JPS6081850A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は半導体装置の製造方法に関し、特に半導体素子
とリードと全接続する金属細線の抵抗全経済的に減少さ
せることのできる組立方法に関するものである。
とリードと全接続する金属細線の抵抗全経済的に減少さ
せることのできる組立方法に関するものである。
一般にこの種半導体装置は例えば特公昭5’7−969
8号公報に開示されているように、放熱板に半導体素子
全固定すると共に、半導体素子の電極と一端が放熱板の
周辺に位置するように配設されたIJ−ドと全金属細線
にて接続し、かつ半導体素子7含む主要部分全樹脂材に
てモールド被覆して構成されている。
8号公報に開示されているように、放熱板に半導体素子
全固定すると共に、半導体素子の電極と一端が放熱板の
周辺に位置するように配設されたIJ−ドと全金属細線
にて接続し、かつ半導体素子7含む主要部分全樹脂材に
てモールド被覆して構成されている。
ところで、この半導体装置において、半導体素子の放熱
板への固定は半導体素子全コレットにて真空吸着した上
で、半導体素子全放熱板に半田部材を介して押しつける
ことによって行われる関係で、リードの一端はコレット
及び半導体素子7避けて配設されている。このために、
半導体素子の電極とリードとの間隔は広くなり、それぞ
れに接続される金属細巌のスパンも必然的に長くなるも
のである。
板への固定は半導体素子全コレットにて真空吸着した上
で、半導体素子全放熱板に半田部材を介して押しつける
ことによって行われる関係で、リードの一端はコレット
及び半導体素子7避けて配設されている。このために、
半導体素子の電極とリードとの間隔は広くなり、それぞ
れに接続される金属細巌のスパンも必然的に長くなるも
のである。
通常、金属細線には30〜40φμm程度の金線が用い
られており、その抵抗は30mΩ程度と低いものである
。従って、例えばトランジスタにおいて、コレクタ・エ
ミッタ間の飽和電圧V。E(SAT)が数ボルト以」二
と高い場合には金線のスパンが少少長くなっても金線抵
抗による電圧降下はコレクタ電流が2Aの時で60mV
程度であり1特に使用上の問題は生じないものである。
られており、その抵抗は30mΩ程度と低いものである
。従って、例えばトランジスタにおいて、コレクタ・エ
ミッタ間の飽和電圧V。E(SAT)が数ボルト以」二
と高い場合には金線のスパンが少少長くなっても金線抵
抗による電圧降下はコレクタ電流が2Aの時で60mV
程度であり1特に使用上の問題は生じないものである。
しかし乍ら、vOK(SAT)が例えばVTRのモー多
駆動に用いられるもののように0.5 V以下と低)い
、えあつ工、や、ユヮア。1□7,6o。7程度でも全
体に占める割合が大きくなり、使用上程々の不都合が生
ずる。
駆動に用いられるもののように0.5 V以下と低)い
、えあつ工、や、ユヮア。1□7,6o。7程度でも全
体に占める割合が大きくなり、使用上程々の不都合が生
ずる。
このようが問題は金属細線の線径全天くすれば簡単に解
決できるのであるが、それが金線の場合には線径全天く
することによってコストが上昇するのみならず、金線の
ポンディングパッド(電極)の面積音大きくしなければ
ならないことから、半導体素子が大形化してしまい、こ
れがさらにコストを高くするという問題が生ずる。
決できるのであるが、それが金線の場合には線径全天く
することによってコストが上昇するのみならず、金線の
ポンディングパッド(電極)の面積音大きくしなければ
ならないことから、半導体素子が大形化してしまい、こ
れがさらにコストを高くするという問題が生ずる。
それ故に、本発明の目的は簡単な構成によって経済性全
損なうことなく、金属細線での電圧降下全無視しつる程
度に減少できる半導体装置の製造方法全提供することに
ある。
損なうことなく、金属細線での電圧降下全無視しつる程
度に減少できる半導体装置の製造方法全提供することに
ある。
そして、本発明の特徴はリードの端部が基板部の周辺に
位置するように構成されたリードフレームの基板部に半
導体素子全固定する工程と、リードの端部全半導体素子
に極力接近させる工程と、このリードの端部と半導体素
子の電極とを金属細線にて接続する工程と全含むことに
ある。
位置するように構成されたリードフレームの基板部に半
導体素子全固定する工程と、リードの端部全半導体素子
に極力接近させる工程と、このリードの端部と半導体素
子の電極とを金属細線にて接続する工程と全含むことに
ある。
この発明によれば・半導体素子の基板部への固定後に、
