JPS632983A - ヘキサアリ−ルビスイミダゾ−ルの製法 - Google Patents
ヘキサアリ−ルビスイミダゾ−ルの製法Info
- Publication number
- JPS632983A JPS632983A JP62148150A JP14815087A JPS632983A JP S632983 A JPS632983 A JP S632983A JP 62148150 A JP62148150 A JP 62148150A JP 14815087 A JP14815087 A JP 14815087A JP S632983 A JPS632983 A JP S632983A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- salts
- group
- formulas
- organic
- phase
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 7
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- -1 tetraphenylarsonium halide Chemical class 0.000 description 5
- AWDBHOZBRXWRKS-UHFFFAOYSA-N tetrapotassium;iron(6+);hexacyanide Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[Fe+6].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] AWDBHOZBRXWRKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 3
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 3
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical class [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N dioxolead Chemical compound O=[Pb]=O YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- YAGKRVSRTSUGEY-UHFFFAOYSA-N ferricyanide Chemical compound [Fe+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] YAGKRVSRTSUGEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N hypobromous acid Chemical class BrO CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N tetraphenylphosphonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRZWQKGABZFFKE-UHFFFAOYSA-N trimethylsulfonium Chemical compound C[S+](C)C NRZWQKGABZFFKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPLUKJNHPBNVQL-UHFFFAOYSA-N triphenylarsine Chemical compound C1=CC=CC=C1[As](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BPLUKJNHPBNVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical class C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D233/64—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms, e.g. histidine
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、次式
(Ar’ないしAr3はアリール基であって、A r2
とAr3は結合して縮合環系を形成してもよい)で表わ
されるヘキサアリールビスイミダゾールの製造法の改良
に関する。
とAr3は結合して縮合環系を形成してもよい)で表わ
されるヘキサアリールビスイミダゾールの製造法の改良
に関する。
例えばBull、 Soc、 Chem、 Jap、
43巻428−66頁(1970)によれば、対応する
トリアリールイミダゾールを酸化することにより、ヘキ
サアリールビスイミダゾールを合成しうるととが公知で
ある。酸化は均質溶剤(例えばペンゾール)又は溶剤混
合物(例えば水/エタノール)の中で又は水−有機2相
系中で行われ、有機相としてはペンゾールが用いられる
。2相反応はその大きい利用幅によりかつ大量生産のた
め好ましいことが、ジャーナル・オブ・オーガニック・
ケミストリー66巻2262−2267頁(1971)
に記載さねている。しかしこの方法の欠点は、16時間
という長い反応時間である。均質系中の酸化剤としては
