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JPS6374048A - 記録層の製造方法 - Google Patents

記録層の製造方法

Info

Publication number
JPS6374048A
JPS6374048A JP62220569A JP22056987A JPS6374048A JP S6374048 A JPS6374048 A JP S6374048A JP 62220569 A JP62220569 A JP 62220569A JP 22056987 A JP22056987 A JP 22056987A JP S6374048 A JPS6374048 A JP S6374048A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
weight
photopolymerizable
mixture
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62220569A
Other languages
English (en)
Inventor
カールールドルフ、クルツ
ホルスト、コッホ
ギュンター、シュルツ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF SE
Original Assignee
BASF SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=6309110&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPS6374048(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
Publication of JPS6374048A publication Critical patent/JPS6374048A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/108—Polyolefin or halogen containing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明は有機溶媒乃至その混合物により現像可能の可撓
性記録層の製造方法に関するものであり、またこれを使
用してフレキソ印刷版体を製造することに関するもので
ある。
感光性樹脂層及びこれを使用した７レキソ印刷版体は公
知であり、例えばヨーロッパ特許６４５６４号明細書、
西独特許出願公告２２１５０９０号公報、同国公開２４
５６４３９号、同２９４２１８３号、同２１３８５８２
号及び同２４４４１１８号公報に記載されている。この
種の７レキソ印刷版体用感光性慰脂層は、一般にニジス
トマー結合剤、これと併存可能の１種類或は複数種類の
光重合し得るモノマー、可塑剤、光重合開始剤及びその
他の助剤、添加剤を含有する。
このモノマーは光架橋によりその溶解性に差違をもたら
し、従って画像形成露光によりフレキソ版体の非露光部
分は溶媒により洗除され、結合剤及び非重合モノマーは
溶解され或は膨潤状態となる。
この場合、露光された突出部は展張、貯蔵により脆くな
る欠点がある。この脆化により機械特性が劣化し、印刷
インキ、空気中オゾンに対する耐性が低下する。そのた
めこの種の印刷版体としての使用可能性は著しく制約さ
れる。
この機械的特性を改善するため、印刷版体が露光後にお
いてもなお必要な可撓性を保持させろ可塑性化充填剤が
添加される。この可塑剤としては一般に長鎖性飽和アル
カン或は芳香族ジカルボン酸のエステルが使用される。
しかしながらこの方法は印刷版体の現像に必要な溶媒に
より可塑剤が抽出され、経時的に突出部表面に拡散しそ
こから滲出するという欠点がある。これにより印刷版体
