와 조합함으로써, 본 실시 형태에 따른 겔화제로 겔화가 가능해진다. 본 실시 형태에 따른 화장료로 사용하는 불휘발성 디메틸폴리실록산 및 불휘발성 디메틸폴리실록산을 겔화시키기 위해 사용 가능한 유제는 상술한 본 실시 형태에 따른 겔화제로 겔화시킬 수 있는 불휘발성 디메틸폴리실록산, 불휘발성 디메틸폴리실록산을 겔화시키는 것이 가능한 유제와 마찬가지이다.
본 실시 형태에 따른 화장료 중에서의 환상 실리콘과 휘발성 디메틸폴리실록산의 함량은 합계로 0.1 내지 95 질량％인 것이 바람직하고, 0.5 내지 60 질량％인 것이 보다 바람직하고, 1 내지 30 질량％인 것이 특히 바람직하고, 1 내지 10 질량％인 것이 가장 바람직하다. 화장료 중에서의 환상 실리콘과 휘발성 디메틸폴리실록산의 함량이 이 범위에 있으면, 매끄러움, 감촉이나 광택 등의 미려함이 우수한 화장료가 된다.
본 실시 형태에 따른 화장료 중에서의 불휘발성 디메틸폴리실록산의 함량은 합계로 0.1 내지 80 질량％인 것이 바람직하고, 0.5 내지 60 질량％인 것이 보다 바람직하고, 1 내지 30 질량％인 것이 특히 바람직하고, 1 내지 10 질량％인 것이 가장 바람직하다. 화장료 중의 불휘발성 디메틸폴리실록산의 함량이 이 범위에 있으면, 실리콘의 마찰감을 느낄 수 없고, 매끄럽고, 감촉이나 광택 등의 미려함이 우수한 화장료가 된다.
본 실시 형태에 따른 화장료 중에서의 유제의 함량은 0.1 내지 99 질량％인 것이 바람직하고, 0.5 내지 95 질량％인 것이 보다 바람직하고, 1 내지 90 질량％인 것이 특히 바람직하다. 화장료 중에서의 유제의 함량이 이 범위에 있으면, 매끄러움, 감촉이나 광택 등의 미려함이 우수한 화장료가 된다.
본 실시 형태에 따른 겔화제는 환상 실리콘 또는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및/또는 유제가 배합되는 제제의 화장료에 있어서, 겔화나 고화가 필요한 제형에 바람직하게 사용할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 따른 겔화제는 불휘발성 디메틸폴리실록산이 배합되는 제제의 화장료에 있어서, 겔화나 고화가 필요한 제형에 유제를 조합함으로써 바람직하게 사용할 수 있다. 특히 유성 화장료에 바람직하게 사용할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 따른 겔화제는 유중수형 유화물의 유화 안정성을 향상시키는 효과가 있기 때문에, 유화 안정제로서 유중수형 유화 화장료에 바람직하게 사용할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 따른 겔화제는 틱소트로피성을 부여할 수 있기 때문에, 틱소트로피성 부여제로서 틱소트로피성이 필요한 화장료, 예를 들면 크림 등에 바람직하게 사용할 수 있다.
구체적으로는, 립스틱, 립글로스, 립 크림, 핸드 크림, 미용 크림, 헤어 크림 등의 크림, 미용액, 유액, 로션, 파운데이션, 컨트롤제, 자외선 차단제(일소 방지 화장료), 볼터치, 바탕 화장료, 아이섀도우, 아이브로우, 마스카라, 샴푸, 헤어 린스 등의 린스, 컨디셔너, 클렌징, 헤어 왁스 등의 정발료, 네일 미용료, 주름 개선 효과가 있는 화장료, 에어졸이고, 특히 립스틱, 크림, 유액, 파운데이션, 자외선 차단제에 배합하면 바람직하다.
본 실시 형태에 따른 화장료는 각각의 제형의 공지된 통상법에 의해 제조할 수 있다.