リードを半導体素子に極力接近させた上で、半導体素子
の電極とリードとに金属細線が接続される関係で、金属
細線の接続スパン全有効に短縮でき、金属細線での電圧
降下も低減できる。
リードを半導体素子に極力接近させた上で、半導体素子
の電極とリードとに金属細線が接続される関係で、金属
細線の接続スパン全有効に短縮でき、金属細線での電圧
降下も低減できる。
特に、リードの半導体素子−\の接近操作は半導体素子
の基板部への固定後に行われるので、半導体素子の基板
部への固定は従来と同様に何の支障もなく良好に行うこ
とができる。
の基板部への固定後に行われるので、半導体素子の基板
部への固定は従来と同様に何の支障もなく良好に行うこ
とができる。
次に本発明の一実施例について第1図〜第3図全参照し
て説明する。
て説明する。
第1図において、1はリードフレームであって、例えば
基板部(放熱板)2と複数のリード片31〜33全有す
るリード3とから構成されており、それぞれはタイバー
4にて一体化されている。そして、リード片3+ 、
3sの一端3+a 、3aaはL形に形成されており、
基板部2VC対して離隔するように配設されている。ま
ず、このリードフレーム1全高温に加熱し、基板部2に
半田部材全供給し溶融状態にする。そして、この半田部
材全利用して半導体素子5全固定する。次に、第2図に
示すように、リード片3+ 、 3gの一端部3Iき、
3sat?図示点線より実線の状態に折曲し、半導体素
子5に極力接近させる。尚、図示例ではリード片3+
、 33の一部が半導体素子5上に位置している。この
状態において、半導体素子5の1[とり一ド片3+ 、
3gの一端3.a。
基板部(放熱板)2と複数のリード片31〜33全有す
るリード3とから構成されており、それぞれはタイバー
4にて一体化されている。そして、リード片3+ 、
3sの一端3+a 、3aaはL形に形成されており、
基板部2VC対して離隔するように配設されている。ま
ず、このリードフレーム1全高温に加熱し、基板部2に
半田部材全供給し溶融状態にする。そして、この半田部
材全利用して半導体素子5全固定する。次に、第2図に
示すように、リード片3+ 、 3gの一端部3Iき、
3sat?図示点線より実線の状態に折曲し、半導体素
子5に極力接近させる。尚、図示例ではリード片3+
、 33の一部が半導体素子5上に位置している。この
状態において、半導体素子5の1[とり一ド片3+ 、
3gの一端3.a。
3、aと全金属細線6にで接続する。次に、第3図に示
すように、半導体素子5全含む主要部分全樹脂材7にて
モールド被覆することにより、半導体装置が得られる。
すように、半導体素子5全含む主要部分全樹脂材7にて
モールド被覆することにより、半導体装置が得られる。
この実施例によれば、半導体素子5の基板部2へのマウ
ント前にはリード片31 、3sの一端31a。
ント前にはリード片31 、3sの一端31a。
5−
3saが基板部2より充分に離隔されているので、半導
体素子57基板部2に何の障害もなく、容易に固定する
ことができる。
体素子57基板部2に何の障害もなく、容易に固定する
ことができる。
又、半導体素子5の電極とリード片3. 、3.の一端
3.a 、 3aaとの金属細線6による接続は一端3
.a。
3.a 、 3aaとの金属細線6による接続は一端3
.a。
3saが半導体素子5に充分に接近した状態で行われる
ので、それのスパンを有効に短縮できる。このために、
低V。E(SAT )品での金属細線6による電圧降下
全無視しうる程度に低くでき、使用上のトラブル全解消
できる。
ので、それのスパンを有効に短縮できる。このために、
低V。E(SAT )品での金属細線6による電圧降下
全無視しうる程度に低くでき、使用上のトラブル全解消
できる。
第4図〜第5図は本発明の他の実施例全示すものであっ
て、半導体素子5の基板部2への固定後に、補助リード
片′8全リード片3+ 、 3mの一端に、補助リード
片8の一部が半導体素子5上に位置するように溶接又は
かしめにより固定し、然る後、半導体素子5の電極と補
助リード片8と全金属細線6にて接続して構成されてい
る。
て、半導体素子5の基板部2への固定後に、補助リード
片′8全リード片3+ 、 3mの一端に、補助リード
片8の一部が半導体素子5上に位置するように溶接又は
かしめにより固定し、然る後、半導体素子5の電極と補
助リード片8と全金属細線6にて接続して構成されてい
る。
尚、本発明において、基板部、リードの形状。
本数は適宜に変更できる。
= 6−
第1図〜第3図は不発明方法の説明図であって、第1図
は半導体素子の基板部へのマウント状態7示す平面図、
