JPS597327A - 顕微鏡内記号像制御装置 - Google Patents
顕微鏡内記号像制御装置Info
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- JPS597327A JPS597327A JP58107993A JP10799383A JPS597327A JP S597327 A JPS597327 A JP S597327A JP 58107993 A JP58107993 A JP 58107993A JP 10799383 A JP10799383 A JP 10799383A JP S597327 A JPS597327 A JP S597327A
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- Japan
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- symbol image
- microscope
- mask
- image control
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/36—Microscopes arranged for photographic purposes or projection purposes or digital imaging or video purposes including associated control and data processing arrangements
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/18—Arrangements with more than one light path, e.g. for comparing two specimens
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の背景
本発明は顕微鏡のフィルム面及び／又は観察面に背面照
明マスクを投射してこの影像を対象物像に重複、即ち結
合する装置に関連する。
明マスクを投射してこの影像を対象物像に重複、即ち結
合する装置に関連する。
１９７４年（昭和４９年）３月１日出願の特開昭５０
２５６１号公報明細１には、背面照明マスク上の記号全
顕微鏡内に反射する技術が開示され°Ｃいる。この記号
は不透明フィルム上の透明区域９例えば直線格子、数字
、スケールその他の符号であるからこれらの記号は対、
敷物の明かるい像に重複した高輝度像として現われる。
２５６１号公報明細１には、背面照明マスク上の記号全
顕微鏡内に反射する技術が開示され°Ｃいる。この記号
は不透明フィルム上の透明区域９例えば直線格子、数字
、スケールその他の符号であるからこれらの記号は対、
敷物の明かるい像に重複した高輝度像として現われる。
この記号はいわゆるケーラー型照明装置で照明され、照
明用ランプのフィラメント像は集光器を経て顕微鏡の入
射瞳内でできるだけ広範囲に形成される。この記号像は
集光器の前方にあり、全フィルム視野又は顕微鏡の全観
察視野をカバーし、これらの視野の大きさは顕微鏡の入
射瞳の大きさによって変わる。
明用ランプのフィラメント像は集光器を経て顕微鏡の入
射瞳内でできるだけ広範囲に形成される。この記号像は
集光器の前方にあり、全フィルム視野又は顕微鏡の全観
察視野をカバーし、これらの視野の大きさは顕微鏡の入
射瞳の大きさによって変わる。
記号は集光器より大きくすることはできず。
又技術的理由で集光器は所望の大きさに作ることはでき
ないから１通常マスクの一部をカバーする記号は非常に
小さい。従って製造は困難である。マスクの操作１例え
は移動や回転、又は交換も、これらの運動量が非常に小
さいため極めて困難である。
ないから１通常マスクの一部をカバーする記号は非常に
小さい。従って製造は困難である。マスクの操作１例え
は移動や回転、又は交換も、これらの運動量が非常に小
さいため極めて困難である。
本発明の目的
本発明の目的は、記号像を対象物像に重複結合する装置
で、記号像の取扱いが容易で、又マスク上でかなり大き
い記号を使用できる装置を提供することにある。
で、記号像の取扱いが容易で、又マスク上でかなり大き
い記号を使用できる装置を提供することにある。
本発明の要約
本発明は、フィルム面及び／又は観察面、並びに記号像
を結合する光学装償金有する顕微鏡に使用する記号像制
御装置を提供するもので。
を結合する光学装償金有する顕微鏡に使用する記号像制
御装置を提供するもので。
この制御装置は記号の中間像をマスク上に形成する付属
装置、即ちアタッテメントを有し、顕微鏡のフィルム面
又は観察面内の記号像が移動できる。
装置、即ちアタッテメントを有し、顕微鏡のフィルム面
又は観察面内の記号像が移動できる。
上記の記号像制御装置は顕微鏡とは別個のユニットとし
