JPS60179917A - 磁気記録再生ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents
磁気記録再生ヘツドおよびその製造方法Info
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- JPS60179917A JPS60179917A JP60018785A JP1878585A JPS60179917A JP S60179917 A JPS60179917 A JP S60179917A JP 60018785 A JP60018785 A JP 60018785A JP 1878585 A JP1878585 A JP 1878585A JP S60179917 A JPS60179917 A JP S60179917A
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気記録再生ヘッドの製造方法およびその方法
によりfτIられる磁気記録再生ヘッドに関する0本発
明は磁気記憶装置、特にコンピュータの記憶装置におい
て好適に使用される。
によりfτIられる磁気記録再生ヘッドに関する0本発
明は磁気記憶装置、特にコンピュータの記憶装置におい
て好適に使用される。
本発明による磁気ヘッドは、2つの磁極片、各磁極片の
まわりにそれぞれ巻回されるフラットならせん2重コイ
ル、及び非磁性物質が充填された1ギヤツプから構成さ
れるタイプのものである。ギャップはいわゆる磁気ヘッ
ドの媒体走行面をなす平面と同じレベルとなっている。
まわりにそれぞれ巻回されるフラットならせん2重コイ
ル、及び非磁性物質が充填された1ギヤツプから構成さ
れるタイプのものである。ギャップはいわゆる磁気ヘッ
ドの媒体走行面をなす平面と同じレベルとなっている。
磁気記録媒体はギャップの前方で磁気ヘッドに対向して
上記媒体走行面と平行に移動する。書き込み(記録)動
作中、巻線に流れる電流はギャップに磁場を導き、その
結果、情報を媒体に書き込むことが可能となる0反対に
、媒体に書き込まれた磁気情報は磁極片に磁場を誘起す
る。すなわちコイルに電流が誘導され、該コイルの両端
に電圧が発生し、それが読み出し信号をなす、これらの
書き込み及び読み出し動作中の磁場は磁気記N、奴体と
平行であるので、木・1i、磁気記録という述i;hが
時折使用される。
上記媒体走行面と平行に移動する。書き込み(記録)動
作中、巻線に流れる電流はギャップに磁場を導き、その
結果、情報を媒体に書き込むことが可能となる0反対に
、媒体に書き込まれた磁気情報は磁極片に磁場を誘起す
る。すなわちコイルに電流が誘導され、該コイルの両端
に電圧が発生し、それが読み出し信号をなす、これらの
書き込み及び読み出し動作中の磁場は磁気記N、奴体と
平行であるので、木・1i、磁気記録という述i;hが
時折使用される。
(従来の技術及び発明が解決しようとする問題点)
水11磁気記録による従来の磁気ヘッドは、例えば特開
昭58−83823号(出願人:富士通株式会社)に開
示されている。
昭58−83823号(出願人:富士通株式会社)に開
示されている。
1−記文献に記載された磁気ヘッドの製造方法は、基板
上に2つの蒔い磁性片をエンドφツー拳エンドーポンデ
ィングする工程を含み、2つの磁性片はギャップを形成
する非磁性層により分限される。そしてこのアセンブリ
はギャップの高さを減少するために加工される。支持体
は別個に形成され、2つの磁極片のまわりに巻回される
2重巻線を含む。そしてこれらの2つのサブアセンブリ
は77−いに結合される。
上に2つの蒔い磁性片をエンドφツー拳エンドーポンデ
ィングする工程を含み、2つの磁性片はギャップを形成
