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KR100536795B1 - 피라졸 유도체의 제조 방법 - Google Patents

피라졸 유도체의 제조 방법 Download PDF

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KR100536795B1
KR100536795B1 KR10-1999-7008197A KR19997008197A KR100536795B1 KR 100536795 B1 KR100536795 B1 KR 100536795B1 KR 19997008197 A KR19997008197 A KR 19997008197A KR 100536795 B1 KR100536795 B1 KR 100536795B1
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haloalkyl
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바이엘 크롭사이언스 소시에떼아노님
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Abstract

본 발명은, 하기 반응도에 따라 화학식 Ⅰ의 화합물과 화학식Ⅱ의 반응에 의해, 식 중 R3, R4, R6 은 명세세에서 정의된 바와 같은 화학식 Ⅳ의 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 화학식Ⅳ의 화합물은 살충제로서 유용하다.
[반응도]

Description

피라졸 유도체의 제조 방법{PROCESS FOR PREPARING PYRAZOLE DERIVATIVES}
[실시예 1]
3-(4-클로로페닐술포닐)-4-시아노부탄-2-온의 제조
300 ㎖ 반응 플라스크에 2.4 g(59.3 m㏖)의 수소화 나트륨(오일 내 60 % 분산액) 및 10 ㎖의 헥산을 첨가한다. 헥산을 피펫으로 제거하고 60 ㎖의 건조 테트라히드로푸란(THF)으로 대체한다. 현탁액을 -15℃로 냉각하고, 50 ㎖의 THF 내의 12.0 g(51.6 m㏖)의 4-클로로페닐술포닐 아세톤 용액을 첨가 깔때기를 통해 20 분에 걸쳐 반응 온도를 -12 ℃미만으로 유지하면서 첨가한다. 생성된 황색 용액을 냉중탕으로부터 제거하고 실온에서 30 분 동안 교반한다. 용액을 다시 -5℃로 냉각하고, 3.8㎖(54.1 m㏖)의 브로모아세토니트닐을 첨가 깔때기를 통해 적가한다. 5 분 후에, 반응 혼합물을 냉중탕으로부터 제거하고 실온에서 하루밤동안 교반한다. 1 ㎖의 포화 염화 암모늄으로 반응을 억제하고, 100㎖의 염수를 함유하는 분리성 깔때기로 100㎖의 디클로로메탄과 함께 옮긴다. 유기층을 분리하고 수성층을 다시 한번 50 ㎖ 이상의 디클로로메탄으로 추출한다. 그후, 결합된 유기물을 황산 나트륨으로 건조하고, 여과하고, 농축하고, 1:1 헥산:디클로로메탄을 사용한 실리카겔 상을 통해 크로마토그래피한다. 분리로 HPLC에 의해 90 % 순도의 황색 오일인 3-(4-클로로페닐술포닐)-4-시아노부탄-2-온 8.2g (59 % 수율)이 제조된다. 1H NMR (CDCl3) 은 주요 성분으로 목적 생성물을 나타낸다: d 7.6 (m, 4H), 4.42 (dd,1H), 2.78(m, 2H), 2.48(s,3H).
[실시예 2]
3-(4-클로로페닐술포닐)-3-[2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)아조]-4-시아노부탄-2-온의 제조
250㎖ 반응 플라스크에 2.0 g(35.7 m㏖)의 수산화 칼륨 펠렛을 첨가한 후 30㎖의 물 및 30㎖의 메탄올을 첨가한다. 이 용액에 6.9 g(25.5 m㏖)의 화합물 3-(4-클로로페닐술포닐)-4-시아노부탄-2-온을 첨가한다. 일단 균일해지면, 2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸아닐린의 황산화수소 디아조늄 염 23.2 m㏖을 반응 배지에 한번에 넣는다. 실온에서 45 분 동안 교반한 후에, 반응 혼합물을 물 및 디클로로메탄을 첨가함으로써 마무리한다. 층을 분리하고 유기층은 다시 한번 디클로로메탄 (50㎖)으로 추출한다. 결합된 유기물을 건조하고(Na2SO4), 여과하고, 농축하고, 헥산:에틸 아세테이트 혼합물을 사용한 실리카겔을 통해 크로마토그래피한다. 분리로 5.1 g(43 %)의 표제 화합물이, HPLC가 98 % 순도를 가리키고 1HNMR이 목적 생성물로서 나타내는 유리질의 반고체로서 제조된다: d 7.6(m,4H), 7.65(s,2H),3.3(dd,2H),2.42(s,3H).
