JPS61257985A - １，４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジン誘導体またはその塩の新規製造法 - Google Patents
１，４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジン誘導体またはその塩の新規製造法Info
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- JPS61257985A JPS61257985A JP60097065A JP9706585A JPS61257985A JP S61257985 A JPS61257985 A JP S61257985A JP 60097065 A JP60097065 A JP 60097065A JP 9706585 A JP9706585 A JP 9706585A JP S61257985 A JPS61257985 A JP S61257985A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はグラム陽性菌およびダラム陰性菌に対して強力
な抗菌作用を示す、一般式 で表わされる１−置換アリール−１，４−ジヒドロ−４
−オキソナフチリジン誘導体およびその塩の重要な中間
体である、一般式 しＹはハロゲン原子を示す。 」で表わ
される１、４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジン誘導
体またはその塩の製造法、さらに詳しくは、一般式 で表わされる化合物またはその塩とＮ、Ｎ−ジ置換ホル
ムアミド類から導かれるビルスマイヤー試薬を反応させ
、所望により、カルボキシル保護基を脱離または塩に変
換させて一般式（ｎ）で表わされる１、４−ジヒドロ−
４−オキソナフチリジン誘導体またはその塩を製造する
方法に関する。
な抗菌作用を示す、一般式 で表わされる１−置換アリール−１，４−ジヒドロ−４
−オキソナフチリジン誘導体およびその塩の重要な中間
体である、一般式 しＹはハロゲン原子を示す。 」で表わ
される１、４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジン誘導
体またはその塩の製造法、さらに詳しくは、一般式 で表わされる化合物またはその塩とＮ、Ｎ−ジ置換ホル
ムアミド類から導かれるビルスマイヤー試薬を反応させ
、所望により、カルボキシル保護基を脱離または塩に変
換させて一般式（ｎ）で表わされる１、４−ジヒドロ−
４−オキソナフチリジン誘導体またはその塩を製造する
方法に関する。
一般式（ＩＩＩ）で表わされる１−置換アリール−１゜
４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジン誘導体およびそ
の塩は、４２４回インターサイエンス・コンフッランス
・オン・アンチミクロバイアル会エージエンツ・アンド
ーケモセラピー（１，Ｃ，Ａ。
４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジン誘導体およびそ
の塩は、４２４回インターサイエンス・コンフッランス
・オン・アンチミクロバイアル会エージエンツ・アンド
ーケモセラピー（１，Ｃ，Ａ。
Ａ、Ｃ）要旨集第１０２〜１０４頁および特願昭５９−
８４９６３号において、ダラム陽性菌およびダラム陰性
菌、と少わけ抗生物質耐性菌に対し強力な抗菌作用を示
し、経口まだは非経口投与により高い血中濃度が得られ
、力）つ安全性が高いなどの優れた性質を有すること、
ならびだ一般式（ＩＩ）で表わされる化合物およびその
塩が一般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物およびその塩
の有用な中間体であることが示されている。しかし、一
般式（ＩＩ）で表わされる化合物またはその塩を製造す
る方法として。
８４９６３号において、ダラム陽性菌およびダラム陰性
菌、と少わけ抗生物質耐性菌に対し強力な抗菌作用を示
し、経口まだは非経口投与により高い血中濃度が得られ
、力）つ安全性が高いなどの優れた性質を有すること、
ならびだ一般式（ＩＩ）で表わされる化合物およびその
塩が一般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物およびその塩
の有用な中間体であることが示されている。しかし、一
般式（ＩＩ）で表わされる化合物またはその塩を製造す
る方法として。
一般式（Ｉ）で表わされる新規な化合物またはその塩を
中間体として経由する方法は全く知られていない。
中間体として経由する方法は全く知られていない。
本発明の目的は、一般式（ＩＩＩ）で表わされる１−置
換アリール−１，４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジ
ン誘導体またはその塩を製造するための中間体である一
般式（Ｉｆ）で表わされる１、４−ジヒドロ−４−オキ
ソナフチリジン誘導体またはその場を工業的に容易に得
る製造法を提供することにある。
換アリール−１，４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジ
ン誘導体またはその塩を製造するための中間体である一
般式（Ｉｆ）で表わされる１、４−ジヒドロ−４−オキ
ソナフチリジン誘導体またはその場を工業的に容易に得
る製造法を提供することにある。
かかる状況下において１本発明者らは鋭意研究した結果
、一般式（１）の化合物またはその塩とＮ。
、一般式（１）の化合物またはその塩とＮ。
Ｎ−ジ置換ホルムアミド類から導かれるビルスマイヤー
試薬を反応させることによシ、ナフチリジン環への閉環
反応およびハロゲン化を一挙に行い、一般式ＣＴ１’）
の１．４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジン誘導体ま
たはその塩を工業的に容易に得る方法を見出し、本発明
を完成するに至った。
試薬を反応させることによシ、ナフチリジン環への閉環
反応およびハロゲン化を一挙に行い、一般式ＣＴ１’）
の１．４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジン誘導体ま
たはその塩を工業的に容易に得る方法を見出し、本発明
を完成するに至った。
以下１本発明の詳細な説明する。
本明細書中で、Ｒ１およびＢｉ＆で示されるカルボキシ
ル保護基としては、通常当該分野で使用されるもの、た
とえば、アルキル基、ベンジル基、ピバロイルオキシメ
チル基、トリメチルシリル基ナト、特開昭５９−８０６
６５号公報などに記載された通常のカルボキシル基の保
護基が挙げられる。
ル保護基としては、通常当該分野で使用されるもの、た
とえば、アルキル基、ベンジル基、ピバロイルオキシメ
チル基、トリメチルシリル基ナト、特開昭５９−８０６
６５号公報などに記載された通常のカルボキシル基の保
護基が挙げられる。
Ｒ２におけるアルコキシ基としては、たとえば。
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソブトキシ、
ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オ
クチルオキシ、ドデシルオキシなど；アルカンスルホニ
ル基としては、たとえば、メタンスルホニル、エタンス
ルホニル、１−メチルエタンスルホニル、１．１−ジメ
チルエタンスルホニルなど；アレーンスルホニル基とし
ては、たトエハ、ベンゼンヌルホニル、ナフタレンヌル
ホニルなど；アルカンスルホニルオキシ基としては、た
、！＝、ｔば、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホ
ニルオキシ、１−メチルエタンスルホニルオキシ、１．
１−ジメチルエタンスルホニルオキシなト；アレーンス
ルホニルオキシ基としては、たとえば。
ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オ
クチルオキシ、ドデシルオキシなど；アルカンスルホニ
ル基としては、たとえば、メタンスルホニル、エタンス
ルホニル、１−メチルエタンスルホニル、１．１−ジメ
チルエタンスルホニルなど；アレーンスルホニル基とし
ては、たトエハ、ベンゼンヌルホニル、ナフタレンヌル
ホニルなど；アルカンスルホニルオキシ基としては、た
、！＝、ｔば、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホ
ニルオキシ、１−メチルエタンスルホニルオキシ、１．
１−ジメチルエタンスルホニルオキシなト；アレーンス
ルホニルオキシ基としては、たとえば。
ベンゼンスルホニルオキシ、ナフタレンスルホニルオキ
シなト；ジアルコキシホスフィニルオキシ基としては、
たとえば、ジメトキシホスフィニルオキシ、ジエトキシ
ホスフイニルオΦシ、ジプロポキシホスフィニルオキシ
、ジブトキシホスフィニルオキシなど；ジアリールオキ
シホスフィニルオキシ基としては、たとえば、ジフェノ
キシホスフィニルオキシなどが挙げられる。
シなト；ジアルコキシホスフィニルオキシ基としては、
たとえば、ジメトキシホスフィニルオキシ、ジエトキシ
ホスフイニルオΦシ、ジプロポキシホスフィニルオキシ
、ジブトキシホスフィニルオキシなど；ジアリールオキ
シホスフィニルオキシ基としては、たとえば、ジフェノ
キシホスフィニルオキシなどが挙げられる。
上記シたＲ２のアルコキシ、アルカンスルホニル。
アレーンスルホニル、アルカンスルホニルオキシ。
アレーンスルホニルオキシ、ジアルコキシホスフィニル
オキシおよびジアリールオキシホスフィニルオキシ基は
、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子などのハロゲン原子；ニトロ基；メチル、エチル、
ｎ−プロピル、イソグミビル、ｎ−ブチル、イソブチル
、 ｓｅｅ、−ブチル。
オキシおよびジアリールオキシホスフィニルオキシ基は
、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子などのハロゲン原子；ニトロ基；メチル、エチル、
ｎ−プロピル、イソグミビル、ｎ−ブチル、イソブチル
、 ｓｅｅ、−ブチル。
ｔｅｒｔ、−ブチルなどの低級アルキル基；メトキシ、
エトキシ、ｎ−プロポキシ、インプロポキシ、ｎ−ブト
キシ、イソブトキシ、ｓｅｃ、−ブトキシ。
エトキシ、ｎ−プロポキシ、インプロポキシ、ｎ−ブト
キシ、イソブトキシ、ｓｅｃ、−ブトキシ。
ｔａｒｔ、−ブトキシなどの低級アルコキシ基などから
選ばれる一つ以上の置換基で置換されていてもよい。
選ばれる一つ以上の置換基で置換されていてもよい。
Ｙにおける・・ロゲン原子としては、たとえば。
塩素原子、臭素原子などが挙げられる。
また、Ｎ、Ｎ−ジ置換ホルムアミドから導かれルピルス
マイヤー試薬としては、Ｎ、Ｎ−ジ置換ホルムアミド類
から導かれるビルスマイヤー試薬として通常知られてい
るものが挙げられ、具体的には、たとえば、一般式 で表わされるＮ、Ｎ−ジ置換ホルムアミド類にビルスマ
イヤー反応において通常知られている無機または有機ハ
ロゲン化物を反応させて得られるビルスマイヤー試薬が
挙げられる。
マイヤー試薬としては、Ｎ、Ｎ−ジ置換ホルムアミド類
から導かれるビルスマイヤー試薬として通常知られてい
るものが挙げられ、具体的には、たとえば、一般式 で表わされるＮ、Ｎ−ジ置換ホルムアミド類にビルスマ
イヤー反応において通常知られている無機または有機ハ
ロゲン化物を反応させて得られるビルスマイヤー試薬が
挙げられる。
上記一般式（ＩＶ）で表わされるＮ、Ｎ−ジ置換ホルム
アミド類としては、たとえば、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルホルムアミ）’、Ｎ、Ｎ−ジ
ブチルホルムアミドなどのＮ、Ｎ−ジアルキルホルムア
ミド類；Ｎ−メチルホルムアニリドなどのＮ−アルキル
−Ｎ−７リールホルムアミド類；Ｎ、Ｎ−ジフェニルホ
ルムアミドなどのＮ、Ｎ−ジアリールホルムアミド類；
Ｎ−ホルミルピロリジン、Ｎ−ホルミルピロリジン、Ｎ
−ホルミルモルホリン、Ｎ−ホルミルチオモルホリンな
どの窒素原子の他に酸素原子または硫黄原子を含有して
いてもよいＮ−ホルミル含窒素飽和複素環類などが挙げ
られる。
アミド類としては、たとえば、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ、Ｎ−ジエチルホルムアミ）’、Ｎ、Ｎ−ジ
ブチルホルムアミドなどのＮ、Ｎ−ジアルキルホルムア
ミド類；Ｎ−メチルホルムアニリドなどのＮ−アルキル
−Ｎ−７リールホルムアミド類；Ｎ、Ｎ−ジフェニルホ
ルムアミドなどのＮ、Ｎ−ジアリールホルムアミド類；
Ｎ−ホルミルピロリジン、Ｎ−ホルミルピロリジン、Ｎ
−ホルミルモルホリン、Ｎ−ホルミルチオモルホリンな
どの窒素原子の他に酸素原子または硫黄原子を含有して
いてもよいＮ−ホルミル含窒素飽和複素環類などが挙げ
られる。
無機または有機ハロゲン化物としては、ビルスマイヤー
試薬を調製するうえで、通常知られているものが挙げら
れ、無機ハロゲン化物としては。
試薬を調製するうえで、通常知られているものが挙げら
れ、無機ハロゲン化物としては。
たとえば、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、三塩化リ
ン、三臭化リン、五塩化リンなどのリンハログン化物；
塩化チオニル、臭化チオニル、塩化スルフリルなどのイ
オウノーロゲン化物などが、有機ハロゲン化物としては
、たとえば、ホスゲン。
ン、三臭化リン、五塩化リンなどのリンハログン化物；
塩化チオニル、臭化チオニル、塩化スルフリルなどのイ
オウノーロゲン化物などが、有機ハロゲン化物としては
、たとえば、ホスゲン。
ジホスゲン、クロル炭酸エチルなどの炭酸ノ１０ゲン化
物；オキサリルクロリドなどのシ為つ酸ノ〜ロゲン化物
；ジブロモトリフェニルホスホランなどの有機リンハロ
ゲン化物が挙げられる・また、一般式（１） 、 （Ｉ
Ｉ）および（ＩＩＩ）で表わされる化合物の塩としては
１通常知られているアミノ基などの塩基性基またはカル
ボキシル基、ヒドロキシル基などの酸性基における塩が
挙げられる。
物；オキサリルクロリドなどのシ為つ酸ノ〜ロゲン化物
；ジブロモトリフェニルホスホランなどの有機リンハロ
ゲン化物が挙げられる・また、一般式（１） 、 （Ｉ
Ｉ）および（ＩＩＩ）で表わされる化合物の塩としては
１通常知られているアミノ基などの塩基性基またはカル
ボキシル基、ヒドロキシル基などの酸性基における塩が
挙げられる。
塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸。
臭化水素酸、硫酸などの鉱酸との塩；シェラ酸、クエン
酸、トリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸トの塩；メ
タンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレン
スルホン酸などのスルホン酸との塩を、酸性基における
塩としては、たとえば。
酸、トリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸トの塩；メ
タンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ナフタレン
スルホン酸などのスルホン酸との塩を、酸性基における
塩としては、たとえば。
ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属との塩；マグ
ネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属との塩；
アンモニウム塩；プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ、
Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン、トリエチルアミン、
ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペ
リジン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミンなど
の含窒素有機塩基との塩を挙げることができる。
ネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属との塩；
アンモニウム塩；プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ、
Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン、トリエチルアミン、
ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペ
リジン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミンなど
の含窒素有機塩基との塩を挙げることができる。
つぎに本発明製造法について詳述する。
本発明の一般式（ＩＩ）で表わされる１、４−ジヒドロ
−４−オキソナフチ＋１ジン誘導体またはその塩は、一
般式（Ｉ）で表わされる化合物またはその塩とＮ、Ｎ−
ジ置換ホルムアミド類から導かれるビルスマイヤー試薬
を反応させることによって得ることができる。
−４−オキソナフチ＋１ジン誘導体またはその塩は、一
般式（Ｉ）で表わされる化合物またはその塩とＮ、Ｎ−
ジ置換ホルムアミド類から導かれるビルスマイヤー試薬