の機械的特性は現像及び貯蔵により更に劣化せしめられ
ろ。ことに可塑剤を大量に使用した場合、現像処理、特
にブラッシング洗除の際に画像凹凸を損傷するに至る。
オゾンによる損傷を回避するために使用されろワックス
についても原則的に同様のことが云える。
また西独特許出願公開２９４２１８３号公報から、以下
の組成の混合物及びこれから作製される印刷版体は公知
である。すなわち、 （ａ）熱可塑性非エラストマー性ブロックＡとエラスト
マー性ジエンブロックＢかも成る、現像用溶媒に可溶性
の、少くとも１種類のブロック共重合体を最少限度４０
重量％、 （ｂ）ブロック共重合体（ａ）と併存し得る少くとも１
種類の光重合性オレフィン系不飽和モノマーを最少限度
１重量％、 （Ｑ）少くとも１種類の光重合開始剤を０．１乃至ｌＯ
重量％含有し、上記ブロック共重合体（ａ）がＡ−Ｂ−
Ｃ構造のエラストマーブロック共重合体であって、 （ａ１）上記ブロック共重合体の５乃至２５重量％を占
めろブロックＡが式ＣＨ２＝　ＯＲＲ’　を式中Ｒは水
素或はメチルを、Ｒ′はフェニル或は０１乃至ｃ４のア
ルキルで置換されたフェニルを意味する】で表わされる
、少くとも１種類のスチレンから形成され＋２５°Ｃ以
上の氷点（ガラス転移点ンを宥し、（ａ２）上記ブロッ
ク共重合体の１５乃至９０重量％を占めるブロックＢが
４乃至５個の炭素原子を有する、少くとも１種類の脂肪
族ジエン炭化水素から形成され、−２０°Ｃ以下の氷点
（ガラス転移点）を有し、 （ａ３）上記ブロック共重合体の５乃至６０重量％を占
めるブロックＣが４乃至５個の炭素原子を有する、少く
とも１個のジエン炭化水素の単独重合体或は共重合体か
ら形成され、−３０″Ｃ乃至＋１５°Ｃの氷点（ガラス
転移点ンを有するものである。
ここで１乃至４０重量％の量で使用されろ光重合性オレ
フィン系不飽和モノマーは、ブチル（メタ〕アクリラー
ト、２−エチルへキシルアクリラート、ラウＩＪル（メ
タノアクリラート、エチレンクＩＪ　−＋−ルジメタク
リラート、ブタンジオール−１４−ジ（メタノアクリラ
ート或はこれ等混合のような、アクリル酸及び／或はメ
タクリル酸と一価或は多価アルコールとのエステルであ
る。このような（ａ）、（ｂ）及び（Ｃ）の混合物は、
押圧、押出し或はカレンダー処理により層状に形成され
る。しかしながらこのような混合物から形成される印刷
版体はしばしば不満足な等方性を示し、印刷結果は好ま
しくない。
従って、この分野の技術的課題は、可及的に等方性、可
撓性の記録層、ならびに印刷に際して脆化することがな
く、印刷インキ及び雰囲気中オゾンに対し安定な７レキ
ソ印刷版体を製造することである。
（発明の要約ン 然るに、この技術的課題は、エラストマー結合剤と併存
し得る光重合性モノオレフィン系不飽和有機化合物を一
定量併用することにより解決され得ることが見出された
。
この発見を基礎とする本発明の対象は、（Ａ）少くとも
１種類のエラストマー結合剤と、（Ｂ）組成分（Ａ）と
併存し得る、光重合可能の少くとも２種類の非気体状オ
レフィン系不飽和有機化合物から成る混合物と、（Ｃ）
少くとも１種類の光重合開始剤と、（Ｄ）場合によりそ
の他の慣用の助剤及び添加剤とから成る感光性混合物に
より構成され、上記（Ａ）乃至（Ｄ）の混合物を担体上
に施こし、優勢方向を生起される加工処理を行なって、
有機溶媒乃至その混合物で現像され得る可撓性記録層な
らびに１．５以下の異方性ファクタ、改善されたオゾン
亀裂耐性を有する印刷版体の製造方法において、上記組
成分（Ｂ）として、（Ｂ１）上記組成分（Ｎと併存し得
る、光重合可能の少くとも２個のオレフィン２重結合を
有する少くとも１種類の有機化合物５乃至２０重量％と
、（Ｂ２）上記組成分（Ａ）と併存することができ、光
重合可能であって、その単独重合体が室温以下のガラス
転移点を有する少くとも１種類のモノオレフィン系不飽
和有機化合物１乃至１５重量％とから成る混合物（上記
重量％は（Ａ）乃至（Ｄ）の混合物全量に対するもので