본 실시 형태에 따른 화장료에는 본 실시 형태에 따른 겔화제, 환상 실리콘, 휘발성 디메틸폴리실록산, 불휘발성 디메틸폴리실록산, 유제 이외에, 폴리에테르 변성 실리콘, 알킬 변성 실리콘, 메틸페닐폴리실록산 등의 실리콘 화합물, 세탄올, 올레일알코올 등의 알코올류, 고급 지방산, 지방산 비누, 스테롤 에스테르, 자당 에스테르 등의 에스테르류, 수지, 아미노산계 유제, 불소계 유제, 안료, 염료, 색소, 착색제, 분체, 점토 광물, 무기 성분, 활성제, 자외선 흡수제, 보습제, 향료, 미용 성분, 약효 성분, 산화 방지제, 방부제, 물, 수용성 고분자 등의 통상의 화장료에 이용하는 성분을 배합할 수 있다.
본 실시 형태에 따른 겔화제를 함유하는 화장료는 감촉, 퍼짐, 끈적감, 매끄러움, 산뜻한 느낌 등의 사용감, 착색, 광택, 화장 지속성이 우수하고, 실리콘의 마찰감이 없게 된다.
(실시예 1)
2 리터의 4구 플라스크에 글리세린 92 g(1.0몰), 에이코산이산 55 g(0.16몰), 베헨산 680 g(2.0몰), 메틸분지형 이소스테아르산 173 g(0.6몰)을 투입하고, 촉매로서 p-톨루엔술폰산을 0.01％(0.1 g), 불활성 가스로서 질소 기류 중에 있어서 온도를 180 내지 210℃로 유지하고, 교반하면서 16 시간 동안 반응물의 산가가 저하되지 않을 때까지 에스테르화 반응을 행하였다. 그 후, 1 시간 수증기를 불어 넣는 탈취 처리를 행하여 에스테르화 반응 생성물을 753 g 얻었다. 이 에스테르화 반응 생성물은 산가 2.2, 검화가 169, 수산기가 3.0이었다. 얻어진 에스테르화 반응 생성물을 실시예 1의 겔화제로 하였다.
(실시예 2 내지 16, 비교예 1 내지 10)
또한, 배합 원료, 배합비를 변경한 실시예 2 내지 16, 비교예 1 내지 10에 대해서도 상기 실시예 1과 동일한 제조 방법에 의해 에스테르화 반응 생성물을 얻었다. 얻어진 에스테르화 반응 생성물을 실시예 2 내지 16, 비교예 1 내지 10의 겔화제로 하였다. 또한, 비교예 6은 반응 중에 원료 이소헥산산이 비등했기 때문에, 에스테르화 반응 생성물을 얻을 수 없었다.
실시예 1 내지 16, 비교예 1 내지 10의 배합 원료, 투입량, 배합비를 표 1에 나타내었다.
또한, 사용한 원료는 글리세린: 사카모토 아꾸힌 고교(주) 제조의 화장품용 농글리세린, 에이코산이산: 오카무라 세이유(주) 제조의 SL-20, 베헨산: Unichema 제조의 PRIFRAC 2989, 메틸분지형 이소스테아르산: Cognis 제조의 Emersol 874, 다분지형 이소스테아르산: 닛산 가가꾸 고교(주) 제조의 이소스테아르산, 옥타데칸이산: Cognis 제조의 Emerox 118, 이소옥틸산: 칫소(주) 제조의 옥틸산, 트리메틸올프로판: 고에이 가가꾸 고교(주) 제조의 트리메틸올프로판, 스테아르산: Acid Chem 제조의 PALMAC 98-18, 몬탄산: 클라리안트 재팬(주) 제조의 Hoechest Wax S, 세박산: 오구라 고세이 고교(주) 제조의 세박산, 디글리세린: 사카모토 아꾸힌 고교(주) 제조의 디글리세린 S, 데카글리세린: 사카모토 아꾸힌 고교(주) 제조의 폴리글리세린 #750, 무수 숙신산: 신닛본리카(주) 제조의 리카시드 SA, 라우르산: Acid Chem 제조의 PALMAC98-12, 팔미트산: Acid Chem 제조의 PALMAC 98-16, 이소헥산산: 칫소(주) 제조의 2-에틸부티르산을 사용하였다.