を反応させることによって得ることができる。
本反応を溶媒中で行う場合、使用される溶媒としては、
反応に不活性な溶媒であれば特に限定されないが、たと
えば、ベンゼン１トルエン、ジクロロベンセンなどの芳
香族炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルム、ジクロ
ロエタンナトのハロゲン化炭化水素類；Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド表どのホルムアミド類などが挙げられ、
これらの溶媒を２種以上混合して使用してもよい。
反応に不活性な溶媒であれば特に限定されないが、たと
えば、ベンゼン１トルエン、ジクロロベンセンなどの芳
香族炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルム、ジクロ
ロエタンナトのハロゲン化炭化水素類；Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド表どのホルムアミド類などが挙げられ、
これらの溶媒を２種以上混合して使用してもよい。
また、ビルスマイヤー試薬が溶液の場合、それを溶媒と
して使用してもより０本反応において。
して使用してもより０本反応において。
ビルスマイヤー試薬の使＃ｆは、一般式（Ｉ）で表わさ
れる化合物またはその塩に対して等モル以上、好ましく
は２．０〜５．０倍モルである。この反応は通常θ〜１
５０℃、好ましくは０〜９０℃で、５分〜３０時間実施
すればよい。
れる化合物またはその塩に対して等モル以上、好ましく
は２．０〜５．０倍モルである。この反応は通常θ〜１
５０℃、好ましくは０〜９０℃で、５分〜３０時間実施
すればよい。
Ｎ、Ｎ−ジ置換ホルムアミド類から導かれるビルスマイ
ヤー試ｉはＮ 、 Ｎ−ジ置換ホルムアミド類に、ビル
スマイヤー試薬を調製する際に通常用いられている無機
または有機ハロゲン化物を等モル反応させることにより
得られ、このビルスマイヤー試薬の調製は通常０〜２５
℃で、５分〜１時間実施すればよい。また、ビルスマイ
ヤー試薬は反応系内で調製することもできる。
ヤー試ｉはＮ 、 Ｎ−ジ置換ホルムアミド類に、ビル
スマイヤー試薬を調製する際に通常用いられている無機
または有機ハロゲン化物を等モル反応させることにより
得られ、このビルスマイヤー試薬の調製は通常０〜２５
℃で、５分〜１時間実施すればよい。また、ビルスマイ
ヤー試薬は反応系内で調製することもできる。
これらの反応条件はこれに限定されるものではなく１反
応試剤により適宜選択される。
応試剤により適宜選択される。
上記した反応によって得られる一般式（ｎ）で表わされ
る化合物またはその塩は、所望によ）公知方法によりカ
ルボキシル保護基の脱離反応を行い、それぞれ対応する
化合物の遊離カルボン酸に誘導することができる。さら
に、これらの遊離カルボン酸は、所望により、自体公知
方法により、対応する化合物の塩に誘導することができ
る。
る化合物またはその塩は、所望によ）公知方法によりカ
ルボキシル保護基の脱離反応を行い、それぞれ対応する
化合物の遊離カルボン酸に誘導することができる。さら
に、これらの遊離カルボン酸は、所望により、自体公知
方法により、対応する化合物の塩に誘導することができ
る。
一般式（Ｉ）で表わされる化合物またはその塩は。
たとえば、以下に示す製造ルートに従って製造すること
ができる。製造ルート中つぎの一般式（ＶＩＥ）で表わ
される化合物、そのカルボキシル基における反応性誘導
体およびそれらの塩は、一般式（Ｉ）で表わされる化合
物の重要な中間体である。
ができる。製造ルート中つぎの一般式（ＶＩＥ）で表わ
される化合物、そのカルボキシル基における反応性誘導
体およびそれらの塩は、一般式（Ｉ）で表わされる化合
物の重要な中間体である。
一般式（■）ゆで表わされる化合物のカルボキシル基に
おける反応性誘導体としては、後述する一般式（■＆）
、（■ｂ）、（■Ｃ）および（■ｄ）で表わされる化合
物のカルボキシル基における反応性誘導体と同様のもの
が挙げられる。また、一般式（■）で表わされる化合物
の塩としては、一般式（Ｉ）、（ｎ）および（ＩＩＩ）
で表わされる化合物の塩において説明したと同様の塩が
挙げられる。
おける反応性誘導体としては、後述する一般式（■＆）
、（■ｂ）、（■Ｃ）および（■ｄ）で表わされる化合
物のカルボキシル基における反応性誘導体と同様のもの
が挙げられる。また、一般式（■）で表わされる化合物
の塩としては、一般式（Ｉ）、（ｎ）および（ＩＩＩ）
で表わされる化合物の塩において説明したと同様の塩が
挙げられる。
Ｒ８におけるアルキルチオ基としては、たとえば、メチ
ルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピル
チオ、イソブチルチオ、 ｔｅｒｔ、−ブチルチオ、ペ
ンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチ
オ、ドデシルチオなど；アリールチオ基としては、たと
えば、フェニルチオ、ナフチルチオなどが挙げられる。
ルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピル
チオ、イソブチルチオ、 ｔｅｒｔ、−ブチルチオ、ペ
ンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチ
オ、ドデシルチオなど；アリールチオ基としては、たと
えば、フェニルチオ、ナフチルチオなどが挙げられる。
上記したＲ８のアルキルチオおよびアリールチオ基は
Ｒ２で説明したと同様の置換基で置換されていてもよい
。
Ｒ２で説明したと同様の置換基で置換されていてもよい
。
一般式（Ｖ）、 （Ｖｌ）、 （■ａ）、（■ｂ）、（
■Ｃ）および（■ｄ）および（Ｉａ）で表わされる化合
物の塩としては、一般式（Ｉ）、（［）および（ＩＩＩ
）で表わされる化合物において説明したと同様の塩が挙
げられる。また、一般式（■）で表わされる化合物の塩
としては、たとえば、リチウム、ナトリウム、カリウム
などのアルカリ金属との塩；マグネシウムなトノアルカ
リ土類金属との塩；エトキシマグネシウムとの塩などが
挙げられる。
■Ｃ）および（■ｄ）および（Ｉａ）で表わされる化合
物の塩としては、一般式（Ｉ）、（［）および（ＩＩＩ
）で表わされる化合物において説明したと同様の塩が挙
げられる。また、一般式（■）で表わされる化合物の塩
としては、たとえば、リチウム、ナトリウム、カリウム
などのアルカリ金属との塩；マグネシウムなトノアルカ
リ土類金属との塩；エトキシマグネシウムとの塩などが
挙げられる。
以下、各製造ルート忙ついて詳繍に説明する。
０）一般式（■ａ）で表わされる化合物またはその塩は
、英国特許第１４０９９８７号に記載の方法に準じて製
造された一般式■）で表わされる化合物またはその塩ヲ
、ブレタン・ド・ラーソシェテ・シミク・ドク・フラン
ス（Ｂｕｌｌ、Ｓｏｃ、Ｃｈｉｍ＠Ｆｒ、 ）第１１６
５〜１１６９頁（１９７５）に記載の方法に従って製造
された一般式（ロ）で表わされる化合物またはその塩と
反応させることによって製造することができる。
、英国特許第１４０９９８７号に記載の方法に準じて製
造された一般式■）で表わされる化合物またはその塩ヲ
、ブレタン・ド・ラーソシェテ・シミク・ドク・フラン
ス（Ｂｕｌｌ、Ｓｏｃ、Ｃｈｉｍ＠Ｆｒ、 ）第１１６
５〜１１６９頁（１９７５）に記載の方法に従って製造
された一般式（ロ）で表わされる化合物またはその塩と
反応させることによって製造することができる。
（１一般式（Ｉａ）で表わされる化合物もしくけその塩
または一般式（Ｉｂ）、 （Ｉｅ）ま念は一般式（ＩＸ
）で表わされる化合物は、それぞれ一般式（■ａ）、（
■ｂ）、（■Ｃ）または（■ｄ）で表わされる化合物も
しくはそれらの塩を自体公知の方法でカルボキシル基に
おける反応性誘導体、たとえば、酸りａリド、酸プロミ
ドなどの酸ハロゲン化物；酸無水物；炭酸モノエチルエ
ステルなどの炭酸モノアルキルエステルとの混合酸無水
物；ジニトロフェニルエステル、シアノメチルエステル
、スクシンイミドエステルなどの活性エステル；イミダ
ゾールなどとの活性酸アミド９などに変換した後、一般
式（■）で表わされる化合物またはその塩を反応させ脱
カルボキシル化することによって得ることができる。こ
の反応〈使用される溶媒としては１反応に不活性な溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、メタノール、
エタノール、２−プロパツールなトノアルコール類；ベ
ンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類；塩化メチレ
ン、クロロホルム、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭
化水素類ニジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのエーテル類；アセトニトリルナトのニト
リル類；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアセトアミドなどのアミド類などが挙げられ、これ
らの溶媒を２種以上混合して使用してもよい。また一般
式（ｉ）で表わされる化合物またはその塩の使用量は、
一般式（■ａ）、（■ｂ）、（■Ｃ）または（■ｄ）で
表わされる化合物もしくはそれらの塩に対して等モル以
上。
または一般式（Ｉｂ）、 （Ｉｅ）ま念は一般式（ＩＸ
）で表わされる化合物は、それぞれ一般式（■ａ）、（
■ｂ）、（■Ｃ）または（■ｄ）で表わされる化合物も
しくはそれらの塩を自体公知の方法でカルボキシル基に
おける反応性誘導体、たとえば、酸りａリド、酸プロミ
ドなどの酸ハロゲン化物；酸無水物；炭酸モノエチルエ
ステルなどの炭酸モノアルキルエステルとの混合酸無水
物；ジニトロフェニルエステル、シアノメチルエステル
、スクシンイミドエステルなどの活性エステル；イミダ
ゾールなどとの活性酸アミド９などに変換した後、一般
式（■）で表わされる化合物またはその塩を反応させ脱
カルボキシル化することによって得ることができる。こ
の反応〈使用される溶媒としては１反応に不活性な溶媒
であれば特に限定されないが、たとえば、メタノール、
エタノール、２−プロパツールなトノアルコール類；ベ
ンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類；塩化メチレ
ン、クロロホルム、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭
化水素類ニジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのエーテル類；アセトニトリルナトのニト
リル類；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアセトアミドなどのアミド類などが挙げられ、これ
らの溶媒を２種以上混合して使用してもよい。また一般
式（ｉ）で表わされる化合物またはその塩の使用量は、
一般式（■ａ）、（■ｂ）、（■Ｃ）または（■ｄ）で
表わされる化合物もしくはそれらの塩に対して等モル以
上。
好ましくは１．０〜２．５倍モルである。これらの反応
は通常−５０〜１００℃、好ましくは一２０〜７０℃で
、５分〜３０時間実施すればよい。これらの反応条件は
これに限定されるものではなく、反応試剤により適宜選
択される。
は通常−５０〜１００℃、好ましくは一２０〜７０℃で
、５分〜３０時間実施すればよい。これらの反応条件は
これに限定されるものではなく、反応試剤により適宜選
択される。
（＠ アルキル化
一般式（■ｂ）で表わされる化合物もしくはその塩また
は一般式（Ｉｂ）で表わされる化合物は。
は一般式（Ｉｂ）で表わされる化合物は。
それぞれ一般式（■ａ）または（Ｉａ）で表わされる化
合物もしくはそれらの塩に脱酸剤の存在下または不存在
下、アルキル化剤を反応させることによって得ることが
できる。この反応に使用される溶媒としては、反応に不
活性な溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、水
；メタノール、エタノール、２−プロパツールなどのア
ルコール類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類；アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類；酢酸メチル、酢酸エチルなどの
エステル類；ベンセン、トルエンなどの芳香族炭化水素
類；塩化メチレン、クロロホルムなどのノ１０ゲン化炭
化水素類；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルアセトアミドなどのアミド類ニジメチルスルホキ
シドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらの溶
媒を２種以上混合して使用してもよい。アルキル化剤と
しては、たとえば、ジアゾメタン、ジアゾエタンなどの
ジアゾアルカン；硫酸ジメチル、硫酸ジエチルなどの硫
酸ジアルキル；ヨク化メチル、臭化メチル。
合物もしくはそれらの塩に脱酸剤の存在下または不存在
下、アルキル化剤を反応させることによって得ることが
できる。この反応に使用される溶媒としては、反応に不
活性な溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、水
；メタノール、エタノール、２−プロパツールなどのア
ルコール類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類；アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類；酢酸メチル、酢酸エチルなどの
エステル類；ベンセン、トルエンなどの芳香族炭化水素
類；塩化メチレン、クロロホルムなどのノ１０ゲン化炭
化水素類；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルアセトアミドなどのアミド類ニジメチルスルホキ
シドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これらの溶
媒を２種以上混合して使用してもよい。アルキル化剤と
しては、たとえば、ジアゾメタン、ジアゾエタンなどの
ジアゾアルカン；硫酸ジメチル、硫酸ジエチルなどの硫
酸ジアルキル；ヨク化メチル、臭化メチル。
臭化エチルなどのハロゲン化アルキルなどが挙げられる
。
。
アルキル化剤として硫酸ジアルキルまたはノーロゲン化
アルキルを使用する場合は、脱酸剤として水酸化アルカ
リ、炭酸アルカリなどの無機塩基、トリメチルアミン、
トリエチルアミン。
アルキルを使用する場合は、脱酸剤として水酸化アルカ
リ、炭酸アルカリなどの無機塩基、トリメチルアミン、
トリエチルアミン。
ピリジンなどのアミン類を使用してもよい。アルキル化
剤である硫酸ジアルキルまたはノ・ログン化アルキルお
よび所望によって使用されゐ脱酸剤の使用量は、一般式
（■ａ）または（Ｉａ）で表わされる化合物もしくはそ
れらの塩に対してそれぞれ等モル以上、好ましくは１．
０〜２．０倍モルである、この場合、反応は通常θ〜５
０℃で、５分〜３０時間実施すればよい。
剤である硫酸ジアルキルまたはノ・ログン化アルキルお
よび所望によって使用されゐ脱酸剤の使用量は、一般式
（■ａ）または（Ｉａ）で表わされる化合物もしくはそ
れらの塩に対してそれぞれ等モル以上、好ましくは１．
０〜２．０倍モルである、この場合、反応は通常θ〜５
０℃で、５分〜３０時間実施すればよい。
また、アルキル化剤としてジアゾアルカンを使用する場
合、その使用量は一般式（■ａ） ｔたは（Ｉａ）で表
わされる化合物もしくはそれらの塩に対して等モル以上
、好ましくは１．０〜１．５倍モルである。この場合、
反応は通常Ｏ〜５０℃。
合、その使用量は一般式（■ａ） ｔたは（Ｉａ）で表
わされる化合物もしくはそれらの塩に対して等モル以上
、好ましくは１．０〜１．５倍モルである。この場合、
反応は通常Ｏ〜５０℃。
好ましくは０〜２５℃で、５分〜３０時間実施すればよ
い。
い。
（ＩＴ） スルホニル化
または（Ｉａ）で表わされる化合物もしくはそれらの塩
に脱酸剤の存在下または不存在下、スルホニル化剤を反
応させることによっても得ることができる。この反応に
使用される溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば
特に限定されないが、た、！：、ｔば、水；ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリ
コールジメチルエーテルなどのエーテル類；塩化メチレ
ン、クロロホルム、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭
化水素類；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類；アセトニトリルナどのニトリル類；Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドなどの
アミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類
；ヘキサメチルホスホルアミド；ピリジンなどが挙げら
れ、これらの溶媒を２種以上混合して使用してもよい。
に脱酸剤の存在下または不存在下、スルホニル化剤を反
応させることによっても得ることができる。この反応に
使用される溶媒としては、反応に不活性な溶媒であれば