[실시예 3]
3-아세틸-5아미노-4-(4-클로로페닐)술포닐-1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)피라졸의 제조
두방울의 트리에틸아민을 10 ㎖의 디클로로메탄 내에 용해된 3-(4-클로로페닐술포닐)-3-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐아조)-4-시아노부탄-2-온 0.51g (1.0 m㏖)에 첨가한다. 실온에서 하루밤동안 교반한 후에, 추가적인 디클로로메탄을 첨가하고 물로 세척하여 반응을 마무리한다. 유기층을 분리하고 건조하고(Na2SO4), 여과하고, 농축하여 HPLC에 의해 94 % 순도이고, 융점이 158℃ 인 표제 화합물 0.55 g이 제조된다.
[실시예 4]
2-(4-클로로페닐술포닐)숙시노니트닐의 제조
500 ㎖ 반응 플라스크에 2.0 g(51.0 m㏖)의 수소화 나트륨(오일 내 60 % 분산액) 및 20 ㎖의 헥산을 첨가한다. 헥산을 피펫으로 제거하고 90 ㎖의 건조 테트라히드로푸란(THF)으로 대체한다. 현탁액을 0 ℃로 냉각하고, 90 ㎖의 THF 내의 10.0 g(46.4 m㏖)의 4-클로로페닐술포닐 아세토니트릴 용액을 첨가 깔때기를 통해 반응 온도를 12 ℃ 미만으로 유지하면서 10 분에 걸쳐 첨가한다. 생성된 용액을 냉중탕으로부터 제거하고 실온에서 40 분 동안 교반한다. 용액을 0 ℃ 로 다시 냉각하고, 5 ㎖의 THF 내의 브로모아세토니트닐 3.4 ㎖(48.7 m㏖) 을 첨가 깔때기를 통해 적가한다. 5 분후에, 반응을 냉중탕으로부터 제거하고, 실온에서 2 시간 동안 교반한다. 1 ㎖의 포화 염화 암모늄으로 반응을 억제하고, 오일으로 농축하여, 이 오일을 120 ㎖의 물을 함유하는 분리용 깔때기로 150 ㎖ 의 디클로로메탄과 함께 옮긴다. 유기층을 분리하고 120 ㎖의 물로 한번 더 세척하고 120 ㎖ 염수로 한번 세척한다. 이어서 유기층을 건조하고(Na2SO4), 여과하고, 농축하고, 85:15 의 헥산:에틸 아세테이트를 사용한 실리카겔 상을 통해 크로마토그래피한다. 분리로 1.4 g(12 % 수율)의 표제 화합물이, HPLC에 의해 96 % 순도이고 융점이 130-137 ℃인 황색 분말로서 제조된다.
[실시예 5]
2-(4-클로로페닐술포닐)-2-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸)페닐아조 숙시노니트닐의 제조
50 ㎖ 반응 플라스크에 15 ㎖의 메탄올 내의 2-(4-클로로페닐술포닐)숙시노니트릴 0.45 g(1.77 m㏖)을 첨가한다. 일단 균일해지면, 2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸아닐린의 황산화수소 디아조늄 염 1.61 m㏖을 반응 배지에 한번에 첨가한다. 실온에서 45 분 동안 교반한 후에, 염수 및 디클로로메탄을 첨가함으로써 반응 혼합물을 마무리한다. 층을 분리하고 유기층을 건조하고(Na2SO4), 여과하고, 농축하고, 90:10 의 헥산:에틸 아세테이트를 사용한 실리카겔을 통해 크로마토그래피한다. 분리로 19F NMR이 95 % 초과의 순도를 가리키고 융점이 45-50 ℃인 적색의 결정성 고체인 표제 화합물 0.33 g(42 %)이 제조된다.