する非磁性層により分限される。そしてこのアセンブリ
はギャップの高さを減少するために加工される。支持体
は別個に形成され、2つの磁極片のまわりに巻回される
2重巻線を含む。そしてこれらの2つのサブアセンブリ
は77−いに結合される。
L配力法は多くの不都合を有する。第1に、この方法は
微細部分の微妙な結合を必要とし、これは、1.文化、
自動化方法に合わない、記録PJ生用ff1Js片はか
なりの幅を持ち、それはヘッドの効能に悪影響を及ぼす
とともに14現性が悪く2、パフォーマンスの変動を導
く。更にこの方法は磁気記録媒体に干渉性磁場を誘起す
る。
微細部分の微妙な結合を必要とし、これは、1.文化、
自動化方法に合わない、記録PJ生用ff1Js片はか
なりの幅を持ち、それはヘッドの効能に悪影響を及ぼす
とともに14現性が悪く2、パフォーマンスの変動を導
く。更にこの方法は磁気記録媒体に干渉性磁場を誘起す
る。
(発明の要約及び課題)
本発明は1−記従来技街の欠点を解消する磁気記録再生
ヘッドの製造方法に係るものである。未発”明は0膜技
術に基づく操作を使用するので、自動化に好適である。
ヘッドの製造方法に係るものである。未発”明は0膜技
術に基づく操作を使用するので、自動化に好適である。
記録再生用磁極片の幅はs股の厚さにより定められ、従
ってその厚さは小さくすることができかつ完全に再現で
きるものとなる。
ってその厚さは小さくすることができかつ完全に再現で
きるものとなる。
更に導電性巻線が2つの磁気薄膜層の間に挿入されるの
で完全なシールドが行なわれる。
で完全なシールドが行なわれる。
本発明は、支持体の上に第1の磁性薄膜層を設ける1−
程と、前記第1の磁性tll12層をエツチングして、
共通の直線状中央部分を持つ2つのループを有する8の
字状の溝を形成することにより、前記第1の磁性@膜層
を前記2つのループ内にて維持して、前記8の字状の溝
の中央部に相当する中央チャネルにより分離される2つ
の#j磁極片形成する工程と、前記溝を電気的絶縁性物
質で充填する1程と、前記2つの磁極片のまわりにそれ
ぞれ形成される2重の溝をなす切欠き部を前記絶縁性物
質内にエツチングにより形成する工程と、前記2重の溝
の底部に導電性被覆を設け、かつ前記2東の溝を電気的
絶縁性物質で充填する工程と、絶縁性物質層を設ける工
程と、該絶縁性物質層をエツチングし、前記中央チャネ
ルと対向しかつ該チャネルの中心かられずかにずれたと
ころに側部を有する階段状部を形成するC程と、前記階
段状部に非磁性物質から成る薄膜層を設ける工程と、前
記階段状部の側面に設けられた前記非磁性Sa層の一部
により構成された、前記第1の磁性@、膜層の面に対し
て垂直な壁部のみを残すごとく、前記非磁性−、シ膜層
をエツチングする工程と、前記壁部な覆うボスを形成す
る第2の磁性薄膜層を設ける工程と、前記ボスの形状を
正確に追従する保護波rlI層を設け、その後に前記ボ
ス及び前記!P:部のところの保護波rII層をカット
して、ギャップにより分離される2つの磁極片を形成す
る工程と、を具備することを特徴とする磁気記録再生ヘ
ッドの製造方法に係るものである。
程と、前記第1の磁性tll12層をエツチングして、
共通の直線状中央部分を持つ2つのループを有する8の
字状の溝を形成することにより、前記第1の磁性@膜層
を前記2つのループ内にて維持して、前記8の字状の溝
の中央部に相当する中央チャネルにより分離される2つ
の#j磁極片形成する工程と、前記溝を電気的絶縁性物
質で充填する1程と、前記2つの磁極片のまわりにそれ
ぞれ形成される2重の溝をなす切欠き部を前記絶縁性物
質内にエツチングにより形成する工程と、前記2重の溝
の底部に導電性被覆を設け、かつ前記2東の溝を電気的
絶縁性物質で充填する工程と、絶縁性物質層を設ける工