第2図は金属細線の接続状態を示す平面図、第3図は完
成状態を示す横断面図、第4図は本発明の他の実施例全
示す横断面図、第5図は第4図の要部側断面図である。 図中、2は基板部、3はリード、3Iag 3sa +
8はリードの端部、5は半導体素子、6は金属細線で
ある。 7− 第1図
は半導体素子の基板部へのマウント状態7示す平面図、
第2図は金属細線の接続状態を示す平面図、第3図は完
成状態を示す横断面図、第4図は本発明の他の実施例全
示す横断面図、第5図は第4図の要部側断面図である。 図中、2は基板部、3はリード、3Iag 3sa +
8はリードの端部、5は半導体素子、6は金属細線で
ある。 7− 第1図
Claims (1)
- リードの端部が基板部の周辺に位置するように構成され
たリードフレームの基板部に半導体素子全固定する工程
と、リードの端部全半導体素子に極力接近させる工程と
、このリードの端部と半導体素子の電極と全金属細線に
て接続する工程と全含むこと全特徴とする半導体装置の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58190216A JPS6081850A (ja) | 1983-10-11 | 1983-10-11 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58190216A JPS6081850A (ja) | 1983-10-11 | 1983-10-11 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6081850A true JPS6081850A (ja) | 1985-05-09 |
Family
ID=16254397
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58190216A Pending JPS6081850A (ja) | 1983-10-11 | 1983-10-11 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6081850A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63201348U (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-26 | ||
JP2007145385A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-14 | Hiroyasu Osada | 外箱と内袋とからなる折畳み可能な容器 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5737487U (ja) * | 1980-08-12 | 1982-02-27 | ||
JPS5751266A (en) * | 1980-07-25 | 1982-03-26 | Pairen Chem Saabishiizu Ltd | Method and composition for forming phosphate coating |
-
1983
- 1983-10-11 JP JP58190216A patent/JPS6081850A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5751266A (en) * | 1980-07-25 | 1982-03-26 | Pairen Chem Saabishiizu Ltd | Method and composition for forming phosphate coating |
JPS5737487U (ja) * | 1980-08-12 | 1982-02-27 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63201348U (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-26 | ||
JPH0438526Y2 (ja) * | 1987-06-17 | 1992-09-09 | ||
JP2007145385A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-14 | Hiroyasu Osada | 外箱と内袋とからなる折畳み可能な容器 |
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