KR100669777B1 - Organic electroluminescence display - Google Patents
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Abstract
본 발명은 제1 전극 및 제2 전극 사이에 인광 호스트 및 인광 도펀트를 포함하는 발광층을 갖는 유기 전계 발광 소자에 있어서, 상기 인광 도펀트가 발광층의 두께를 따라 점진적인 농도 구배를 갖도록 존재하는 유기 전계 발광 소자를 제공한다. 본 발명의 유기 전계 발광 소자는 발광층 형성시 인광 도펀트의 농도 구배를 이용함으로써 효율 및 수명 특성이 개선된다.The present invention provides an organic electroluminescent device having a light emitting layer comprising a phosphorescent host and a phosphorescent dopant between a first electrode and a second electrode, wherein the phosphorescent dopant is present to have a gradual concentration gradient along the thickness of the light emitting layer. To provide. In the organic electroluminescent device of the present invention, efficiency and lifespan characteristics are improved by using a concentration gradient of the phosphorescent dopant in forming the emission layer.
Description
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 유기 전계 발광 소자의 단면을 나타낸 도면이다.1 is a cross-sectional view of an organic electroluminescent device according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 실시예 및 비교예에 따른 효율 특성의 결과를 나타낸 도면이다.2 is a view showing the results of efficiency characteristics according to the Examples and Comparative Examples of the present invention.
도 3은 본 발명의 실시예 및 비교예에 따른 수명 특성의 결과를 나타낸 도면이다.3 is a view showing the results of life characteristics according to the Examples and Comparative Examples of the present invention.
본 발명은 유기 전계 발광 소자에 관한 것으로서, 보다 상세하기로는 인광 도펀트를 포함하는 발광층을 채용하여 효율 및 수명 특성이 개선된 유기 전계 발광 소자에 관한 것이다.The present invention relates to an organic electroluminescent device, and more particularly, to an organic electroluminescent device having improved efficiency and lifespan by employing a light emitting layer containing a phosphorescent dopant.
전계 발광 소자(Electroluminescent device : EL device)는 자발광형 표시소자로서 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답시간이 빠르다는 장점을 가지고 있다. EL 소자는 발광층(emitting layer) 형성용 재료에 따라 무기 EL 소자와 유기 EL 소자로 구분된다. 여기에서 유기 EL 소자는 무기 EL소자에 비하여 휘도, 구동전압 및 응답속도 특성이 우수하고 다색화가 가능하다는 장점을 가지고 있다.Electroluminescent devices (EL devices) are self-luminous display devices that have a wide viewing angle, excellent contrast, and fast response time. EL elements are classified into inorganic EL elements and organic EL elements according to materials for forming an emitting layer. Herein, the organic EL device has an advantage of excellent luminance, driving voltage, and response speed, and multicoloring, compared to the inorganic EL device.
일반적인 유기 전계 발광 소자는 기판 상부에 애노드(anode)가 형성되어 있고, 이 애노드 상부에 홀 수송층(HTL), 발광층(EML), 전자 수송층(ETL) 및 캐소드(cathode)가 순차적으로 형성되어 있는 구조를 가지고 있다. 여기에서 홀 수송층, 발광층 및 전자 수송층은 유기화합물로 이루어진 유기 박막들이다.A typical organic electroluminescent device has an anode formed on the substrate, and the hole transport layer (HTL), the light emitting layer (EML), the electron transport layer (ETL) and the cathode (cathode) are sequentially formed on the anode. Have Here, the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer are organic thin films made of an organic compound.
유기 EL 소자의 구동 원리는 상기 애노드 및 캐소드간에 전압을 인가하면 애노드로부터 주입된 홀은 홀 수송층을 경유하여 발광층으로 이동된다. 한편, 전자는 캐소드로부터 전자수송층을 경유하여 발광층에 주입되고 발광층 영역에서 캐리어들이 재결합하여 엑시톤(exiton)을 생성한다. 이 엑시톤이 여기 상태에서 기저상태로 변화되고, 이로 인하여 발광층의 형광성 분자가 발광함으로서 화상이 형성된다. 이때 여기상태가 일중항 여기상태를 통하여 기저상태로 떨어지면서 발광하는 것을 '형광'이라고 하며, 삼중항 여기상태를 통하여 기저상태로 떨어지면서 발광하는 것을 '인광'이라고 한다. 형광의 경우 일중항 여기상태의 확률이 25% (삼중항 상태 75%)이며 발광 효율의 한계가 있는 반면에, 인광을 사용하면 삼중항 75%와 일중항 여기상태 25%까지 이용할 수 있으므로 이론적으로는 내부 양자 효율 100%까지 가능하다.The driving principle of the organic EL element is that when a voltage is applied between the anode and the cathode, holes injected from the anode are moved to the light emitting layer via the hole transport layer. On the other hand, electrons are injected into the light emitting layer from the cathode via the electron transport layer, and carriers are recombined in the light emitting layer to generate excitons. The exciton is changed from the excited state to the ground state, whereby the fluorescent molecules in the light emitting layer emit light to form an image. At this time, the excited state falls to the ground state through the singlet excited state and emits light is called 'fluorescence', and the triplet excited state falls to the ground state through the excited state is called 'phosphorescence'. In the case of fluorescence, the probability of singlet excited state is 25% (triple state 75%) and there is a limit of luminous efficiency, whereas phosphorescence can be used to triplet 75% and singlet
인광 재료는 일반적으로 무거운 원자를 함유하는 유기금속 화합물 구조를 가지고 있으며, 이러한 인광 재료를 이용하면 원래 금지 전이이던 삼중항 상태의 엑시톤이 허용 전이를 거쳐 발광하게 된다. 인광 재료는 75% 생성 확률을 갖는 삼중 항 엑시톤을 사용할 수 있게 되어 25% 생성 확률을 갖는 일중항 엑시톤을 이용하는 형광 재료보다 매우 높은 발광 효율을 가질 수 있다.Phosphorescent materials generally have an organometallic compound structure containing heavy atoms, and when such phosphorescent materials are used, the excitons in the triplet state, which were originally forbidden transitions, emit light through an allowable transition. The phosphorescent material may use triplet excitons with a 75% generation probability and thus have a much higher luminous efficiency than fluorescent materials using singlet excitons with a 25% generation probability.
