JPS6232625A - ウエハ位置決め装置 - Google Patents
ウエハ位置決め装置Info
- Publication number
- JPS6232625A JPS6232625A JP17218485A JP17218485A JPS6232625A JP S6232625 A JPS6232625 A JP S6232625A JP 17218485 A JP17218485 A JP 17218485A JP 17218485 A JP17218485 A JP 17218485A JP S6232625 A JPS6232625 A JP S6232625A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- centering
- orientation flat
- rotation
- roller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明はウェハ位置決め装置に関し、特に半導体ウェハ
の処理前に同ウェハのオリエンテーションフラットの位
置を決める際に好適な装置に関するものである。
の処理前に同ウェハのオリエンテーションフラットの位
置を決める際に好適な装置に関するものである。
口、従来技術
従来、半導体ウェハ(スライス)の水洗、洗浄等の処理
前に、第10図に示すようなオリエンテーションフラッ
ト位置決め装置1によって、バスケット2内のウェハ3
を個々に取出してそのオリエンテーションフラット4を
位置決めする作業が行なわれる。こうした作業は、オリ
エンテーションフラット4を位置決めし、同フラット位
置に付されたロフト魚を反射型センサ5と画像処理カメ
ラ6との組合せによって調べ、上記処理の対象が誤って
いないかどうかを確認するためのものである。
前に、第10図に示すようなオリエンテーションフラッ
ト位置決め装置1によって、バスケット2内のウェハ3
を個々に取出してそのオリエンテーションフラット4を
位置決めする作業が行なわれる。こうした作業は、オリ
エンテーションフラット4を位置決めし、同フラット位
置に付されたロフト魚を反射型センサ5と画像処理カメ
ラ6との組合せによって調べ、上記処理の対象が誤って
いないかどうかを確認するためのものである。
この作業においては、ウェハを正確に位置決めすること
以外に、ウェハに生じ得るキズやゴミを最小限に抑える
必要があるが、従来装置ではそうした要求に応えること
のできるものは存在していない。
以外に、ウェハに生じ得るキズやゴミを最小限に抑える
必要があるが、従来装置ではそうした要求に応えること
のできるものは存在していない。
例えば第11図に示す装置では、真空チャック構造の回
転ステージ7上にウェハスライス3を支持し、矢印8方
向に回転させて、オリエンテーションフラット4が一対
の反射型センサ5をオンさせたとき(即ち、図示の如く
にセンサ5が露出したとき)に回転を停止させ、位置決
めを行なっている。そして、この位置で上方のカメラ6
により、オリエンテーションフラット4近傍のロットI
tヲ読取る。なお、図中の9は回転ステージ7の真空吸
引溝、10は回転ステージ7に連なる真空吸引管、11
は真空バルブ、12はモータである。
転ステージ7上にウェハスライス3を支持し、矢印8方
向に回転させて、オリエンテーションフラット4が一対
の反射型センサ5をオンさせたとき(即ち、図示の如く
にセンサ5が露出したとき)に回転を停止させ、位置決
めを行なっている。そして、この位置で上方のカメラ6
により、オリエンテーションフラット4近傍のロットI
