KR100578779B1 - S 형 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐부티르산 에스테르화합물 및 이의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (16)
- 하기 화학식 1 의 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐아세트산 에스테르 화합물의 2-위치를 에틸화시키거나, 또는 하기 화학식 3 의 2-할로-2-인돌리디닐아세트산 에스테르 화합물을 하기 화학식 4 의 R 형 질소함유 융합 헤테로고리 카르복실산 화합물 또는 이의 염과 반응시켜 하기 화학식 1 의 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐아세트산 에스테르 화합물을 수득한 후, 생성된 화합물 (1) 의 2-위치를 에틸화시킴으로써 수득된 하기 화학식 2 의 S 형 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐부티르산 에스테르 화합물을 촉매 환원시켜 시아노기를 환원시킨 다음 알카노일화시켜 하기 화학식 5 의 S 형 2-치환 히드록시-2-(6-치환 아미노메틸인돌리디닐)부티르산 에스테르 화합물을 얻고, 화합물 (5) 를 니트로화 반응 및 전위 반응시켜 하기 화학식 6 의 S 형 2-치환 히드록시-2-(6-치환 히드록시메틸인돌리디닐)부티르산 에스테르 화합물을 얻고, 화합물 (6) 을 분자내 고리화 반응시키고, 고리화 반응과 동시 또는 이후에 아세탈기를 케톤기로 전환시킴으로써 수득된 하기 화학식 7 의 S 형 4-치환 히드록시피라노인돌리딘 화합물을 하기 화학식 14 의 o-아실아닐린 화합물과 반응시켜 20-히드록시기상에 치환체를 지닌 하기 화학식 15 의 캄프토테신 화합물을 얻는 단계, 화합물 (15) 의 R0 기의 제거 및 추가로, R5∼R9 기가 보호된 경우, 보호기를 제거하는 단계, 및 추가 선택적으로 이의 염으로 전환시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 16 의 캄프토테신 화합물 또는 이의 염의 제조 방법:[화학식 16][식중, R51∼R91 기는 각각 수소원자 또는 비보호 치환체이다][화학식 7][식중, R0 는 하기 카르복실산의 카르복실기에서 히드록시기 제거에 의해 수득되는 절대배열 "R" 의 질소함유 융합 헤테로고리 카르복실산의 잔기이다 (여기에서, 잔기에 함유된 질소 원자는 보호된다)][화학식 2][식중, R0 는 상기 정의와 동일하고, R1 및 R2 는 C1-6 알킬기이며, E 는 에스테르 잔기이다][화학식 3][식중, X 는 할로겐 원자이고, R1, R2 및 E 는 상기 정의와 동일하다][화학식 4]R0OH[식중, R0 는 상기 정의와 동일하다][화학식 1][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 5][식중, R3 는 C1-6 알카노일기이고, 다른 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 6][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 14][식중, R5∼R9 기는 수소원자 또는 보호 또는 비보호 치환체이다][화학식 15][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다].
- 하기 화학식 1 의 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐아세트산 에스테르 화합물의 2-위치를 에틸화시키거나, 또는 하기 화학식 3 의 2-할로-2-인돌리디닐아세트산 에스테르 화합물을 하기 화학식 4 의 R 형 질소함유 융합 헤테로고리 카르복실산 화합물 또는 이의 염과 반응시켜 하기 화학식 1 의 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐아세트산 에스테르 화합물을 수득한 후, 생성된 화합물 (1) 의 2-위치를 에틸화시킴으로써 수득된 하기 화학식 2 의 S 형 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐부티르산 에스테르 화합물을 촉매 환원시켜 시아노기를 환원시킨 다음 알카노일화시켜 하기 화학식 5 의 S 형 2-치환 히드록시-2-(6-치환 아미노메틸인돌리디닐)부티르산 에스테르 화합물을 얻고, 화합물 (5) 를 니트로화 반응 및 전위 반응시켜 하기 화학식 6 의 S 형 2-치환 히드록시-2-(6-치환 히드록시메틸인돌리디닐)부티르산 에스테르 화합물을 얻고, 화합물 (6) 을 분자내 고리화 반응시키고, 고리화 반응과 동시 또는 이후에 아세탈기를 케톤기로 전환시킴으로써 수득된 하기 화학식 7 의 S 형 4-치환 히드록시피라노인돌리딘 화합물의 R0 기를 제거함으로써 수득되거나, 또는 하기 화학식 1 의 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐아세트산 에스테르 화합물의 2-위치를 에틸화시키거나, 또는 하기 화학식 3 의 2-할로-2-인돌리디닐아세트산 에스테르 화합물을 하기 화학식 4 의 R 형 질소함유 융합 헤테로고리 카르복실산 화합물 또는 이의 염과 반응시켜 하기 화학식 1 의 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐아세트산 에스테르 화합물을 수득한 후, 생성된 화합물 (1) 의 2-위치를 에틸화시킴으로써 수득된 하기 화학식 2 의 S 형 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐부티르산 에스테르 화합물을 촉매 환원시켜 시아노기를 환원시킨 다음 알카노일화시켜 하기 화학식 5 의 S 형 2-치환 히드록시-2-(6-치환 아미노메틸인돌리디닐)부티르산 에스테르 화합물을 얻고, 화합물 (5) 를 니트로화 반응 및 전위 반응시켜 하기 화학식 6 의 S 형 2-치환 히드록시-2-(6-치환 히드록시메틸인돌리디닐)부티르산 에스테르 화합물을 얻고, 화합물 (6) 을 에스테르 가수분해시켜 하기 화학식 9 의 S 형 2-히드록시-2-(6-히드록시메틸인돌리디닐)부티르산 