인광 재료를 이용한 발광층은 호스트 물질과 이로부터 에너지를 전이받아 발광하는 도펀트 물질로 구성된다. 상기 도펀트 물질로는 프린스턴 대학과 남캘리포니아 대학에서 이리듐 금속 화합물을 이용한 여러 재료들이 보고되고 있다. 특히 발광 재료로는 (4,6-F2ppy)2Irpic이나 불소화된 ppy(fluorinated ppy) 리간드 구조를 기본으로 하는 Ir 화합물이 개발되었으며, 이들 발광 물질의 호스트 재료로는 CBP(4,4'-N,N'-dicarbazole-biphenyl)가 많이 사용되고 있다.The light emitting layer using the phosphorescent material is composed of a host material and a dopant material that emits light by transferring energy therefrom. As the dopant material, various materials using iridium metal compounds have been reported at Princeton University and the University of Southern California. In particular, as the light emitting material, Ir compounds based on (4,6-F 2 ppy) 2 Irpic or fluorinated ppy ligand structures have been developed, and CBP (4,4 ') is a host material for these light emitting materials. -N, N'-dicarbazole-biphenyl) is widely used.
최근에 인광 재료를 이용한 발광층 형성시 CBP보다 더 큰 삼중항 에너지 밴드 갭을 갖는 카바졸계 화합물을 호스트로 이용하는 방법이 공지되었지만, 지금까지 알려진 카바졸계 화합물을 이용하는 경우에도 인광 디바이스의 효율 및 수명 특성이 만족할 만한 수준에 이르지 못하여 개선의 여지가 많았다.Recently, a method of using a carbazole compound having a triplet energy band gap larger than CBP as a host when forming a light emitting layer using a phosphorescent material has been known. However, even when a carbazole compound known to date is used, the efficiency and lifespan characteristics of the phosphorescent device have been improved. There was a lot of room for improvement because it did not reach a satisfactory level.
이에 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 문제점을 해결하여 효율 및 수명 특성이 개선된 유기 전계 발광 소자를 제공하는 것이다.Accordingly, the technical problem to be achieved by the present invention is to provide an organic EL device having improved efficiency and lifetime characteristics by solving the above problems.
상기 기술적 과제를 이루기 위하여, 본 발명은,In order to achieve the above technical problem, the present invention,
제1 전극 및 제2 전극 사이에 인광 호스트 및 인광 도펀트를 포함하는 발광층을 갖는 유기 전계 발광 소자에 있어서,In an organic electroluminescent device having a light emitting layer comprising a phosphorescent host and a phosphorescent dopant between a first electrode and a second electrode,
상기 인광 도펀트는 발광층의 두께를 따라 점진적인 농도 구배를 갖도록 존재하는 유기 전계 발광 소자를 제공한다.The phosphorescent dopant provides an organic electroluminescent device that exists to have a gradual concentration gradient along the thickness of the light emitting layer.
이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
본 발명에서는 인광 호스트 및 인광 도펀트를 포함하는 발광층 형성시 인광 도펀트가 발광층의 두께에 따라 농도 구배를 갖도록 함으로써 유기 전계 발광 소자의 발광 효율 및 수명 특성을 향상시킨 것이다.In the present invention, the phosphorescent dopant has a concentration gradient according to the thickness of the light emitting layer when forming the light emitting layer including the phosphorescent host and the phosphorescent dopant, thereby improving the luminous efficiency and lifespan characteristics of the organic EL device.
본 발명의 일구현예에 의하면, 상기 인광 호스트는 저분자의 홀 수송 물질을 포함하고, 상기 인광 도펀트는 상기 발광층의 전자 수송층에서 홀 수송층으로의 두께 방향을 따라 점진적으로 증가하도록 분포될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the phosphorescent host may include a low molecular hole transport material, and the phosphorescent dopant may be distributed to increase gradually along the thickness direction from the electron transport layer of the light emitting layer to the hole transport layer.
본 발명의 다른 일구현예에 의하면, 상기 인광 호스트는 전자 수송 물질을 포함하고, 상기 인광 도펀트는 상기 발광층의 홀 수송층에서 전자 수송층으로 두께 방향을 따라 점진적으로 증가하도록 분포될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the phosphorescent host may include an electron transport material, and the phosphorescent dopant may be distributed to increase gradually in the thickness direction from the hole transport layer of the light emitting layer to the electron transport layer.