程と、該絶縁性物質層をエツチングし、前記中央チャネ
ルと対向しかつ該チャネルの中心かられずかにずれたと
ころに側部を有する階段状部を形成するC程と、前記階
段状部に非磁性物質から成る薄膜層を設ける工程と、前
記階段状部の側面に設けられた前記非磁性Sa層の一部
により構成された、前記第1の磁性@、膜層の面に対し
て垂直な壁部のみを残すごとく、前記非磁性−、シ膜層
をエツチングする工程と、前記壁部な覆うボスを形成す
る第2の磁性薄膜層を設ける工程と、前記ボスの形状を
正確に追従する保護波rlI層を設け、その後に前記ボ
ス及び前記!P:部のところの保護波rII層をカット
して、ギャップにより分離される2つの磁極片を形成す
る工程と、を具備することを特徴とする磁気記録再生ヘ
ッドの製造方法に係るものである。
また、木゛発明は上記方法により得られる磁気記録再生
ヘッドに係るものである。本発明のヘッドは、2つの磁
性F、W M層の存在が特徴であり、これはらせんコイ
ルをそれらの間に完全に固定する。
ヘッドに係るものである。本発明のヘッドは、2つの磁
性F、W M層の存在が特徴であり、これはらせんコイ
ルをそれらの間に完全に固定する。
また、記録再生用磁極片が磁性薄膜層の断面により構成
されることも特徴である。
されることも特徴である。
(実施例)
以F本発明の実施例を詳細に説明する。
第1図において、支持部2oは、セラミック物質、誘電
性物質等により、半導体技術で使用されるシリコンウェ
ハのごとき形態で構成される。
性物質等により、半導体技術で使用されるシリコンウェ
ハのごとき形態で構成される。
この場合、ウェハは熱酸化により形成されるシリカ被覆
層22によりコーティングされる。更に、フェライトあ
るいはFeとNiもしくはCo、Zr、Nb等の合金の
ごとき高透磁率でかつ強い磁性を有する物質から成る薄
膜層24が付着される。この薄膜層24の厚さは0.5
〜5JL園である。
層22によりコーティングされる。更に、フェライトあ
るいはFeとNiもしくはCo、Zr、Nb等の合金の
ごとき高透磁率でかつ強い磁性を有する物質から成る薄
膜層24が付着される。この薄膜層24の厚さは0.5
〜5JL園である。
ff5Z図及びtJSa図は薄膜層24に8の字状にエ
ツチングされた溝26を示す、溝2Bのエツチングは中
央の直線状チャネル26cにより分離される2つの磁極
片2Ba 、 2ebを残す。溝26はホトリソグラフ
ィにより形成された樹脂マスクを用いて化学エツチング
またはドライエツチングにより得られる6溝2Bのエツ
チング深さは薄膜層24の厚さの数分の1(例えば17
3またはl/2)に相当する。
ツチングされた溝26を示す、溝2Bのエツチングは中
央の直線状チャネル26cにより分離される2つの磁極
片2Ba 、 2ebを残す。溝26はホトリソグラフ
ィにより形成された樹脂マスクを用いて化学エツチング
またはドライエツチングにより得られる6溝2Bのエツ
チング深さは薄膜層24の厚さの数分の1(例えば17
3またはl/2)に相当する。
第4図はシリカまたは樹脂のごとき誘電性物質27で溝
2Bを充填した様子を示す0周知の平面化操作により、
誘電性物質27が確実に溝26内にのみ設けられ、薄膜
層24の表面には設けられない。
2Bを充填した様子を示す0周知の平面化操作により、
誘電性物質27が確実に溝26内にのみ設けられ、薄膜
層24の表面には設けられない。
次に、2川らせんの溝28及び30が、充填された誘電
性物質27内に形成される(第4図)、その後、2重ら
せんの溝28及び3oの底部に導電性物質層31が付着
される。ここで誘電性物質としては例えば銅またはアル
ミニウムを用いることができる。そして、コイル面が磁