特に限定されないが、た、！：、ｔば、水；ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリ
コールジメチルエーテルなどのエーテル類；塩化メチレ
ン、クロロホルム、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭
化水素類；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類；アセトニトリルナどのニトリル類；Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドなどの
アミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類
；ヘキサメチルホスホルアミド；ピリジンなどが挙げら
れ、これらの溶媒を２種以上混合して使用してもよい。
スルホニル化剤としては、たとえば、メタンスルホニル
クロ１１ド。
クロ１１ド。
トリフルオロメタンスルホニルクロリド、エタンスルホ
ニルクロリド、１−メチルエタンスルホニルクロリド、
１．１−ジメチルエタンヌルホニルクロリド、ベンゼン
スルホニルクロリド。
ニルクロリド、１−メチルエタンスルホニルクロリド、
１．１−ジメチルエタンヌルホニルクロリド、ベンゼン
スルホニルクロリド。
トヘルエンスルホニルクロリド、ニトロベンゼンスルホ
ニルクロリド、クロロベンゼンスルホニルクロ’Ｊ ｌ
’、 ２．５−ジクロロベンゼンスルホニルクロリド、
２，３．４−）ジクロロベンゼンスルホニルクロリド、
２，４．５− ） ＩＪジクロロベンゼンスルホニル
クロリドメシチレンスルホニルクロリド、２，４．６−
）リイソプロピルベンゼンスルホニルクロリド、ナフタ
レンスルホニルクロリドナトのアルカンスルホニルハロ
ゲニドまたはアレーンスルホニルハロゲニド、メタンス
ルホン酸無水物、トルエンスルホン酸無水物などのアル
カンスルホン酸無水物またはアレーンスルホン酸無水物
が挙げられる。また脱酸剤としては、たとえば、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジ
アザビシクロ〔５，４，０１ウンデセ−７−エン（ＤＢ
Ｕ）、ピリジン、カリウム ｔａｒｔ、−ブトキシド、
水酸化アルカリ、炭酸アルカリなどの有機または無機塩
基が挙げられる。
ニルクロリド、クロロベンゼンスルホニルクロ’Ｊ ｌ
’、 ２．５−ジクロロベンゼンスルホニルクロリド、
２，３．４−）ジクロロベンゼンスルホニルクロリド、
２，４．５− ） ＩＪジクロロベンゼンスルホニル
クロリドメシチレンスルホニルクロリド、２，４．６−
）リイソプロピルベンゼンスルホニルクロリド、ナフタ
レンスルホニルクロリドナトのアルカンスルホニルハロ
ゲニドまたはアレーンスルホニルハロゲニド、メタンス
ルホン酸無水物、トルエンスルホン酸無水物などのアル
カンスルホン酸無水物またはアレーンスルホン酸無水物
が挙げられる。また脱酸剤としては、たとえば、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジ
アザビシクロ〔５，４，０１ウンデセ−７−エン（ＤＢ
Ｕ）、ピリジン、カリウム ｔａｒｔ、−ブトキシド、
水酸化アルカリ、炭酸アルカリなどの有機または無機塩
基が挙げられる。
スルホニル化剤および所望によって使用される脱酸剤の
使用量は、一般式（■ａ）または（Ｉｔ）で表わされる
化合物もしくはそれらの塩に対してそれぞれ等モル以上
、好ましくは１．０〜２．０倍モルである。この反応は
通常θ〜１５０ ’Ｃ１好ましくは０〜５０℃で、５分
〜３０時間実施すればよい。
使用量は、一般式（■ａ）または（Ｉｔ）で表わされる
化合物もしくはそれらの塩に対してそれぞれ等モル以上
、好ましくは１．０〜２．０倍モルである。この反応は
通常θ〜１５０ ’Ｃ１好ましくは０〜５０℃で、５分
〜３０時間実施すればよい。
（切 チオール化
一般式（■ｄ）で表わされる化合物もしくはその塩また
は一般式（ＩＸ）で表わされる化合物は。
は一般式（ＩＸ）で表わされる化合物は。
それぞれ一般式（■Ｃ）で表わされる化合物もしくはそ
の塩または一般式（Ｉｃ）で表わされる化合物に、脱酸
剤の存在下または不存在下、たとえば、メタンチオール
、エタンチオール、ｎ−プロハンチオール、１−メチル
エタンチオール。
の塩または一般式（Ｉｃ）で表わされる化合物に、脱酸
剤の存在下または不存在下、たとえば、メタンチオール
、エタンチオール、ｎ−プロハンチオール、１−メチル
エタンチオール。
イソブタンチオール、１．１−ジメチルエタンチオール
、ペンタンチオール、ヘキサンチオール。
、ペンタンチオール、ヘキサンチオール。
ヘプタンチオール、オクタンチオール、ドデカンチオー
ル、チオフェノール、ナフタレンチオールなどのチオー
ル類またはその塩を反応させるこトニよって得ることが
できる。チオール類の塩としては、たとえば、一般式（
Ｉ）、（Ｉｆ）および（ＩＩＩ）で表わされる化合物に
おいて説明したと同様の酸性基ｒおける塩が挙げられる
。この反応に使用される溶媒としては、反応に不活性な
溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン
、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、アニソール、シエチレング
リコールジエチルエ−ｆ ｋなどのエーテル類；塩化メ
チレン、クロロホルム、ジクロロエタンナトのハロゲン
化炭化水素類；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド％Ｎ。
ル、チオフェノール、ナフタレンチオールなどのチオー
ル類またはその塩を反応させるこトニよって得ることが
できる。チオール類の塩としては、たとえば、一般式（
Ｉ）、（Ｉｆ）および（ＩＩＩ）で表わされる化合物に
おいて説明したと同様の酸性基ｒおける塩が挙げられる
。この反応に使用される溶媒としては、反応に不活性な
溶媒であれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン
、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、アニソール、シエチレング
リコールジエチルエ−ｆ ｋなどのエーテル類；塩化メ
チレン、クロロホルム、ジクロロエタンナトのハロゲン
化炭化水素類；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド％Ｎ。
Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ジメチルス
ルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これ
らの溶媒を２種以上混合して使用してもよい。脱酸剤と
しては、たとえば。
ルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、これ
らの溶媒を２種以上混合して使用してもよい。脱酸剤と
しては、たとえば。
水酸化アルカリ、炭酸アルカリなどの無機塩基。
トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジンＮ−メチルモルホ
リン、ルチジン、コリジンなどの有機塩基が挙げられる
。チオール類またはその塩および所望によって使用され
る脱酸剤の使用量は、一般式（■Ｃ）で表わされる化合
物もしくはその塩または一般式（Ｉｃ）で表わされる化
合物に対してそれぞれ等モル以上、好ましくは１．０〜
２．０倍モルである。仁の反応は通常０〜１５０℃、好
ましくは０〜７０℃で、５分〜３０時間実施すればよい
。
ン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジンＮ−メチルモルホ
リン、ルチジン、コリジンなどの有機塩基が挙げられる
。チオール類またはその塩および所望によって使用され
る脱酸剤の使用量は、一般式（■Ｃ）で表わされる化合
物もしくはその塩または一般式（Ｉｃ）で表わされる化
合物に対してそれぞれ等モル以上、好ましくは１．０〜
２．０倍モルである。仁の反応は通常０〜１５０℃、好
ましくは０〜７０℃で、５分〜３０時間実施すればよい
。
（ｖｌ） リン酸化
一般式（Ｉｄ）で表わされる化合物は、一般式（Ｉａ）
で表わされる化合物またはその塩に脱酸剤せることによ
って得ることができる。この反応に使用される溶媒とし
ては１反応に不活性な溶媒であれば特に限定されないが
、具体的には上記したスルホニル化で使用される溶媒と
同様のものが挙げられる。リン酸化剤としては、たとえ
ば、ジメチルリン酸クロリド、ジエチルリン酸クロリド
、ジプロピルリン酸クロリド、ジブチルリン酸クロリド
などのジアルキルリン酸ハロゲニドまたはジフェニルリ
ン酸クロリドなどのシア１１−ルリン酸ハロゲニドなど
が挙げられる。また、この反応において使用される脱酸
剤としては、具体的には上記したスルホニル化で使用さ
れる脱酸剤と同様のものが挙げられる。
で表わされる化合物またはその塩に脱酸剤せることによ
って得ることができる。この反応に使用される溶媒とし
ては１反応に不活性な溶媒であれば特に限定されないが
、具体的には上記したスルホニル化で使用される溶媒と
同様のものが挙げられる。リン酸化剤としては、たとえ
ば、ジメチルリン酸クロリド、ジエチルリン酸クロリド
、ジプロピルリン酸クロリド、ジブチルリン酸クロリド
などのジアルキルリン酸ハロゲニドまたはジフェニルリ
ン酸クロリドなどのシア１１−ルリン酸ハロゲニドなど
が挙げられる。また、この反応において使用される脱酸
剤としては、具体的には上記したスルホニル化で使用さ
れる脱酸剤と同様のものが挙げられる。
リン酸化剤および所望によって使用される脱酸剤の使用
量は、一般式（Ｉａ）で表わされる化合物またはその塩
に対してそれぞれ等モル以上、好ましくは１．０〜１．
５倍モルである。この反応は通常θ〜１５０℃、好まし
くは０〜５０℃で、５分〜３０時間実施すればよい。
量は、一般式（Ｉａ）で表わされる化合物またはその塩
に対してそれぞれ等モル以上、好ましくは１．０〜１．
５倍モルである。この反応は通常θ〜１５０℃、好まし
くは０〜５０℃で、５分〜３０時間実施すればよい。
一般式（Ｉｓ）で表わされる化合物は、一般式口で表わ
される化合物に酸化剤を反応させることによって得るこ
とができる。この反応に使用される溶媒としては１反応
に不活性な溶媒であれば特に限定されな匹が、たとえば
、ベンゼン。
される化合物に酸化剤を反応させることによって得るこ
とができる。この反応に使用される溶媒としては１反応
に不活性な溶媒であれば特に限定されな匹が、たとえば
、ベンゼン。
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；塩化メチ
レン、クロロホルム、ジクロロエタンなどのハロゲン化
炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類；ギ酸、酢酸などの脂肪酸
類；水などが挙げられ、これらの溶媒を２種以上混合し
て使用してもよい。酸化剤としては、たとえば。
レン、クロロホルム、ジクロロエタンなどのハロゲン化
炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどのエーテル類；ギ酸、酢酸などの脂肪酸
類；水などが挙げられ、これらの溶媒を２種以上混合し
て使用してもよい。酸化剤としては、たとえば。
過ギ酸、過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ遇安息香酸な
どの有機過酸類、過酸化水素、過ヨウ素酸、メタ過ヨウ
素酸ナトリウム、メタ過ヨウ素酸カリウム、過マンガン
酸カリウム、オゾンなどが挙げられ、特に好ましい酸化
剤としては、有機過酸類、過酸化水素などが挙げられ、
その使用量は、一般式（ＩＸ）で表わされる化合物に対
して２．０〜２．５倍モルである。この反応は通常０〜
１００℃、好ましくは０〜３０℃で、５分〜３０時間実
施すればよい。
どの有機過酸類、過酸化水素、過ヨウ素酸、メタ過ヨウ
素酸ナトリウム、メタ過ヨウ素酸カリウム、過マンガン
酸カリウム、オゾンなどが挙げられ、特に好ましい酸化
剤としては、有機過酸類、過酸化水素などが挙げられ、
その使用量は、一般式（ＩＸ）で表わされる化合物に対
して２．０〜２．５倍モルである。この反応は通常０〜
１００℃、好ましくは０〜３０℃で、５分〜３０時間実
施すればよい。
以上説明したそれぞれの反応によりて得られる化合物は
常法によって単離または分離することができ、また単離
または分離することなくつぎの反応に使用することもで
きる。
常法によって単離または分離することができ、また単離
または分離することなくつぎの反応に使用することもで
きる。
このようにして得られる本発明の一般式（ＩＩ）で表わ
される化合物またはその塩は、たとえば、つぎに示すル
ートによって一般式（ｍ）で表わされる化合物またはそ
の場に誘導することができる。
される化合物またはその塩は、たとえば、つぎに示すル
ートによって一般式（ｍ）で表わされる化合物またはそ
の場に誘導することができる。
（Ｉｔ）ｔたはその塩 （ＩＩＩ）
またはその塩Ｒ３におけるアミノ基が保護されていても
よい３−７ミノー１−ピロリジニル基およびイミノ基が
保護されていてもよい１−ピペラジニル基におけるアミ
ノ基およびイミノ基の保護基としては１通常当該分野で
使用されるものが挙げられ、たとえば、ホルミル、アセ
チル、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメチレンなど、特開昭５
９−８０６６５号公報などに記載された通常のアミノ基
およびイミノ基の保護基が挙げられる。
またはその塩Ｒ３におけるアミノ基が保護されていても
よい３−７ミノー１−ピロリジニル基およびイミノ基が
保護されていてもよい１−ピペラジニル基におけるアミ
ノ基およびイミノ基の保護基としては１通常当該分野で
使用されるものが挙げられ、たとえば、ホルミル、アセ
チル、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメチレンなど、特開昭５
９−８０６６５号公報などに記載された通常のアミノ基
およびイミノ基の保護基が挙げられる。
一般式（Ｘ）で表わされる化合物の塩としては。
一般式（ｍ）で表わされる化合物において説明したと同
様の塩基性基における塩が挙げられる。
様の塩基性基における塩が挙げられる。
つぎに本発明を実施例および参考例を挙げて説明するが
１本発明はこれに限定されるものではない。
１本発明はこれに限定されるものではない。
なお、実施例および参考例で使用されている記号は下記
の意味を有する。
の意味を有する。
賜；メチル基、Ｅｔ；エチル基、ｔ−ｐｒ；イソプロピ
ル基、Ｐｈ；フェニル基 実施例１ （１）Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド４１１ｔに氷冷下
でオキシ塩化リン２５０ ｔｏｙを滴下し、同温度で１
０分間攪拌した後、２−（２−（２，４−ジフルオロフ
ェニルアミノ）−５−フルオロ−６−７１）キシニコチ
ノイル〕酢酸エチルエステル２００１１Ｉｇを添加し、
５０〜６０℃で３．５時間反応させる。
ル基、Ｐｈ；フェニル基 実施例１ （１）Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド４１１ｔに氷冷下
でオキシ塩化リン２５０ ｔｏｙを滴下し、同温度で１
０分間攪拌した後、２−（２−（２，４−ジフルオロフ
ェニルアミノ）−５−フルオロ−６−７１）キシニコチ
ノイル〕酢酸エチルエステル２００１１Ｉｇを添加し、
５０〜６０℃で３．５時間反応させる。
反応液を氷水５０−中に投入した後、クロロホルム２０
−を加え、有様層を分取する。有機層を水２０−で洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に
溶媒を留去し、得られた結晶性物質にジエチルエーテル
５ｄを加えて結晶をＦ取すれば、融点２１７〜２２０℃
を示す７−クロロ−６−フルオロ−１−（２，４−ジフ
ルオロフェニル）−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−１
，８−ナフチリジン−３−カルボン酸エチルエステル１
５０ ｆｆ （収藁７２．２１）を得る。これｔ’７セ
トンーメタノール（容量比１：１）混合溶媒で再結晶す
れば、融点２１９〜２２１℃を示す結晶を得る。
−を加え、有様層を分取する。有機層を水２０−で洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に
溶媒を留去し、得られた結晶性物質にジエチルエーテル
５ｄを加えて結晶をＦ取すれば、融点２１７〜２２０℃
を示す７−クロロ−６−フルオロ−１−（２，４−ジフ
ルオロフェニル）−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−１
，８−ナフチリジン−３−カルボン酸エチルエステル１
５０ ｆｆ （収藁７２．２１）を得る。これｔ’７セ
トンーメタノール（容量比１：１）混合溶媒で再結晶す
れば、融点２１９〜２２１℃を示す結晶を得る。
元素分析値（Ｃ１７Ｈ１ＯＮ２０３ＣＩＦ３）計算値し
）二Ｃ５３，３５；Ｈ２，６３；Ｎ ７．３２実測値
ｆｓ） ： Ｃ５３，６１；Ｈ２，４７；Ｎ ６．９６
ω）表−１に示す原料化合物を用いて０）と同様に反応
させ０）の目的化合物を表−１に示す収率で得る。
）二Ｃ５３，３５；Ｈ２，６３；Ｎ ７．３２実測値