본 발명의 발광층 형성시 사용되는 인광 도펀트는 발광 물질로서, 이의 비제한적인 예로서, 비스티에닐피리딘 아세틸아세토네이트 이리듐(bisthienylpyridine acetylacetonate Iridium), 비스(벤조티에닐피리딘)아세틸아세토네이트 이리듐{bis(benzothienylpyridine)acetylacetonate Iridium}, 비스(2-페닐벤조티아졸)아세틸아세토네이트 이리듐{Bis(2-phenylbenzothiazole)acetylacetonate Iridium}, 비스(1-페닐이소퀴놀린) 이리듐 아세틸아세토네이트{bis(1-phenylisoquinoline) Iridium acetylacetonate}, 트리스(1-페닐이소퀴놀린)이리듐{tris(1-phenylisoquinoline) Iridium}, 트리스(페닐피리딘) 이리듐{tris(phenylpyridine) Iridium}, 트리스(2-비페닐피리딘) 이리듐{tris(2-phenylpyridine) Iridium}, 트리스(3-비페닐 피리딘) 이리듐{tris(3-biphenylpyridine) Iridium}, 또는 트리스(4-비페닐 피리딘) 이리듐{tris(4-biphenylpyridine) Iridium} 등을 들 수 있다.The phosphorescent dopant used in forming the light emitting layer of the present invention is a light emitting material, and non-limiting examples thereof include bisthienylpyridine acetylacetonate iridium, bis (benzothienylpyridine) acetylacetonate iridium {bis benzothienylpyridine) acetylacetonate Iridium}, bis (2-phenylbenzothiazole) acetylacetonate iridium {Bis (2-phenylbenzothiazole) acetylacetonate Iridium}, bis (1-phenylisoquinoline) iridium acetylacetonate {bis (1-phenylisoquinoline) Iridium acetylacetonate}, tris (1-phenylisoquinoline) iridium {tris (1-phenylisoquinoline) Iridium}, tris (phenylpyridine) Iridium}, tris (2-biphenylpyridine) iridium {tris (2- phenylpyridine) Iridium}, tris (3-biphenylpyridine) Iridium}, or tris (4-biphenylpyridine) Iridium {tris (4-biphenylpyridine) Iridium}. .
상기 인광 도펀트의 농도는 상기 발광층의 두께를 따라 전자 수송층에 접하는 부분에서는 발광층 형성재료 총중량 100 중량부를 기준으로 하여 1 내지 30 중량부인 것이 바람직하다. 1 중량부 미만인 경우에는 발광 물질이 부족하여 효율 및 수명이 저하되어 바람직하지 못하고, 30 중량부를 초과하는 경우에는 삼중항의 소광현상이 일어나 효율이 저하되어 바람직하지 못하다.The concentration of the phosphorescent dopant is preferably in the range of 1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total weight of the light emitting layer forming material in a portion in contact with the electron transport layer along the thickness of the light emitting layer. If it is less than 1 part by weight, the light emitting material is insufficient and the efficiency and life is lowered, which is not preferable. If it exceeds 30 parts by weight, the triplet quenching phenomenon occurs and the efficiency is lowered, which is not preferable.
본 발명의 일구현예에 의하면, 상기 홀 수송 물질은 카바졸계 화합물인 것이 바람직하다. 상기 카바졸계 화합물의 비한정적인 예로서는, 1,3,5-트리카바졸릴벤젠(1,3,5-triscarbazolylbenzene), 4,4'-비스카바졸릴비페닐{4,4'-biscarbazolylbiphenyl(CBP)}, m-비스카바졸릴페닐(m-biscarbazolylphenyl), 4,4'-비스카바졸릴-2,2'-디메틸비페닐{(4,4'-biscarbazolyl-2,2'-dimethylbiphenyl)[dmCBP]}, 4,4',4"-트리(N-카바졸릴)트리페닐아민{4,4',4"-tri(N-carbazolyl)triphenylamine}, 1,3,5-트리(2-카바졸릴페닐)벤젠{1,3,5-tris(2-carbazolylphenyl)benzene}, 1,3,5-트리스(2-카바졸릴-5-메톡시페닐)벤젠{1,3,5-tris(2-carbazolyl-5-methoxyphenyl)benzene} 및 비스(4-카바졸릴페닐)실란{bis(4-carbazolylphenyl)silane}으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것이 바람직하다.According to one embodiment of the invention, the hole transport material is preferably a carbazole compound. Non-limiting examples of the carbazole compound, 1,3,5-tricarbazolylbenzene (4,4'-biscarbazolylbiphenyl {4,4'-biscarbazolylbiphenyl (CBP)) }, m-biscarbazolylphenyl, 4,4'-biscarbazolyl-2,2'-dimethylbiphenyl {(4,4'-biscarbazolyl-2,2'-dimethylbiphenyl) [dmCBP] }, 4,4 ', 4 "-tri (N-carbazolyl) triphenylamine {4,4', 4" -tri (N-carbazolyl) triphenylamine}, 1,3,5-tri (2-carbazolyl Phenyl) benzene {1,3,5-tris (2-carbazolylphenyl) benzene}, 1,3,5-tris (2-carbazolyl-5-methoxyphenyl) benzene {1,3,5-tris (2- carbazolyl-5-methoxyphenyl) benzene} and bis (4-carbazolylphenyl) silane {bis (4-carbazolylphenyl) silane} is preferably at least one selected from the group consisting of.
본 발명에 다른 일구현예에 있어서, 인광 호스트로서 전자 수송 물질을 포함 하고, 인광 호스트의 함량은 일정하지만, 인광 도펀트는 상기 발광층의 홀 수송층에서 전자 수송층으로 두께 방향을 따라 점진적으로 증가하도록 분포될 수 있다.In another embodiment of the present invention, the phosphorescent host includes an electron transporting material, and although the content of the phosphorescent host is constant, the phosphorescent dopant may be distributed to increase gradually in the thickness direction from the hole transporting layer of the light emitting layer to the electron transporting layer. Can be.