、ヘキサシアノ鉄酸(1)カリウムのアルカリ性水溶液
が用いらiする。そのほか均質相中の酸化剤は、次亜塩
素酸塩又は二酸化鉛である。
43巻428−66頁(1970)によれば、対応する
トリアリールイミダゾールを酸化することにより、ヘキ
サアリールビスイミダゾールを合成しうるととが公知で
ある。酸化は均質溶剤(例えばペンゾール)又は溶剤混
合物(例えば水/エタノール)の中で又は水−有機2相
系中で行われ、有機相としてはペンゾールが用いられる
。2相反応はその大きい利用幅によりかつ大量生産のた
め好ましいことが、ジャーナル・オブ・オーガニック・
ケミストリー66巻2262−2267頁(1971)
に記載さねている。しかしこの方法の欠点は、16時間
という長い反応時間である。均質系中の酸化剤としては
、ヘキサシアノ鉄酸(1)カリウムのアルカリ性水溶液
が用いらiする。そのほか均質相中の酸化剤は、次亜塩
素酸塩又は二酸化鉛である。
本発明の課題は、反応を工業的規模でできるだけ短い反
応時間及び高収率において、ヘキサアリールビスイミダ
ゾールの効果的な製法を提供することであった。
応時間及び高収率において、ヘキサアリールビスイミダ
ゾールの効果的な製法を提供することであった。
本発明はこの課題を解決するもので、次式(式中の記号
は後記の意味を有する)で表わされるトリアリールイミ
ダゾールを、水−有機2相系中で有効量のオニウム塩の
存在下に酸化することを特徴とする、−般式 (A r IないしAr3はアリール基であって、Ar
2とAr3は結合して縮合環系を形成してもよい)で表
わされるヘキサアリールビスイミダゾールの製法である
。
は後記の意味を有する)で表わされるトリアリールイミ
ダゾールを、水−有機2相系中で有効量のオニウム塩の
存在下に酸化することを特徴とする、−般式 (A r IないしAr3はアリール基であって、Ar
2とAr3は結合して縮合環系を形成してもよい)で表
わされるヘキサアリールビスイミダゾールの製法である
。
オニウム塩(Iff)としては、原則としてこの型のス
ヘての化合物、特に四級のアンモニウム塩、ホスホニウ
ム塩、アルソニウム塩及び三級スルホニウム塩が適する
。特に好ましいオニウム塩は、−般式 %式% で表わされ、式中の基Rは同一、又は異なる炭化一 6
− 水素残基、例えばアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基又はアルアルキル基を意味し、Mは燐、砒素又は
窒素の原子、xoは鉱酸のアニオン当量である。
ヘての化合物、特に四級のアンモニウム塩、ホスホニウ
ム塩、アルソニウム塩及び三級スルホニウム塩が適する
。特に好ましいオニウム塩は、−般式 %式% で表わされ、式中の基Rは同一、又は異なる炭化一 6
− 水素残基、例えばアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基又はアルアルキル基を意味し、Mは燐、砒素又は
窒素の原子、xoは鉱酸のアニオン当量である。
化合物111a又はmbの炭化水素残基は、分岐状又は
好ましくは非分岐状のCl−020−アルキル基、C5
〜C6−シクロアルキル基、6個又は7〜20個の炭素
原子を有するアリール基又はアルアルキル基、例えばフ
ェニル基、p −) ’Jル基又はベンジル基を意味す
る。アルキル基Rの2個は相互に結合して、例えば5〜
6員の環例えばピペリジン環を形成してもよい。R中の
C原子の合計は25を越えない。
好ましくは非分岐状のCl−020−アルキル基、C5
〜C6−シクロアルキル基、6個又は7〜20個の炭素
原子を有するアリール基又はアルアルキル基、例えばフ
ェニル基、p −) ’Jル基又はベンジル基を意味す
る。アルキル基Rの2個は相互に結合して、例えば5〜
6員の環例えばピペリジン環を形成してもよい。R中の
C原子の合計は25を越えない。
θ
アニオンXとしては、特に有機又は好ましくは無機の一
塩基性酸のアニオンが用いられる。
塩基性酸のアニオンが用いられる。
θ θ Oθ e
その例はF 、 C1、Br、 J、 NO3、H80
40、e ○ θ
θClO4、[■C03、CH3CO2及びC
,H2CO2である。その他のアニオンは、デームロウ
ら著[フェイス・トランスファー会キー゛VタリシスJ
2版14〜16頁1983年に紹介されている。
40、e ○ θ
θClO4、[■C03、CH3CO2及びC
,H2CO2である。その他のアニオンは、デームロウ
ら著[フェイス・トランスファー会キー゛VタリシスJ
2版14〜16頁1983年に紹介されている。
オニウム塩は一般に適するので、その選択は主としてそ
の入手しやすさ及び価格によって定まる。したがって実
際には好ましくはアンモニウム塩特にアンモニウムプロ
ミド及びクロリドが用いられ、その場合は市販普通のそ
して容易に製造できるテトラブチルアンモニウムプロミ
ドが第一にあげられる。そのほか6個のRが低級アルキ
ル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基又はブチ
ル基で、第四の基がベンジル基又は非分岐のC6−CI
G+−アルキル基であるものが優れている。
の入手しやすさ及び価格によって定まる。したがって実
際には好ましくはアンモニウム塩特にアンモニウムプロ
ミド及びクロリドが用いられ、その場合は市販普通のそ
して容易に製造できるテトラブチルアンモニウムプロミ
ドが第一にあげられる。そのほか6個のRが低級アルキ
ル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基又はブチ