[실시예 6]
5-아미노-3-시아노-4-(4-클로로페닐술포닐)-1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)피라졸의 제조
트리에틸아민 세 방울을, 디클로로메탄 20 ㎖ 내의 2-(4-클로로페닐술포닐)-2-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸)페닐아조 숙시노니트닐 0.3 g(0.61 m㏖)에 첨가한다. 실온에서 2 시간 동안 교반한 후에, 디클로로메탄으로 희석하고 물로부터 분획화하여 반응을 마무리한다. 층을 분리하고 수성층을 다시 한번 디클로로메탄으로 추출한다. 결합된 유기물을 건조하고(Na2SO4), 여과하고, 농축하고, 90:10의 헥산:에틸 아세테이트를 사용한 실리카겔을 통해 크로마토그래피한다. 분리로, HPLC에 의해 100 % 순도이고 융점이 90-95 ℃인 오렌지 형태로서 표제 화합물 0.14 g(47 %수율)이 제조된다.
[실시예 7]
2,3-디시아노-2-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸)페닐아조 프로피오네이트의 제조
무수 에탄올 20 ㎖ 내의 에틸 디시아노프로피오네이트 22.1 M㏖을 0 ℃ 로 냉각하고, 2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸아닐린의 황산화수소 디아조늄염 20.9 m㏖을 15분에 걸쳐 첨가 깔때기를 통해 첨가한다. 반응을 실온으로 가온하고 하루밤동안 교반한다. 물 및 디클로로메탄을 첨가하여 반응을 마무리한다. 층을 분리하고 수성층은 다시한번 디클로로메탄으로 추출한다. 결합된 유기물을 염수로 한번 세척하고, 유기층을 건조하고(Na2SO4), 여과하고, 농축하고, 90:10의 헥산:에틸 아세테이트를 사용한 실리카겔을 통해 크로마토그래피한다. 분리로 82 % 의 원하는 아조 생성물 및 13 % 의 상응하는 히드라존을 함유하는 적색의 점성의 오일으로서 2.7 g(33 %)의 표제 화합물이 제조된다. 1H NMR(CDCl3)는 주요 성분으로 목적 생성물을 가리킨다: d 7.70 (s,2H), 4.44(m,2H), 3.58(q, 2H). 1.39(t,3H).
[실시예 8]
5-아미노-3-시아노-1-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐)-4-카르보에톡시피라졸의 제조
100 ㎖ 반응 플라스크에 테트라히드로푸란 20 ㎖ 내의 0.51 g(1.30 m㏖)의 에틸 2,3-디시아노-2-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸)페닐아조 프로피오네이트를 첨가한다. 반응을 - 78 ℃로 냉각하고 0.52 g(1.30 m㏖)의 수소화 나트륨(오일 내 60 % 분산액)을 한번에 첨가한다. 반응 혼합물을 하루밤동안 실온으로 가온한다. 2 g 의 실리카겔 및 40 ㎖의 에틸 아세테이트를 반응 혼합물에 첨가하고, 슬러리를 농축하고, 90:10의 헥산:에틸 아세테이트 (1L) 및 80:20 (2L)으로 용출하는 실리카겔을 통해 크로마토그래피한다. 분리로 HPLC에 의해 99% 순도이고 융점이 201.5-202.5 ℃인 고체 0.16 g(82 % 순도의 출발 재료 기준으로 38 % 수율)이 제조된다.
[실시예 9]
2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸아닐린의 황산화수소 디아조늄 염의 제조
100 ㎖ 반응 플라스크에 45 ㎖의 빙초산에 용해된 5.3 g(23.2 m㏖)의 2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸아닐린을 첨가한다. 용액을 얼음물 중탕에서 냉각하고, 3.8 g(30.1 m㏖)의 니트로실황산을 한번에 첨가한다. 얼음 중탕으로부터 반응을 제거하고 실온에서 2 시간동안 교반한다. 생성된 디아조늄 염을 정제하지 않고 사용한다.
본 발명의 방법에 따라 제조된 화학식 Ⅳ의 화합물은 살충제로서 유용하다.