상기 전자 수송 특성을 갖는 전자 수송 물질로는 금속과 유기 리간드를 포함하는 유기 금속 착체, 스피로플루오렌계 화합물, 옥사디아졸계 화합물, 페난트롤린계 화합물, 트리아진계 화합물, 및 트리아졸계 화합물 중에서 선택된 하나 이상의 화합물일 수 있다.The electron transporting material having electron transporting properties may include at least one selected from an organometallic complex including a metal and an organic ligand, a spirofluorene compound, an oxadiazole compound, a phenanthroline compound, a triazine compound, and a triazole compound. Compound.
상기 유기 금속 착체의 비한정적인 예로는 비스(8-하이드록시퀴놀라토)비페녹시 금속{bis(8-hydroxyquinolato)biphenoxy 금속}, 비스(8-하이드록시퀴놀라토)페녹시 금속{bis(8-hydroxyquinolato)phenoxy 금속}, 비스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀라토)비페녹시 금속{bis(2-methyl-8-hydroxyquinolato)biphenoxy 금속}, 비스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀라토)페녹시 금속){bis(2-methyl-8-hydroxyquinolato)phenoxy 금속}, 비스 (2-메틸-8-퀴놀리놀라토)(파라-페닐-페놀라토)금속{Bis(2-methyl-8-quinolinolato)(para-phenyl-phenolato) 금속}, 및 비스(2-(2-하이드록시페닐)퀴놀라토) 금속{bis(2-(2-hydroxyphenyl)quinolato) 금속}으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이고, 상기 금속은 알루미늄(Al), 아연(Zn), 베릴륨(Be), 또는 갈륨(Ga)이다.Non-limiting examples of the organometallic complex include bis (8-hydroxyquinolato) biphenoxy metal and bis (8-hydroxyquinolato) phenoxy metal. (8-hydroxyquinolato) phenoxy metal}, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolato) biphenoxy metal {bis (2-methyl-8-hydroxyquinolato) biphenoxy metal}, bis (2-methyl-8- Hydroxyquinolato) phenoxy metal) {bis (2-methyl-8-hydroxyquinolato) phenoxy metal}, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (para-phenyl-phenololato) metal {Bis ( 2-methyl-8-quinolinolato) (para-phenyl-phenolato) metal}, and bis (2- (2-hydroxyphenyl) quinolato) metal {bis (2- (2-hydroxyphenyl) quinolato) metal} At least one selected from the group consisting of, the metal is aluminum (Al), zinc (Zn), beryllium (Be), or gallium (Ga).
상기 전자 수송 물질은 특히 비스(8-하이드록시퀴놀라토)비페녹시 알루미늄, 비스(8-하이드록시퀴놀라토)페녹시 알루미늄, 비스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀라토)비페녹시 알루미늄, 비스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀라토)페녹시 알루미늄, 비스 (2-메틸-8-퀴놀리놀라토)(파라-페닐-페놀라토)알루미늄(BAlq), 또는 비스(2-(2-하이드 록시페닐)퀴놀라토) 아연인 것이 바람직하다.The electron transporting materials are particularly preferably bis (8-hydroxyquinolato) biphenoxy aluminum, bis (8-hydroxyquinolato) phenoxy aluminum, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolato) Phenoxy aluminum, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolato) phenoxy aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (para-phenyl-phenololato) aluminum (BAlq), or bis Preference is given to (2- (2-hydroxyphenyl) quinolato) zinc.
상기 스피로플루오렌(spirofluorene)계 화합물은 2개의 스피로플루오렌 사이에 연결 고리를 갖고 연결되는 구조로서, 상기 연결은 트리아졸(triazole), 옥사디아졸(oxadiazole), 나프탈렌(naphthalene), 안트라센(anthracene), 또는 페닐(phenyl) 등으로 치환될 수 있고, 각 플루오렌의 9번 위치가 O, S, Se, N-R, P-R 등으로 치환된 구조이거나, 또는 2개의 스피로플루오렌 사이를 N-R 또는 P-R이 직접 연결해 주는 구조 등이 될 수 있다. 상기 R은 각각 H이거나, 또는 탄소수 1 내지 20개의 알킬기, 탄소수 1 내지 20개의 알킬기를 갖는 탄소수 5 내지 20의 아릴기, 탄소수 2 내지 20의 헤테로아릴기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기를 갖는 탄소수 6 내지 20의 아릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 치환기이다. 바람직하게는 상기 스피로플루오렌계 화합물은 2,5-디스피로바이플루오렌-1,3,4-옥사디아졸(2,5-Dispirobifluorene-1,3,4-oxadiazole)이다.The spirofluorene-based compound is a structure having a linking ring between two spirofluorenes, the linkage is triazole, oxadiazole, naphthalene, anthracene Or phenyl, or the like, and the position 9 of each fluorene is substituted with O, S, Se, NR, PR, or the like, or NR or PR is substituted between two spirofluorenes. It can be a structure that directly connects. Each R is H, or a C 6 to C 20 alkyl group, a
상기 옥사디아졸계 화합물의 예로는, (4-비페닐일)-5-(4-터트부틸페닐)-1,3,4-옥사디아졸 등을 들 수 있고, 상기 페난트롤린계 화합물의 예로는 2,9-디메틸-4,7-디페닐-9,10-페난트롤린(BCP) 등을 들 수 있고, 상기 트리아진계 화합물의 예로는 2,4,6-트리스(디페닐아미노)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리카바졸로-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(N-페닐-2-나프틸아미노)-1,3,5-트리아진, 또는 2,4,6-트리스(N-페닐-1-나프틸아미노)-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. 상기 트리아졸계 화합물은 3-페닐-4-(1'-나프틸)-5-페닐-1,2,4-트리아졸 등을 들 수 있다.Examples of the oxadiazole-based compound include (4-biphenylyl) -5- (4-tertbutylphenyl) -1,3,4-oxadiazole and the like, and examples of the phenanthroline-based compound include 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-9,10-phenanthroline (BCP), and the like. Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-tris (diphenylamino) -1. , 3,5-triazine, 2,4,6-tricarbazolo-1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (N-phenyl-2-naphthylamino) -1,3, 5-triazine or 2,4,6-tris (N-phenyl-1-naphthylamino) -1,3,5-triazine, etc. are mentioned. Examples of the triazole-based compound include 3-phenyl-4- (1'-naphthyl) -5-phenyl-1,2,4-triazole.