ル基で、第四の基がベンジル基又は非分岐のC6−CI
G+−アルキル基であるものが優れている。
ホスホニウム塩及びアルソニウム塩としては、トリフェ
ニルホスフィン又はトリフェニルアルシンから導かれ、
そして第四の置換基が例えばC8〜C7−アルキルプロ
ミドを用いて分子中に導入されるものが入手しやすい。
ニルホスフィン又はトリフェニルアルシンから導かれ、
そして第四の置換基が例えばC8〜C7−アルキルプロ
ミドを用いて分子中に導入されるものが入手しやすい。
そのほかテトラフェニルホスホニウム−又はテトラフェ
ニルアルソニウムハロゲニドもあげられる。
ニルアルソニウムハロゲニドもあげられる。
適当なスルホニウム塩の例は、トリフェニルスルホニウ
ム塩又は製造の容易なトリメチルスルホニウムヨーシト
である。−般にポスポニウム塩及びアンモニウム塩力、
スルホニウム塩及びアルソニウム塩より優れている。
ム塩又は製造の容易なトリメチルスルホニウムヨーシト
である。−般にポスポニウム塩及びアンモニウム塩力、
スルホニウム塩及びアルソニウム塩より優れている。
オニウム塩の量については特に制限はない。
有効な促進作用を得るためには、出発物質■に対し例え
ば0.5〜20モルチ特に1〜15モルチの触媒量で足
りる。より多量例えば化学当量の使用も当然可能である
が、普通は格別の利益がない。
ば0.5〜20モルチ特に1〜15モルチの触媒量で足
りる。より多量例えば化学当量の使用も当然可能である
が、普通は格別の利益がない。
酸化剤としては技術水準として知られるものが用いられ
る。アルカリ土類そして特にアルカリの水素ハロゲン化
物、例えば次亜塩素酸塩、次亜臭素酸塩及びヘキサシア
ノ鉄酸(III)のアルカリ性水溶液が好ましく用いら
れ、次亜塩素酸ナトリウム、次亜臭素酸すトリウム及び
ヘキサシアノ鉄酸(III)カリウムが特に好ましい。
る。アルカリ土類そして特にアルカリの水素ハロゲン化
物、例えば次亜塩素酸塩、次亜臭素酸塩及びヘキサシア
ノ鉄酸(III)のアルカリ性水溶液が好ましく用いら
れ、次亜塩素酸ナトリウム、次亜臭素酸すトリウム及び
ヘキサシアノ鉄酸(III)カリウムが特に好ましい。
酸化剤の量は、好ましくはイミダゾール■の1モルに対
し0.5〜10モル特に0.5〜1モルである。
し0.5〜10モル特に0.5〜1モルである。
イミダゾール■の酸化は水−有機2相系中で行われる。
有機相対水相の比率は特に厳密ではなく、−般に10:
1ないし1:1である。
1ないし1:1である。
有機相としては中性溶剤が用いられ、その例ハヘンゾー
ル、アニソール、ニトロペンゾール、ベンゾニトリル、
ピリジン又は四塩化炭素である。特に好ましいものは非
極性又はわずかに極性の溶剤、例えばドルオール、キジ
ロール、クロロホルム又は塩化メチレンである。
ル、アニソール、ニトロペンゾール、ベンゾニトリル、
ピリジン又は四塩化炭素である。特に好ましいものは非
極性又はわずかに極性の溶剤、例えばドルオール、キジ
ロール、クロロホルム又は塩化メチレンである。
において、Ar’ないしAr3はアリール基、例えばフ
ェニル基又はナフチル基を意味し、これはさらに反応条
件下で不活性の置換基を1個又はそれ以上有しうる。置
換基としては、例えばノ・ロゲン原子特に塩素原子及び
臭素原子、01〜C6−アルキル基又はアルコキシ基、
又はニトロ基があげられる。R2とR3は一緒になって
縮合環系例えばフェナントレン系を形成してもよい。
ェニル基又はナフチル基を意味し、これはさらに反応条
件下で不活性の置換基を1個又はそれ以上有しうる。置
換基としては、例えばノ・ロゲン原子特に塩素原子及び
臭素原子、01〜C6−アルキル基又はアルコキシ基、
又はニトロ基があげられる。R2とR3は一緒になって
縮合環系例えばフェナントレン系を形成してもよい。
反応は好ましくは次のように行われる。トリアリールイ
ミダゾール■を有機溶剤に溶解又は懸濁し、これに酸化
剤を含有するアルカリ性水相を添加する。酸化は両相を
よく混合しながら、好ましくは0〜40℃特に0〜5℃
の温度で行われる。操作は連続的又は非連続的に普通の
技術を用いて行うことができる。
ミダゾール■を有機溶剤に溶解又は懸濁し、これに酸化
剤を含有するアルカリ性水相を添加する。酸化は両相を
よく混合しながら、好ましくは0〜40℃特に0〜5℃
の温度で行われる。操作は連続的又は非連続的に普通の
技術を用いて行うことができる。
本発明の方法によれば、トリアリールイミダゾールを短
時間で簡単かつ経済的な手段により、ヘキサアリールビ
スイミダゾールに酸化することができる。この生成物は
フィルムあるいは透明フィルム中の染料を製造するため
の開始剤として有用である。
時間で簡単かつ経済的な手段により、ヘキサアリールビ
スイミダゾールに酸化することができる。この生成物は
フィルムあるいは透明フィルム中の染料を製造するため
の開始剤として有用である。
実施例1〜5
次式の化合物の製造:
6H4−X
X:C1、Y=p−OCH3
有機溶剤に溶解した2−(2’−クロルフェニル)−4
,5−ビス(4′−メトキシフェニル)−イミダゾール
を、0〜5℃で水、ノ・ロゲン化アンモニウム及び酸化
剤から成る溶液に添加し、その際2相混合物を激しく攪
拌する。前記温度でさらに0.5〜2.0時間攪拌した
のち(色が青色から黄色に変わる)、常法により水相を
分離し、有機相を水洗及び乾燥し、溶剤を除去する。
,5−ビス(4′−メトキシフェニル)−イミダゾール
を、0〜5℃で水、ノ・ロゲン化アンモニウム及び酸化
剤から成る溶液に添加し、その際2相混合物を激しく攪
拌する。前記温度でさらに0.5〜2.0時間攪拌した