(겔화능의 평가 1)
실시예 1 내지 16, 비교예 1 내지 5, 7 내지 10의 겔화제의 환상 실리콘에 대한 겔화능을 평가하기 위해, 데카메틸시클로펜타실록산(신에쓰 가가꾸 고교(주) 제조의 KF-995) 10 g에 대하여 실시예 1 내지 16, 비교예 1 내지 5, 7 내지 10의 겔화제를 1 g 첨가하고, 80℃에서 가열 용해시킨 후, 실온에서 방냉한 후의 겔화물의 상태를 평가하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
겔화물 상태의 평가 기준은 이하와 같이 하였다.
◎: 완전 고화, ○: 겔화, △: 분산 액상, ×: 완전 분리
표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 규정 범위의 성분 A 내지 성분 D를, 규정 범위의 배합비로 에스테르화 반응시켜 얻어지는 에스테르화 반응 생성물인 실시예 1 내지 16의 겔화제는 환상 실리콘을 겔화시킬 수 있어 만족할만한 것이었다. 실시예 16으로부터, 성분 A 내지 C를 규정 범위의 배합비로 하면, 성분 D를 사용하지 않더라도 겔화 양호함을 알 수 있다.
한편, 에스테르화 반응시의 성분 A와 성분 B의 배합비가 규정 범위 외인 비교예 1 내지 4, 9, 10의 겔화제, 탄소수가 짧은 규정 범위 외의 성분 B 또는 성분 C를 사용한 비교예 5, 7의 겔화제, 및 수산기가가 규정 범위 외인 비교예 8의 겔화제는 환상 실리콘을 겔화시킬 수 없어 만족할 만한 것은 아니었다.
(겔화능의 평가 2)
각종 실리콘, 유제 각 9 g에 대하여 실시예 1 내지 9, 비교예 1 내지 5, 비교예 8, 9의 겔화제를 1 g 첨가하고, 이것을 평가 시료로 하였다.
평가 시료를 80℃의 항온조에서 1 시간 가열한 후, 이것을 혼합함으로써, 겔화제를 유제 중에 균일하게 용해시켰다. 균일하게 용해시킨 평가 시료를 25℃에서 24 시간 보존한 후, 겔화물의 상태를 평가하였다. 그 결과를 표 2에 나타내었다.
겔화물 상태의 평가 기준은 이하와 같이 하였다.
◎: 완전 고화, ○: 겔화, △: 분산 액상, ×: 완전 분리
표 2 중의 ※ 1 내지 15는 이하의 것을 사용하였다.
※ 1: 신에쓰 가가꾸 고교(주) 제조, KF-96 2 cs
※ 2: 신에쓰 가가꾸 고교(주) 제조, KF-56
※ 3: 신에쓰 가가꾸 고교(주) 제조, KF-6017, KF-6015, GE 도시바 실리콘(주) 제조, SILSOFT305, 3종 모두 동일한 결과였다.
※ 4: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, T.I.O
※ 5: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 222
※ 6: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 43V
※ 7: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 42V
※ 8: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 사라코스 P-8
※ 9: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 사라코스 816T
※ 10: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 525
※ 11: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 에스테몰 N-01
※ 12: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 사라코스 5408
※ 13: 이데미쓰 세끼유 가가꾸(주) 제조, IP 솔벤트 1620
※ 14: 시마 보우에끼(주) 제조, 카르네이션(CARNATION)
※ 15: 닛본 유시(주) 제조, 파르림 18
표 2로부터 알 수 있는 바와 같이, 규정 범위의 성분 A 내지 성분 D를, 규정 범위의 배합비로 에스테르화 반응시켜 얻어지는 에스테르화 반응 생성물인 실시예 1 내지 9의 겔화제는 휘발성 디메틸폴리실록산, 및 유제를 겔화시킬 수 있어 만족할 만한 것이었다.
한편, 에스테르화 반응시의 성분 A와 성분 B의 배합비가 규정 범위 외인 비교예 1 내지 4, 9의 겔화제, 탄소수가 짧은 규정 범위 외의 성분 C를 사용한 비교예 5의 겔화제는 휘발성 디메틸폴리실록산을 겔화시킬 수 없어 만족할 만한 것은 아니었다. 또한, 수산기가가 규정 범위 외인 비교예 8의 겔화제는 유제는 겔화시킬 수 있지만 휘발성 디메틸폴리실록산을 겔화시킬 수 없어 만족할 만한 것은 아니었다.