본 발명이 각종 바람직한 구현예들의 측면에서 기재되었지만, 숙련된 기능공은 각종 변형, 치환, 생략 및 변화가 본발명의 취지에 어긋나지 않으면서 이루어질 수 있다는 것을 인식할 것이다. 따라서, 본 발명의 영역이, 그것의 등량물을 포함하여, 하기의 청구항들의 범위에 의해서만 제한될 수 있다는 것이 의도된다.
본 발명은 살충제적 활성 재료뿐만 아니라 그것의 중간체를 제조하기 위한 신규 방법에 관한 것이다. 더욱 특별하게는, 본 발명은 1-아릴 치환 피라졸의 제조 방법에 관한 것이다.
이와 같은 유도체를 제조하기 위한 많은 제조 방법들이 문헌, 예를 들어 국제 특허 공보 제 WO87/03781, W093/06089 및 WO94/21606 호; 유럽 특허 공보 제 0295117, 0403300, 0385809 및 0679650 호 : 미합중국 특허 제 5232940 및 5236938 호; 및 독일 공개 특허 출원 제 19511269 호에 기재되어 왔다.
1887년부터 문헌에서 공지되고, [Org.React., 10권 143-178 면(1959년)]에서 재검토된 재프-클링게만(Japp-Klingemann) 반응은 디아조늄 염과 활성 메틸렌 화합물과의 반응으로부터 페닐 아조 화합물이 형성되는 방법이다. 전형적으로 페닐 아조 화합물은 분리되지 않고, 제자리에서 염기와 반응하여, 그결과 이탈기가 손실되고 상응하는 히드라존이 형성된다. 페닐 아조 중간체가 적당하게 치환되면, 자발적인 고리화 반응이 일어나서, 3,5-이치환-4-프로티오-피라졸, 즉 3,5-이치환-4-비치환 피라졸이 제조된다. 3,4,5-삼치환 피라졸을 원하면, 추가적인 조정이 계속적인 단계에서 요구된다.
본 발명의 목적은 아릴피라졸 유도체를 제조하기 위한 신규 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 간단한, 가능하다면 기존의 방법보다 더욱 간단한 제조 방법을 제공하는 것이다.
이러한 목적들은 전체 또는 부분적으로 본 발명에 의해 다루어진다.
이 발명은 3,4,5-삼치환-1-아릴피라졸의 직접적인 제조를 위한 신규이고 더욱 효과적인 방법을 제공한다. 놀랍게도, 특정 아릴 아조 중간체의 피라졸환 고리화 반응이, 이탈기(보통 이러한 유형의 반응에서 손실됨)가 피라졸로 C-4에서 재혼입되어서 즉시 3,4,5-삼치환-1-아릴피라졸로 진행된다는 것이 밝혀졌다. 이것은 원하는 살충제적 활성 3,4,5-삼치환-1-아릴피라졸 유도체를 제조하는데 요구되는 반응 단계의 수를 감소시키는 장점을 제공하는데, 이는 차례로 이같은 화합물을 제조할 때 더 적은 화학적 폐기물이 만들어질 수 있고, 더 적은 에너지가 요구될 수 있다는 것을 의미한다. 이것은 또한 살충제적 활성 1-아릴 피라졸 유도체의 제조가를 감소시키는 것을 돕는다.