ｆｓ） ： Ｃ５３，６１；Ｈ２，４７；Ｎ ６．９６
ω）表−１に示す原料化合物を用いて０）と同様に反応
させ０）の目的化合物を表−１に示す収率で得る。
Ｃ以下余白）
表−１
目的化合物の物性（ｍａｐ、、元素分析値）Ｆｉ上記０
）で得られたものと一致した。
）で得られたものと一致した。
（ｔｉｔ） ２− ［： ２−（４−フルオロフェニ
ルアミノ）−５−フルオロ−６−ヒドロキシニコチノイ
ル］酢酸エチルエステルを用いて０）と同様に反応させ
れば、７−クロロ−１−（４−フルオロフェニル）−６
−フルオロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−１，８−
ナフチリジン−３−カルボン酸エチルエステルを７４．
９１の収率で得る。
ルアミノ）−５−フルオロ−６−ヒドロキシニコチノイ
ル］酢酸エチルエステルを用いて０）と同様に反応させ
れば、７−クロロ−１−（４−フルオロフェニル）−６
−フルオロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−１，８−
ナフチリジン−３−カルボン酸エチルエステルを７４．
９１の収率で得る。
融点；２３０〜２３２℃（再結溶媒；アセトン）ＩＲ（
ＫＢｒ）ｃｍ−’ ；νｃ＝ｏ １７３０，１７０Ｏ
ＮＭＲ（ＣＤＣＩａ）δ値； １．３８（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）＊ ４．３４（２
Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）。
ＫＢｒ）ｃｍ−’ ；νｃ＝ｏ １７３０，１７０Ｏ
ＮＭＲ（ＣＤＣＩａ）δ値； １．３８（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）＊ ４．３４（２
Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）。
６．９０〜７．６０（４Ｈ，ｍ）、 ８．３７（ＩＨ
，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ）。
，ｄ、Ｊ−７Ｈｚ）。
８．５３（ＩＨ，ＩＩ）
元素分析値（Ｃ１７Ｈ１１Ｎ２０３ＣＩＦ２ ）計算値
＠） ： Ｃ５５，９８； Ｈ３，０４： Ｎ７．６Ｂ
実測値（５）： Ｃ５６，０９； Ｈ２，９２： Ｎ７
．６８（ｔｖ） 上記０）のオキシ塩化リンの代わり
に、つぎのハロゲン化物を用いて０）と同様に反応させ
、表−２に示す結果を得る。
＠） ： Ｃ５５，９８； Ｈ３，０４： Ｎ７．６Ｂ
実測値（５）： Ｃ５６，０９； Ｈ２，９２： Ｎ７
．６８（ｔｖ） 上記０）のオキシ塩化リンの代わり
に、つぎのハロゲン化物を用いて０）と同様に反応させ
、表−２に示す結果を得る。
表−２
それぞれの場合において得られた目的化合物の物性は、
０）で得られたものと一致した。
０）で得られたものと一致した。
実施例２
（１）Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１３０１１Ｆを１
．２−ジクロロエタン２ゴに溶解させ、水冷下でオキシ
塩化リン２７０ ＋１９を滴下し、同温度で１ｏ分間攪
拌した後、２−Ｃ２−Ｃ２，４−ジフルオロフェニルア
ミノ）−５−フルオロ−６−メドキシニコチノイル〕酢
酸エチルエステル２００１Ｆｅ添加し、加熱還流下４．
５時間反応させる。反応液を水３０−に投入した後、ク
ロロホルム３〇−を加え、有機層を分取する。有機層を
水２０ｄおよび飽和食塩水２０−で順次洗浄した後。
．２−ジクロロエタン２ゴに溶解させ、水冷下でオキシ
塩化リン２７０ ＋１９を滴下し、同温度で１ｏ分間攪
拌した後、２−Ｃ２−Ｃ２，４−ジフルオロフェニルア
ミノ）−５−フルオロ−６−メドキシニコチノイル〕酢
酸エチルエステル２００１Ｆｅ添加し、加熱還流下４．
５時間反応させる。反応液を水３０−に投入した後、ク
ロロホルム３〇−を加え、有機層を分取する。有機層を
水２０ｄおよび飽和食塩水２０−で順次洗浄した後。
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留
去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー〔和
光シリカゲルＣ−２００、溶出溶媒；ベンゼン：酢酸エ
チル（容量比１ｏ ： １））で精製すれば、７−クロ
ロ−１−（２，４−ジフルオロフェニル）−６−フルオ
ロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−１，８−ナフチリ
ジン−３−カルボン酸エチルエステル１３０ｖ（収率６
２．６％）を得る。この化合物の物性は実施例１（０で
得られたものと一致し丸。
去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー〔和
光シリカゲルＣ−２００、溶出溶媒；ベンゼン：酢酸エ
チル（容量比１ｏ ： １））で精製すれば、７−クロ
ロ−１−（２，４−ジフルオロフェニル）−６−フルオ
ロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−１，８−ナフチリ
ジン−３−カルボン酸エチルエステル１３０ｖ（収率６
２．６％）を得る。この化合物の物性は実施例１（０で
得られたものと一致し丸。
０）上記０）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドの代わり
に、Ｎ−ホルミルピロリジン１６０■を用い。
に、Ｎ−ホルミルピロリジン１６０■を用い。
同様に反応させ、７−クロロ−１−（２，４−ジフルオ
ロフェニル）−６−フルオロ−１，４−ジヒドロ−４−
オキソ−１８−ナフチリジン−３−カルボン酸エチルエ
ステル１３５ａｖ （収８６５．０ ％）を得る。
ロフェニル）−６−フルオロ−１，４−ジヒドロ−４−
オキソ−１８−ナフチリジン−３−カルボン酸エチルエ
ステル１３５ａｖ （収８６５．０ ％）を得る。
この化合物の物性は、実施例１（１）で得られたものと
一致した。
一致した。
実施例３
７−クロロ−１−（２，４−ジフルオロフェニル）−６
−フルオロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−ｉ、ｓ−
ナフチリジン−３−カルボン酸エチルエステル５００岬
を製塩！１０ＩＲ１に懸濁させ、加熱還流下で１時間反
応させる。反応液を水１０Ｗｔで希釈し、析出結晶を戸
数した後、水２−で洗浄すれば。
−フルオロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−ｉ、ｓ−
ナフチリジン−３−カルボン酸エチルエステル５００岬
を製塩！１０ＩＲ１に懸濁させ、加熱還流下で１時間反
応させる。反応液を水１０Ｗｔで希釈し、析出結晶を戸
数した後、水２−で洗浄すれば。
融点２３８〜２４２℃を示す７−クロロ−１−（２，４
−ジフルオロフェニル）−６−フルオｌ”ｌ−１，４−
ジヒドロ−４−オキソ−１，８−ナフチリジン−３−カ
ルボン酸４５０岬（収率９７．１ ｇ ）を得る。こし
ｔ−クロロホルム−エタノール（容Ｊｌ、２ ： １
）混合溶媒で再結晶すれば、融点２４２．５〜２４３．
５℃を示す結晶を得る。
−ジフルオロフェニル）−６−フルオｌ”ｌ−１，４−
ジヒドロ−４−オキソ−１，８−ナフチリジン−３−カ
ルボン酸４５０岬（収率９７．１ ｇ ）を得る。こし
ｔ−クロロホルム−エタノール（容Ｊｌ、２ ： １
）混合溶媒で再結晶すれば、融点２４２．５〜２４３．
５℃を示す結晶を得る。
参考例１
２−ＣＮ−（２，４−ジフルオロフェニル）アミジノ〕
酢酸メチルエステルの塩酸塩２３．Ｏｆを水９２ｍおよ
び塩化メチレン９２ｄの混合液に溶解させ、２Ｎ−水酸
化ナトリウム水溶液でｐＨ１３，０に調整する。有機層
を分取し、水５０−および飽和食塩水５０ｄで順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。この溶液
に室温でヒドロキシメチレンフルオロ酢酸エチルエステ
ルのナトリウム塩２７．１ ｆを加え、加熱還流下で４
時間反応させた後、減圧下に溶媒を留去する。得られた
残留物に水９２ｍおよび酢酸エチル４６ｄを順次加えて
析出結晶を戸数し、水１８４ ｍ／に懸濁させる。６Ｎ
−塩酸でｐＨ１，０に調整した後、析出結晶を戸数し、
水４６ｄおよび２−プロパツール４６ｄで順次洗浄すれ
ば、融点２２２〜２２３℃を示ｆ２− （２，４−ジフ
ルオロフェニルアミノ）−５−フ″オ″−６−ヒト０ロ
キシニコチン酸メチルエステル１５．Ｏｆ（収率５７．
９ ’１ ）を得る。これを酢酸エチルで再結晶すれば
、融点２２２〜２２３℃を示す結晶を得る。
酢酸メチルエステルの塩酸塩２３．Ｏｆを水９２ｍおよ
び塩化メチレン９２ｄの混合液に溶解させ、２Ｎ−水酸
化ナトリウム水溶液でｐＨ１３，０に調整する。有機層
を分取し、水５０−および飽和食塩水５０ｄで順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。この溶液
に室温でヒドロキシメチレンフルオロ酢酸エチルエステ
ルのナトリウム塩２７．１ ｆを加え、加熱還流下で４
時間反応させた後、減圧下に溶媒を留去する。得られた
残留物に水９２ｍおよび酢酸エチル４６ｄを順次加えて
析出結晶を戸数し、水１８４ ｍ／に懸濁させる。６Ｎ
−塩酸でｐＨ１，０に調整した後、析出結晶を戸数し、
水４６ｄおよび２−プロパツール４６ｄで順次洗浄すれ
ば、融点２２２〜２２３℃を示ｆ２− （２，４−ジフ
ルオロフェニルアミノ）−５−フ″オ″−６−ヒト０ロ
キシニコチン酸メチルエステル１５．Ｏｆ（収率５７．
９ ’１ ）を得る。これを酢酸エチルで再結晶すれば
、融点２２２〜２２３℃を示す結晶を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’；シロ＝０ １７０ＯＮＭＲ（
ＴＦＡ−ｄｘ）δ値； ４．０６（３Ｈ，ａ）、 ６．７１〜７．６５（３Ｈ
，ｍ）。
ＴＦＡ−ｄｘ）δ値； ４．０６（３Ｈ，ａ）、 ６．７１〜７．６５（３Ｈ
，ｍ）。
８．１２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈ２）
同様にして、つぎの化合物を得る。
０ ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−
フルオロ−６−ヒドロキシニコチン酸エチルエステル 融点；１７７〜１７８℃（再結溶媒；酢酸エチル）ＩＲ
（ＫＢｒ）ｍ−”； νｃ＝ｏ １７０ＯＮＭＲ（Ｔ
ＦＡ−ｄｓ）δ値； １．５２（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ４．５０（２
Ｈ，ｑ。
フルオロ−６−ヒドロキシニコチン酸エチルエステル 融点；１７７〜１７８℃（再結溶媒；酢酸エチル）ＩＲ
（ＫＢｒ）ｍ−”； νｃ＝ｏ １７０ＯＮＭＲ（Ｔ
ＦＡ−ｄｓ）δ値； １．５２（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ４．５０（２
Ｈ，ｑ。
Ｊ＝７Ｈｚ ） 、６．８０〜７．６５ （３Ｈ、ｍ
） ＊ ８．１５ （Ｉ Ｈ。
） ＊ ８．１５ （Ｉ Ｈ。
ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ）
ｏ ５−フルオロ−２−（４−フルオロフェニルアミノ
）−６−ヒドロキシニコチン酸メチルエステル 融点；２２７〜２２８℃（再結溶媒；酢酸エチル）ＩＲ
（ＫＢｒ）Ｉ−ｍ−” ；シｃ＝ｏ１６９ＯＮＭＲ（Ｔ
ＦＡ−ｄｘ）ａ値； ４．０５（３Ｈ，ａ）、６．８９〜７．５３（４Ｈ，ｍ
）。
）−６−ヒドロキシニコチン酸メチルエステル 融点；２２７〜２２８℃（再結溶媒；酢酸エチル）ＩＲ
（ＫＢｒ）Ｉ−ｍ−” ；シｃ＝ｏ１６９ＯＮＭＲ（Ｔ
ＦＡ−ｄｘ）ａ値； ４．０５（３Ｈ，ａ）、６．８９〜７．５３（４Ｈ，ｍ
）。
８．１１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ｌＩＨｚ）
参考例２
２−（２，４−ジフルオロフェニル７ミ／）−５−フル
オロ−６−ヒドロキシニコチン酸メチルエステル２００
■ｔ−Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５−に溶解させ、
炭酸カリウム１１０ ”？およびヨウ化メチル１１０■
を室温で添加し同温度で１時間反応させる。反応液に水
２０−および酢酸エチル２０ｄを加え、有機層を分取し
水１０−および飽和食塩水１０ｍで順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
し、得られた結晶性物質に２−グロパノール５ｍｌを加
えて結晶を戸数すれば、融点１５９〜１６１℃を示す２
−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フルオ
ロ−６−メドキシニコチン酸メチルエステル１９０岬（
収率９０．７ ｑ６ ）を得る。これを酢酸エチルで再
結晶すれば、融点１６０．５〜１６１．５℃を示す結晶
を得る。
オロ−６−ヒドロキシニコチン酸メチルエステル２００
■ｔ−Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５−に溶解させ、
炭酸カリウム１１０ ”？およびヨウ化メチル１１０■
を室温で添加し同温度で１時間反応させる。反応液に水
２０−および酢酸エチル２０ｄを加え、有機層を分取し
水１０−および飽和食塩水１０ｍで順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
し、得られた結晶性物質に２−グロパノール５ｍｌを加
えて結晶を戸数すれば、融点１５９〜１６１℃を示す２
−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フルオ
ロ−６−メドキシニコチン酸メチルエステル１９０岬（
収率９０．７ ｑ６ ）を得る。これを酢酸エチルで再
結晶すれば、融点１６０．５〜１６１．５℃を示す結晶
を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｍ−”；νｃ＝ｏ １６９ＯＮＭＲ（Ｃ
ＤＣＩａ）δ値； ３．８９（３Ｈ，ｓ）、 ３．９８（３Ｈ，ｓ）、
６．５７〜７．０８（２Ｈ，ｍ）、 ７．８１（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ）。
ＤＣＩａ）δ値； ３．８９（３Ｈ，ｓ）、 ３．９８（３Ｈ，ｓ）、
６．５７〜７．０８（２Ｈ，ｍ）、 ７．８１（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ）。
８．１０〜８．９７（ＬＨ，ｍ）、 １０．２４（Ｉ
Ｈ，ｂｌｌ）参考例３ ２−Ｃ２，＋−ジフルオロフェニルアミノ）−Ｓ−フル
オロ−６−ヒドロキシニコチン酸メチルエステル５００
岬を塩化メチレン１０−に懸濁させ、メシチレンスルホ
ニルクロリド４４０ ！Ｉｖおよヒドリエチルアミン２
２０■を加え、室温で３時間反応させる。反応液に水１
５−を加え、有機層を分取し、水１５ｍｇで洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた結晶性物質にジエチルエーテル１５−
を加えテ結晶を戸数すれば、融点１５３〜１５５℃を示
す２− （２゜４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−
フルオα−６−（メシチレンスルホニルオキシ）ニコチ
ン酸メチルエステル６６０ ｒａｙ （収率８１．９４
）を得る。
Ｈ，ｂｌｌ）参考例３ ２−Ｃ２，＋−ジフルオロフェニルアミノ）−Ｓ−フル
オロ−６−ヒドロキシニコチン酸メチルエステル５００
岬を塩化メチレン１０−に懸濁させ、メシチレンスルホ
ニルクロリド４４０ ！Ｉｖおよヒドリエチルアミン２
２０■を加え、室温で３時間反応させる。反応液に水１
５−を加え、有機層を分取し、水１５ｍｇで洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた結晶性物質にジエチルエーテル１５−
を加えテ結晶を戸数すれば、融点１５３〜１５５℃を示
す２− （２゜４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−
フルオα−６−（メシチレンスルホニルオキシ）ニコチ
ン酸メチルエステル６６０ ｒａｙ （収率８１．９４
）を得る。
これを酢酸エチルで再結晶すれば、融点１５５〜１５６
℃を示す結晶を得る。
℃を示す結晶を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）３−１；シａ＝ｏ１７０ＯＮＭＲ（ＣＤ
Ｃ１３）δ値： ２．３３（３Ｈ，ｓ）、 ２．５９（６Ｈ，ａ）、
３．９２（３Ｈ，ｓ）。
Ｃ１３）δ値： ２．３３（３Ｈ，ｓ）、 ２．５９（６Ｈ，ａ）、
３．９２（３Ｈ，ｓ）。
６．３２〜６．８４（２Ｈ，ｍ）、 ６．９２（２Ｈ
，ｓ）、 ７．３５〜７．９４（ＩＨ，ｍ）、 ８
．０５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。
，ｓ）、 ７．３５〜７．９４（ＩＨ，ｍ）、 ８
．０５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。
１０．１７（ＩＨ，ｂｓ＋）
同様にして、つぎの化合物を得る。
０２−（２，４−ジフルオロフェニルアミ／）−５−フ
ルオロ−６−（２，４，６−）リイソプロビルベンゼン