あるンを使用することを特徴とする方法である。
この場合、上記組成分（Ｂ２）として、４乃至１６個の
分枝炭素原子を有するモノアルカノールとアクリル酸と
のエステル、ことに２−エチルへキシルアクリラート、
アルキル基中に４乃至１６個の炭素原子を有するアルキ
ルアミン或は４乃至１８個の炭素原子を有するビニルア
ルキルエーテルとアクリル酸とのアミドな使用するのが
特に好ましい。
このような可撓性記録層はフレキソ印刷版体を製造する
のに特に適当である。
（発明の構成］ 七ツマー混合物（Ｂ）の組成分は、ことに組成分（Ａ）
と併存し得る、非気体状のモノオレフィン系不飽和光重
合性有機化合物であって、しかもその酢独重合体が室温
以下のガラス転移点を有するもの゛の量割合が特に重要
である。その量割合が１重量％以下であれば、異方性印
刷版体が形成され、現像乃至洗除に際して版体面損傷を
生ずるおそれがあり、またこの組成分（Ｂ２）の割合が
１５重量％を超えると非露光層の塑性流動が困難となる
。この組成分（Ｂ２〕は感光性混合初全体量に対して２
乃至１０重量％、ことに２乃室８重量％であるのが好ま
しい。
この、組成分（Ａ）と併存し得るモノオレフィン系不飽
和光重合性有機化合物（ただしその単独重合体は室温（
約２２°Ｃ）以下のガラス転移点を示すものでなければ
ならない）を上述の量割合で併用することにより、等方
性の印刷版体を作製することに成功し、その機械的特性
を改善することができた。この本発明による印刷版体は
、前述した公知文献による版体に比し、同一条件下、す
なわち同様のブラッシング洗浄による現像処理下におい
て画像面の損傷が著しく僅少であった。
更に上述のモノマー（Ｂ２　）の添加により、不活性可
塑剤を添加した公知の剛体に比しオゾン耐性が著しく改
善された。
組成分（Ａ）乃至（Ｄ）の混合物を寸法安定性のよい担
体上に塗布し、優勢方向を生起される加工処理、例えば
押出し処理、カレンダー処理或はライニング処理を行な
う従来の層形成方法によりフレキソ印刷版体を作製する
場合、印刷に際しその流動方向：て応じて点乃至線が拡
大して印刷されろことがあった。比較的大量に使用され
る組成分（Ｂ１）により、この現象は甚だしくなる。し
かるに本発明方法により組成分（Ｂ２）　、ことに上述
したアクリルエステルを添加することにより、この異方
性印刷挙動はほとんど認められなくなる。
前述の特許文献に記載されているように比較的大量の組
成分（Ｂ１）を添加した場合には、露光処理の余裕に好
ましくない影響を及ぼす。ここで露光処理の余裕とハ、
７００乃至３０００μｍの層厚さで直線幅５０μｍの格
子を申し分なく構成するに必要な露光時間と、４００μ
ｍ径のネガチブｉ点を少くとも７０μｍの深さで万する
露光時間との間の時間的間隔を意味する。然るに混合物
中の組成分（Ｂηを添加することにより、比較的大量の
モノマー含有量にもかかわらずポジチブな露光処理の余
裕がもたらされろ。
なお本発明による記録層の画像形成露光のためには、公
知の感光樹脂層におけるよりも短い露光時間で十分であ
る。
本発明方法による感光性混合物の組成分につき以下に個
別的に説明する。
（Ａ）本発明における組成分（Ａ）としては、従来慣用
の重合ニジストマー、重付加エラストマー及び主縮合エ
ラストマー、例えばブタジェン或はイソプレンの単独重
合体、ブタジェン／イソプレン共重合体、ブタジェン及
び／或はイソプレンと他の共重合可能のオレフィン系不
飽和万機重合体、例えばスチレン、２−メチルスチレン
、ビニルトルエンのよウナビニル芳香族化合物、ニトリ
ル及び／或はアクリル酸エステル及び／或はメタクリル
酸エステル、例えばアクリルニトリル、メタクリルニト
リル、１乃至８個の炭素原子を■する（メタ）アクリル
酸とアルカノールのエステルとの共重合体が挙げられる
。
適当なニジストマー結合剤としては、例えば西独特許出
願公開２２１５０９０号、同２２２３８０８号、同２８
１５６７８号、同２６１０２０６号公報に記載されてい