tヲ読取る。なお、図中の9は回転ステージ7の真空吸
引溝、10は回転ステージ7に連なる真空吸引管、11
は真空バルブ、12はモータである。
しかしながら、第11図の装置では、第12図に示すよ
うに、ウェハスライス3の直径Aと、オリエンテーショ
ンフラット4に直交して回転中心Pを通る径Bとに夫々
寸法上のばらつきがあるとるいは回転ステージ7の回転
中心とウェハ3の中心Pとの間に中心金せずれがあると
、センサ5をオンさせるタイミングにずれが生じる。こ
の結果、オリエンテーションフラット4を目的とする位
置(又は角度)に安定して停止させることができないこ
とになる。
うに、ウェハスライス3の直径Aと、オリエンテーショ
ンフラット4に直交して回転中心Pを通る径Bとに夫々
寸法上のばらつきがあるとるいは回転ステージ7の回転
中心とウェハ3の中心Pとの間に中心金せずれがあると
、センサ5をオンさせるタイミングにずれが生じる。こ
の結果、オリエンテーションフラット4を目的とする位
置(又は角度)に安定して停止させることができないこ
とになる。
他方、第13図〜第15図に示す別の装置によれば、ウ
ェハスライス3をテーブル13上でエア14によって浮
上させ、同時にエア吹出し方向を矢印15方向に偏位さ
せると、ウエハスライ−ス3はアイドルプーリー16及
び17と駆動プーリー18の側に押圧される。次いで駆
動プーリー18をモータ19で矢印20方向く即ち反時
計方向)へ回転させると、ウェハスライス3は矢印21
方向(即ち時計方向)へ回転を始める。そして、オリエ
ンテーションフラット4が駆動プーリー18に対向した
時点から、駆動ブーIJ −18とウェハスライス3と
の接触が断たれて回転が停止し、第15図の如き状態に
なる。
ェハスライス3をテーブル13上でエア14によって浮
上させ、同時にエア吹出し方向を矢印15方向に偏位さ
せると、ウエハスライ−ス3はアイドルプーリー16及
び17と駆動プーリー18の側に押圧される。次いで駆
動プーリー18をモータ19で矢印20方向く即ち反時
計方向)へ回転させると、ウェハスライス3は矢印21
方向(即ち時計方向)へ回転を始める。そして、オリエ
ンテーションフラット4が駆動プーリー18に対向した
時点から、駆動ブーIJ −18とウェハスライス3と
の接触が断たれて回転が停止し、第15図の如き状態に
なる。
ところが、この第13図〜第15図の装置においても、
第12図に示した寸法A及びBにばらつきがあると、や
はりスライス30回転停止位置が一定しないという欠点
がある上に、特に駆動プーリー18にスライス3が長時
間接触して回転駆動されるためにスライス3に有害なゴ
ミ又は傷が生じ易くなる。
第12図に示した寸法A及びBにばらつきがあると、や
はりスライス30回転停止位置が一定しないという欠点
がある上に、特に駆動プーリー18にスライス3が長時
間接触して回転駆動されるためにスライス3に有害なゴ
ミ又は傷が生じ易くなる。
ハ0発明の目的
本発明の目的は、ウェハに寸法のばらつきがあっても、
ウェハを正確に位置決めできると共に、ゴミや傷の発生
を最小限にできる装置を提供することにある。
ウェハを正確に位置決めできると共に、ゴミや傷の発生
を最小限にできる装置を提供することにある。
二0発明の構成
即ち、本発明は、少なくとも可動ローラ(望ましくは固
定ローラ及び可動ローラ)を有し、ウェハを弾性的に把
持するセンタリング手段(例えば後述のセンタリングチ
ャック)と;前記ウェハを支持しながら回転させる回転
手段(例えば後述の回転ステージ)と;この回転時に前