気記録媒体と平行となるコイルの形成が行なわれる。コ
イルは磁極片26aに巻回されるハーフとmsi片21
11bに巻回されるハーフとから成る。
性物質27内に形成される(第4図)、その後、2重ら
せんの溝28及び3oの底部に導電性物質層31が付着
される。ここで誘電性物質としては例えば銅またはアル
ミニウムを用いることができる。そして、コイル面が磁
気記録媒体と平行となるコイルの形成が行なわれる。コ
イルは磁極片26aに巻回されるハーフとmsi片21
11bに巻回されるハーフとから成る。
第9図はコイルの形態をより明確に表わしている。コイ
ルの中央側の導電体の幅は2つの何方の導電体の幅より
も小さくなっており、その結果前者の部分に高電流密度
が生じ、これが磁気ヘッドの優れた効率に′8与する。
ルの中央側の導電体の幅は2つの何方の導電体の幅より
も小さくなっており、その結果前者の部分に高電流密度
が生じ、これが磁気ヘッドの優れた効率に′8与する。
次に溝28.3oは誘゛屯性物質27と同じかあるいは
類似した絶縁性物質で充填される。
類似した絶縁性物質で充填される。
次に誘電性層32が上記アセンブリ上に付着される。こ
の誘電性層32は感光性樹脂により構成されるのが好ま
しく、その厚さは0.5〜数4mである。そして階段状
部がホトリソグラフィにより形成され、その側部33は
磁極片2fia 、 28bを分離する中央チャネル2
8cに対向して設けられ、中央チャネル2B−cの中心
かられずかに偏倚している。
の誘電性層32は感光性樹脂により構成されるのが好ま
しく、その厚さは0.5〜数4mである。そして階段状
部がホトリソグラフィにより形成され、その側部33は
磁極片2fia 、 28bを分離する中央チャネル2
8cに対向して設けられ、中央チャネル2B−cの中心
かられずかに偏倚している。
この偏倚は後に付着される非磁性薄側■4の厚さの半分
にほぼ等しい、この非磁性’de4層3<はシリカまた
はアルミナであるのが有利であり、第6図に示すように
階段状部を覆う。
にほぼ等しい、この非磁性’de4層3<はシリカまた
はアルミナであるのが有利であり、第6図に示すように
階段状部を覆う。
次に、第7図に示すように、異方的反応性イオンエッチ
ング及びそれに続く樹脂の溶解により、取直壁部34a
が残る。垂直壁部34aの厚さは非磁′性tau f!
層34の11さと等しいかそれよりわずかに小さく、垂
直壁部34aの高さは誘電性ff332の厚さと等しい
かそれよりわずかに小さい。
ング及びそれに続く樹脂の溶解により、取直壁部34a
が残る。垂直壁部34aの厚さは非磁′性tau f!
層34の11さと等しいかそれよりわずかに小さく、垂
直壁部34aの高さは誘電性ff332の厚さと等しい
かそれよりわずかに小さい。
次に、磁性薄1悶層3Gが付着される。この薄膜層36
は助nり層24と同じ性質のものであって良い。薄WI
H3Bは第854に示すように壁部34aのところで
ポス37を形成する。その後に、堅固な絶縁性保護被覆
層38がアセンブリ1−に付着される。この被覆層38
はシリカまたはアルミナより構成することができ、ポス
37の形状を正確に追従する。
は助nり層24と同じ性質のものであって良い。薄WI
H3Bは第854に示すように壁部34aのところで
ポス37を形成する。その後に、堅固な絶縁性保護被覆
層38がアセンブリ1−に付着される。この被覆層38
はシリカまたはアルミナより構成することができ、ポス
37の形状を正確に追従する。
次に、樹脂層40が付着し、ポス37と壁部34aを一
時的に固定させて、保護被覆層38のところでカットす
る。このカットにより、壁部34aの頂部を露出させ、
2つのaJ41片38a 、 38bの間のギャップを
形成する。磁性薄膜層38は非常に薄く、0.2〜1.