(화장료의 평가 1)
실시예 1 및 비교예 9를 이용하여 이하의 방법에 의해 실시예 17 및 비교예 11의 파운데이션를 제조하고, 평가를 행하였다.
표 3에 나타내는 유성 성분 A를 충분히 교반하면서, 동 표 3에 나타내는 피그먼트 베이스 B를 첨가하여 유상을 제조한 후, 제조한 유상에 동 표 3에 나타내는 수성 성분 C를 서서히 첨가하고, 70℃의 온도에서 호모 믹서에 의해 유화한 후, 냉각하여 파운데이션을 제조하였다.
피험자 10명에게 각 파운데이션을 사용하게 하고, 감촉, 퍼짐 양호, 끈적임 없음, 화장 지속성 양호의 각 항목을 피험자가 3 단계 평가(양호: 2점, 보통: 1점, 불량: 0점)한 것을 관능 평가로 하였다. 또한, 각 피험자의 관능 평가를 합계한 것을 종합 평가로 하였다(◎: 15점 이상, ○: 10 내지 14점, △: 5 내지 9점, ×: 4점 이하). 각 파운데이션의 종합 평가를 표 3에 나타내었다.
표 3 중의 ※ 1 내지 3은 이하의 것을 사용하였다.
※ 1: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 사라코스 P-8
※ 2: 신에쯔 가가꾸(주) 제조, KF-995
※ 3: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 168ARV
표 3으로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1의 겔화제를 배합한 실시예 17의 파운데이션은 비교예 9의 겔화제를 배합한 비교예 11의 파운데이션에 비하여 모든 항목에서 우수한 것이었다.
(화장료의 평가 2)
실시예 1 및 비교예 9를 이용하여 이하의 방법에 의해 실시예 18 및 비교예 12의 자외선 차단제를 제조하고, 평가를 행하였다.
표 4에 나타내는 유성 성분 A를 충분히 교반함으로써 유상을 제조하고, 이 유상에 동 표 4에 나타내는 수성 성분 B를 서서히 첨가하고, 70℃의 온도에서 호모 믹서에 의해 유화한 후, 냉각하여 자외선 차단제로 하였다.
피험자 10명에게 각 자외선 차단제를 사용하게 하고, 감촉, 퍼짐 양호, 끈적임 없음, 산뜻한 느낌의 각 항목을 피험자가 3 단계 평가(양호: 2점, 보통: 1점, 불량: 0점)한 것을 관능 평가로 하였다. 또한, 각 피험자의 관능 평가를 합계한 것을 종합 평가로 하였다(◎: 15점 이상, ○: 10 내지 14점, △: 5 내지 9점, ×: 4점 이하). 각 자외선 차단제의 종합 평가를 표 4에 나타내었다.
표 4 중의 ※ 1 내지 3은 이하의 것을 사용하였다.
※ 1: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 사라코스 P-8
※ 2: 신에쯔 가가꾸(주) 제조, KF-995
※ 3: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 놈코트 TAB
표 4로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1의 겔화제를 배합한 실시예 18의 자외선 차단제는 비교예 9의 겔화제를 배합한 비교예 12의 자외선 차단제에 비하여 모든 항목에서 우수한 것이었다.
(화장료의 평가 3)
실시예 1 및 비교예 9를 이용하여 이하의 방법에 의해 실시예 19 및 비교예 13의 립스틱을 제조하고, 평가를 행하였다.
하기 표 5에 기재된 성분을 혼합한 후, 120℃로 가열하여 완전 용해시켰다. 그 후, 탈포한 것을 형에 유입시켜 냉각하였다. 형으로부터 꺼내어 립스틱 용기에 세팅하였다.