본 발명에 따르면, 발광층의 구성물질 중에서 인광 도펀트 물질은 농도가 변 화되지만, 인광 호스트로 사용되는 물질은 농도가 변화되지 않고 일정하게 된다. 일반적으로, 상기 발광층에서 사용될 수 있는 인광 호스트의 함량은 발광층 형성재료 총중량 100 중량부를 기준으로 하여 1 내지 30 중량부인 것이 바람직하다. 만약 호스트의 함량이 1 중량부 미만이면, 삼중항의 소광 현상이 일어나 효율이 저하되고, 30 중량부를 초과하면 발광 물질이 부족하여 효율 및 수명이 저하되어 바람직하지 못하다.According to the present invention, the phosphorescent dopant material of the constituent material of the light emitting layer is changed in concentration, but the material used as the phosphorescent host is constant without changing the concentration. In general, the content of the phosphorescent host that may be used in the light emitting layer is preferably 1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total weight of the light emitting layer forming material. If the content of the host is less than 1 part by weight, the quenching phenomenon of the triplet occurs and the efficiency is lowered. If the content of the host exceeds 30 parts by weight, the light emitting material is insufficient and the efficiency and lifespan are deteriorated.
상기 제1전극 또는 제2 전극과 발광층 사이에 홀 주입층, 홀 수송층, 홀 블로킹층, 전자수송층 및 전자주입층 중에서 선택된 하나 이상이 더 구비될 수 있다.At least one selected from a hole injection layer, a hole transport layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer may be further provided between the first electrode or the second electrode and the light emitting layer.
이하, 본 발명의 유기 전계 발광 소자의 제조방법을 살펴보면 다음과 같다.Hereinafter, the manufacturing method of the organic EL device of the present invention will be described.
도 1을 참조하여 본 발명의 일실시예에 따른 유기 전계 발광소자의 제조방법을 설명하면 다음과 같다.Referring to Figure 1 describes a method for manufacturing an organic EL device according to an embodiment of the present invention.
먼저 기판 상부에 제1전극인 애노드용 물질을 코팅하여 애노드를 형성한다. 여기에서 기판으로는 통상적인 유기 전계 발광 소자에서 사용되는 기판을 사용하는데 투명성, 표면 평활성, 취급용이성 및 방수성이 우수한 유리 또는 유기기판, 혹은 투명 플라스틱 기판이 바람직하다. 그리고 애노드용 물질로는 투명하고 전도성이 우수한 산화인듐주석(ITO), 산화인듐아연(IZO), 산화주석(SnO2), 산화아연(ZnO) 등을 사용한다.First, an anode is formed on a substrate by coating an anode material, which is a first electrode. Herein, a substrate used in a conventional organic electroluminescent device is used, but a glass or organic substrate or a transparent plastic substrate having excellent transparency, surface smoothness, ease of handling, and waterproofness is preferable. As the anode material, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), and the like, which are transparent and have excellent conductivity, are used.
상기 애노드 상부에 홀 주입층 물질을 고진공 속에서의 열 진공 증착(thermal evaporation)을 하거나, 사용되는 물질의 종류에 따라서는 용액에 녹인 후 스핀코팅(spin-coating), 딥 코팅(dip-coating), 닥터 블레이딩(doctor-blading), 잉크젯 프린팅(inkjet printing), 또는 열 전사법(thermal transfer), 유기 기상 증착(Organic Vapor Phase Deposition, OVPD) 등의 방법을 사용하여 형성 할 수 있다. 상기 예시한 방법을 사용하여 홀 주입층(HIL)을 선택적으로 형성한다. 여기에서 홀 주입층의 두께는 50 내지 1500Å인 것이 바람직하다. 만약 홀주입층의 두께가 50Å 미만인 경우에는 홀주입 특성이 저하되고, 1500Å을 초과하는 경우에는 구동전압 상승 때문에 바람직하지 못하다.Thermal evaporation of the hole injection layer material in high vacuum on the anode, or depending on the type of material used, spin-coating and dip-coating , Doctor-blading, inkjet printing, or thermal transfer, organic vapor deposition (OVPD), or the like. The hole injection layer HIL is selectively formed using the above-described method. It is preferable that the thickness of a hole injection layer is 50-1500 kPa here. If the thickness of the hole injection layer is less than 50 kV, the hole injection characteristic is lowered, and if the thickness of the hole injection layer is more than 1500 kV, it is not preferable because of the increase of the driving voltage.
상기 홀 주입층 물질로는 특별히 제한되지 않으며 구리 프탈로시아닌(CuPc) 또는 스타버스트(Starburst)형 아민류인 TCTA, m-MTDATA, IDE406 (이데미쯔사 재료) 등을 홀 주입층으로 사용할 수 있다.The hole injection layer material is not particularly limited, and copper phthalocyanine (CuPc) or starburst type amines such as TCTA, m-MTDATA, IDE406 (Idemitsu Corp.), and the like may be used as the hole injection layer.