記可動ローラが前記ウェハに接触しない位置まで前記セ
ンタリング手段を移動させる移動手段(例えば後述のリ
ターンローラを含む往復動機構)と;前記ウェハが所定
位置まで回転した後に、このウェハ周辺の直線部(即ち
オリエンテーションフラット)を押してこのウェハを前
記可動ローラに圧接させる位置まで移動させる押圧移動
手段(例えば後述のプッシャ)とを有するウェハ位置決
め装置に係るものである。
定ローラ及び可動ローラ)を有し、ウェハを弾性的に把
持するセンタリング手段(例えば後述のセンタリングチ
ャック)と;前記ウェハを支持しながら回転させる回転
手段(例えば後述の回転ステージ)と;この回転時に前
記可動ローラが前記ウェハに接触しない位置まで前記セ
ンタリング手段を移動させる移動手段(例えば後述のリ
ターンローラを含む往復動機構)と;前記ウェハが所定
位置まで回転した後に、このウェハ周辺の直線部(即ち
オリエンテーションフラット)を押してこのウェハを前
記可動ローラに圧接させる位置まで移動させる押圧移動
手段(例えば後述のプッシャ)とを有するウェハ位置決
め装置に係るものである。
ホ、実施例
以下、本発明の実施例を図面について詳細に説明する。
本実施例による半導体ウェハ位置決め装置の構成を第1
図〜第4図で説明する。ウェハを真空吸引方式で支持し
ながら回転させる回転ステージ7は、第11図で述べた
と同様にモータで駆動され、吸引用の溝9が真空吸引管
に接続されたものからなっている。従って、回転ステー
ジ7上で、真空パルプのオン・オフによってウェハを吸
着固定又は吸着解除を行なえる。ウェハの位置決めに極
めて重要な働きをなすセンタリングチャック30及び3
1は左右に一対設けられていて、往復動タイプのエアシ
リンダ32及び33によってスライドシャフト34及び
35に沿って夫々平行移動可能になっている。各センタ
リングチャック30及び31の上面には夫々、1つの固
定ローラ36.37と2つの可動ローラ38及び39.
40及び41が設けられている。各可動ローラ38〜4
1は第2図に明示するように、断面り字形のブロック4
7に固定した支軸42の周りに回動可能に取付けられた
レバー43に設けられ、このレバー43を圧縮バネ44
で常に一方向へ付勢することによって常時時計方向(ロ
ーラ40.41のみ)に付勢されている。ローラ38.
39についてはそれとは逆に、同様の機構で常時反時計
方向に付勢されている。なお、45は圧縮バネ44のバ
ネ力調整用の調整ネジ、46は可動ローラ40.41の
位置調整を行なうためのストッパネジである。
図〜第4図で説明する。ウェハを真空吸引方式で支持し
ながら回転させる回転ステージ7は、第11図で述べた
と同様にモータで駆動され、吸引用の溝9が真空吸引管
に接続されたものからなっている。従って、回転ステー
ジ7上で、真空パルプのオン・オフによってウェハを吸
着固定又は吸着解除を行なえる。ウェハの位置決めに極
めて重要な働きをなすセンタリングチャック30及び3
1は左右に一対設けられていて、往復動タイプのエアシ
リンダ32及び33によってスライドシャフト34及び
35に沿って夫々平行移動可能になっている。各センタ
リングチャック30及び31の上面には夫々、1つの固
定ローラ36.37と2つの可動ローラ38及び39.
40及び41が設けられている。各可動ローラ38〜4
1は第2図に明示するように、断面り字形のブロック4
7に固定した支軸42の周りに回動可能に取付けられた
レバー43に設けられ、このレバー43を圧縮バネ44
で常に一方向へ付勢することによって常時時計方向(ロ
ーラ40.41のみ)に付勢されている。ローラ38.