るＡ−Ｂ−Ａタイプのニジストマーブロック共重合体が
使用される。
このようなエラストマー結合剤（Ａ）としては、２０乃
至８０のショア硬度を■するものが好ましい。
ニジストマー結合剤として特に好ましいのは西独特許出
願公開２９４２１８３号公報に記載されているようなＡ
ＢＯ構造のブロック共重合体である。この場合例えばＡ
は熱可塑性非弾性スチレン重合体、Ｂはニジストマー性
ブタジェン重合体及び／或はイソプレン重合体、Ｃはブ
タジェン及び／或はイソプレン、場合によりスチレンか
ら形成されろＢとは異なる重合体である。
組成分（Ａ）は一般に（Ａ）乃至（Ｄ）から成る感光性
混合物の全量に対して６０乃至９３重量％使用される。
（Ｂ）組成分（Ｂ）は、（Ｂ１）組成分（Ａ）と併存し
得る少くとも２個のオレフィン２重結合を有する少くと
も１種類の有機化合物５乃至２０重量％と、（Ｂ２）組
成分（Ａ）と併存し得ろ少くとも１種類のモノオレフィ
ン系不飽和光重合性有機化合初であって、しかもその単
独重合体が室温よりも低いガラス転移点を示す化合物１
乃至１５重量％との混合物である。
この組成分（Ｂ１）としては、慣用の多価アルコールの
（メタ）アクリル酸エステル、例えばエチレングリフー
ルジメタクリラード、ブタンジオール−１，４−シアク
リラード、ブタンジオール−１，４−ジメタクリラード
、ネオペンチルグリコール−ジメタクリラード、３−メ
チルベンタンジオールシアクリラード、ヘキサンジオー
ル−シアクリラード、ヘキサンジオール−１，６−ジメ
タクリラード、１，１゜１−トリメチロールプロパント
リアクリジー）、１，１．１−　）リメチロールブロバ
ントリメタクリラート、ジー、トリー及びテトラエチレ
ングリコールジアクリラート、トリプロビレングリコー
ルジアクリラート、ペンタニリトリットテトラアクリラ
ートならびにこれ等の混合物が挙げられる。この種の適
当なモノマーは、西独特許出願公開３０１２８４１号公
報においても記載されている。
組成分（Ｂ１）は（Ａ）乃至（Ｄ）より成る感光性混合
物の全量に対して５乃至２０重量％、ことに７乃至１５
重量％の量において使用される。
組成分（Ｂ２）としては単官能性、光重合可能の、組成
分（Ａ）と併存し得る単量体であって、その単独重合体
が室温以下のガラス転移点を有するものであって、具体
的にはアクリル酸、メタクリル酸のエステル、例えばｎ
−ブチルアクリラート、インブチルアクリラート、こと
に好ましいものとして４乃至１６個の分枝炭素原子を有
するモノアルカノールのアクリル■ 酸エステル、例えば　Ａｌｆｏｌ　−６，１０−アク■ リジート、　　　０ａｄｕｒａ−Ｅ−１０−アクリラー
ト、２−エチルへキシルアクリラート、ならびに直鎖性
炭素原子６乃至１２個を有するモノアルカノールのアク
リル酸エステル、例えばラウリルアクリラートが挙げら
れる。シェル■ 社の　Ａｌｆｏｌ　−６，１０−アクリラートはエチレ
ンをオリゴマー化し、ＯＨ基をこのエチレンオリゴマー
に導入し、アクリル酸でエステル化して得られろエステ
ルである。同じくシ［Ｆ］ エル社の　０ａｄｕｒａ　−Ｅ　−１０−アクリラート
は、置換基としてアクリラート基を有するアルキル残基
を持った３級アルカンカルボン酸である。
更に適当な組成分（Ｂ２］は、４乃至１６個の炭素原子
を有するアルキルアミンとアクリル酸とのアミド、こと
にＮ−オクチルアクリルアミドならびにアルキル基中に
４乃至１８個の炭素原子を有するビニルアルキルニー゛
チル、例：ｚ−ハフ”チルビニルエーテル、ヘキシルビ
ニルエーテル及びこれ等の混合物である。
ことに適当な単量体は、その単独重合体が室温以下のガ
ラス転移温度を有するものであって、ニューヨーク、Ｊ
、　Ｗｉｌｙ　＆　５ｏｎｓ社１９７９年刊、Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ　Ｈａｎｄｂｏｏｋ第２版に記載されている。
このような単量体（Ｂηの、組成分（Ａ）乃至（Ｄ）か