본 발명은,
(a) 화학식 Ⅰ의 화합물을 화학식 Ⅱ의 화합물과 반응시켜서 상응하는 화학식 Ⅲ의 화합물을 수득함; 및
(b) 수득된 화학식 Ⅲ의 화합물을 재배열하여, 상응하는 화학식 Ⅳ의 화합물을 수득함으로 이루어지는, 하기 화학식 Ⅳ 의 1-아릴피라졸의 제조 방법을 제공한다:
[상기 식 Ⅰ∼Ⅳ 중,
Ar은 임의치환된 페닐 또는 임의치환된 피리딜이고;
X는 상용성 음이온이며;
R3는 -C(O)R8, -CN, -CO2H, -C(O)NHR8, -CHO, -C(O)C02R8, -S(O)mR8, -C(O)CH2Het, Het, -C(O)CH2R9, -C(O)(C1-C6 알킬), -C(O)(C1-C6 할로알킬), -C(O)스티릴, 할로겐, -C(O)OR8, -P(O)(OR8)2, -P(S)(OR8)2,-NO 2, R9 또는 -S(O)m스티릴이고;
R4는 -CN 및 할로겐을 제외하고는 상기 정의한 R3 와 같으며;
R5는 -CN, -C(O)O8 또는 -C(O)(C1-C6 알킬)이고;
R6는 -NH2, -OH 또는 -CH3이다;
(상기 식들 중, m은 0,1 또는 2이고;
R8은 C1-C6 알킬, C1-C6 할로알킬, R9 또는 Het이며;
Het는 5 또는 6 원 헤테로고리 환이고, 상기 환은 질소, 황 및 산소로 구성된 군에서 선택된 1 내지 3 개의 동일하거나 상이한 환 헤테로원자를 갖고, 상기 환의 각 탄소 원자는 비치환되거나 또는, 할로겐, C1-C6 알킬, C1-C6 할로알킬, C1-C6 알콕시, C1-C6 할로알콕시, 시아노, 니트로, 아미노, N-(C1-C 6 알킬)아미노, N,N-디(C1-C6 알킬)아미노, OH, -S(0)m(C1-C6 알킬) 또는 -S(O)m(C1-C6 할로알킬)로 치환되고,
R9는 할로겐, C1-C6 알킬, C1-C6 할로알킬, C1-C6 알콕시, C1-C6 할로알콕시, 시아노, 니트로, 아미노, N-(C1-C6 알킬)아미노, N,N-디(C1-C6 알킬)아미노, -OH, -S(0)m(C1-C6 알킬) 및 -S(O)m(C1-C6 할로알킬)로 구성된 군에서 선택된 하나 이상의 원으로 임의치환된 페닐이다)].
본 명세서에서 하기의 개념들은 아래에서 주어지는 일반적인 의미를 갖는다:
"알킬"은 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 측쇄 또는 직쇄 알킬이고;
"할로알킬"은 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖고, 동일하거나 상이한 하나 이상의 할로겐을 갖는 측쇄 또는 직쇄 알킬이며;
"알콕시"는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖는 측쇄 또는 직쇄 알콕시이고;
"할로알콕시"는 1 내지 6 개의 탄소 원자를 갖고, 동일하거나 상이한 하나 이상의 할로겐을 갖는 측쇄 또는 직쇄 알콕시이며;
"할로겐"은 불소, 염소, 브롬 또는 요오드를 의미한다.
위 화학식 Ⅲ에서 -CN 또는 할로겐이 재배열 단계에서 인접한 탄소 원자로 이동하여 위 화학식 Ⅳ의 화합물이 제조될 수 없기 때문에, 위 정의에서 R4는 -CN 또는 할로겐을 나타낼 수 없다는 것이 이해될 것이다.
X는 우세한 반응 조건에 상용성인 임의의 음이온일 수 있다. 적합한 기의 예는 (HSO4), 할로겐, (BF4), (ZnCl3) 및 (CoCl3)를 포함한다. 바람직하게는 X 는 할로겐 또는 (HSO4)이다.
Ar이 페닐이면, 이것은 0 내지 5 개의 치환체를 갖는다. Ar이 피리딜이면, 이것은 0 내지 4 개의 치환체를 갖는다. 바람직하게는, Ar은 1 내지 3 개의 치환체를 갖는다. 어떠한 경우에서도, 바람직하게는 임의의 Ar 치환체는 할로겐, CN, NO2, 할로알킬, 할로알콕시, S(O)mCF3, SF5 및 R10 (식 중 m은 상기 정의된 바와 같고, R10은 하기 정의된 바와 같다)으로 구성된 군에서 선택된다.