39についてはそれとは逆に、同様の機構で常時反時計
方向に付勢されている。なお、45は圧縮バネ44のバ
ネ力調整用の調整ネジ、46は可動ローラ40.41の
位置調整を行なうためのストッパネジである。
また、各センタリングチャック30.31の下方には、
第3図及び第4図に明示するように、リターンローラ4
8を有するレバー52がピン49によって固定のホルダ
ー50に対し回動自在に取付けられ、バネ51によって
一方向に付勢されている。なお、図面には一方のセンタ
リングチャック30側を示したが、他方のセンタリング
チャック31側も上記と同様のリターンローラを有する
機構が設けられている。第3図はセンタリングチャック
30と31とが対向し合って仮想線の如くにウェハスラ
イス3を把持するときの状態を、第4図はエアシリンダ
32及び33によってセンタリングチャック30と31
とを離間せしめるときを示す。エアシリンダ32.33
には導管53.54を介して圧縮空気55が通され、こ
れによってエア切換バルブ56の操作でエアシリンダ3
2.33を前進、後退及び中間状態の3通りの状態に設
定することができる。
第3図及び第4図に明示するように、リターンローラ4
8を有するレバー52がピン49によって固定のホルダ
ー50に対し回動自在に取付けられ、バネ51によって
一方向に付勢されている。なお、図面には一方のセンタ
リングチャック30側を示したが、他方のセンタリング
チャック31側も上記と同様のリターンローラを有する
機構が設けられている。第3図はセンタリングチャック
30と31とが対向し合って仮想線の如くにウェハスラ
イス3を把持するときの状態を、第4図はエアシリンダ
32及び33によってセンタリングチャック30と31
とを離間せしめるときを示す。エアシリンダ32.33
には導管53.54を介して圧縮空気55が通され、こ
れによってエア切換バルブ56の操作でエアシリンダ3
2.33を前進、後退及び中間状態の3通りの状態に設
定することができる。
両センタリングチャック30−31間においては、回転
ステージ7から所定距装置いて反射型の光学式センサ5
が配され、この上方に画像処理カメラ6が配されている
点は既述した装置と同様である。但し、エアシリンダ5
7で作動せしめられるブツシャ58が設けられていて、
後述する如くにウェハスライスの最終的位置決め操作に
用いられる。
ステージ7から所定距装置いて反射型の光学式センサ5
が配され、この上方に画像処理カメラ6が配されている
点は既述した装置と同様である。但し、エアシリンダ5
7で作動せしめられるブツシャ58が設けられていて、
後述する如くにウェハスライスの最終的位置決め操作に
用いられる。
次に、上記の如くに構成された位置決め装置の動作を説
明する。
明する。
まず、回転ステージ7上にウェハスライス3を載置する
が、このときにはオリエンテーションフラット4は一般
に任意の方向に存在している。次いで、エア切換バルブ
56を作動させ、センタリングチャック30及び31を
互いに近づく方向に移動させる。この移動距離はエアシ
リンダ32及び33のストロークによって決められる(
第3図参照)。これによって、第5図に示すように、一
対のセンタリングチャック30−31間にウェハスライ
ス3が両側から把持されるが、これは各ローラ36.3
7.38.39.40.41によって行なわれる。即ち
、固定ローラ36.37によってウェハ3が両側から接
触せしめられながら、左右の可動ローラ38及び39と
40及び41とがウェハ3に対し弾性的に接触し、ウェ
ハ3の形状又はサイズに第6図(径が大きいとき)及び
第7図(径が小さいとき)の如くに差があっても、上述
した圧縮バネ44の作用によって常に柔かくウェハ3を
その中心方向へ均等かつ弾性的に押すことができる。オ
リエンテーションフラット4の向きが任意であることを
考慮すればウェハ3のセンタリング動作にとってはロー
ラ36〜41の個数は最低限必要なものである(即ち、
ローラは少なくとも6つ設けるのが望ましい:固定ロー
ラは左右に少なくとも1つずつ、可動ローラも左右に少
なくとも2つずつ)。
が、このときにはオリエンテーションフラット4は一般
に任意の方向に存在している。次いで、エア切換バルブ
56を作動させ、センタリングチャック30及び31を
互いに近づく方向に移動させる。この移動距離はエアシ
リンダ32及び33のストロークによって決められる(
第3図参照)。これによって、第5図に示すように、一
対のセンタリングチャック30−31間にウェハスライ