ての付属装置で構成され、この大きい観、察視野のだめ
マスク上の大型記号を使用できる。更にマスク自体も大
きいから容易に操作できる。特に、記号を有する大きい
マスクを使用できるからこれらのマスクは移動機構によ
って観１察面及びフィルム面内で容易に調節できる。又
外部装置を使用することなく、顕微鏡使用者は容易に標
準模範像を形成することもできる。
ての付属装置で構成され、この大きい観、察視野のだめ
マスク上の大型記号を使用できる。更にマスク自体も大
きいから容易に操作できる。特に、記号を有する大きい
マスクを使用できるからこれらのマスクは移動機構によ
って観１察面及びフィルム面内で容易に調節できる。又
外部装置を使用することなく、顕微鏡使用者は容易に標
準模範像を形成することもできる。
ケージ−型照明装置はマスクの照明に好適に使用され、
これを使用すると照明用ランプのフィラメント像は上記
の記号像制御付属装置の入射瞳内に形成される。
これを使用すると照明用ランプのフィラメント像は上記
の記号像制御付属装置の入射瞳内に形成される。
この記号像制御付属装置は顕微鏡のフィルム面又は観察
面に投射される観察視野を有し、この視野は、ケーラー
型照明装置の集光器の他側に配置されるマスクよりかな
り大きくすることができるから、マスク上の記号は、極
端な場合にはマスクと同じ大きさにすることができる。
面に投射される観察視野を有し、この視野は、ケーラー
型照明装置の集光器の他側に配置されるマスクよりかな
り大きくすることができるから、マスク上の記号は、極
端な場合にはマスクと同じ大きさにすることができる。
記号は顕微鏡の観察区域の一部に反射され、この部分的
区域の大きさの顕微鏡全観察視野に対する比率は、マス
クの大きさの、記号像制御付属装置の観察視野に対する
比率に等しい。又ケーラー型照明装置は顕微鏡の観察視
野の局部的区域のみの照明を継続するから、従来の技術
と異なり、記号の輝度は同じ割合で増加し、これは高輝
度の対象物視野の場合に特に重要である０もしケーラー
型照明装置が顕微鏡の観察視野の一部分のみを照明する
場合、又はマスクの大きさが記号像制御付属装置の観察
視野の大きさの数分の−である場合には、マスクの像を
顕微鏡の全観察視野内で移動できる装置を設けることが
できる。
区域の大きさの顕微鏡全観察視野に対する比率は、マス
クの大きさの、記号像制御付属装置の観察視野に対する
比率に等しい。又ケーラー型照明装置は顕微鏡の観察視
野の局部的区域のみの照明を継続するから、従来の技術
と異なり、記号の輝度は同じ割合で増加し、これは高輝
度の対象物視野の場合に特に重要である０もしケーラー
型照明装置が顕微鏡の観察視野の一部分のみを照明する
場合、又はマスクの大きさが記号像制御付属装置の観察
視野の大きさの数分の−である場合には、マスクの像を
顕微鏡の全観察視野内で移動できる装置を設けることが
できる。
この装置は９例えばレンズを有するマウント、及び記号
像制御付属装置の固定ノ・ウジング内で移動できる入射
瞳である。従って、この付属装置に対してレンズの中心
位置からレンズと入射瞳を小距離変位し、クーラー型照
明装置のランプのフィラメント像を伺属装朧の入射瞳内
に維持すれば、付属装置の観察視野内で行われるマスク
変位と同じ効果が伺属装置の縮小に反比例して得られる
。
像制御付属装置の固定ノ・ウジング内で移動できる入射
瞳である。従って、この付属装置に対してレンズの中心
位置からレンズと入射瞳を小距離変位し、クーラー型照
明装置のランプのフィラメント像を伺属装朧の入射瞳内
に維持すれば、付属装置の観察視野内で行われるマスク
変位と同じ効果が伺属装置の縮小に反比例して得られる
。
上記の付属装置のレンズと入射瞳を移動する代りに、マ
スク又はケーラー型照明装置を移動することも可能であ
る。マスクは光軸に対して直角に移動し、同時にマスク
又はクーラー型照明装置を傾動してフィラメント像を常
に付属装置の入射瞳に形成させる。
スク又はケーラー型照明装置を移動することも可能であ
る。マスクは光軸に対して直角に移動し、同時にマスク
又はクーラー型照明装置を傾動してフィラメント像を常
に付属装置の入射瞳に形成させる。
本発明の一実施例では、ケーラー型照明装置とマスクは
部分的球状表面上を運動するように設け、又付属装置の
入射瞳は上記球状表面の曲率中心に位置するように設け
る。
部分的球状表面上を運動するように設け、又付属装置の
入射瞳は上記球状表面の曲率中心に位置するように設け
る。
本発朋装置はマスクの垂直位置を調節する装置を設ける
ことも可能である。又記（づ像制御（＝Ｊ属装置、にズ
ームレンズを設けたり、又交換レンズを使用することも
可能である。何れの場合でも顕微鏡の観、祭Ｉｕ内の記
号像制御付属装置「（、の線状倍率を変え、マスク上の
記号を大きくしたり小さくしたりすることが可能である
。
ことも可能である。又記（づ像制御（＝Ｊ属装置、にズ
ームレンズを設けたり、又交換レンズを使用することも