바람직하게는 Ar은 하기 화학식을 갖는 기이다:
[식 중,
Z는 3가의 질소 원자 또는 C-R7 라디칼을 나타내고, 이 탄소 원자의 다른 세 결합가는 방향족 환의 부분을 형성하고;
R1 및 R7은, 상호 독립적으로, 수소 또는 할로겐 원자, 또는 CN 또는 NO2를 나타내며;
R2는 할로겐, 할로알킬, 할로알콕시, S(O)mCF3, SF5 또는 R10을 나타낸다;
(그리고 상기 R10은, 할로겐; 알킬; 할로알킬; 시아노알킬; 시아노; 니트로; 아미노; 히드라지노; 알콕시; 할로알콕시; 할로알킬카르보닐; 포르밀; 알킬카르보닐; 티오카르바모일; 카르바모일; 알콕시카르보닐; SF5; 및 R8S(O)m 로 구성된 군에서 선택된 1 내지 5 개의 치환체(바람직하게는 4-위치 치환체는 할로겐, 할로알킬 또는 할로알콕시이다)를 임의로 갖는 페닐로서; 임의로 함께 연결되는 2 개의 인접한 페닐 치환체는 1,3-부타디에닐렌(-CH=CH-CH=CH-), 메틸렌디옥시(-O-CH2-O-) 또는 할로메틸렌디옥시 (예를 들어, -O-CF2-O-) 기를 형성하여 페닐환에 가까운 고리환을 형성한다)].
하기 또한, 특히 Ar이 위에서 기술된 바람직한 기들 중 하나일 때, 본 발명의 바람직한 구현예이다:
R3는 -CN 또는 -COR8이고/이거나;
R4는 -S(O)mR9, -S(O)m알킬 또는 -S(O)m할로알킬이고/이거나;
R5는 -CN이고/이거나;
R6는 -NH2이다.
각종 치환체들의 하기값은 위의 화학식 Ⅰ내지 Ⅳ의 대표 화합물을 제공한다. 하기 표에서 "Ph"는 페닐을 의미하고; "Pyr"은 피리딜을 의미하고; "Et"는 에틸을 의미한다.
삭제
본 발명의 방법은, 화학식 Ⅳ의 화합물을 제공하기 위해 화학식 Ⅲ의 화합물의 제자리 (in-situ) 재배열을 포함하는 연속적인 방법으로 수행될 수 있기는 하지만, 일반적으로 두 단계로 수행된다. 이 제자리 방법은, 화학식 Ⅱ의 중간체의 분리에 대한 필요를 피할 수 있기 때문에, 방법이 제조 방법의 부분을 형성할 때 바람직할 수 있다.
첫번째 단계에서 디아조늄 염Ⅰ은 용매 내의 화합물 Ⅱ과, 바람직하게는 메탄올, 에탄올 및 아세트산과 같은 양성자성 용매와 반응한다. 이 반응은, 임의로 염기의 존재하에, 약 0 내지 약 120 ℃, 바람직하게는 약 0 내지 25 ℃의 온도에서, 수행되어 아조 화합물Ⅲ이 제조된다. 염기가 이 단계에서 사용되면, 피리딘 또는 트리에틸아민과 같은 유기물, 또는 탄산 칼륨 또는 수산화 나트륨과 같은 무기물일 수 있다. 사용될 때, 염기의 양은 일반적으로 약 1 내지 약 25 당량(화학식 Ⅰ의 화합물의 몰당량에 기재함)이고, 약 1 내지 5 당량이 바람직하다.
반응 순서의 두번째 단계에서, 아조 화합물Ⅲ은 적합한 용매에 용해되고, 임의로 약 20 당량 이하, 바람직하게는 약 5 당량 이하의 염기가 되어 재배열된 화학식Ⅳ의 피라졸이 제조된다. 이 단계의 반응 온도는 약 0 내지 약 120 ℃, 바람직하게는 약 0 내지 약 25℃이다. 용매는 메탄올, 에탄올 또는 아세트산과 같이 양성자성일 수 있거나, 또는 바람직하게는 용매는 디클로로메탄, 테트라히드로푸란, 또는 톨루엔과 같이 비양성자성일 수 있다. 적합한 염기는 유기물(예컨대 피리딘, 트리에틸아민 또는 피페리딘), 무기물(예컨대 수산화 나트륨, 탄산 칼륨, 수소화 나트륨) 또는 유기금속물(예컨대 포타슘 t-부톡시드, 소듐 메톡시드, 리튬 디이소프로필아미드)일 수 있고, 유기 또는 유기금속 염기가 바람직하다.