ス3が両側から把持されるが、これは各ローラ36.3
7.38.39.40.41によって行なわれる。即ち
、固定ローラ36.37によってウェハ3が両側から接
触せしめられながら、左右の可動ローラ38及び39と
40及び41とがウェハ3に対し弾性的に接触し、ウェ
ハ3の形状又はサイズに第6図(径が大きいとき)及び
第7図(径が小さいとき)の如くに差があっても、上述
した圧縮バネ44の作用によって常に柔かくウェハ3を
その中心方向へ均等かつ弾性的に押すことができる。オ
リエンテーションフラット4の向きが任意であることを
考慮すればウェハ3のセンタリング動作にとってはロー
ラ36〜41の個数は最低限必要なものである(即ち、
ローラは少なくとも6つ設けるのが望ましい:固定ロー
ラは左右に少なくとも1つずつ、可動ローラも左右に少
なくとも2つずつ)。
このようにして、ウェハ3の形状、サイズに拘らず常に
そのセンタリング(中心合せ)を実現できる。そして、
次にエア切換バルブ56を中立状態に切換えると、バネ
51によって付勢されたリターンローラ48の作用でセ
ンタリングチャック30−31間は僅かに開かれる(離
間せしめられる)。この開き量は、次のウニへ回転中に
もその外周辺が可動ローラ38.39.40.41に接
触しないような十分な量に設定する。この際、固定ロー
ラ36.37も勿論接触することはない。
そのセンタリング(中心合せ)を実現できる。そして、
次にエア切換バルブ56を中立状態に切換えると、バネ
51によって付勢されたリターンローラ48の作用でセ
ンタリングチャック30−31間は僅かに開かれる(離
間せしめられる)。この開き量は、次のウニへ回転中に
もその外周辺が可動ローラ38.39.40.41に接
触しないような十分な量に設定する。この際、固定ロー
ラ36.37も勿論接触することはない。
この状態で、回転ステージ7によってウェハ3を吸着し
ながら回転させ、第8図の如くに、オリエンテーション
フラット4がセンサ5側に位置せしめる。このとき、セ
ンサ5によってオリエンテーションフラット4が検出さ
れ、これに基いてステージ7のモータが停止し、ウェハ
3は回転停止される。この際、ウェハ3はほぼブツシャ
5日に対向した状態となる。
ながら回転させ、第8図の如くに、オリエンテーション
フラット4がセンサ5側に位置せしめる。このとき、セ
ンサ5によってオリエンテーションフラット4が検出さ
れ、これに基いてステージ7のモータが停止し、ウェハ
3は回転停止される。この際、ウェハ3はほぼブツシャ
5日に対向した状態となる。
ここで次に、ブツシャ58を矢印59方向へ前進させ、
第8図の状態では僅かに偏位(即ち、オリエンテーショ
ンフラット4が僅かに傾斜)したオリエンテーションフ
ラット4を第9図のように押して位置修正しながら、ウ
ェハ3の位置を僅かにずらす。この結果、ウェハ3は所
定の可動ローラ38.40に対して矢印60.61方向
に圧接せしめられるから、ウェハ3は左右にずれること
なく正しく位置決めされることになる。
第8図の状態では僅かに偏位(即ち、オリエンテーショ
ンフラット4が僅かに傾斜)したオリエンテーションフ
ラット4を第9図のように押して位置修正しながら、ウ
ェハ3の位置を僅かにずらす。この結果、ウェハ3は所
定の可動ローラ38.40に対して矢印60.61方向
に圧接せしめられるから、ウェハ3は左右にずれること
なく正しく位置決めされることになる。
以上に説明したことから理解されるように、本実施例の
装置によれば、ウェハスライスの寸法(形状、サイズ)
にばらつきがあっても、可動ローラによりウェハスライ
スを把持するためにそのばらつきを吸収できると共に、
回転後にブツシャでウェハスライスの位置を補正すると
きにも可動ローラに圧接せしめて常に正しい位置に保持
することができる。従って、常に正しい位置にウェハス
ライスを位置決めできる。しかも、ウェハスライスの回
転中は、ウェハスライスに対し可動ローラ(固定ローラ
も)が接触しないようにしているから、接触時間が最小
となり、有害なゴミや傷の発生量を可能な限り少なくす
ることができる。
装置によれば、ウェハスライスの寸法(形状、サイズ)
にばらつきがあっても、可動ローラによりウェハスライ
スを把持するためにそのばらつきを吸収できると共に、
回転後にブツシャでウェハスライスの位置を補正すると
きにも可動ローラに圧接せしめて常に正しい位置に保持
することができる。従って、常に正しい位置にウェハス
ライスを位置決めできる。しかも、ウェハスライスの回