可能である。何れの場合でも顕微鏡の観、祭Ｉｕ内の記
号像制御付属装置「（、の線状倍率を変え、マスク上の
記号を大きくしたり小さくしたりすることが可能である
。
好適実施例の説明
本発明の特徴、詳細及び利点は添付し１面に示される二
実施例の説明から明らかであろう。
実施例の説明から明らかであろう。
本発明の第１実施例奮略示する第１図の顕微鏡は、対物
レンズ１０．及び対象物光束１６を分割してこの一部を
観察点１８に反射するプリズム１４を含む。フィルム面
を有するカメラは１２の位置−に設りられる。
レンズ１０．及び対象物光束１６を分割してこの一部を
観察点１８に反射するプリズム１４を含む。フィルム面
を有するカメラは１２の位置−に設りられる。
半透明鏡２０がプリズム１４と対物レンズ１０との間に
配置され、格子状図形その他の記号が対象物光束１６内
に反射される０ 記号装置３２はマスクとこの照明装置とを含む。この−
興帰は、透明で背面照明されるフィルム上の透明区域と
してマスク２２上に設けられる０マスク２２のケーラー
型照明装酌は発光フィラメント２４と集光器２６を含む
。
配置され、格子状図形その他の記号が対象物光束１６内
に反射される０ 記号装置３２はマスクとこの照明装置とを含む。この−
興帰は、透明で背面照明されるフィルム上の透明区域と
してマスク２２上に設けられる０マスク２２のケーラー
型照明装酌は発光フィラメント２４と集光器２６を含む
。
記号光束２８は￥透明鈍２０に入射する前に絣３０によ
って偏向・され、マスクと対象物は互いに平行になる。
って偏向・され、マスクと対象物は互いに平行になる。
従来技術では、集光器２６Ｕ顕微鏡の入射瞳にフィラメ
ント２４の像を形成したから光線は最も有効に使用され
た。この型式の装置では。
ント２４の像を形成したから光線は最も有効に使用され
た。この型式の装置では。
マスクは顕微鏡のフイルノ・ｍｌ及び／又は接眼レンズ
に共役のイ面内に配置される。
に共役のイ面内に配置される。
本発明によれば、付属装Ｈ，＋： ３４が記号装＠３２
と鏡２０との間に設けられマスク２２上の記号を結合す
る。記号像制御付栢装置３４は本質的に入射瞳３８．及
びマスク２２土の点Ｐの像を平面４０上のＰｏとして形
成するレンズ又はレンズアセンブリ３６を含み、この像
Ｐ１け顕微鏡の光学装置によって顕微鏡のフィルム面の
像ビ。
と鏡２０との間に設けられマスク２２上の記号を結合す
る。記号像制御付栢装置３４は本質的に入射瞳３８．及
びマスク２２土の点Ｐの像を平面４０上のＰｏとして形
成するレンズ又はレンズアセンブリ３６を含み、この像
Ｐ１け顕微鏡の光学装置によって顕微鏡のフィルム面の
像ビ。
及び接眼レンズ面の像Ｐ“°として形成される。照明装
置、の集光器２６はフィラメント２４の像を記号像制御
付ｈｊ装〜″３４の入射瞳３８に形成する。このフィラ
メントイ象に１、入射１１１＼冒１８のアパーチャより
も備かに太きいから１点１］のｉｆ： ））’ 、 Ｐ
”及びＰ”は、記号ｍ」（ｉ’！ ！ｆｌｉ！伺属装ｙ
ｉを横力向に僅かしζ移１＋ｊ＋せることによつ１フイ
ルムｊ？ｌｊ又は観察面内で移動けることができるｌ−
従って上記のように（□Ｊ’ ＃ｉ装楢゛を操作づるこ
とによって、栓子その他の記号を対象物像の所望の部分
に容易に反射させることが１−きる。
置、の集光器２６はフィラメント２４の像を記号像制御
付ｈｊ装〜″３４の入射瞳３８に形成する。このフィラ
メントイ象に１、入射１１１＼冒１８のアパーチャより
も備かに太きいから１点１］のｉｆ： ））’ 、 Ｐ
”及びＰ”は、記号ｍ」（ｉ’！ ！ｆｌｉ！伺属装ｙ
ｉを横力向に僅かしζ移１＋ｊ＋せることによつ１フイ
ルムｊ？ｌｊ又は観察面内で移動けることができるｌ−
従って上記のように（□Ｊ’ ＃ｉ装楢゛を操作づるこ
とによって、栓子その他の記号を対象物像の所望の部分
に容易に反射させることが１−きる。
−に記の記号像制御付属装ｆｒイは描画−複写装置の型
式に設計するととができ、何ら妨害を受けることなく操
作できると共に、（−Ｊ属ツ、テ′世１の構成によって
記号は縮小されるからマスク上の記号は大型に−」るこ
とかできる０、ｆ１己号例制御付属装置べによって得ら
れる縮小度はマスク装ｆｆ＋“と付属！！２１直との間
の距離を変更することによって変えることができる。又
レンズアセンブリを交換できるように設計することも可
能−ぐある〇本発明の第２実施例は第２図に示される。
式に設計するととができ、何ら妨害を受けることなく操
作できると共に、（−Ｊ属ツ、テ′世１の構成によって
記号は縮小されるからマスク上の記号は大型に−」るこ
とかできる０、ｆ１己号例制御付属装置べによって得ら
れる縮小度はマスク装ｆｆ＋“と付属！！２１直との間
の距離を変更することによって変えることができる。又
レンズアセンブリを交換できるように設計することも可
能−ぐある〇本発明の第２実施例は第２図に示される。
ズームレンズ４２がレンズ３６の代りに設ケラレ、フィ