のち(色が青色から黄色に変わる)、常法により水相を
分離し、有機相を水洗及び乾燥し、溶剤を除去する。
次いで粗生成物にエタノールを添加し、これから結晶を
析出させるか、あるいはエタノールから再結晶する。融
点200〜205℃。
析出させるか、あるいはエタノールから再結晶する。融
点200〜205℃。
反応の詳細及び収率な次光に示す。次亜塩素酸ナトリウ
ムを酸化剤として使用する場合は、示された量は、活性
塩素含量が12.5〜16.5チの次亜塩素酸塩水溶液
(塩素漂白液)に対するものである。溶液のpHは12
以上である。
ムを酸化剤として使用する場合は、示された量は、活性
塩素含量が12.5〜16.5チの次亜塩素酸塩水溶液
(塩素漂白液)に対するものである。溶液のpHは12
以上である。
実施例6
次式の化合物の製造:
2− (2’−クロルフェニル)−4,5−ジフェニル
イミダゾール50 、li’ (0,16モル)をドル
オール620 mlに懸濁し、0〜25℃でテトラブチ
ルアンモニウムプロミド9.6 g((+、 o 3モ
ル)及び次亜塩素酸す) IJウム溶液(含量及びpH
は前記実施例と同じ)88gを添加する。
イミダゾール50 、li’ (0,16モル)をドル
オール620 mlに懸濁し、0〜25℃でテトラブチ
ルアンモニウムプロミド9.6 g((+、 o 3モ
ル)及び次亜塩素酸す) IJウム溶液(含量及びpH
は前記実施例と同じ)88gを添加する。
5時間後に常法により仕上げ処理し、粗生成物をエーテ
ルから再結晶する。融点210〜212℃のヘキサアリ
ールビスイミダゾールカ30゜7g(理論値の61.4
%)得られる。
ルから再結晶する。融点210〜212℃のヘキサアリ
ールビスイミダゾールカ30゜7g(理論値の61.4
%)得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 次式 ▲数式、化学式、表等があります▼II (式中の記号は後記の意味を有する)で表わされるトリ
アリールイミダゾールを、水−有機2相中で有効量のオ
ニウム塩の存在下に酸化することを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I (Ar^1ないしAr^3はアリール基であつて、Ar
^2とAr^3は結合して縮合環系を形成してもよい)
で表わされるヘキサアリールビスイミダゾールの製法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19863620430 DE3620430A1 (de) | 1986-06-18 | 1986-06-18 | Verfahren zur herstellung von hexaarylbisimidazolen |
DE3620430.7 | 1986-06-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS632983A true JPS632983A (ja) | 1988-01-07 |
Family
ID=6303218
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62148150A Pending JPS632983A (ja) | 1986-06-18 | 1987-06-16 | ヘキサアリ−ルビスイミダゾ−ルの製法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4866183A (ja) |
EP (1) | EP0249978A3 (ja) |
JP (1) | JPS632983A (ja) |
DE (1) | DE3620430A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3824658A1 (de) * | 1988-07-15 | 1990-01-18 | Schering Ag | N-hetaryl-imidazolderivate |
CN1319948C (zh) * | 2005-04-07 | 2007-06-06 | 上海交通大学 | 含醚基六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法 |
CN102675210B (zh) * | 2012-05-23 | 2014-10-22 | 湖南和诚医药化学品有限公司 | 一种双咪唑光引发剂的制备方法 |
CN111747897A (zh) * | 2019-03-29 | 2020-10-09 | 常州格林感光新材料有限公司 | 一种六芳基双咪唑类光引发剂及其应用 |
CN112062721B (zh) * | 2019-05-23 | 2023-06-30 | 常州正洁智造科技有限公司 | 能够提升体系稳定性的habi类光引发剂及其应用 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3141063A1 (de) * | 1981-10-13 | 1983-04-28 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen | Neue imidazol-derivate, verfahren zu ihrer herstellung und diese enthaltende pharmazeutische praeparate |
-
1986