ら成る混合物全量に対する含π量は１乃至１５重量％で
あって、好ましくは２乃至１０重量％、ことに２乃至８
重量％である。
（Ｃ）光重合開始剤としては、従来慣用のベンゾインエ
ーテル、ベンゾフェノン、チオキサントン、ベンジルジ
メチルケタールのようなケタール、アセトフェノン、ア
シルホスフィンオキシトが使用される。この種の適当な
光重合開始剤は上述刊行物を参照され度い。特に好まし
いのはベンジルジメチルケタール及びトリメチルベンゾ
イルジフェニルホスフィンオキシドである。
この光重合開始剤は、組成分（Ａ）乃至（Ｄ）から成る
感光性混合初会量に対して一般的に０．０１乃至１０重
最外、ことに０．０１乃至５重量％の量において使用さ
れる。
ＣＤ）場合により併用されるその他の助剤及び添加剤と
しては、例えば熱重合禁止剤、染料、顔料、ハレーショ
ン防止剤、７ラツクス、ホトクロム剤、対オゾン、対酸
化剤、離型剤、可塑芥１、充填剤、補強剤が挙げられ、
それぞれ有効量において使用されろ。
特に好ましい可塑剤は８乃至４０個の炭素原子と３０乃
至７３重量％の塩素分を有するクロルアルカンであって
、感光性混合物に対し２０重量％までの量において使用
される。
加工助剤として、また硬度調節のために、例えばｉ約１
５００のオリゴマー性α−メチルスチレン／ビニルトル
エン共重合体或は＆５００乃至１００００のポリスチレ
ンを主体とするオリゴマーを使用することができろ。
適当な熱安定剤は、例えば２．６−ジー（３級ブチル）
フェノール或（工対応するクレゾールでアル。
■ 更にＡｎｔｉｌｕｘ　　５５０のような対オゾン剤、５
ＳＢＢ（スダンシックブラック）、Ｃ！ｕ−フタロシア
ニンのような染料も使用できろ。
組成分（Ａ）乃至（Ｄ）から成る感光性混合物は、トル
エン系溶媒と共に慣用の方法で、例えばグラベンダー中
で混練し、押出し、或は塗布し、１０乃至８０００μｍ
厚さの均質、平坦な層に形成される。このような層のた
めの担体としては、寸法安定性のよいスチール、合成樹
脂シート、アルミニウム、ニッケルなどが適当である。
フレキソ印刷版体を製造するためには、慣用の処理、例
えば予備露光、画像形成主露光、有機溶媒、ことにパー
クロルエチレン／ｎ−ブタノールによる現像、乾燥、粘
着防止処理、後処理露光を行う。
以下の実施例及び対比実験例において使用される部及び
百分率はすべて重量部及び重量％である。
実施例１乃至５ 押出し層の形成 エラストマー結合剤（Ａ）を２軸エクストルーダの螺旋
杆に沿って均斉に供給し、１４０″Ｃで溶融される。液
状組成分（モノマー（Ｂ１）、モノマー（Ｂ２）、共重
合開始剤、染料）を次々にポンプ給送し、横幅の広いス
リットノズルから押出した。カレンダーロールにより１
２５μｍ厚さのポリエステルシートとポリアミド基体シ
ートの間に２９００μｍ厚さの記録層を形成した。
表　　１ 以下の組成の感光性混合物による可撓性記録層の製造 〉へへによｌ−−＋ｔ　　−− 帽トベ　　１ （Ｂ１）　＝　４％ＨＤＡ　２　＋　２％ＨＤＭＡ　２
のモノマー混合物 開始剤＃ベンジルジメチルカタール 染料＝　５ＳＢＥ−スダンシックブラック熱安定剤＝２
，６−ジー（ｔ−ブチルノークレゾール 対オゾンワックス−Ａｎｔｉｌｕｘ　５５０（Ａ　）＝
　Ａ　Ｂ　Ｃブロック共重合体（西独特許出願公開２９
４２１８３号公報参照） ＨＤＡ２　＝ヘキサンジオールシアクリシートＨＤＭＡ
２　＝ヘキサンジオールジメタクリラード※製造者シェ
ル、アクチェンゲゼルシャフト形成された層を２分間ポ
リエステルシートを経て全面予備露光し、次いで基体シ
ート上に重ねられたネガチブを経て画像形成露光し、パ
ークロルエチレン／ｎ−ブタノール（４：　１　）Ａ合
液で６分間ブラッシング洗除により現像した。このフレ
キソ印刷版体を６５°Ｃで１時間乾燥し、１５分間放置
した後、臭素水溶液で非接着性処理し、１０分間後露光
処理した。申し分のない版体が得られ、これを印刷ドラ
ムに展張し満足すべき印刷結果がもたらされた。