スルホニルオキシ）ニコチン酸エチルエステル 融点；１４７〜１４８℃（再結溶媒；酢酸エチル）ＩＲ
（ＫＢｒ）３−１ ； １７０Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ ）δ値； １．２１（１２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、１．２８（６Ｈ
，ｄ。
ルオロ−６−（２，４，６−）リイソプロビルベンゼン
スルホニルオキシ）ニコチン酸エチルエステル 融点；１４７〜１４８℃（再結溶媒；酢酸エチル）ＩＲ
（ＫＢｒ）３−１ ； １７０Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ ）δ値； １．２１（１２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、１．２８（６Ｈ
，ｄ。
Ｊ＝’ｌＨｚ ） 、 １．４０ （３Ｈ，ｔ 、
Ｊ＝７Ｈｚ ） 、 ２．５５〜３．３０（ｉｎ、ｍ）
。
Ｊ＝７Ｈｚ ） 、 ２．５５〜３．３０（ｉｎ、ｍ）
。
参考例４
２−Ｃ２，４−ジフルオロフェニルアミ／）−５−フル
オロ−６−（メシチレンスルホニルオキシ）ニコチン酸
メチルエステル３．８９ ｆｔＮ 、 Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド３９ゴに溶解させ、チオフェノール１．３４
Ｆおよびトリエチルアミン１−２３ ｆを添加し、室温
で５時間反応させる。ついで、反応液に酢酸エチル１２
０ＩＲｔおよび水１２０−を加え、２Ｎ−塩酸でｐＨ２
，０に調整する。有機層を分取し、水８０ｄおよび飽和
食塩水８ｏ−で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶性
物質にｎ −ヘキサン２０ｄを加えて結晶を戸数すれば
、融点１２６〜１２８℃を示す２−（２，４−ジフルオ
ロフェニル７ミ／）−５−フルオロー６−フェニルチオ
ニコチン酸メチルエステル２．８５ ｔ （収８９０．
２係）を得る。これをジイソプロビルエーテルテ再結晶
すれば、融点１２８〜１２８．５℃を示す結晶を得る。
オロ−６−（メシチレンスルホニルオキシ）ニコチン酸
メチルエステル３．８９ ｆｔＮ 、 Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド３９ゴに溶解させ、チオフェノール１．３４
Ｆおよびトリエチルアミン１−２３ ｆを添加し、室温
で５時間反応させる。ついで、反応液に酢酸エチル１２
０ＩＲｔおよび水１２０−を加え、２Ｎ−塩酸でｐＨ２
，０に調整する。有機層を分取し、水８０ｄおよび飽和
食塩水８ｏ−で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶性
物質にｎ −ヘキサン２０ｄを加えて結晶を戸数すれば
、融点１２６〜１２８℃を示す２−（２，４−ジフルオ
ロフェニル７ミ／）−５−フルオロー６−フェニルチオ
ニコチン酸メチルエステル２．８５ ｔ （収８９０．
２係）を得る。これをジイソプロビルエーテルテ再結晶
すれば、融点１２８〜１２８．５℃を示す結晶を得る。
Ｉ Ｒ（Ｉ（Ｂ ｒ ）ｌ−ｍ−” ｔシｃ＝０１６８
５ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）δ値； ３．９０（３Ｈ，Ｓ）。
５ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）δ値； ３．９０（３Ｈ，Ｓ）。
同様にして、つぎの化合物を得る。
ｏ ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−６
−エチルチオ−５−フルオロニコチン酸メチルエステル 融点：１１３．５〜１１４℃（再結溶媒；ジイソプロピ
ルエーテル）ＩＲ（ＫＢｒ ）（ｚ−１；シｃ＝ｏ１６
８ＯＮＭＲ（ＣＤＣｌａ ）δ値； １．２９（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ３．０７（２
Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ３．９０（３Ｈ，ｓ）、 ６
．５０〜７．２０（２Ｈ，ｍ）。
−エチルチオ−５−フルオロニコチン酸メチルエステル 融点：１１３．５〜１１４℃（再結溶媒；ジイソプロピ
ルエーテル）ＩＲ（ＫＢｒ ）（ｚ−１；シｃ＝ｏ１６
８ＯＮＭＲ（ＣＤＣｌａ ）δ値； １．２９（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ３．０７（２
Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ３．９０（３Ｈ，ｓ）、 ６
．５０〜７．２０（２Ｈ，ｍ）。
７．６６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ）、 ７．８０〜
８．５０（ＩＨ，→。
８．５０（ＩＨ，→。
１０．００（ＩＨ，ｂｓ）
参考例５
２−（２，４−ジフルオロフェニル７ミ／）−５−フル
オロ−６−とドロキシニコチン酸メチルエステル３．０
Ｏｆをメタノール３０ｄに懸濁させ。
オロ−６−とドロキシニコチン酸メチルエステル３．０
Ｏｆをメタノール３０ｄに懸濁させ。
室温で２Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液１６．１ ｍを加
えた後、加熱還流下で４時間反応させる。ついで、反応
液を酢酸エチル６０ｍｇおよび水６０−の混合液に加え
て水層を分取する。水層を６Ｎ−塩酸でｐＨ１，０に調
整した後、析出晶を戸数し、水１５ｍおよび２−プロパ
ツール１５ｄで順次洗浄すれば、融点２１３〜２１６℃
を示す２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５
−フルオロ−６−ヒドロキシニコチン酸２．６８ｆＣ収
率９３．７％）を得る。これをアセトン−エタノール（
容量比１：１）混合溶媒で再結晶すれば、融点２１５〜
２１６℃を示す結晶を得る。
えた後、加熱還流下で４時間反応させる。ついで、反応
液を酢酸エチル６０ｍｇおよび水６０−の混合液に加え
て水層を分取する。水層を６Ｎ−塩酸でｐＨ１，０に調
整した後、析出晶を戸数し、水１５ｍおよび２−プロパ
ツール１５ｄで順次洗浄すれば、融点２１３〜２１６℃
を示す２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５
−フルオロ−６−ヒドロキシニコチン酸２．６８ｆＣ収
率９３．７％）を得る。これをアセトン−エタノール（
容量比１：１）混合溶媒で再結晶すれば、融点２１５〜
２１６℃を示す結晶を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｒｎ−”；ν（Ｈ＝＝０１７０ＯＮＭ
Ｒ（ＤＭ Ｓ Ｏ−ｄａ ）δ値：６．６５〜７．５８
（２Ｈ，ｍ）、 ７．８６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ
）。
Ｒ（ＤＭ Ｓ Ｏ−ｄａ ）δ値：６．６５〜７．５８
（２Ｈ，ｍ）、 ７．８６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ
）。
８．１２〜８．６８（ＩＨ，ｍ）、 １０．４９（Ｉ
Ｈ，ｂｅ）同様にして、りぎの化合物を得る。
Ｈ，ｂｅ）同様にして、りぎの化合物を得る。
０ ５−フルオロ−２−（４−フルオロフェニルアミノ
）−６−ヒドロキシニコチン酸 融点；２１６〜２１７℃（再結溶媒；アセトン：メタノ
ール＝１：１（容量比）） Ｉ Ｒ（ＫＢ ｒ ）、、！−’ ；νｅ＝ｏ １６
８５（ｓｈ）ＮＭＲ（ＤＭＳ Ｏ−ｄｓ ）δ値； ６．８４〜７．９４（５Ｈ，ｍ）、 １０．３３（Ｉ
Ｈ，ｂｓ）参考例６ ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フル
オロ−６−メドキシニコチン酸メチルエステル２．０Ｏ
ｆをテトラヒト°ロフラン６０−に溶解させ、室温でＩ
Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液２５．５−を加え、加熱還
流下で７時間反応させる。ついで、減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物に酢酸エチルＺｏｏｍおよび水１０
０１１ｔを加え、２Ｎ−塩酸でｐＨ２，０に調整する。
）−６−ヒドロキシニコチン酸 融点；２１６〜２１７℃（再結溶媒；アセトン：メタノ
ール＝１：１（容量比）） Ｉ Ｒ（ＫＢ ｒ ）、、！−’ ；νｅ＝ｏ １６
８５（ｓｈ）ＮＭＲ（ＤＭＳ Ｏ−ｄｓ ）δ値； ６．８４〜７．９４（５Ｈ，ｍ）、 １０．３３（Ｉ
Ｈ，ｂｓ）参考例６ ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フル
オロ−６−メドキシニコチン酸メチルエステル２．０Ｏ
ｆをテトラヒト°ロフラン６０−に溶解させ、室温でＩ
Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液２５．５−を加え、加熱還
流下で７時間反応させる。ついで、減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物に酢酸エチルＺｏｏｍおよび水１０
０１１ｔを加え、２Ｎ−塩酸でｐＨ２，０に調整する。
有機層を分取し、水５０ｄおよび飽和食塩水５０ｄで順
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減
圧下に溶媒を留去し、得られた結晶性物質にジエチルエ
ーテル１０−を加えて結晶をＦ取すれば、融点２３７〜
２４０℃を示−ｒ ２− （２，４−ジフルオロフェニ
ルアミノ）−５−フルオロ−６−メドキシニコチン酸１
．４Ｏｆ（収率７３．３ ％ ）を得る。これをアセト
ンで再結晶すれば、融点２３９〜２４０℃を示す結晶を
得る。
次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減
圧下に溶媒を留去し、得られた結晶性物質にジエチルエ
ーテル１０−を加えて結晶をＦ取すれば、融点２３７〜
２４０℃を示−ｒ ２− （２，４−ジフルオロフェニ
ルアミノ）−５−フルオロ−６−メドキシニコチン酸１
．４Ｏｆ（収率７３．３ ％ ）を得る。これをアセト
ンで再結晶すれば、融点２３９〜２４０℃を示す結晶を
得る。
Ｉ Ｒ（ＫＢ ｒ ）ｚ−” ；νｃ＝□ １６６５
ＮＭＲ（ＤＭＳ Ｏ−ｄａ ）δ値； ３．９８（３Ｈ，ｓ）、 ６．７６〜７．４８（２４
ｍ）。
ＮＭＲ（ＤＭＳ Ｏ−ｄａ ）δ値； ３．９８（３Ｈ，ｓ）、 ６．７６〜７．４８（２４
ｍ）。
７．８６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ）。
８．１０〜８．６０（ＩＨ，ｍ）、 １０．５１（Ｉ
Ｈ，ｂ＋ｓ）同様にして、つぎの化合物を得る。
Ｈ，ｂ＋ｓ）同様にして、つぎの化合物を得る。
０２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フ
ルオロ−６−（メシチレンスルホニルオキシ）ニコチン
酸 融点；１７９〜１８０℃（再結溶媒：ベンゼン）Ｉ Ｒ
（ＫＢ ｒ ）。−” ；シｃ、１６６５ＮＭＲ（アセ
トン−ｄａ）δ値； ２．３２（３Ｈ，ｓ）、２．５５（６Ｈ，ａ）。
ルオロ−６−（メシチレンスルホニルオキシ）ニコチン
酸 融点；１７９〜１８０℃（再結溶媒：ベンゼン）Ｉ Ｒ
（ＫＢ ｒ ）。−” ；シｃ、１６６５ＮＭＲ（アセ
トン−ｄａ）δ値； ２．３２（３Ｈ，ｓ）、２．５５（６Ｈ，ａ）。
○ ２−（２，４−ジフルオロフェニル７ミ／）−５−
フルオロ−６−（２，４，６−）リイソプロビルベンゼ
ンスルホニルオキシ）ニコチン酸融点；１６３．５〜１
６４．５℃（再結溶媒；ベンゼン）Ｉ Ｒ（ＫＢ ｒ
）ｃｔｎ−” ；シｃ＝ｏ１６７５ＤＣ１ａ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ａｍ″ １．２２（１２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 １．３０（
６Ｈ，ｄ。
フルオロ−６−（２，４，６−）リイソプロビルベンゼ
ンスルホニルオキシ）ニコチン酸融点；１６３．５〜１
６４．５℃（再結溶媒；ベンゼン）Ｉ Ｒ（ＫＢ ｒ
）ｃｔｎ−” ；シｃ＝ｏ１６７５ＤＣ１ａ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）ａｍ″ １．２２（１２Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 １．３０（
６Ｈ，ｄ。
Ｊ＝７Ｈｚ）、 ２．５５〜３．３０（ＩＨ，ｍ）。
９．６６（ＩＨ，ｂｌｌ）、 １０．５７（ＩＨ，ｂ
ｓ）ｏ ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）
−６−エチルチオ−５−フルオロニコチン酸融点；２０
９〜２１０℃（再結溶媒；ベンゼン）ＩＲ（ＫＢ ｒ
）ｃｍ−” ；νｅ＝ｏ １６６５ＮＭＲ（アセトン
−ｄ、）δ値１ １．３０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３．１４（２Ｈ，
ｑ。
ｓ）ｏ ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）
−６−エチルチオ−５−フルオロニコチン酸融点；２０
９〜２１０℃（再結溶媒；ベンゼン）ＩＲ（ＫＢ ｒ
）ｃｍ−” ；νｅ＝ｏ １６６５ＮＭＲ（アセトン
−ｄ、）δ値１ １．３０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３．１４（２Ｈ，
ｑ。
Ｊ＝７Ｈｚ）、６．７０〜７．５０（２Ｈ，ｍ）。
９．７０（ＩＨ，ｂｓ）ｓ １０．２７（ＩＨ，ｂａ
）０ ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５
−フルオロ−６−フェニルチオニコチン酸融点；２６４
〜２６５℃（再結溶媒；酢酸エチル：エタノール＝１
： １ （容量比）） Ｉ Ｒ（ＫＢ ｒ ）備−ｉ Ｈνｃ−ｏ１６６ＯＮＭ
Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値； ６、ＯＯ〜７．７３（８Ｈ，ｍ）、７．８５（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝１０Ｈｚ）。
）０ ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５
−フルオロ−６−フェニルチオニコチン酸融点；２６４
〜２６５℃（再結溶媒；酢酸エチル：エタノール＝１
： １ （容量比）） Ｉ Ｒ（ＫＢ ｒ ）備−ｉ Ｈνｃ−ｏ１６６ＯＮＭ
Ｒ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ値； ６、ＯＯ〜７．７３（８Ｈ，ｍ）、７．８５（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝１０Ｈｚ）。
１０．５８（ＬＨ，ｂｓ）
参考例７
２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フル
オロ−６−メドキシニコチン酸５．００１を塩化メチレ
ン１５０−に懸濁させ、塩化チオニル５．９８？および
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３滴を加え、加熱還流下
で２時間反応させる。減圧下圧溶媒および過剰の塩化チ
オニルを留去し、得られた結晶性物質にｎ−へキチン１
０−を加えて結晶をＦ取すれば、融点１５３〜１５４℃
を示す２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５
−フルオロ−６−メドキシニコチン酸クロリド４．８７
ｆ（収率９１．７ ％ ）を得る。これを塩化メチレン
で再結晶すれば、融点１５４〜１５５℃を示す結晶を得
る。
オロ−６−メドキシニコチン酸５．００１を塩化メチレ
ン１５０−に懸濁させ、塩化チオニル５．９８？および
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド３滴を加え、加熱還流下
で２時間反応させる。減圧下圧溶媒および過剰の塩化チ
オニルを留去し、得られた結晶性物質にｎ−へキチン１
０−を加えて結晶をＦ取すれば、融点１５３〜１５４℃
を示す２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５
−フルオロ−６−メドキシニコチン酸クロリド４．８７
ｆ（収率９１．７ ％ ）を得る。これを塩化メチレン
で再結晶すれば、融点１５４〜１５５℃を示す結晶を得
る。
Ｉ Ｒ（ＫＢ ｒ ）ｍ−” ニジｃ＝ｏ１６８ＯＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ１ａ）δ値： ３．９８ （３Ｈ，ｓ） 、、 ６．６０〜７．１０
（２Ｈ，ｍ） 。
Ｒ（ＣＤＣ１ａ）δ値： ３．９８ （３Ｈ，ｓ） 、、 ６．６０〜７．１０
（２Ｈ，ｍ） 。
同様にして１表−３に示す化合物を得る。
（以下余白）
参考例８
ｚ−＜２．４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フル
オロ−６−（メシチレンスルホニルオキシ：ニコチン酸
クロリド５００■を塩化メチＬ／：／１Ｑａｄに溶解さ