転中は、ウェハスライスに対し可動ローラ(固定ローラ
も)が接触しないようにしているから、接触時間が最小
となり、有害なゴミや傷の発生量を可能な限り少なくす
ることができる。
以上、本発明を例示したが、上述の実施例は本発明の技
術的思想に基いて更に変形可能である。
術的思想に基いて更に変形可能である。
例えば、上述したローラの個数や配置等は変更可能であ
り、場合によってはセンタリングチャックの固定ローラ
は省略してもよい。また、センタリング手段や回転手段
はチャック方式による以外にも他の方式が適用できる。
り、場合によってはセンタリングチャックの固定ローラ
は省略してもよい。また、センタリング手段や回転手段
はチャック方式による以外にも他の方式が適用できる。
へ0発明の作用効果
本発明は上述した如く、可動ローラを有するセンタリン
グ手段でウェハを把持するために、ウェハの寸法にばら
つきがあってもそのばらつきを吸収できると共に、回転
後にウェハの位置を補正するときにも可動ローラに圧接
せしめて常に正しい位置に保持することができる。従っ
て、常に正しい位置にウェハスライスを位置決めできる
。しかも、ウェハの回転中は、ウェハに対し可動ローラ
が接触しないようにしているから、接触時間が短かくな
り、有害なゴミや傷の発生量を少なくすることができる
。
グ手段でウェハを把持するために、ウェハの寸法にばら
つきがあってもそのばらつきを吸収できると共に、回転
後にウェハの位置を補正するときにも可動ローラに圧接
せしめて常に正しい位置に保持することができる。従っ
て、常に正しい位置にウェハスライスを位置決めできる
。しかも、ウェハの回転中は、ウェハに対し可動ローラ
が接触しないようにしているから、接触時間が短かくな
り、有害なゴミや傷の発生量を少なくすることができる
。
第1図〜第9図は本発明の実施例を示すものであって、
第1図は半導体ウェハ位置決め装置を概略的に示す斜視
図、 第2図は可動ローラ部分の拡大斜視図、第3図、第4図
はセンタリングチャックの位置の変化状況を示す各一部
断面正面図、 第5図、第6図、第7図は半導体ウェハの把持状態を夫
々示す各要部平面図、 第8図はウェハ回転時の要部平面図、 第9図はウェハ位置補正時の要部平面図である。 第10図〜第15図は従来例を示すものであって、 第10図は半導体ウェハ位置決め装置の全体の斜視図、 第11図は同装置の要部概略斜視図、 第12図は半導体ウェハの平面図、 第13図は他の位置決め装置の要部平面図、第14図は
第13図の右側面図、 第15図は位置決め時の要部平面図 である。 なお、図面に示す符号において、 3−・−・・−−一−−・・−半導体ウェハ4−・・・
−・−・−オリエンテーションフラット5−・−・・・
−・−(反射型)センサ6・−−−−−−−・−・−・
画像処理カメラ7−・−・−−−−−一回転ステージ 9・−・−・−・−−−一−−吸引溝 30.31−・−・・−−−一−・−・・センタリング
チャック32.33.57−・−・−・−・・・エアシ
リンダ34.35−−−−−−−・−・・スライドシャ
フト36.37・−−−〜−−−−−−−−・固定ロー
ラ38.39.4o、41・−曲用面一可動ローラ42
−・・−・−一−−−−・支軸 44.51−・・−・−−−−・・バネ48・−・・・
・・・−・−・・リターンローラ56−−−−−−一・
・−エア切換バルブ58−−−−−−−一・−プッシャ である。 代理人 弁理士 逢 坂 宏 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第11図 第12図
図、 第2図は可動ローラ部分の拡大斜視図、第3図、第4図
はセンタリングチャックの位置の変化状況を示す各一部
断面正面図、 第5図、第6図、第7図は半導体ウェハの把持状態を夫
々示す各要部平面図、 第8図はウェハ回転時の要部平面図、 第9図はウェハ位置補正時の要部平面図である。 第10図〜第15図は従来例を示すものであって、 第10図は半導体ウェハ位置決め装置の全体の斜視図、 第11図は同装置の要部概略斜視図、 第12図は半導体ウェハの平面図、 第13図は他の位置決め装置の要部平面図、第14図は
第13図の右側面図、 第15図は位置決め時の要部平面図 である。 なお、図面に示す符号において、 3−・−・・−−一−−・・−半導体ウェハ4−・・・
−・−・−オリエンテーションフラット5−・−・・・
−・−(反射型)センサ6・−−−−−−−・−・−・