화합물 또는 이의 염을 얻고, 화합물 (9) 를 분자내 고리화 반응시키고, 고리화 반응과 동시 또는 이후에 아세탈기를 케톤기로 전환시키고, 선택적으로 생성물을 이의 염으로 전환시킴으로써 수득된 하기 화학식 8 의 S 형 4-히드록시피라노인돌리딘 화합물 또는 이의 염을 하기 화학식 14 의 o-아실아닐린 화합물과 반응시켜 하기 화학식 17 의 캄프토테신 화합물을 얻는 단계 및 R5∼R9 기가 보호된 경우, 화합물 (17) 의 보호기를 제거하는 단계, 및 추가 선택적으로 이의 염으로 전환시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 16 의 캄프토테신 화합물 또는 이의 염의 제조 방법:[화학식 16][식중, R51∼R91 기는 각각 수소원자 또는 비보호 치환체이다][화학식 8][화학식 14][식중, R5∼R9 기는 수소원자 또는 보호 또는 비보호 치환체이다][화학식 17][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 7][식중, R0 는 하기 카르복실산의 카르복실기에서 히드록시기 제거에 의해 수득되는 절대배열 "R" 의 질소함유 융합 헤테로고리 카르복실산의 잔기이다 (여기에서, 잔기에 함유된 질소 원자는 보호된다)][화학식 2][식중, R0 는 상기 정의와 동일하고, R1 및 R2 는 C1-6 알킬기이며, E 는 에스테르 잔기이다][화학식 3][식중, X 는 할로겐 원자이고, R1, R2 및 E 는 상기 정의와 동일하다][화학식 4]R0OH[식중, R0 는 상기 정의와 동일하다][화학식 1][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 5][식중, R3 는 C1-6 알카노일기이고, 다른 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 6][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 9][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다].
- 하기 화학식 1 의 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐아세트산 에스테르 화합물의 2-위치를 에틸화시키거나, 또는 하기 화학식 3 의 2-할로-2-인돌리디닐아세트산 에스테르 화합물을 하기 화학식 4 의 R 형 질소함유 융합 헤테로고리 카르복실산 화합물 또는 이의 염과 반응시켜 하기 화학식 1 의 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐아세트산 에스테르 화합물을 수득한 후, 생성된 화합물 (1) 의 2-위치를 에틸화시킴으로써 수득된 하기 화학식 2 의 S 형 2-치환 히드록시-2-인돌리디닐부티르산 에스테르 화합물을 촉매 환원시켜 시아노기를 환원시킨 다음 알카노일화시켜 하기 화학식 5 의 S 형 2-치환 히드록시-2-(6-치환 아미노메틸인돌리디닐)부티르산 에스테르 화합물을 얻고, 화합물 (5) 를 니트로화 반응 및 전위 반응시켜 하기 화학식 6 의 S 형 2-치환 히드록시-2-(6-치환 히드록시메틸인돌리디닐)부티르산 에스테르 화합물을 얻고, 화합물 (6) 을 에스테르 가수분해시켜 하기 화학식 9 의 S 형 2-히드록시-2-(6-히드록시메틸인돌리디닐)부티르산 화합물 또는 이의 염을 얻고, 화합물 (9) 를 분자내 고리화 반응시키고, 선택적으로 생성물을 이의 염으로 전환시켜 하 기 화학식 10 의 S 형 4-히드록시피라노인돌리딘 화합물 또는 이의 염을 얻고, 화합물 (10) 또는 이의 염을 하기 화학식 11 의 저급 알칸산 또는 이의 반응성 유도체와 반응시켜 하기 화학식 12 의 S 형 4-알카노일옥시피라노인돌리딘 화합물을 얻고, 화합물 (12) 의 아세탈기를 케톤기로 전환시킴으로써 수득된 하기 화학식 13 의 S 형 4-알카노일옥시피라노인돌리딘 화합물을 하기 화학식 14 의 o-아실아닐린 화합물과 반응시켜 하기 화학식 18 의 캄프토테신 화합물을 얻는 단계, 화합물 (18) 의 R4 기를 제거하는 단계 및 추가로 R5∼R9 기가 보호된 경우, 보호기를 제거하는 단계, 및 추가 선택적으로 이의 염으로 전환시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 16 의 캄프토테신 화합물 또는 이의 염의 제조 방법:[화학식 16][식중, R51∼R91 기는 각각 수소원자 또는 비보호 치환체이다][화학식 13][식중, R4 는 C1-6 알카노일기이다][화학식 14][식중, R5∼R9 기는 수소원자 또는 보호 또는 비보호 치환체이다][화학식 18][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 2][식중, R0 는 하기 카르복실산의 카르복실기에서 히드록시기 제거에 의해 수득되는 절대배열 "R" 의 질소함유 융합 헤테로고리 카르복실산의 잔기이고 (여기에서, 잔 기에 함유된 질소 원자는 보호된다), R1 및 R2 는 C1-6 알킬기이며, E 는 에스테르 잔기이다][화학식 3][식중, X 는 할로겐 원자이고, R1, R2 및 E 는 상기 정의와 동일하다][화학식 4]R0OH[식중, R0 는 상기 정의와 동일하다][화학식 1][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 5][식중, R3 는 C1-6 알카노일기이고, 다른 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 6][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 9][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 10][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다][화학식 11]R4OH[식중, R4 는 상기 정의와 동일하다][화학식 12][식중, 기호는 상기 정의와 동일하다].
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