피험자 10명에게 각 립스틱을 사용하게 하고, 립스틱의 감촉, 착색, 광택, 화장 지속성의 각 항목을 피험자가 3 단계 평가(양호: 2점, 보통: 1점, 불량: 0점)한 것을 관능 평가로 하였다. 또한, 각 피험자의 관능 평가를 합계한 것을 종합 평가로 하였다(◎: 15점 이상, ○: 10 내지 14점, △: 5 내지 9점, ×: 4점 이하).
각 립스틱의 종합 평가를 표 5에 나타내었다.
표 5 중의 ※ 1 내지 5는 이하의 것을 사용하였다.
※ 1: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 222
※ 2: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 168ARV
※ 3: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, T.I.O
※ 4: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 사라코스 P-8
※ 5: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 43V
표 5로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1의 겔화제를 배합한 실시예 19의 립스틱은 비교예 9의 겔화제를 배합한 비교예 13의 립스틱에 비하여 모든 항목에서 우수한 것이었다.
(화장료의 평가 4)
실시예 1 및 비교예 9를 이용하여 이하의 방법에 의해 실시예 20 및 비교예 14의 미용 크림을 제조하고, 평가를 행하였다.
표 6에 나타내는 유성 성분 A를 70℃의 온도에서 충분히 교반하면서, 70℃의 온도로 가열한 동 표 6에 나타내는 수성 성분 B를 서서히 첨가하고, 호모 믹서에 의해 유화한 후, 냉각하여 미용 크림을 제조하였다.
피험자 10명에게 각 미용 크림을 사용하게 하고, 미용 크림의 감촉, 퍼짐 양호, 매끄러움, 끈적임 없음의 각 항목을 피험자가 3 단계 평가(양호: 2점, 보통: 1점, 불량: 0점)한 것을 관능 평가로 하였다. 또한, 각 피험자의 관능 평가를 합계한 것을 종합 평가로 하였다(◎: 15점 이상, ○: 10 내지 14점, △: 5 내지 9점, ×: 4점 이하). 각 미용 크림의 종합 평가를 표 6에 나타내었다.
표 6으로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1의 겔화제를 배합한 실시예 20의 미용 크림은 비교예 9의 겔화제를 배합한 비교예 14의 미용 크림에 비하여 모든 항목에서 우수한 것이었다.
(화장료의 평가 5)
실시예 1을 이용하여 이하의 방법에 의해 실시예 21 및 비교예 15의 파운데이션(유성 파운데이션)을 제조하고, 평가를 행하였다.
표 7에 나타내는 유성 성분 B를 70℃의 온도에서 충분히 교반하고, 여기에 동 표 7에 나타내는 안료 A를 서서히 첨가하고, 호모 믹서에 의해 유화한 후, 냉각하여 파운데이션을 제조하였다.
피험자 10명에게 파운데이션을 사용하게 하고, 파운데이션의 감촉, 퍼짐 양호, 매끄러움, 끈적임 없음의 각 항목을 피험자가 3 단계 평가(양호: 2점, 보통: 1점, 불량: 0점)한 것을 관능 평가로 하였다. 또한, 각 피험자의 관능 평가를 합계한 것을 종합 평가로 하였다(◎: 15점 이상, ○: 10 내지 14점, △: 5 내지 9점, ×: 4점 이하). 또한, 제조한 파운데이션을 50℃의 항온조에 보존하여 1개월 후의 상태를 확인하고, 3 단계 평가(○: 분리가 보이지 않음, △: 약간 분리가 보임, ×: 완전 분리)로 평가하였다. 각 파운데이션의 종합 평가를 표 7에 나타내었다.
표 7로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1의 겔화제를 배합한 실시예 21의 파운데이션은 비교예 15의 파운데이션에 비하여 모든 항목에서 우수한 것이었다.
(화장료의 평가 6)
실시예 1을 이용하여 이하의 방법에 의해 실시예 22 및 비교예 16의 자외선 차단제(유중수형 유화 자외선 차단 크림)을 제조하고, 평가를 행하였다.
표 8에 나타내는 유성 성분 A를 70℃의 온도에서 충분히 교반하면서 안료 B를 가하여 유상부로 하였다. 여기에, 70℃의 온도로 가열한 동 표 8에 나타내는 수성 성분 C를 서서히 첨가하고, 호모 믹서에 의해 유화한 후, 냉각하여 자외선 차단제를 제조하였다.