위 화학식 Ⅲ의 화합물은 일반적으로 몰초과량으로 존재한다. 바림직하게는 약 1 내지 약 2 몰의 화학식 Ⅲ의 화합물이 존재하고, 더욱 바람직하게는 약 1.05 내지 약 1.1 몰이 존재한다.
식 중 Ar, R3, R4 및 R5가 상기 정의한 바와 같은 화학식 Ⅲ의 화합물( R3 및 R5가 모두 시아노이면 R4가 -C(O)0R8이 아니다)은, 신규이고 따라서 본 발명의 특징을 구성한다.
화학식 Ⅱ의 화합물은, 염기의 존재하에, 하기 화학식 Ⅴ과,
R3-CH2R4 (식 중 R3 및 R4 는 상기 정의한 바와 같다)
화학식 R5CH2L(식 중, R5는 상기 정의한 바와 같고 L은 이탈기이다)의 화합물과의 반응에 의해 제조될 수 있다. 적합한 이탈기의 예는 할로겐 및 토실레이트(바람직하게는 할로겐)를 포함한다. 염기는 일반적으로 강염기(예를 들어 수소화 나트륨 또는 n-부틸 리튬)이고 반응은 일반적으로 비양성자성 용매(예를 들어 테트라히드로푸란) 내에서 약 -78 ℃ 내지 약 0 ℃ 의 온도에서 수행된다. 또한 식 중 R5이 시아노이고 R3 및 R4는 상기 정의된 바와 같은 화학식 Ⅱ의 화합물( R3가 -CN이면 R4가 -C(O)OR8이 아니다)도 신규이고 따라서 본 발명의 추가적인 특징을 구성한다.
하기의 비제한적 예들은 본 발명을 예시한다.

Claims (11)

  1. 하기 화학식 Ⅳ의 화합물의 제조 방법으로서,
    [화학식 Ⅳ]
    [식 중,
    Ar은 이고;
    R1 및 R7은 할로겐이고;
    R2 는 C1-C6 할로알킬이고;
    R3 는 -C(O)R8 또는 -CN이고;
    R4 는 -S(O)m-C1-C6-알킬 또는 -S(O)m-C1-C6-할로알킬이고;
    m은 0,1 또는 2이고;
    R6는 -NH2이고;
    R8은 C1-C6 알킬 또는 C1-C6 할로알킬이고;
    상기 방법은 하기 단계를 포함한다:
    (a) 하기 화학식 Ⅰ의 화합물을
    [화학식 Ⅰ]
    (식 중, Ar 은 상기 정의된 바와 같고, X 는 HSO4 -, 할라이드, BF4 -, ZnCl3 - 및 CoCl3 - 로 이루어진 군에서 선택되는 상대 음이온이다);
    화학식 Ⅱ의 화합물과 반응시켜
    [화학식 Ⅱ]
    (식 중, R3 및 R4 는 상기 정의된 바와 같고, R5 는 -CN이다);
    상응하는 화학식 Ⅲ의 화합물을 수득하는 단계; 및
    [화학식 Ⅲ]
    (식 중, R3, R4, R5 및 Ar 은 상기 정의된 바와 같다);
    (b) 수득된 화학식 Ⅲ의 화합물을 염기의 존재하에 양성자성 또는 비양성자성 용매에서 재배열하여, 상응하는 화학식 Ⅳ의 화합물을 수득하는 단계.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제 1 항에 있어서, (Ⅰ):(Ⅱ)의 몰비가 약 1:1 내지 약 1:2 인 방법.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 3-(4-클로로페닐술포닐)-3-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸페닐아조)-4-시아노부탄-2-온; 또는
    2-(4-클로로페닐술포닐)-2-(2,6-디클로로-4-트리플루오로메틸)페닐아조 숙시노니트릴인 화합물.
  10. 삭제
  11. 삭제
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