ラメント２４の像が形成される入射瞳はこのズームレン
ズに吸収され外部の影響を受けることはない。ズームレ
ンズ４２は偏向用の鏡３０と半透明鏡２０との間に挿入
され記号像を結合する。この実施例では、マスクの像を
フィルム面又は観察面内の対象物像の異なる位置にマス
ク２２の像を形成するためズームレンズを横方向に移動
することは困難である。この横移動を行うため記号装置
３２は照明装置と共に横方向に移動できる構成にする。
ラメント２４の像が形成される入射瞳はこのズームレン
ズに吸収され外部の影響を受けることはない。ズームレ
ンズ４２は偏向用の鏡３０と半透明鏡２０との間に挿入
され記号像を結合する。この実施例では、マスクの像を
フィルム面又は観察面内の対象物像の異なる位置にマス
ク２２の像を形成するためズームレンズを横方向に移動
することは困難である。この横移動を行うため記号装置
３２は照明装置と共に横方向に移動できる構成にする。
この移動操作間、フィラメント２４の像は常にズームレ
ンズ４２の入射瞳３８に形成されるように注意しなけれ
ばならない。
ンズ４２の入射瞳３８に形成されるように注意しなけれ
ばならない。
本発明の別の特徴は、上記の移動が、記号像制御付属装
置の反射入射瞳３８゛を中心とする円形通路上で行われ
るように記号装置を取付けることである。第２図では記
号装＃３２は反射入射瞳３８１０面上に中心がある球状
面上で移動できるように設けられる。
置の反射入射瞳３８゛を中心とする円形通路上で行われ
るように記号装置を取付けることである。第２図では記
号装＃３２は反射入射瞳３８１０面上に中心がある球状
面上で移動できるように設けられる。
形成される記号像の数は常に、記号装置の運動方位かフ
ィルム面又は観察面内の記号像の運動方位と一致して容
易にマスクの操作が行われるような数でなければならな
い。
ィルム面又は観察面内の記号像の運動方位と一致して容
易にマスクの操作が行われるような数でなければならな
い。
上記の記号像制御付属装置は公知型式の描画−複写装置
の一部を構成することもできる。
の一部を構成することもできる。
上記の記号像制御付属装置は顕微鏡と別個の装置として
使用することもでき、又顕微鏡に組込むこともできる。
使用することもでき、又顕微鏡に組込むこともできる。
本明細書中の用語“フィルム面１は写真記録用媒体など
によって検出するため像が形成される平面を意味する。
によって検出するため像が形成される平面を意味する。
第１図は本発明の第１実施例の略示図で、第２図は第２
実施例の略示図である。 １０・・・対物レンズ、１２・・・フィルム面、１６・
・・対象物光束、２０・・・半透明鏡、２２・・・マス
ク、２４・・・フィラメント、２６・・・集光器、 ２
８・・・記号光束、３２・・・記号装置、３４・・・記
号像制御付属装置、３６・・・レンズ。
実施例の略示図である。 １０・・・対物レンズ、１２・・・フィルム面、１６・
・・対象物光束、２０・・・半透明鏡、２２・・・マス
ク、２４・・・フィラメント、２６・・・集光器、 ２
８・・・記号光束、３２・・・記号装置、３４・・・記
号像制御付属装置、３６・・・レンズ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 フィルム面及び／又は観察面、並びに記号像を対
象物像に重複して結合する光学装置を有する顕微鏡に使
用する記号像制御装置で、マスク上の記号の中間像を形
成する付属装置を含み、顕微鏡のフィルム面又は観察面
内の記号像を選択的に移動できることを特徴とする顕微
鏡内記号像制御装置。 ２、上記第１項記載の装置で、マスクを照明するケーラ
ー型照明装置が設けられ、該照明装置は、クーラー型照
明装置の照明用ランプのフィラメントのほぼ全像が付属
装置の入射瞳に形成される顕微鏡内記号像制御装置。 ３、上記第１項又は第２項記載の装置で、顕微鏡の観察
視野の一部のみがケーラー型照明装置、及び／又は記号
像によって充満される顕微鏡内記号像制御装置。 ４、上記第３項記載の装置で、顕微鏡の全観察視野内で
マスク像を移動する装置が設けられている顕微鏡内記号
像制御装置。 ５、 上記第４項記載の装置で、記号像制御付属装置は
、レンズを有するマウント、及びハウジング内で移動で
きる入射瞳を有する装置を含む顕微鏡内記号像制御装置
。 ６、上記第４項記載の装置で、光軸に対して直角に、マ
スク及び／又はケーラー型照明装置を移動し、同時に、
フィラメント像が常に付属装置の入射瞳に形成するよう
にマスク又はケーラー型照明装置を傾動させる装置、を
有する顕微鏡内記号像制御装置。 ７、上記第６項記載の装置で、マスクを移動する装置が
球状表面を有し、記号像制御付属装置が該球状表面の曲
率中心に光学的配置されている顕微鏡内記号像制御装置
。 ８、上記第１項記載の装置で、記号像制御付属装置がズ
ームレンズを含む顕微鏡内記号像制御装置。 ９、上記第１項記載の装置で、記号像制御付属装置で形
成される像の線状倍率を変える装置を有する顕微鏡内記