피험자 10명에게 자외선 차단제를 사용하게 하고, 자외선 차단제의 감촉, 퍼짐 양호, 매끄러움, 끈적임 없음의 각 항목을 피험자가 3 단계 평가(양호: 2점, 보통: 1점, 불량: 0점)한 것을 관능 평가로 하였다. 또한, 각 피험자의 관능 평가를 합계한 것을 종합 평가로 하였다(◎: 15점 이상, ○: 10 내지 14점, △: 5 내지 9점, ×: 4점 이하). 또한, 제조한 자외선 차단제를 50℃의 항온조에 보존하여 1개월 후의 상태를 확인하고, 3 단계 평가(○: 분리가 보이지 않음, △: 약간 분리가 보임, ×: 완전 분리)로 평가하였다. 각 자외선 차단제의 종합 평가를 표 8에 나타내었다.
표 8로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1의 겔화제를 배합한 실시예 22의 자외선 차단제는 비교예 16의 자외선 차단제에 비하여 모든 항목에서 우수한 것이었다.
(화장료의 평가 7)
실시예 1을 이용하여 이하의 방법에 의해 실시예 23, 24, 25 및 비교예 17, 18, 19의 클렌징(클렌징 오일)을 제조하고, 평가를 행하였다.
표 9에 나타내는 성분을 70℃의 온도에서 충분히 교반, 혼합한 후, 냉각하여 클렌징을 제조하였다.
피험자 10명에게 클렌징을 사용하게 하고, 클렌징의 감촉, 퍼짐 양호, 흘러 내림 없음의 각 항목을 피험자가 3 단계 평가(양호: 2점, 보통: 1점, 불량: 0점)한 것을 관능 평가로 하였다. 또한, 각 피험자의 관능 평가를 합계한 것을 종합 평가로 하였다(◎: 15점 이상, ○: 10 내지 14점, △: 5 내지 9점, ×: 4점 이하). 각 클렌징의 종합 평가를 표 9에 나타내었다.
표 9로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1의 겔화제를 배합한 실시예 23, 24, 25의 클렌징은 비교예 17, 18, 19의 클렌징에 비하여 모든 항목에서 우수한 것이었다.
(불휘발성 디메틸폴리실록산에 대한 용해성 및 겔화의 평가)
실시예 1의 겔화제 1.0 g과 유제 19.0 g을 혼합한 것과 실시예 1의 겔화제 6.0 g과 유제 14.0 g을 혼합한 것과, 비교예 9의 겔화제 1.0 g과 유제 19.0 g을 혼합한 것을 80℃로 가열하고, 실시예 1 또는 비교예 9의 겔화제를 유제에 완전히 용해시켰다. 이 혼합물을 80℃로 유지한 채로 디메틸폴리실록산 10 cs(불휘발성 디메틸폴리실록산)를 0.1 g씩 첨가하고, 혼합물이 탁해지기 시작한 점을 종점으로 하였다. 이 혼합물이 탁해지기 시작한 점에서의 실시예 1 또는 비교예 9의 겔화제와 유제의 합계 질량에 대한 디메틸폴리실록산 10 cs(불휘발성 디메틸폴리실록산)의 첨가 질량을 ％로 나타낸 결과를 표 10에 나타내었다.
표 10 중의 ※ 1 내지 5는 이하의 것을 사용하였다.
※ 1: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 사라코스 99
※ 2: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 사라코스 913
※ 3: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 에스테몰 N-01
※ 4: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 사라코스 5408
※ 5: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 사라코스 E-38
표 10의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1의 겔화제는 비교예 9의 겔화제와 비교하여 디메틸폴리실록산 10 cs(불휘발성 디메틸폴리실록산)의 용해 능력이 우수하였다. 즉, 불휘발성 디메틸폴리실록산에 대한 용해성이 양호함을 알 수 있었다. 또한, 실시예 1의 겔화제 6.0 g과 유제 14.0 g의 혼합물에 디메틸폴리실록산 10 cs(불휘발성 디메틸폴리실록산)을 표 10 중의 실시예 27의 값으로 가한 혼합물은 80℃의 가열에 의해 용해되고, 냉각 후에는 모두 겔화되었다.