せ、−２０℃でイミダゾール７７ｍ９およびトリエチル
アミン１２０■を含む塩化メチレン溶液ｌｄを滴下した
後室温で３０分間反応させる。つ匹で反応液に水５ｄを
加え、２Ｎ−塩酸でｐＨ２，０に調整する。有機層を分
取し、水５ｄおよび飽和食塩水５ｄで順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留
去し、得られた結晶性物質にジイソプロピルエーテル２
−を加えて、結晶を戸数すれば、融点９８〜１０１℃を
示す１−［２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）
−５−フルオロ−６−（メシチレンスルホニルオキシ）
ニコチノイルコイミダゾール４８５■（収率９１、１
％ ）を得る。これをジイソプロピルエーテル−ジエチ
ルエーテル（容量比５：２）混合溶媒で再結晶すれば、
融点１０３〜１０５℃を示す結晶を得る。
オロ−６−（メシチレンスルホニルオキシ：ニコチン酸
クロリド５００■を塩化メチＬ／：／１Ｑａｄに溶解さ
せ、−２０℃でイミダゾール７７ｍ９およびトリエチル
アミン１２０■を含む塩化メチレン溶液ｌｄを滴下した
後室温で３０分間反応させる。つ匹で反応液に水５ｄを
加え、２Ｎ−塩酸でｐＨ２，０に調整する。有機層を分
取し、水５ｄおよび飽和食塩水５ｄで順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留
去し、得られた結晶性物質にジイソプロピルエーテル２
−を加えて、結晶を戸数すれば、融点９８〜１０１℃を
示す１−［２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）
−５−フルオロ−６−（メシチレンスルホニルオキシ）
ニコチノイルコイミダゾール４８５■（収率９１、１
％ ）を得る。これをジイソプロピルエーテル−ジエチ
ルエーテル（容量比５：２）混合溶媒で再結晶すれば、
融点１０３〜１０５℃を示す結晶を得る。
Ｉ ｎ （ｘ ｎ ｒ ） 信−１；シロ＝＋０１６７
ＯＮＭＲ（ＣＤＣＩａ ）δ値； ２．３３（３Ｈ，ｓ）、 ２．６０（６１Ｆ（，３）
。
ＯＮＭＲ（ＣＤＣＩａ ）δ値； ２．３３（３Ｈ，ｓ）、 ２．６０（６１Ｆ（，３）
。
６．３５〜８．１５（９Ｈ，ｍ）、９．６０（ＬＨ，ｂ
８）同様にして表−４に示すｆヒ合物を得る。
８）同様にして表−４に示すｆヒ合物を得る。
（以下余白）
参考例９
２−（２，４−ジフルオロフェニルア２））−５−フル
オロ−６−ヒドロキシニコチン酸２．３４ ｆを無水テ
トラヒドロ７ラン９４−に懸濁させ、水冷下でＮ 、
Ｎ’−カルボニルジイミダゾール２．０゜ｆを添加し、
室温で２時間反応させる。ついで。
オロ−６−ヒドロキシニコチン酸２．３４ ｆを無水テ
トラヒドロ７ラン９４−に懸濁させ、水冷下でＮ 、
Ｎ’−カルボニルジイミダゾール２．０゜ｆを添加し、
室温で２時間反応させる。ついで。
室温テエトキシカルボニル酢酸のマグネシウム塩３、５
Ｏｆを添加し、加熱還流下で１．５時間反応させた後
、反応液を酢酸エチル１５０−および水１５〇−の混合
液に加え、６Ｎ−塩酸でｐＨ２，０４ｃ調整する。有機
層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液８０−およ
び水８０ａｄで順次洗浄した後、水８０ｍを加え、６Ｎ
−塩酸でｐＨ２，０に調整する。有機層を分取し、水８
０ｄおよび飽和食塩水８０ｍで順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、
得られた結晶性物質にジエチルエーテル８−を加えて結
晶を戸数すれば、融点１６１〜１６２℃を示す２−（２
−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フルオ
ロ−６−ヒドロキシニコチノイル〕酢酸エチルエステル
１．９３Ｆ（収率６６．２ ％ ）を得る。これをベン
ゼンで再結晶すれば、融点１６１．５〜１６２℃を示す
結晶を得る。
Ｏｆを添加し、加熱還流下で１．５時間反応させた後
、反応液を酢酸エチル１５０−および水１５〇−の混合
液に加え、６Ｎ−塩酸でｐＨ２，０４ｃ調整する。有機
層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液８０−およ
び水８０ａｄで順次洗浄した後、水８０ｍを加え、６Ｎ
−塩酸でｐＨ２，０に調整する。有機層を分取し、水８
０ｄおよび飽和食塩水８０ｍで順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、
得られた結晶性物質にジエチルエーテル８−を加えて結
晶を戸数すれば、融点１６１〜１６２℃を示す２−（２
−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フルオ
ロ−６−ヒドロキシニコチノイル〕酢酸エチルエステル
１．９３Ｆ（収率６６．２ ％ ）を得る。これをベン
ゼンで再結晶すれば、融点１６１．５〜１６２℃を示す
結晶を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）（Ｍ１″″１；シｃ＝０１７２５．１６
６５ＮＭＲ（ＣＤＣ１ａ）δ値； １．２９（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ３．７４（２
Ｈ，ｓ）、 ４．２０（２Ｈｅｑｊ＝７ＨｚＬ ６
．５７〜７．６９（４Ｈ，ｍ）。
６５ＮＭＲ（ＣＤＣ１ａ）δ値； １．２９（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ３．７４（２
Ｈ，ｓ）、 ４．２０（２Ｈｅｑｊ＝７ＨｚＬ ６
．５７〜７．６９（４Ｈ，ｍ）。
１０．１７（ＩＨ，ｂｌｉ）、 １１．５２（ＩＬｂ
ｓ）同様にして、つぎの化合物を得る。
ｓ）同様にして、つぎの化合物を得る。
０２−Ｃｓ−フルオロ−２−（４−フルオロフェニルア
ミノ）−６−ヒドロキシニコチノイル〕酢酸エチルエス
テル 融点；１８５℃（分解）（再結溶媒；酢酸エチル）Ｉ
Ｒ（Ｋ Ｂ ｒ ） ｃｆｎ−” ｅνｃ＝ｏ １７１
５．１６８５ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ値： １．３０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３．７５（２Ｈ，
ｓ）。
ミノ）−６−ヒドロキシニコチノイル〕酢酸エチルエス
テル 融点；１８５℃（分解）（再結溶媒；酢酸エチル）Ｉ
Ｒ（Ｋ Ｂ ｒ ） ｃｆｎ−” ｅνｃ＝ｏ １７１
５．１６８５ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ値： １．３０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３．７５（２Ｈ，
ｓ）。
４．２５（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０８〜７．３
４（４Ｈ，ｍ）。
４（４Ｈ，ｍ）。
’Ｉ−４８（Ｉ Ｈ−ｄ ｓ Ｊ＝１１ Ｈｚ ） −
１１，６８（Ｉ Ｈ−ｂ ｓ ）参考例１Ｏ ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フル
オロ−６−メドキシニコチン酸クロリド２００ｉｖｌ［
；水テトラヒドロフラン７ｍｌに溶解させ、−２０〜−
１０℃でイミダゾール４５■およびトリエチルアミン６
５１Ｈｉを含む無水テトラヒドロフラン溶液１ｄを滴下
した後、室温で３０分間反応させる。ついで、室温でエ
トキシカルボニル酢酸のマグネシウム塩１５０ｑを添加
し、加熱還流下で３０分間反応させた後１反応液を酢酸
エチル１０−および水１０ｊ１ｇの混合液に加え、２Ｎ
−塩酸でＰＨ２、０に調整する。有機層を分取し、水５
−を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７，５
に調整する。有機層を分取し、水５ｄおよび飽和食塩水
５−で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶性物質にジ
イソプロピルエーテル１ｍを加、ｔて結晶をＦ取すれば
、融点１４８〜１４９℃を示す２−Ｃ２−Ｃ２，４−ジ
フルオロフェニルアミノ）−５−フルオロ−６−メドキ
シニコチノイル〕酢酸エチルエステル１９０■（収率８
１．７９ｇ）を得る。これをベンゼンで再結晶すれば、
融点１４９〜１５０℃を示す結晶を得る。
１１，６８（Ｉ Ｈ−ｂ ｓ ）参考例１Ｏ ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フル
オロ−６−メドキシニコチン酸クロリド２００ｉｖｌ［
；水テトラヒドロフラン７ｍｌに溶解させ、−２０〜−
１０℃でイミダゾール４５■およびトリエチルアミン６
５１Ｈｉを含む無水テトラヒドロフラン溶液１ｄを滴下
した後、室温で３０分間反応させる。ついで、室温でエ
トキシカルボニル酢酸のマグネシウム塩１５０ｑを添加
し、加熱還流下で３０分間反応させた後１反応液を酢酸
エチル１０−および水１０ｊ１ｇの混合液に加え、２Ｎ
−塩酸でＰＨ２、０に調整する。有機層を分取し、水５
−を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７，５
に調整する。有機層を分取し、水５ｄおよび飽和食塩水
５−で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去し、得られた結晶性物質にジ
イソプロピルエーテル１ｍを加、ｔて結晶をＦ取すれば
、融点１４８〜１４９℃を示す２−Ｃ２−Ｃ２，４−ジ
フルオロフェニルアミノ）−５−フルオロ−６−メドキ
シニコチノイル〕酢酸エチルエステル１９０■（収率８
１．７９ｇ）を得る。これをベンゼンで再結晶すれば、
融点１４９〜１５０℃を示す結晶を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｌｎ−１；ν（！＝０ １７４５ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＩａ ）δ値； １．３０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ３．９０（２
Ｈ，ｓ）。
Ｒ（ＣＤＣＩａ ）δ値； １．３０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ３．９０（２
Ｈ，ｓ）。
４．０２（３Ｈ，ｌｌ）、４．２７（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７
Ｈｚ）。
Ｈｚ）。
６．６５〜７．３５（２Ｈ，ｍ）、 ７．７３（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ）。
，ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ）。
７．９０〜８．４０（ＩＨ，ｍ）、 １１．１９（Ｉ
Ｈ，ｂｓ）同様にして１表−５に示す化合物を得る。
Ｈ，ｂｓ）同様にして１表−５に示す化合物を得る。
（以下余白）
参考例１１
１−Ｃ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５
−フルオロ−６−（メシチレンスルホニルオキシ）ニコ
チノイルコイミダゾール２００ηを無水テトラヒドロ７
ラン４−ＩＣ溶解させ、エトキシカルボニル酢′酸のマ
グネシウム塩９Ｑｉｇを加え、５０〜６０℃で２０分間
反応させる。ついで１反応液を酢酸エチル１０−および
水１０ｍの混合液に加え。
−フルオロ−６−（メシチレンスルホニルオキシ）ニコ
チノイルコイミダゾール２００ηを無水テトラヒドロ７
ラン４−ＩＣ溶解させ、エトキシカルボニル酢′酸のマ
グネシウム塩９Ｑｉｇを加え、５０〜６０℃で２０分間
反応させる。ついで１反応液を酢酸エチル１０−および
水１０ｍの混合液に加え。
２Ｎ−塩酸でｐＨ２，０に調整する。有機層を分取し、
水５１ｍｇおよび飽和食塩水５ｍで順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
し、得られた結晶性物質にジエチルエーテル１ｄを加え
て結晶を戸数すれば、２−〔２−（２，４−ジフルオロ
フェニルアミ／）−５−フルオロ−６−（メシチレンス
ルホニルオキシ）ニコチノイル〕酢酸エチルエステル１
７５ Ｗ （収率８４．２％）を得る。この化合物の物
性は、参考例１０で得られたものと一致した。
水５１ｍｇおよび飽和食塩水５ｍで順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
し、得られた結晶性物質にジエチルエーテル１ｄを加え
て結晶を戸数すれば、２−〔２−（２，４−ジフルオロ
フェニルアミ／）−５−フルオロ−６−（メシチレンス
ルホニルオキシ）ニコチノイル〕酢酸エチルエステル１
７５ Ｗ （収率８４．２％）を得る。この化合物の物
性は、参考例１０で得られたものと一致した。
同様にしてつぎの化合物を得る。
０ ２−［２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）
−５−フルオロ−６−メドキシニコチノイル〕酢酸エチ
ルエステル ０ ２−（２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）
−６−エチルチオ−５−フルオロニコチノイル〕酢酸エ
チルエステル ０ ２−Ｃ２−＜２．４−ジフルオロフェニルアミ／）
−５−フルオロ−６−フェニルチオニコチノイル〕酢酸
エチルエステル これらの化合物の物性は、＃前例１０で得られたものと
一致した。
−５−フルオロ−６−メドキシニコチノイル〕酢酸エチ
ルエステル ０ ２−（２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）
−６−エチルチオ−５−フルオロニコチノイル〕酢酸エ
チルエステル ０ ２−Ｃ２−＜２．４−ジフルオロフェニルアミ／）
−５−フルオロ−６−フェニルチオニコチノイル〕酢酸
エチルエステル これらの化合物の物性は、＃前例１０で得られたものと
一致した。
参考例１２
２−［２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５
−フルオロ−６−ヒドロキシニコチノイル〕酢酸エチル
エステル１００１ｑを酢酸二チル２−に溶解させ氷冷下
でジアゾメタン１５！を含むジエチルエーテル溶液０．
５ ｍｇを添加し、室温で３０分間反応させる。反応液
に発泡が生じなくなるまで酢酸を加えた後、減圧下に溶
媒を留去する。得られた結晶性物質にジイソプロピルエ
ーテル２ｍを加えて結晶をＦ取すれば、２−Ｃ２−Ｃ２
，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フルオロ−６
−メドキシニコチノイル〕酢酸エチルエステル８０ｖ（
収率７７．０４ ）を得る。
−フルオロ−６−ヒドロキシニコチノイル〕酢酸エチル
エステル１００１ｑを酢酸二チル２−に溶解させ氷冷下
でジアゾメタン１５！を含むジエチルエーテル溶液０．
５ ｍｇを添加し、室温で３０分間反応させる。反応液
に発泡が生じなくなるまで酢酸を加えた後、減圧下に溶
媒を留去する。得られた結晶性物質にジイソプロピルエ
ーテル２ｍを加えて結晶をＦ取すれば、２−Ｃ２−Ｃ２
，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５−フルオロ−６
−メドキシニコチノイル〕酢酸エチルエステル８０ｖ（
収率７７．０４ ）を得る。
この化合物の物性は参考例１０で得られた亀のと一致し
た。
た。
参考例１３
２−［２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−５
−フルオロ−６−ヒドロキシニコチノイル〕酢酸エチル
エステル４００ ”ＩＰを塩化メチレン４ｄに溶解させ
、水冷下でメシチレンスルホニルクロリド３００ ”Ｉ
Ｆおよびトリエチルアミン１５０１１９を添加し、室温
で２時間反応させる。反応液ｊＣＪＩＪＩ化メチレン４
−および水４−を加えて有機層を分取する。有機層を水
４ｄおよび飽和食塩水４ｄで順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得
られた結晶性物質にジエチルエーテル２ｄを加えて結晶
を戸数すれば、２−［２−（２，４−ジフルオロフェニ
ルアミノ）−５−フルオロ−６−（メシチレンスルホニ
ルオキシ）ニコチノイル］酢酸エチルエステル５２０
＃ （収率８５．８１）を得る。
−フルオロ−６−ヒドロキシニコチノイル〕酢酸エチル
エステル４００ ”ＩＰを塩化メチレン４ｄに溶解させ
、水冷下でメシチレンスルホニルクロリド３００ ”Ｉ
Ｆおよびトリエチルアミン１５０１１９を添加し、室温
で２時間反応させる。反応液ｊＣＪＩＪＩ化メチレン４
−および水４−を加えて有機層を分取する。有機層を水
４ｄおよび飽和食塩水４ｄで順次洗浄した後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去する。得
られた結晶性物質にジエチルエーテル２ｄを加えて結晶
を戸数すれば、２−［２−（２，４−ジフルオロフェニ
ルアミノ）−５−フルオロ−６−（メシチレンスルホニ
ルオキシ）ニコチノイル］酢酸エチルエステル５２０
＃ （収率８５．８１）を得る。
この化合物の物性は、参考例１０で得られたものと一致
した。
した。
同様にして、つぎの化合物を得る。
０ ２−［２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）