- 1986-06-18 DE DE19863620430 patent/DE3620430A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-06-09 US US07/059,796 patent/US4866183A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-06-16 JP JP62148150A patent/JPS632983A/ja active Pending
- 1987-06-19 EP EP87108761A patent/EP0249978A3/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4866183A (en) | 1989-09-12 |
EP0249978A2 (de) | 1987-12-23 |
EP0249978A3 (de) | 1990-08-08 |
DE3620430A1 (de) | 1987-12-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2694716A (en) | Polymethylene-bis-benzothiazolium salts | |
JPS6263587A (ja) | スピロ(インドリン)型ホトクロミツク化合物の製造法 | |
JPS632983A (ja) | ヘキサアリ−ルビスイミダゾ−ルの製法 | |
US4096210A (en) | Process for preparing phosphorothioates and phenylphosphonothioates | |
US12071399B2 (en) | Process for the preparation of arylsulfonylpropenenitriles | |
US5629455A (en) | Process for preparing cyclopropyl alkyl ketones and 4,5-dihydroalkylfurans | |
US4147866A (en) | Process for preparing phosphorothioates and phenylphosphonothioates | |
JP3160999B2 (ja) | ポルフィリン誘導体およびその製造方法 | |
US3969360A (en) | Catalyzed alkylation of halopyridinates | |
US4092312A (en) | Process for preparing phosphorothioates and phenylphosphonothioates | |
Hascall et al. | Synthesis and Structural Characterization of [{(Et2O) Mg} 6 (NPh) 4Br4]: A Magnesium–Imide Cage Species Derived from a Dimagnesylamine Solution | |
US4016225A (en) | Process for preparing phosphorothioates and phenylphosphonothioates | |
US4094873A (en) | Process for preparing phosphorothioates and phenylphosphonothioates | |
King et al. | The Reactions of Acetophenone and Iodine with Some Nitrogenous Bases1 | |
US4028439A (en) | Process for preparing phosphorothioates and phenylphosphonothioates | |
US5559239A (en) | Process for preparing carbamoyl pyridinium compounds | |
DE69404641T2 (de) | Verfahren zur herstellung von 3,4-dihalogeno-1,2-epoxybutanen ausgehend von 3,4-epoxy-1-buten | |
US4812566A (en) | Process for preparing 1-dodecylazacycloheptane-2-one | |
JPS61189231A (ja) | 4,4′−ジアミノジフエニルエタン誘導体の製造法 | |
CN100393701C (zh) | 制备吡啶取代的氨基缩酮衍生物的方法 | |
US3478095A (en) | Preparation of phosphonamides | |
JP2515489B2 (ja) | ポリメチン染料の調製方法 | |
Sugasawa et al. | Oxidation of N-(β-3', 4'-Methylenedioxyphenethyl)-3-ethylpyridinium Salt and the Constitution of the Resultant Pyridone. | |
CN105503672A (zh) | 一种药物中间体芳基砜类化合物的合成方法 | |
EP0042182A2 (en) | Method of making 5,6-dihydro-2-methyl-N-phenyl-1,4-oxathiin-3-carboxamide |