상기 과정에 따라 형성된 홀 주입층 상부에 홀 수송층 물질을 상기 예시한 다양한 방법으로 코팅하여 홀 수송층(HTL)을 선택적으로 형성한다. 상기 홀 수송층 물질은 특별히 제한되지는 않으며, N,N'-비스(3-메틸페닐)- N,N'-디페닐-[1,1-비페닐]-4,4'-디아민(TPD), N,N'-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐 벤지딘,N,N'-디(나프탈렌-1-일) -N,N'-diphenyl- benxidine :α-NPD), IDE320(이데미쯔사 재료) 등이 사용된다. 여기에서 홀 수송층의 두께는 50 내지 1500Å인 것이 바람직하다. 만약 홀수송층의 두께가 50Å 미만인 경우에는 홀전달 특성이 저하되며 1500Å를 초과하는 경우에는 구동전압 상승 때문에 바람직하지 못하다.The hole transport layer material is coated on the hole injection layer formed according to the above process to selectively form the hole transport layer HTL. The hole transport layer material is not particularly limited, and N, N'-bis (3-methylphenyl) -N, N'-diphenyl- [1,1-biphenyl] -4,4'-diamine (TPD), N, N'-di (naphthalen-1-yl) -N, N'-diphenyl benzidine, N, N'-di (naphthalen-1-yl) -N, N'-diphenyl-benxidine: α-NPD) , IDE320 (Idemitsu Co., Ltd.), etc. are used. It is preferable that the thickness of a hole transport layer is 50-1500 kPa here. If the thickness of the hole transport layer is less than 50 kV, the hole transfer property is deteriorated.
이어서 홀 수송층 상부에, 인광 도펀트와 인광 호스트를 함께 사용하여 발광층(EML)이 형성된다. 여기에서 발광층 형성 방법은 특별하게 제한되지는 않으나, 상기한 바와 같은 진공 증착, 잉크젯 프린팅, 레이저 전사법, 포토리소그래피법(photolithography), 유기 기상 증착(Organic Vapor Phase Deposition, OVPD)등의 방법을 이용한다.Subsequently, an emission layer EML is formed on the hole transport layer by using a phosphorescent dopant and a phosphorescent host together. The light emitting layer forming method is not particularly limited, but methods such as vacuum deposition, inkjet printing, laser transfer, photolithography, organic vapor deposition (OVPD) and the like are used as described above. .
상기 발광층의 두께는 100 내지 800 Å인 것이 바람직하다. 만약 발광층의 두께가 100Å 미만이면, 효율 및 수명이 저하되고, 800 Å을 초과하면 구동전압이 상승하여 바람직하지 못하다. 본 발명의 도펀트의 농도구배가 있는 발광층을 형성하기 위하여 유기 기상 증착(organic vapor phrase deposition) 기술을 이용한다. 소스 온도, 운반기체의 유속 및 쳄버 압력을 조정하여 운반 기체 속에서 유기물의 농도를 정밀제어하여 다양한 증착 속도에서 정밀하게 발광층을 재현하도록 한다. 상기 제조방법에서는 운반기체의 유속에 의하여 도핑되는 유기물의 증착 속도를 직접적으로 제어할 수 있다. 기체의 유속은 극히 짧은 시간으로도 조절이 가능하기 때문에 원하는 도핑 속도를 얻을 수 있으며 도핑 속도를 연속적으로 변화시킬 경우 농도 구배가 있는 발광층을 제조할 수 있다.It is preferable that the thickness of the said light emitting layer is 100-800 GPa. If the thickness of the light emitting layer is less than 100 kW, the efficiency and lifetime are lowered. If the thickness of the light emitting layer is more than 800 kW, the driving voltage increases, which is not preferable. Organic vapor phrase deposition technology is used to form the light emitting layer having a concentration gradient of the dopant of the present invention. Source temperature, carrier gas flow rate, and chamber pressure are adjusted to precisely control the concentration of organic matter in the carrier gas to accurately reproduce the light emitting layer at various deposition rates. In the manufacturing method, it is possible to directly control the deposition rate of the organic material doped by the flow rate of the carrier gas. Since the flow rate of the gas can be controlled even in a very short time, a desired doping rate can be obtained, and a light emitting layer having a concentration gradient can be produced when the doping rate is continuously changed.
상기 발광층 위에 홀 블로킹용 물질은 상기의 진공 증착, 스핀코팅 등의 방법을 이용하여 홀 블로킹층(HBL)이 선택적으로 형성된다. 이 때 사용되는 홀 블로킹층용 물질은 특별히 제한되지는 않으나 전자 수송 능력을 가지면서 발광 화합물 보다 높은 이온화 퍼텐셜을 가져야 하며 대표적으로 Balq, BCP, TPBI 등이 사용된다. 만약 홀블로킹층의 두께는 30 내지 500Å인 것이 바람직하다. 만약 홀블로킹층의 두께가 30 Å 미만인 경우에는 정공 방지 특성이 좋지 않아 효율이 저하되며, 500Å를 초과하는 경우에는 구동전압 상승으로 바람직하지 못하다.The hole blocking material HBL is selectively formed on the light emitting layer by using a vacuum deposition method, a spin coating method, or the like. The material for the hole blocking layer used at this time is not particularly limited, but should have ionization potential higher than that of the light emitting compound while having electron transport ability, and typically, Balq, BCP, TPBI, and the like are used. If the thickness of the hole blocking layer is preferably 30 to 500 kPa. If the thickness of the hole blocking layer is less than 30 mA, the hole blocking property is not good, and the efficiency is lowered.