塗布層 以下の表２に描記された組成分をトルエンに溶解させ、
この３０％溶液を１２５７１ｍ厚さのポリエステルシー
トに施こしポリウレタン接着シートで被覆して感光層を
形成した。乾燥後の層厚さは１０００序であった。７５
μｍ厚さの被覆シートを剥離し、表面に残存する基体シ
ート上にネガチプを置いて露光した。前述したように現
像して、ネガチプ透明部分に相当する７００μｍ深さの
レリーフ画像が得られた。
表　　２ 塗布感光層の製造 各組成分をトルエンに溶解させた（最終濃度３０（％）
。その他は前記表１参照。
得られた版体はすぐれた印刷結果をもたらした。
実施例　１１ 実施例８に阜じて溶液を調製した。これをスチール板（
厚さ２４０μｍ）上に塗布した。乾燥後（層厚さ７００
μｍ）、現像して露光に相当する画像をπ　Ｃする版体
が得られた。実施例８で得られたと同様　　：に満足す
べき剛体、印刷結果が得られた。
対比実験例　１ 実施例１に準じて押出し法により感光層を形成　　１し
たが、この場合モノマー（Ｂ２）の代りに不活性可塑剤
の白油Ｓ　５０００を使用した。このようにして得られ
た層についてオゾン耐性及び異方法状態を検査した。こ
のため全面露光した２×１０ｃｍの条片を技手方向の１
０％伸張下に５０　ｐｐｈｍのオゾン濃度に被曝し、最
初の亀裂が現われるまでの時間を記録した。結果は以下
の表３に記される。
同様にして全面露光した２Ｘ１５ｃ＋ｎの条片について
材料層形成の際の流動方向に対して縦方向及び貴方向弾
性率の比として与えられる異方性ファクタＡＰを求めた
。
流動方向に対し横方向のＫ　−Ｍｏｄｕｌ　（１００％
伸張ン更に試料片を露光限界（ＵＢＧ　）に附した。こ
れ１幅５０μｍの線の格子を十分にもたらすために活生
線に被曝させねばならない最少限度の時間であう。
更にエタノール／醋酸混合液（７：３）中に２４寺間放
置して抽出ロスを測定した。
更にまた同一の洗除条件下において版体レリーフの耐損
傷強度を検査した。
表　　３ フレキソ印刷版体のオゾン耐性及び異方性※露光下方限
界（５０μｍ格子線ン ５０μｍ線幅の格子におけるレリーフ損傷評価　−劣悪
、０僅少、十良好 ※※裂造業者シェル、アクチェンゲゼルシャフト 対比実験例　２ 実施例６に準じて感光層を塗布により形成したが、ここ
ではモノマー（Ｂ２）の代りに不活性可塑剤の白油５５
００を使用した。この感光層の露光下方限界は各種モノ
マー（Ｂ１２を使用した場合とほぼ対比し得ろものであ
る（以下の表４参照］。
表　　４ 不活性可塑剤乃至各種モノマー（Ｂｌを使用した場合の
可撓性感光層 実施例　　　　可　塑　剤　　　　ＵＢＧ分１中喝−−
■■―■−−■−−−――−―■−一−−■−―対比実
験例１　　白油８５０００　　　　　　　　　１Ｂ７　
　　　　イソブチルアクリラート　　　　　　１２９　
　　　　ラウリルアクリラート１６※製造業者　シェル
、アクチェンゲゼルシャフト 実施例　１４ 以下の組成分をエクストルーダにより混和し前述した所
と同様にして厚さ２９００７１ｍの可撓性、感光性層を
形成した。
７５％　（Ａ） ４％　ヘキサンジオールシアクリラード（Ｂ１）２％　
ヘキサンジオールジメタクリラード（旧）３％　トリメ
チロールプロパントリアクリジー）　　（Ｂ１） ３％　１−ブチルアクリラート（３２２９％　クロルア
ルカン混合物（炭素原子８乃至４０個、塩素分４９％、
粘度２５°Ｃで約１０００１００Ｏ０） １．５％　ベンジルジメチルケタール １％　熱安定剤（表１２ １．５％対オゾンワックス ０．００５％　染料５ＳＢＢ　（スーダンシックブラッ
ク）１２５μｍ厚さの担体シート上に塗布し、基体層を
施し、ネガチプを経て画像形成露光した後、前述した通
り版体を形成した。
このようにして作製されたフレキソ印刷版体は高度のオ
ゾン耐性、十分な露光余裕、短い露光時間を示す。
実施例　１５ 実施例１のＡＢＣブロック共重合体６９部、実施例１４
のクロルアルカンを主体とする可塑剤１２．９部、ヘキ
