JPS6055534A - 光学記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は光学記録媒体の製造方法に関するものである。

（ロ）従来技術 従来、光学記録媒体（例えばビデオディスク。

コンパクトディスク等）の製造方法としては第１図に示
す方法が知られている。

即ち、よく研磨されたガラス板［１１上にホトレジスト
（２）を塗布する（第１図口）。このホトレジスト（２
）に対してオーディオ信号にて光変調したレーザ光（電
子線、紫外線等でも良い）を照射することにより、オー
ディオ信号を焼付け、更に現像処理する（第１図ハ）。

次に、スパッタリング若しくは蒸着等により銀（Ａ　Ｐ
　）　ｆ３１を４＜　堆積させ（第１図二）、更にその
上にメッキ若しくはスパッタリング等によりエラグｙ（
Ｎｉ）層（４）を数μ程度ｔｉ積させる（第１図ホ）。

このニッケ膜層をエッチオフし、これを金型（スタンバ
−）とする（第１図へ）。この金型を利用し、アクリμ
・ポリカーボネート等の樹脂を、圧縮成形、インジェク
ション成形等の樹脂成形技術を用いて形成し、ディスク
ｆ松製していた。

祈る方法は、ディスクを安価に大量生産することが出来
るという利点を有１７ている。

然し乍ら、所る従来方法では次の様な間萌を有している
。

即ち、（１）ディスクを製造するまでの工程（特にスタ
ンバ−を作成するまでの工程）が多く、非常に複雑であ
る。

（ＩＩ）　金型（スタンバ−）の情報信号パターンを樹
脂成形にて転写する方法である為、樹脂の温度等の成形
条件をＩｌＩ密にする必要がある。何故なら、所る成形
条件を満たしていない場合、金型（スタンバ−）の情報
信号パターンを正確に転写することが出来ず（例えば、
ビットの深さ又は形状等を充分に転写出来ない）、不良
ディスクを生じる。又、金型（スタンバ−）Ｋ塵埃等が
付着ｌ−ていた場合にも不良ディスクを発生する為、金
型（スタンバ−）の塵埃付着検査を入念に行う必要があ
る。

（ＩＩＩｊ　不良ディスクが発生１〜た場合、所る不良
ディスクは廃棄する外用途がなく、不経済であった。

（ハ）発明の目的 本発明は上記問題を解決する光学記録媒体の製造方法を
提供することを目的とする。

に）発明の要旨 上記目的を達成する為に、光学記録媒体の主体をなす基
板上に薄膜層を形成する過程と、この薄膜層上にホトレ
ジスト層を形成する過程と、このホトレジスト層上に記
録されるべき情報パターンが形成されたマスク体を介し
て光を照射することにより前記情報パターンを前記ホト
レジスト層上に転写する過程と、前記情報パターンが転
写されたホトレジスト層に対して現像処理を施こす過程
と、この現像処理にてホトレジスト層が除去された部分
の薄膜層を除去する過程と、すくなくとも保護層を形成
する過程とにより光学記録媒体を製造する。

（ホ）実施例 先ず、ｗＪ２図を参照してマスク体の製造について説明
する。

石英又はガラス基板（１０１上に例オ、ばクロム（Ｃｒ
）−を８００Ａ［積させる（第２図イ）。所るクロム（
Ｃｒ）薄膜層−上にホトレジスト−を塗布する１２図口
）。所るホトレジスト■上にオーディオ信号で変調され
たＶ−ザ光等を照射することＫよりオーディオ信号を焼
付け、更に現像処理する（第２図へ）。次に１例えば硝
酸第二セリウムアンモニウムを主成分とする水溶液中で
処理すると、レジスト−に覆われていない部分のクロム
翰は溶解し、その後レジスト−を除去すると、第２図二
に示すようなマスク体が形成される。

次に、斯るマスク体を用いた本発明について第３図を参
照して説明する。

光学記録媒体の主体をなす基板（１００）上にこの基板
（１００）とけ異なる材料よりなる薄膜層（２００）を
蒸着、スパッタリング４ＩＫて形成しく第３図イ）、祈
る薄膜層（２００）上にホトレジスト（３００）を塗布
する（第３図口）。このホトレジスト（３００）上にマ
スク体（４００）を介して光（レーザ光、紫外線等）を
照射することによりマスク体（４００）に記録された情
報パターンをホトレジスト（３００）に転写しく第３図
ハ）、その後現像処理を施こす（第３図二）。

然る後、薄膜層（２００）を俗争的妃エツチング処理し
く例えば、薄膜層（２００）がアルミニウム（ＡＪ）で
形成されている場合、リン酸を主成分とする溶液中で処
理すると、レジスト（３０゜）に覆われていない薄膜層
（２００）はエツチングされる）、更に残存レジストを
除去する（第３図示）。その後、反射膜（ＳＯＯ）を塗
布した後、保護層（６００）を形成して光学記録媒体が
完成する０ 尚、基板（１００）として薄膜層（２００）を構成する
金属の反射率よシも悪い反射率を有する金属を用いれば
、格別に反射膜（５００）を形成する必要はない。

又、本発明における薄膜層はエツチング処理出来るもの
であれは何頭なる材料を用いてもよい。

（へ）発明の効果 本発明に依れば、簡単な方法で光学記録媒体を製造する
ことが出来る。又、樹脂による転写ではなく光学的転写
である為、形成−Ｅの制約を受けな合にも＃膜層を除去
するだけで基板の再利用が出来るので、経済的である。

ス、薄膜層を例えばビット深さと対応する厚さとすれば
、ピット深さの制御が容易となる。

４、図面のＷｒＩ単身脱川 第用図は従来の製造方法を示す図、第２図はマスク体の
製造方法を示す図、第３図は零発す１の製造方法を示す
図である。

（１００）・・・基板、（２００）・・・薄膜層、（３
００）・・・ホトレジスト、（４００）・・・マスク体
、（ａ　ＯＯ）　−・・保＠Ｎｉｉ。

第１図 ３

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）光学記録媒体の主体をなす基板」１に薄膜層を形
   成する過程と、この薄膜層上にホトレジスト層を形成す
   る過程と、このホトレジスト層−Ｆに記録されるべき情
   報パターンが形成されたマスク体を介して光を照射する
   ことにより前記情報パターンを前記ホトレジスト層上に
   転写する過程と、前記情報パターンが転写されたホＩ・
   レジス）・層に対して現像処理１を施こす過程と、この
   現像処理Ｊ１にてホトレジスト層が除去された部分の薄
   膜層を除去する過程と、残存ホトレジスト層を除去する
   過程と、すくなくとも保讃層を形成する過程とよりなる
   光学記録媒体の製造方法。 Ｔ２１　ｌ／膜層を記録されるべき情報パターンのピッ
   ト深さに対応する厚さ形成する特許請求の範囲第１項記
   載の光学記録媒体の製造方法。