상기 홀 블로킹층 위에 전자 수송층이 상기의 진공 증착 방법, 스핀 코팅 방법으로서 전자수송층(ETL)을 형성한다. 전자 수송층 재료로서는 특별히 제한되지는 않으며 Alq3를 이용할 수 있다. 상기 전자수송층의 두께는 50 내지 600Å인 것이 바람직하다. 만약 전자수송층의 두께가 50Å 미만인 경우에는 수명 특성이 저하되 며, 600Å를 초과하는 경우에는 구동전압 상승으로 바람직하지 못하다.An electron transport layer forms an electron transport layer (ETL) on the hole blocking layer as the vacuum deposition method and the spin coating method. It does not restrict | limit especially as an electron carrying layer material, Alq3 can be used. It is preferable that the thickness of the said electron carrying layer is 50-600 GPa. If the thickness of the electron transport layer is less than 50 kW, the lifespan is deteriorated. If the electron transport layer is more than 600 kW, it is not preferable to increase the driving voltage.
또한 상기 전자 수송층 위에 전자 주입층(EIL)이 선택적으로 적층될 수 있다. 상기 전자 주입층 형성 재료로서는 LiF, NaCl, CsF, Li2O, BaO, Liq 등의 물질을 이용할 수 있다. 상기 전자 주입층의 두께는 1 내지 100Å인 것이 바람직하다. 만약 전자주입층의 두께가 1Å 미만인 경우에는 효과적인 전자주입층으로서 역할을 못하여 구동전압이 높고, 100Å를 초과하는 경우에는 절연층으로 작용하여 구동전압이 높아 바람직하지 못하다.In addition, an electron injection layer EIL may be selectively stacked on the electron transport layer. As the electron injection layer forming material, materials such as LiF, NaCl, CsF, Li 2 O, BaO, and Liq can be used. It is preferable that the thickness of the said electron injection layer is 1-100 kPa. If the thickness of the electron injection layer is less than 1 kW, the driving voltage is not high because it does not serve as an effective electron injection layer, and if it exceeds 100 kW, the driving voltage acts as an insulating layer.
이어서, 상기 전자주입층 상부에 제2전극인 캐소드용 금속을 진공열 증착하여 제2전극인 캐소드를 형성함으로써 유기 전계 발광 소자가 완성된다.Subsequently, the organic electroluminescent device is completed by forming a cathode, which is a second electrode, by vacuum-heat deposition of a cathode metal, which is a second electrode, on the electron injection layer.
상기 캐소드 금속으로는 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag) 등이 이용된다. The cathode metal is lithium (Li), magnesium (Mg), aluminum (Al), aluminum-lithium (Al-Li), calcium (Ca), magnesium-indium (Mg-In), magnesium-silver (Mg-Ag ) And the like are used.
본 발명의 유기 전계 발광 소자는 애노드, 홀 주입층, 홀 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층, 캐소드의 필요에 따라 한 층 또는 두 층의 중간층을 더 형성하는 것도 가능하다. 위에서 언급한 층 외에도 홀 블록킹층, 전자 블로킹층이 들어갈 수도 있다.The organic electroluminescent device of the present invention may further form an intermediate layer of one or two layers according to the needs of the anode, the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, the electron transport layer, the electron injection layer, and the cathode. In addition to the above-mentioned layers, a hole blocking layer and an electron blocking layer may also be included.
이하, 본 발명을 하기 실시예를 들어 설명하기로 하되, 본 발명이 하기 실시 예로만 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the following examples, but the present invention is not limited only to the following examples.
실시예 1Example 1
애노드는 코닝(corning) 15Ω/cm2 (1200Å) ITO 유리 기판을 50mm x 50mm x 0.7mm 크기로 잘라서 이소프로필 알코올과 순수 물 속에서 각 5 분 동안 초음파 세정한 후, 30분 동안 UV, 오존 세정하여 사용하였다.The anode cuts a corning 15Ω / cm 2 (1200Å) ITO glass substrate to 50mm x 50mm x 0.7mm and ultrasonically cleans for 5 minutes in isopropyl alcohol and pure water, followed by UV and ozone cleaning for 30 minutes. Was used.
상기 기판 상부에 N,N'-디(1-나프틸)-N,N'-디페닐벤지딘(NPD)을 진공 증착하여 홀 수송층을 600Å 두께로 형성하였다.N, N'-di (1-naphthyl) -N, N'-diphenylbenzidine (NPD) was vacuum deposited on the substrate to form a hole transport layer having a thickness of 600 kPa.
상기 홀 수송층 상부에 호스트로서 홀 수송 물질인 4,4'-비스카바졸릴비페닐(CBP) 90중량부에 인광 도펀트인 트리스(2-비페닐피리딘) 이리듐[Ir(ppy)3] 10중량부를 유기 기상 증착(OVPD)법으로 진공증착을 시작하여 연속적으로 도판트의 농도를 변화시켜 약 300Å 두께의 발광층이 전자수송층과 접하는 부분에서는 도판트가 5 중량부가 되도록 농도 구배가 있는 발광층을 형성하였다.10 parts by weight of phosphorus dopant tris (2-biphenylpyridine) iridium [Ir (ppy) 3 ] in 90 parts by weight of 4,4'-biscarbazolylbiphenyl (CBP) as a host on the hole transport layer Vacuum deposition was started by organic vapor deposition (OVPD), and the concentration of the dopant was continuously changed to form a light emitting layer having a concentration gradient such that the dopant was 5 parts by weight in the portion where the light emitting layer having a thickness of about 300 kPa was in contact with the electron transport layer.