−５−フルオロ−６−（２，４，６−）リイソプロピル
ベンゼンスルホ二ルオキシ）ニコチノイル〕酢酸エチル
エステル この化合物の物性は、参考例１０で得られたものと一致
した。
−５−フルオロ−６−（２，４，６−）リイソプロピル
ベンゼンスルホ二ルオキシ）ニコチノイル〕酢酸エチル
エステル この化合物の物性は、参考例１０で得られたものと一致
した。
０ ２−Ｃ２−Ｃ２，４−ジフルオロフェニルアミノ）
−５−フルオロ−６−メタンスルホニルオキシニコチノ
イル〕酢酸エチルエステル融点；９８〜９９℃（再結溶
媒；ベンゼン）ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｒｎ′″ｌ；シｅ−ｏ
１７３ＯＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ値； １．２７（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３．２８（３Ｈ，
ｓ）。
−５−フルオロ−６−メタンスルホニルオキシニコチノ
イル〕酢酸エチルエステル融点；９８〜９９℃（再結溶
媒；ベンゼン）ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｒｎ′″ｌ；シｅ−ｏ
１７３ＯＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ値； １．２７（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３．２８（３Ｈ，
ｓ）。
３．９３（２Ｈ，ｓ）、 ４．２３（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７
Ｈｚ）。
Ｈｚ）。
６．６３〜７．４３（２Ｈ，ｍ）。
参考例１４
２−（２−（２，＋−ジフルオロフェニルアミノ）−５
−フルオロ−６−（２，４，６−）リイソプロピルベン
ゼンスルホニルオキシ）ニコチノイル］酢酸エチルエス
テル５．８ＯｆをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５８−
に溶解させ、チオフェノール１．２４ ｆおよびトリエ
チルアミン１．２３Ｐを添加し、室温で４時間反応させ
る。ついで１反応液に酢酸エチル４００−および水２０
０ ｍｇを加え、２Ｎ−塩酸でｐＨ２，ＯＫ調整する。
−フルオロ−６−（２，４，６−）リイソプロピルベン
ゼンスルホニルオキシ）ニコチノイル］酢酸エチルエス
テル５．８ＯｆをＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド５８−
に溶解させ、チオフェノール１．２４ ｆおよびトリエ
チルアミン１．２３Ｐを添加し、室温で４時間反応させ
る。ついで１反応液に酢酸エチル４００−および水２０
０ ｍｇを加え、２Ｎ−塩酸でｐＨ２，ＯＫ調整する。
有機層を分取し、水２００ ｍおよび飽和食塩水２００
Ｉｌｔで順次洗浄した後。
Ｉｌｔで順次洗浄した後。
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留
去し、得られた結晶性物質にｎ−へキサン５０ｄを加え
て結晶を戸数すれば、２−［２−（２，４−ジフルオロ
フェニルアミノ）−５−フルオロ−６−フェニルチオニ
コチノイル〕酢酸エチルエステル３．９９ｔ（収率９５
．６係）を得る。
去し、得られた結晶性物質にｎ−へキサン５０ｄを加え
て結晶を戸数すれば、２−［２−（２，４−ジフルオロ
フェニルアミノ）−５−フルオロ−６−フェニルチオニ
コチノイル〕酢酸エチルエステル３．９９ｔ（収率９５
．６係）を得る。
この化合物の物性は、参考例ＩＯで得られたものと一致
した。
した。
同様にして、つぎの化合物を得る。
○ ２−Ｃ２−Ｃ２，４−ジフルオロフェニルアミ／）
−６−エチルチオ−５−フルオロニコチノイル〕酢酸エ
チルエステル この化合物の物性は、参考例１０で得られたものと一致
した。
−６−エチルチオ−５−フルオロニコチノイル〕酢酸エ
チルエステル この化合物の物性は、参考例１０で得られたものと一致
した。
参考例１５
２−［”２−（２，４−シフルオ日フェニル７ミ／）−
５−フルオロ−６−ヒドロキシニコチノイル〕酢酸エチ
ルエステル１．０Ｏｆを無水アセトニトリル１０−に懸
濁させ、水冷下でトリエチルアミン３９０■およびジエ
チルリン酸クロリド６７０１１Ｆｔ−加え、室温で１．
５時間反応させる。この反応液に塩化メチレン５０−お
よび水５０１Ｍｔを加え、有機層を分取し、水５０ｓｄ
ずつで４回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にｎ−ヘ
キサン１５−を加えて析出結晶を戸数すれば、融点１２
７〜１３０℃を示す２−（６−ジニトキシホスフイニル
オキシー２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−
５−フルオロニコチノイル〕酢酸エチルエステル１、２
６ ｆ （収率９１．０ ％ ）を得る。これをベンゼ
ンで再結晶すれば、融点１３１．５〜１３３℃を示す結
晶を得る。
５−フルオロ−６−ヒドロキシニコチノイル〕酢酸エチ
ルエステル１．０Ｏｆを無水アセトニトリル１０−に懸
濁させ、水冷下でトリエチルアミン３９０■およびジエ
チルリン酸クロリド６７０１１Ｆｔ−加え、室温で１．
５時間反応させる。この反応液に塩化メチレン５０−お
よび水５０１Ｍｔを加え、有機層を分取し、水５０ｓｄ
ずつで４回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にｎ−ヘ
キサン１５−を加えて析出結晶を戸数すれば、融点１２
７〜１３０℃を示す２−（６−ジニトキシホスフイニル
オキシー２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−
５−フルオロニコチノイル〕酢酸エチルエステル１、２
６ ｆ （収率９１．０ ％ ）を得る。これをベンゼ
ンで再結晶すれば、融点１３１．５〜１３３℃を示す結
晶を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ａｙｓ″″ｌ；シｃ、１７４ＯＮＭＲ（
ＣＤＣＩｇ）δ値； １．３０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 １．３３（３
Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。
ＣＤＣＩｇ）δ値； １．３０（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 １．３３（３
Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。
１．３５（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ３．９５（２
Ｈ，ａ）。
Ｈ，ａ）。
４．１５（２Ｈ，（１，Ｊ＝７Ｈｚ）、 ４．２５（
２Ｈ，ｑ、Ｊ−７Ｈｚ）。
２Ｈ，ｑ、Ｊ−７Ｈｚ）。
４．３０（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ６．６５〜７
．３５（２Ｈ，ｍ）。
．３５（２Ｈ，ｍ）。
７．９６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、 ８．１５〜８
．７５（ＩＨ，ｍ）。
．７５（ＩＨ，ｍ）。
１１．０５（ＩＨ，ｂａ）
同様にして、つぎの化合物を得る。
２−（２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−６
−ジフエツキシホスフイニルオキシー５−フルオロニコ
チノイル］酢酸エチルエステル融点；８５〜８６℃（再
結溶媒；ジエチルエーテル）Ｉ Ｒ（ＫＢ ｒ ）３−
” ；シｅ＝ｏ１７４ＯＮＭＲ（ＣＤＣｌａ ）δ値； １．２５（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３．９０（２Ｈ，
５）−４，２０（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）。
−ジフエツキシホスフイニルオキシー５−フルオロニコ
チノイル］酢酸エチルエステル融点；８５〜８６℃（再
結溶媒；ジエチルエーテル）Ｉ Ｒ（ＫＢ ｒ ）３−
” ；シｅ＝ｏ１７４ＯＮＭＲ（ＣＤＣｌａ ）δ値； １．２５（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３．９０（２Ｈ，
５）−４，２０（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）。
７．７５ ８．５５ （２Ｈ＊ ｍ ） −１１−０７
（Ｉ Ｈ−ｂ ｓ ）参考例１６ ２−Ｃ２−Ｃ２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−６
−エチルチオ−５−フルオロニコチノイル〕酢酸エチル
エステル１．４０ ｆ を塩化メチレン１４ｄに溶解さ
せ、氷冷下でｍ−クロロ過安息香酸（純度：８０憾）１
．５９Ｆを加え、室温で３時間反応させる。析出物を戸
別した後、Ｆ液に水１０ｄを加え、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液でｐＨＬ５に調整する。有機層を分取し、水
１０−および飽和食塩水１０ｄで順次洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し
、得られた残留物にジエチルエーテルｌＯ−を加えて析
出結晶を戸数すれば、融点１１３〜１１４５’Ｃｔ示ｆ
２− Ｃ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−
６−二タンスルホニルー５−フルオロニコチノイル〕酢
酸エチルエステル１．２８ｆ（収率８４．６％）を得る
。これをジイソプロビルエーチルで再結晶すれく融点１
１４〜１１５℃を示す結晶を得る。
（Ｉ Ｈ−ｂ ｓ ）参考例１６ ２−Ｃ２−Ｃ２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−６
−エチルチオ−５−フルオロニコチノイル〕酢酸エチル
エステル１．４０ ｆ を塩化メチレン１４ｄに溶解さ
せ、氷冷下でｍ−クロロ過安息香酸（純度：８０憾）１
．５９Ｆを加え、室温で３時間反応させる。析出物を戸
別した後、Ｆ液に水１０ｄを加え、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液でｐＨＬ５に調整する。有機層を分取し、水
１０−および飽和食塩水１０ｄで順次洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し
、得られた残留物にジエチルエーテルｌＯ−を加えて析
出結晶を戸数すれば、融点１１３〜１１４５’Ｃｔ示ｆ
２− Ｃ２−（２，４−ジフルオロフェニルアミノ）−
６−二タンスルホニルー５−フルオロニコチノイル〕酢
酸エチルエステル１．２８ｆ（収率８４．６％）を得る
。これをジイソプロビルエーチルで再結晶すれく融点１
１４〜１１５℃を示す結晶を得る。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｒｎ−”；シｃ＝ｏ１７４ＱＮＭＲ（
ＣＤＣ１ａ）δ値； １．２４（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 １．２７（３
Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。
ＣＤＣ１ａ）δ値； １．２４（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 １．２７（３
Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。
３．２７（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ４．００（２
Ｈ，ｇ）。
Ｈ，ｇ）。
４．１８（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ６．５５〜７
．１０（２Ｈ，ｆｔ１）。
．１０（２Ｈ，ｆｔ１）。
同様にして、つぎの化合物を得る。
０ ２−［６−ペンゼンスルホニルー２−（２，４−ジ
フルオロフェニルアミノ）−５−フルオロニコチノイル
〕酢酸エチルエステル 融点；１４０〜１４１℃（再結溶媒；酢酸エチル）Ｉ
Ｒ（ＫＢ ｒ ）ｃＩＩｒ” ；シｃ＝ｏ１７４ＯＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ３ａ ）δ値； １．２７（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ４．０１（２
Ｈ，ａ）。
フルオロフェニルアミノ）−５−フルオロニコチノイル
〕酢酸エチルエステル 融点；１４０〜１４１℃（再結溶媒；酢酸エチル）Ｉ
Ｒ（ＫＢ ｒ ）ｃＩＩｒ” ；シｃ＝ｏ１７４ＯＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ３ａ ）δ値； １．２７（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、 ４．０１（２
Ｈ，ａ）。
４．２１（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、６．４０〜７．０
０（２Ｈ，ｍ）。
０（２Ｈ，ｍ）。
Claims (1)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１＾ａはカルボキシル保護基を；Ｒ＾２は
ヒドロキシル基または置換基を有していてもよいアルコ
キシ、アルカンスルホニル、アレーンスルホニル、アル
カンスルホニルオキシ、アレーンスルホニルオキシ、ジ
アルコキシホスフィニルオキシもしくはジアリールオキ
シホスフィニルオキシ基を；およびＸは水素原子または
フッ素原子を示す。〕 で表わされる化合物またはその塩とＮ，Ｎ−ジ置換ホル
ムアミド類から導かれるビルスマイヤー試薬を反応させ
、所望により、カルボキシル保護基を脱離または塩に変
換させることを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは前記と同じ意味を有し、Ｒ＾１は水素原子
またはカルボキシル保護基を；およびＹはハロゲン原子
を示す。〕 で表わされる１，４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジ
ン誘導体またはその塩の製造法。
Priority Applications (45)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60097065A JPH0662619B2 (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | １，４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジン誘導体またはその塩の新規製造法 |
| AT72/86A AT392789B (de) | 1985-01-23 | 1986-01-14 | Verfahren zur herstellung von 1-substituierten aryl-1,4-dihydro-4-oxonaphthyridinderivaten |
| GB8601045A GB2170804B (en) | 1985-01-23 | 1986-01-16 | Novel process for producing 1-substituted aryl-1, 4-dihydro-4-oxonaphthyridine derivative, intermediates thereof and processes for producing the intermediates |
| US06/819,821 US4704459A (en) | 1985-01-23 | 1986-01-17 | Process for producing 1-substituted aryl-1,4-dihydro-4-oxonaphthyridine derivatives, and processes for producing the intermediates |
| DE3637679A DE3637679C1 (de) | 1985-01-23 | 1986-01-20 | 2-(5-Fluornicotinoyl)-essigsaeure-Derivate und Verfahren zu deren Herstellung |
| DE19863601517 DE3601517A1 (de) | 1985-01-23 | 1986-01-20 | Neues verfahren zur herstellung von 1-subst.-aryl-1,4-dihydro-4-oxonaphthyridin- derivaten, zwischenprodukte desselben und verfahren zur herstellung der zwischenprodukte |
| DE3641633A DE3641633C2 (de) | 1985-01-23 | 1986-01-20 | Neue 5-Fluornicotinsäurederivate, deren Salze und reaktive Derivate der Carboxylgruppe derselben |