画像処理カメラ7−・−・−−−−−一回転ステージ 9・−・−・−・−−−一−−吸引溝 30.31−・−・・−−−一−・−・・センタリング
チャック32.33.57−・−・−・−・・・エアシ
リンダ34.35−−−−−−−・−・・スライドシャ
フト36.37・−−−〜−−−−−−−−・固定ロー
ラ38.39.4o、41・−曲用面一可動ローラ42
−・・−・−一−−−−・支軸 44.51−・・−・−−−−・・バネ48・−・・・
・・・−・−・・リターンローラ56−−−−−−一・
・−エア切換バルブ58−−−−−−−一・−プッシャ である。 代理人 弁理士 逢 坂 宏 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第11図 第12図
Claims (1)
- 1、少なくとも可動ローラを有し、ウェハを弾性的に把
持するセンタリング手段と;前記ウェハを支持しながら
回転させる回転手段と;この回転時に前記可動ローラが
前記ウェハに接触しない位置まで前記センタリング手段
を移動させる移動手段と;前記ウェハが所定位置まで回
転した後に、このウェハ周辺の直線部を押してこのウェ
ハを前記可動ローラに圧接させる位置まで移動させる押
圧移動手段とを有するウェハ位置決め装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17218485A JPS6232625A (ja) | 1985-08-05 | 1985-08-05 | ウエハ位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17218485A JPS6232625A (ja) | 1985-08-05 | 1985-08-05 | ウエハ位置決め装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6232625A true JPS6232625A (ja) | 1987-02-12 |
Family
ID=15937132
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17218485A Pending JPS6232625A (ja) | 1985-08-05 | 1985-08-05 | ウエハ位置決め装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6232625A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03501840A (ja) * | 1987-05-21 | 1991-04-25 | ハイン・デザイン・インコーポレイテッド | シリコンウエハの整列方法及びその装置 |
US5484252A (en) * | 1993-02-22 | 1996-01-16 | Seiko Instruments Inc. | Sample holding apparatus |
WO2019163191A1 (ja) * | 2018-02-26 | 2019-08-29 | 株式会社Screenホールディングス | センタリング装置、センタリング方法、基板処理装置、および基板処理方法 |
-
1985
- 1985-08-05 JP JP17218485A patent/JPS6232625A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03501840A (ja) * | 1987-05-21 | 1991-04-25 | ハイン・デザイン・インコーポレイテッド | シリコンウエハの整列方法及びその装置 |
US5484252A (en) * | 1993-02-22 | 1996-01-16 | Seiko Instruments Inc. | Sample holding apparatus |
WO2019163191A1 (ja) * | 2018-02-26 | 2019-08-29 | 株式会社Screenホールディングス | センタリング装置、センタリング方法、基板処理装置、および基板処理方法 |
JP2019149423A (ja) * | 2018-02-26 | 2019-09-05 | 株式会社Screenホールディングス | センタリング装置、センタリング方法、基板処理装置、および基板処理方法 |
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