5 p、vxの厚さを有する。磁性#fy膜屑36は磁
極片38a 、 38bに対してもあてがわれる。磁極
片313a 、 38bの幅は磁性98層3Bの厚さと
ほぼ回じ程度となる。このことは本発明による磁気ヘッ
ドの優れた効率を導く。
時的に固定させて、保護被覆層38のところでカットす
る。このカットにより、壁部34aの頂部を露出させ、
2つのaJ41片38a 、 38bの間のギャップを
形成する。磁性薄膜層38は非常に薄く、0.2〜1.
5 p、vxの厚さを有する。磁性#fy膜屑36は磁
極片38a 、 38bに対してもあてがわれる。磁極
片313a 、 38bの幅は磁性98層3Bの厚さと
ほぼ回じ程度となる。このことは本発明による磁気ヘッ
ドの優れた効率を導く。
第9図は最終的に得られる磁気ヘッドを示す。
矢印は被覆層38の残部により構成される走行面41の
前方を移動する磁気記録媒体42への記録時のフラック
スあるいは磁気力線を示す。
前方を移動する磁気記録媒体42への記録時のフラック
スあるいは磁気力線を示す。
コイルの2つの側部は2つの薄IFJ 層24.3Bニ
より磁気的にシールドされ、その結果これらは磁気記録
媒体42に向けて何の洩れ磁場も発生しない。
より磁気的にシールドされ、その結果これらは磁気記録
媒体42に向けて何の洩れ磁場も発生しない。
第1θ図は走行面の前方より見た磁気ヘッドを示す図で
ある。壁部34aにより分離された記録再生用磁極片3
6a 、 3iの端部が走行面と同じレベル(高さ)に
なっている。
ある。壁部34aにより分離された記録再生用磁極片3
6a 、 3iの端部が走行面と同じレベル(高さ)に
なっている。
(発明の効果)
以上詳細に説明したように、本発明によれば、再現性が
良く、パフォーマンスの変動のない優れた効率を有する
磁気ヘッドを提供することができる。更に未発UJ1は
磁気ヘッドの工業的製造、自動化製造に好適であるとい
う利点を有する。
良く、パフォーマンスの変動のない優れた効率を有する
磁気ヘッドを提供することができる。更に未発UJ1は
磁気ヘッドの工業的製造、自動化製造に好適であるとい
う利点を有する。
第1図〜第8図は本発明の方法による磁気ヘッドの各製
造段階を示す図、第9図は本発明の磁気ヘッドの断面図
力81の磁気ヘー、ドの一部を切欠いて示す図である。 20−−− 支持体、22−−− シIJ 力被rQK
f、24−一一磁性薄IF′A層、26−−−溝、26
a、 28b−−−(al棒片、2ec−−一中央チャ
ネル、27−−−誘電性物質、28.30−−−2屯ら
せん溝、31−m−導電性物質層、32−一一誘電性層
、33−m−側部、34−一一非磁性薄膜層、34a−
−一重直壁部、3B−一一磁性薄晩層、313a、36
b−−−磁JS片、37−−−ポス、38−m−保護被
覆層、40−m−樹脂層。 特 許 出 願 人 コミッサリア ア レネルジイ アトミ・ンク特詐出願
代理人 弁理士 山木恵− FIG、I FIG、2 FIG、3
造段階を示す図、第9図は本発明の磁気ヘッドの断面図
力81の磁気ヘー、ドの一部を切欠いて示す図である。 20−−− 支持体、22−−− シIJ 力被rQK
f、24−一一磁性薄IF′A層、26−−−溝、26
a、 28b−−−(al棒片、2ec−−一中央チャ
ネル、27−−−誘電性物質、28.30−−−2屯ら
せん溝、31−m−導電性物質層、32−一一誘電性層
、33−m−側部、34−一一非磁性薄膜層、34a−
−一重直壁部、3B−一一磁性薄晩層、313a、36
b−−−磁JS片、37−−−ポス、38−m−保護被
覆層、40−m−樹脂層。 特 許 出 願 人 コミッサリア ア レネルジイ アトミ・ンク特詐出願
代理人 弁理士 山木恵− FIG、I FIG、2 FIG、3
Claims (5)
- (1)支持体の」二にf:fSlの磁性侍r9層を設け
る工程と、 前記第1の磁性tiy膜層をエツチングして、共通の直
線状中央部分を持つ2つのループを有する8の字状の溝
を形成することにより、前記第1の磁性薄膜層を前記2
つのループ内にて維持して、前記8の字状の溝の中央部
に相当する中央チャネルにより分離される2つのmw4
片を形成する工程と、 前記溝を電気的絶縁性物質で充填する工程と、前記2つ