| FI860250A FI83313C (fi) | 1985-01-23 | 1986-01-20 | Ny foerfarande foer framstaellning av 1-(substituerad aryl)-1,4-dihydro-4-oxo-1,8-naftyridinderivat och mellanprodukter vilka aer anvaendbara i foerfarandet. |
| DK032286A DK169570B1 (da) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | Fremgangsmåde til fremstilling af 1-substituerede aryl-1,4-dihydro-4-oxonaphthyridinderivater |
| NL8600138A NL192986C (nl) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | Werkwijze voor het bereiden van 1,4-dihydro-4-oxo-naftyridinederivaten. |
| CH235/86A CH667456A5 (de) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | Verfahren zur herstellung von in 1-stellung einen substituierten arylrest tragenden 1,4-dihydro-4-oxonaphthyridinderivaten. |
| IT47562/86A IT1190193B (it) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | Procedimento per la produzione di un derivato di aril-1,4-diidro-4-ossonaftiridina 1-sostituito,intermedi per il medesimo,e procedimenti per la produzione degli intermedi |
| SE8600274A SE462164B (sv) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | Foerfarande foer framstaellning av 1-substituerade aryl-1,4-dihydro-4-oxonaftyridinderivat |
| PH33316A PH22711A (en) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | Novel process for producing 1-substituted aryl-1,4-dihydro-4-oxonaphthyridine derivative, intermediates thereof and processes for producing the intermediates |
| CH643/88A CH671957A5 (ja) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | |
| NO860226A NO163227C (no) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | Fremgangsm te for fremstilling av 1-substituert-aryihydro-4-oksonaftyridin-derivater. |
| PT81889A PT81889B (pt) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | Processo para a preparacao de derivados de aril-1,4-dihidro-4-oxonaftiridina substituidos na posicao 1 e de compostos intermedios utilizaveis nesse processo |
| BE0/216165A BE904086A (fr) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | Nouveau procede de fabrication d'un derive d'(aryl substitue)-1 dihydro-1,4 oxo-4 naphtyridine substances intermediaires utilisees pour cette fabrication et procedes de fabrication des substances intermediaires. |
| KR1019860000388A KR880001078B1 (ko) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | 1-치환 아릴-1, 4-디히드로-4-옥소나프티리딘 유도체의 제조방법 |
| NZ214901A NZ214901A (en) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | Naphthyridine derivatives and nicotinic acid derivative intermediates |
| FR868600871A FR2576305B1 (fr) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | Nouveau procede de fabrication d'un derive d'(aryl substitue)-1 dihydro-1,4 oxo-4 naphtyridine, substances intermediaires utilisees pour cette fabrication et procedes de fabrication des substances intermediaires |
| CA000500107A CA1340706C (en) | 1985-01-23 | 1986-01-22 | Process for producing 1-substituted aryl-1,4-dihydro-4-oxonaphthyridine derivative, intermediates therefor and processes for producing the intermediates |
| IL77688A IL77688A (en) | 1985-01-23 | 1986-01-23 | Process for producing 7-substituted-6-fluoro-1-(4-fluoro or 2,4-difluorophenyl)-1,4-dihydro-4-oxo-1,8-naphthyridine-3-carboxylic acid derivatives and some new such derivatives produced thereby |
| IL88468A IL88468A (en) | 1985-01-23 | 1986-01-23 | 2-(4-fluoro or 2,4-difluorophenylamino)-5-fluoro-6-substituted nicotinic acid and nicotinyl acetic acid and their preparation |
| IL9240186A IL92401A (en) | 1985-01-23 | 1986-01-23 | Process for producing 7-halogeno-1-(4-fluoro or 2,4-difluorophenyl)-1,4-dihydro-4-oxo-1,8-naphthyridine-3-carboxylic acid derivative |
| LU86264A LU86264A1 (fr) | 1985-01-23 | 1986-01-23 | Nouveau procede de preparation d'un derive d'aryl-1,4-dihydro 4-oxonaphtyridine 1-substituee produits intermediaires pour ce derive et procede de preparation des produits intermediaires |
| PH35456A PH23202A (en) | 1985-01-23 | 1987-06-25 | 2-(5-fluoronicotinoyl) acetic acid derivatives and process of preparation thereof |
| PH35456A PH22956A (en) | 1985-01-23 | 1987-06-25 | Fluoronicotinic avid derivatives and process of preparing said compounds |
| US06/067,264 US4851535A (en) | 1985-01-23 | 1987-06-29 | Nicotinic acid derivatives |
| CH642/88A CH669378A5 (en) | 1985-01-23 | 1988-01-22 | 1-Fluoro:phenyl-1,8-naphthyridine-3-carboxylic acid derivs. prodn. |
| GB8811645A GB2204040B (en) | 1985-01-23 | 1988-05-17 | 2-(5-fluoronicotinoyl)-acetic acid intermediates |
| CA 568266 CA1340648C (en) | 1985-01-23 | 1988-05-31 | Process for producing 1-substituted aryl-1, 4-dihydro-4-oxonaphthyridine derivative, intermediates therefor and porcesses for producing the intermediates |
| CA000568265A CA1340783C (en) | 1985-01-23 | 1988-05-31 | Process for producing 1-substituted aryl-1, 4-dihydro-4-oxonaphthyridine derivative, intermediates therefor and processes for producing the intermediates |
| SE8902264A SE469983B (sv) | 1985-01-23 | 1989-06-21 | 2-(5-Fluoronikotinoyl)-ättiksyraderivat och förfarande för framställning av detta |
| SE8902265A SE469984B (sv) | 1985-01-23 | 1989-06-21 | 5-Fluoronikotinsyraderivat och förfarande för framställning därav |
| FI893074A FI85703C (fi) | 1985-01-23 | 1989-06-22 | Foerfarande foer framstaellning av 1,4 -dihydro-4-oxonaftyridinderivat. |
| FI893075A FI87647C (fi) | 1985-01-23 | 1989-06-22 | Foerfarande foer framstaellning av nya 5-fluornikotinsyror eller till karboxylgruppens det reaktiva derivat daerav eller salter daerav och deras mellanprodukter |
| NO892692A NO174888C (no) | 1985-01-23 | 1989-06-28 | Nye 2-(5-fluornikotinoyl)-eddiksyrederivater |
| NO892693A NO167804C (no) | 1985-01-23 | 1989-06-28 | Fremgangsmaate for fremstilling av 1-substituert-fenyl-1,4-dihydro-4-oksonaftyridin-derivater. |
| AT0200289A AT394193B (de) | 1985-01-23 | 1989-08-24 | Verfahren zur herstellung von neuen 5fluornicotins|uren oder von deren derivaten und salzen |
| AT2003/89A AT392791B (de) | 1985-01-23 | 1989-08-24 | Verfahren zur herstellung von 1-substituierten aryl-1,4-dihydro-4-oxonaphthyridinderivaten |
| DK285190A DK170857B1 (da) | 1985-01-23 | 1990-11-30 | 2-(5-Fluornicotinoyl)eddikesyrederivat og fremgangsmåde til fremstilling heraf |
| DK285290A DK170532B1 (da) | 1985-01-23 | 1990-11-30 | 5-Fluornicotinsyrederivat eller salt heraf eller reaktivt derivat i carboxylgruppen heraf |
| NO924181A NO178574C (no) | 1985-01-23 | 1992-10-29 | Nye 5-fluornikotinsyrederivater |
| NL9700011A NL193540C (nl) | 1985-01-23 | 1997-11-06 | Werkwijze voor het bereiden van nicotinezuurderivaten. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60097065A JPH0662619B2 (ja) | 1985-05-08 | 1985-05-08 | １，４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジン誘導体またはその塩の新規製造法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6062180A Division JPH07116154B2 (ja) | 1994-03-08 | 1994-03-08 | 新規な５−フルオロニコチン酸類のカルボキシル基における反応性誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61257985A true JPS61257985A (ja) | 1986-11-15 |
| JPH0662619B2 JPH0662619B2 (ja) | 1994-08-17 |
Family
ID=14182242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60097065A Expired - Lifetime JPH0662619B2 (ja) | 1985-01-23 | 1985-05-08 | １，４−ジヒドロ−４−オキソナフチリジン誘導体またはその塩の新規製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0662619B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS609191A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-18 | 富士通株式会社 | プリント板パタ−ンの形成方法 |
-
1985
- 1985-05-08 JP JP60097065A patent/JPH0662619B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS609191A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-18 | 富士通株式会社 | プリント板パタ−ンの形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0662619B2 (ja) | 1994-08-17 |
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