(틱소트로피성의 평가)
실시예 1의 겔화제와 유제를 혼합하여 틱소트로피성을 나타내는지의 여부를 평가하였다. 유제의 종류와 실시예 1의 겔화제 배합량을 표 11에 나타내었다. 틱소트로피성의 평가 방법은 100 ㎖ 용량의 병에 실시예 1의 겔화제를 표 11에 나타낸 비율로 유제에 배합한 것을 50 g 제조하고, 80℃로 가열하여 겔화제를 균일 용해한 후, 냉각하여 실시예 1의 겔화제를 함유하는 겔화물을 제조하였다. 병을 흔들어 섞으면 겔화물이 졸화하고, 추가로 그 졸화물을 30분 정치한 후, 병을 거꾸로 했을 때에 내용물이 흘러나오는 일이 없으면 틱소트로피성이 있다고 하였다.
표 11 중의 ※ 1 내지 3은 이하의 것을 사용하였다.
※ 1: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, T.I.O
※ 2: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 사라코스 P-8
※ 3: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 사라코스 816T
실시예 1의 겔화제는 표 11에 나타낸 유제에 각각 나타낸 질량％로 농도 배합함으로써, 틱소트로피성이 부여되는 것이 확인되었다.
(화장료의 평가 8)
실시예 1 또는 주지된 오일겔화제인, 베헨산에이코산이산글리세릴 또는 팔미트산덱스트린을 이용하거나, 또는 이들을 병용하여 이하의 방법에 의해 실시예 28 내지 35 및 비교예 21 내지 24의 클렌징을 제조하고, 평가를 행하였다.
표 12에 나타내는 성분을 90℃의 온도에서 충분히 교반, 혼합한 후, 냉각하여 클렌징을 제조하였다.
피험자 10명에게 클렌징을 사용하게 하고, 클렌징의 감촉, 매끄러움, 사용 용이성의 각 항목을 피험자가 3 단계 평가(양호: 2점, 보통: 1점, 불량: 0점)한 것을 관능 평가로 하였다. 또한, 각 피험자의 관능 평가를 합계한 것을 종합 평가로 하였다(◎: 15점 이상, ○: 10 내지 14점, △: 5 내지 9점, ×: 4점 이하). 각 클렌징의 종합 평가를 표 12에 나타내었다.
표 12로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1의 겔화제와 다른 오일겔화제를 배합한 실시예 28 내지 35의 클렌징은 비교예 21 내지 24의 클렌징에 비하여 모든 항목에서 우수한 것이었다.
(화장료의 평가 9)
실시예 1을 이용하여 이하의 방법에 의해 실시예 36 내지 39 및 비교예 25, 26의 립글로스를 제조하고, 평가를 행하였다.
표 13에 나타내는 성분을 90℃의 온도에서 충분히 교반, 혼합한 후, 냉각하여 립글로스를 제조하였다.
피험자 10명에게 립글로스를 사용하게 하고, 립글로스의 감촉, 퍼짐 양호성의 각 항목을 피험자가 3 단계 평가(양호: 2점, 보통: 1점, 불량: 0점)한 것을 관능 평가로 하였다. 또한, 각 피험자의 관능 평가를 합계한 것을 종합 평가로 하였다(◎: 15점 이상, ○: 10 내지 14점, △: 5 내지 9점, ×: 4점 이하). 각 립글로스의 종합 평가를 표 13에 나타내었다.
표 13로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1의 겔화제를 배합한 실시예 36 내지 39의 립글로스는 비교예 25, 26의 립글로스에 비하여 모든 항목에서 우수한 것이었다.
(화장료의 제조 10)
실시예 1을 이용하여 이하의 방법에 의해 실시예 40의 헤어 크림을 제조하였다.
표 14에 나타내는 유성 성분 A를 충분히 교반하면서 80℃로 조정한다. 동 표에 나타내는 수성 성분 B를 충분히 교반하면서 80℃로 조정한다. 교반하면서 수성 성분 B에 유성 성분 A를 가하여 호모 믹서에 의해 유화한 후, 냉각하여 헤어 크림을 제조하였다.