の磁極片のまわりにそれぞれ形成される2重の溝をなす
切欠き部を前記絶縁性物質内にエツチングにより形成す
る二[程と、 前記2重の溝の底部に導電性被覆を設け、かつ前記2重
の溝を電気的絶縁性物質で充填する工程と。 絶縁性物質層を設ける工程と、 該絶縁性物質層をエツチングし、前記中央チャネルと対
向しかつ該チャネルの中心かられずかにずれたところに
側部を有する階段状部を形成する工程と、 前記階段状部に非磁性物質から成る薄膜層を設ける工程
と。 前記階段状部の側面に設けられた前記非磁性薄膜層の一
部により構成された、前記第1の磁性薄膜層の面に対し
て垂直な壁部のみを残すごとく、前記非磁性薄膜層をエ
ツチングする工程と、前記壁部を覆うボスを形成する第
2の磁性Q膜層な設ける工程と、 前記ボスの形状を正確に追従する保護波1M!層を設け
、その後に前記ボス及び前記壁部のところの保護被覆層
をカットして、ギャップにより分離される2つのm、極
片を形成する工程と、を具備することを特徴とする磁気
記録再生ヘッドの製造方法。 - (2)前記第1の磁性薄膜層が設けられる前記支特休が
誘電性物質の被覆によりコーティングされることを特徴
とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。 - (3)前記第2の磁性薄膜層の厚さが、0.2〜1.5
p、mであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
に記載の方法。 - (4)前記階段状部がエツチング形成される被覆部を構
成している前記絶縁性物質が、溶解により除去可能な感
光性樹脂であることを特徴とする特許請求の範囲wS1
項に記載の方法。 - (5)2つの磁極片のまわりに巻回される2屯コイルの
配される第1の磁性薄IFJ層と、該第1の磁性薄rg
層を覆う第2の磁性薄膜層と、前記第1の磁性薄膜層の
面に垂直な非磁性物質から成る壁部とを有し、前記第1
及び第2の磁性薄膜層#よ前記2重コイルのシールドを
完全に行ない、前記第2の磁性薄膜層は、2つの記録再
生用磁極片を形成するため、前記磁極片の両側に設けら
れた保護液VI層とともに前記壁部の両端に支持されか
つ前記壁部の端部と同じレベルとなることを特徴とする
磁気記録再生ヘッド。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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FR8401879A FR2559293B1 (fr) | 1984-02-03 | 1984-02-03 | Nouvelle tete magnetique d'ecriture et de lecture pour enregistrement magnetique et son procede de fabrication |
FR8401879 | 1984-02-03 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPS60179917A true JPS60179917A (ja) | 1985-09-13 |
JPH0644333B2 JPH0644333B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=9300842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60018785A Expired - Lifetime JPH0644333B2 (ja) | 1984-02-03 | 1985-02-04 | 磁気記録再生ヘツドおよびその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4639289A (ja) |
EP (1) | EP0152326B1 (ja) |
JP (1) | JPH0644333B2 (ja) |
DE (1) | DE3572237D1 (ja) |
FR (1) | FR2559293B1 (ja) |
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