상기 발광층 상부에 전자 수송 물질인 Alq3를 증착하여 약 300Å 두께의 전자 수송층을 형성하였다.Alq3, an electron transporting material, was deposited on the emission layer to form an electron transporting layer having a thickness of about 300 kHz.
상기 전자 수송층 상부에 LiF 10Å (전자 주입층)과 Al 1000Å (캐소드)을 순차적으로 진공 증착하여 LiF/Al 전극을 형성하여 도 1에 도시한 바와 같은 유기 전계 발광 소자를 제조하였다.
비교예 1(농도 구배가 없는 경우)Comparative example 1 (when there is no concentration gradient)
애노드는 코닝(corning) 15Ω/cm2 (1200Å) ITO 유리 기판을 50mm x 50mm x 0.7mm 크기로 잘라서 이소프로필 알코올과 순수 물 속에서 각 5 분 동안 초음파 세정한 후, 30분 동안 UV, 오존 세정하여 사용하였다.The anode cuts a corning 15Ω / cm 2 (1200Å) ITO glass substrate to 50mm x 50mm x 0.7mm and ultrasonically cleans for 5 minutes in isopropyl alcohol and pure water, followed by UV and ozone cleaning for 30 minutes. Was used.
상기 기판 상부에 NPD를 진공 증착하여 홀 수송층을 600Å 두께로 형성하였다. 상기 홀 수송층 상부에 호스트인 4,4'-비스카바졸릴비페닐(CBP) 95중량부에 인광 도펀트인 트리스(2-비페닐피리딘) 이리듐[Ir(ppy)3] 5중량부를 진공증착하여 약 300Å의 두께로 발광층을 형성하였다.NPD was vacuum deposited on the substrate to form a hole transport layer having a thickness of 600 mm3. 5 parts by weight of a phosphorescent dopant tris (2-biphenylpyridine) iridium [Ir (ppy) 3 ] was deposited on 95 parts by weight of the host 4,4'-biscarbazolylbiphenyl (CBP) on the hole transport layer, The light emitting layer was formed in the thickness of 300 kPa.
상기 발광층 상부에 전자 수송 물질인 Alq3를 증착하여 약 300Å 두께의 전자 수송층을 형성하였다.Alq3, an electron transporting material, was deposited on the emission layer to form an electron transporting layer having a thickness of about 300 kHz.
상기 전자 수송층 상부에 LiF 10Å (전자 주입층)과 Al 1000Å (캐소드)을 순차적으로 진공 증착하여 LiF/Al 전극을 형성하여 도 1에 도시한 바와 같은 유기 전계 발광 소자를 제조하였다.
상기 실시예 1 및 비교예 1에 따라 제조된 유기 전계 발광 소자에 있어서, 효율 및 수명 특성을 조사하였다.In the organic EL device manufactured according to Example 1 and Comparative Example 1, the efficiency and lifespan characteristics were investigated.
도 2는 인광 도펀트의 농도 구배가 있는 발광층을 사용한 경우의 일구현예를 도시하고 있다. 농도 구배가 없는 비교예 1에 비하여 실시예 1은 효율 특성이 우수한 것을 나타내고 있다.FIG. 2 shows an example of the case where a light emitting layer having a concentration gradient of phosphorescent dopant is used. Compared with the comparative example 1 which does not have a concentration gradient, Example 1 has shown that the efficiency characteristic was excellent.
그 결과를 구체적으로 살펴보면, 비교예 1의 유기 전계 발광 소자는 효율이 약 32.4cd/A이고, 실시예 1의 유기 전계 발광 소자는 효율이 41.8cd/A로서, 비교예 1의 경우에 비하여 효율이 개선되었다.In detail, the organic electroluminescent device of Comparative Example 1 has an efficiency of about 32.4 cd / A, and the organic electroluminescent device of Example 1 has an efficiency of 41.8 cd / A, which is more efficient than that of Comparative Example 1. This was improved.
도 3은 인광 도펀트의 농도 구배가 있는 발광층을 사용한 경우의 일구현예를 도시하고 있다. 농도 구배가 없는 비교예 1에 비하여 실시예 1은 수명 특성이 우수한 것을 나타내고 있다.3 shows an example of the case where a light emitting layer having a concentration gradient of phosphorescent dopant is used. Compared with the comparative example 1 which does not have a concentration gradient, Example 1 has shown the outstanding lifetime characteristic.
또한, 수명 특성은 최초 발광 휘도가 50%선까지 감소하는 시간으로 나타내는데 실시예 1의 유기 전계 발광 소자는 5,000cd/m2에서 800시간이고, 비교예 1의 유기 전계 발광 소자는 5,000cd/m2에서 550시간으로 나타나 실시예 1은 비교예 1의 경우에 비하여 수명 특성이 개선됨을 확인할 수 있었다.In addition, the lifespan characteristics are represented by the time when the initial emission luminance decreases by 50%. The organic electroluminescent device of Example 1 is 800 hours at 5,000 cd / m2, and the organic electroluminescent device of Comparative Example 1 is 5,000 cd / m2. As shown by 550 hours, Example 1 was confirmed to improve the life characteristics compared to the case of Comparative Example 1.
본 발명의 유기 전계 발광 소자는 발광층 형성시 인광 도펀트의 농도 구배가 있도록 함으로써 인광 디바이스의 효율 및 수명 특성이 개선된다.The organic electroluminescent device of the present invention improves the efficiency and lifespan characteristics of the phosphorescent device by having a concentration gradient of the phosphorescent dopant in forming the light emitting layer.
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