サンジオールシアクリラード６．７部、ヘキサンジオー
ルジメタクリラード３．３部、実施例１の熱安定剤１．
０部、トリメチルベンゾイルジフエニルホスフインオキ
シド１．２部、Ｃｕ−フタロシアニン染料（５ｉｃｏｆ
ｌｕｓｈ　Ｈグリーン８７３０　）　０．００６部、対
オゾンワックス１．０部、２−エチルへキシルアクリラ
ート２．５部及び実施例１のα−メチルスチレン／ビニ
ルトルエン共重合体（Ｍ　　１５００　）２．５部から
成る混合物を実施例１におけるようにして押出した。こ
れにより得られた感光層は異方性（１００％）　ＡＩＦ
　＝　１．０を示した。
対比実験例　３ 実施例１５のようにして、ただし２−メチルへキシルア
クリラート２．５部及びα−メチルスチレン／ビニルト
ルエン共重合体（Ｍ　　１５００　）　２．５部の代す
にα−メルスチレン／ビニルトルエン５．０　部を使用
しくただしモノマー（Ｂηを添加せずンて処理し、実施
例１のようにして層を押出し成形した。このようにして
得られた感光層は異方性ファクタ（１００％Ｊ　ＡＦ　
＝　２．４であった。これから作製された版体は満足す
べき印刷挙動を示した。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）（Ａ）少くとも１種類のエラストマー結合剤と、
    （Ｂ）組成分（Ａ）と併存し得る、光重合可能の少くと
    も２種類の非気体状オレフィン系不飽和有機化合物から
    成る混合物と、（Ｃ）少くとも１種類の光重合開始剤と
    、（Ｄ）場合によりその他の慣用の助剤及び添加剤とか
    ら成る感光性混合物により構成され、上記（Ａ）乃至（
    Ｄ）の混合物を担体上に施こし、優勢方向を生起される
    加工処理を行なつて、有機溶媒乃至その混合物で現像さ
    れ得る可撓性記録層ならびに１．５以下の異方性フアク
    タ、改善されたオゾン亀裂耐性を有する印刷版体の製造
    方法において、上記組成分（Ｂ）として、（Ｂ１）上記
    組成分（Ａ）と併存し得る、光重合可能の少くとも２個
    のオレフィン２重結合を有する少くとも１種類の有機化
    合物５乃至２０重量％と、（Ｂ２）上記組成分（Ａ）と
    併存することができ、光重合可能であつて、その単独重
    合体が室温以下のガラス転移点を有する少くとも１種類
    のモノオレフィン系不飽和有機化合物１乃至１５重量％
    とから成る混合物（上記重量％は（Ａ）乃至（Ｄ）の混
    合物全量に対するものである）を使用することを特徴と
    する方法。
  2. （２）特許請求の範囲（１）による製造方法において、
    上記の光重合可能モノオレフィン系不飽和有機化合物（
    Ｂ２）として、４乃至１６個の分枝炭素原子を有するモ
    ノアルカノールとアクリル酸とのエステルを使用するこ
    とを特徴とする方法。
  3. （３）特許請求の範囲（１）による製造方法において、
    上記の光重合可能モノオレフィン系不飽和有機化合物（
    Ｂ２）として、６乃至１２個の炭素原子を有する直鎖性
    モノアルカノールとアクリル酸とのエステルを使用する
    ことを特徴とする方法。
  4. （４）特許請求の範囲（１）による製造方法において、
    上記の光重合可能モノオレフィン系不飽和有機化合物（
    Ｂ２）として、アルキル基中に４乃至１８個の炭素原子
    を有するビニルアルキルエーテル或は４乃至１６個の炭
    素原子を有するアルキルアミンとアクリル酸とのアミド
    を使用することを特徴とする方法。
  5. （５）特許請求の範囲（１）乃至（４）の何れかによる
    製造方法において、上記組成分（Ｂ）として組成分（Ｂ
    １）７乃至１５重量％及び組成分（Ｂ２）２乃至１０重
    量％から成る混合物を使用することを特徴とする方法。
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