号像制御装置。 １０、上記第１項記載の装置で、マスクが顕微鏡観察面
に共役の平面内に配置され、マスクの運動方位が該観察
面内のマスクの記号像の運動方位と一致するように配置
されている顕微鏡内記号像制御装置。 １１、上記第１項記載の装置で、記号像制御付属装置、
が描画−複写装置の一部である顕微鏡内記号像制御装置
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE32231571 | 1982-06-22 | ||
| DE3223157A DE3223157C2 (de) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | Einspiegelungsvorrichtung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS597327A true JPS597327A (ja) | 1984-01-14 |
Family
ID=6166490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58107993A Pending JPS597327A (ja) | 1982-06-22 | 1983-06-17 | 顕微鏡内記号像制御装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4568152A (ja) |
| JP (1) | JPS597327A (ja) |
| DE (1) | DE3223157C2 (ja) |
| FR (1) | FR2528989A1 (ja) |
| GB (1) | GB2122372B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS61261408A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-19 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 高炉操業方法 |
| JPS62199706A (ja) * | 1986-02-26 | 1987-09-03 | Kobe Steel Ltd | 粉体吹込み高炉操業法 |
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| GB2251089B (en) * | 1990-12-19 | 1994-05-11 | Marconi Electronic Devices | Arrangements for viewing electrical circiuts |
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1982
- 1982-06-22 DE DE3223157A patent/DE3223157C2/de not_active Expired
-
1983
- 1983-06-03 GB GB08315353A patent/GB2122372B/en not_active Expired
- 1983-06-17 JP JP58107993A patent/JPS597327A/ja active Pending
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- 1983-06-21 FR FR8310224A patent/FR2528989A1/fr not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61261408A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-19 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 高炉操業方法 |
| JPS62199706A (ja) * | 1986-02-26 | 1987-09-03 | Kobe Steel Ltd | 粉体吹込み高炉操業法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3223157A1 (de) | 1983-12-22 |
| GB8315353D0 (en) | 1983-07-06 |
| FR2528989A1 (fr) | 1983-12-23 |
| US4568152A (en) | 1986-02-04 |
| GB2122372B (en) | 1986-04-09 |
| GB2122372A (en) | 1984-01-11 |
| DE3223157C2 (de) | 1985-11-28 |
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