표 14 중의 ※ 1 내지 2는 이하의 것을 사용하였다.
※ 1: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 82
※ 2: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 182V
(화장료의 제조 11)
실시예 1을 이용하여 이하의 방법에 의해 실시예 41의 헤어 왁스를 제조하였다.
표 15에 나타내는 유성 성분 A를 80℃의 온도에서 충분히 교반한 후, 냉각하여 헤어 왁스로 하였다.
표 15 중의 ※ 1 내지 3은 이하의 것을 사용하였다.
※ 1: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 222
※ 2: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 놈코트 HK-G
※ 3: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 놈코트 HK-P
(화장료의 제조 12)
실시예 1을 이용하여 이하의 방법에 의해 실시예 42의 헤어 린스를 제조하고, 평가를 행하였다.
표 16에 나타내는 성분 A를 70℃의 온도에서 충분히 교반한다. 성분 B를 70℃의 온도에서 충분히 교반한 후, 70℃의 성분 A를 첨가하고, 호모 믹서에 의해 유화한 후 냉각하여 헤어 린스로 하였다.
표 16 중의 ※ 1 내지 3은 이하의 것을 사용하였다.
※ 1: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 41V
※ 2: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 42V
※ 3: 닛신 오일리오 그룹(주) 제조, 코스몰 82
Claims (13)
- 하기 성분 A, 성분 B, 성분 C 및 성분 D를 에스테르화 반응시킴으로써 얻어지고, 수산기가가 30 이하이며, 에스테르화 반응시의 성분 A와 성분 B의 배합비가 성분 A:성분 B=1.0몰:0.10~0.20몰인 것을 특징으로 하는 에스테르화 반응 생성물.성분 A: 다가 알코올 또는 그의 축합물성분 B: 탄소수 10 내지 28의 포화 이염기산성분 C: 탄소수 16 내지 28의 직쇄 포화 지방산성분 D: 탄소수 8 내지 28의 분지 포화 지방산
- 제1항에 있어서, 에스테르화 반응시의 각 성분의 배합비가 성분 A:성분 C=1.0몰:1.0~7.5몰, 성분 A:성분 D=1.0몰:0.2~2.3몰인 것을 특징으로 하는 에스테르화 반응 생성물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 성분 A가 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디글리세린, 데카글리세린으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것임을 특징으로 하는 에스테르화 반응 생성물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 성분 B가 에이코산이산, 옥타데칸이산, 세박산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것임을 특징으로 하는 에스테르화 반응 생성물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 성분 C가 팔미트산, 스테아르산, 베헨산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것임을 특징으로 하는 에스테르화 반응 생성물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 성분 D가 이소옥틸산 또는 이소스테아르산인 것을 특징으로 하는 에스테르화 반응 생성물.
- 제1항 또는 제2항에 기재된 에스테르화 반응 생성물을 함유하는 것을 특징으로 하는 겔화제.
- 제1항 또는 제2항에 기재된 에스테르화 반응 생성물 또는 상기 에스테르화 반응 생성물을 함유하는 겔화제를 함유하는 것을 특징으로 하는 틱소트로피성 부여제.
- 제1항 또는 제2항에 기재된 에스테르화 반응 생성물, 상기 에스테르화 반응 생성물을 함유하는 겔화제, 또는 상기 에스테르화 반응 생성물 또는 상기 겔화제를 함유하는 틱소트로피성 부여제를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료.
- 제9항에 있어서, 환상 실리콘, 휘발성 디메틸폴리실록산, 유제(油劑), 환상 실리콘과 유제, 또는 휘발성 디메틸폴리실록산과 유제를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료.
- 제9항에 있어서, 불휘발성 디메틸폴리실록산 및 유제를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장료.
- 제9항에 있어서, 상기 화장료가 유성 화장료 또는 유중수형 유화 화장료인 것을 특징으로 하는 화장료.
- 제9항에 있어서, 상기 화장료가 립스틱, 크림, 유액, 파운데이션, 자외선 차단제, 클렌징으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것임을 특징으로 하는 화장료.
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