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JPS5885435A - 感光性樹脂凸版材 - Google Patents

感光性樹脂凸版材

Info

Publication number
JPS5885435A
JPS5885435A JP18236281A JP18236281A JPS5885435A JP S5885435 A JPS5885435 A JP S5885435A JP 18236281 A JP18236281 A JP 18236281A JP 18236281 A JP18236281 A JP 18236281A JP S5885435 A JPS5885435 A JP S5885435A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
photosensitive resin
photosensitive
thickness
relief
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18236281A
Other languages
English (en)
Inventor
Junichi Fujikawa
藤川 淳一
Shigetora Kashio
樫尾 重虎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP18236281A priority Critical patent/JPS5885435A/ja
Publication of JPS5885435A publication Critical patent/JPS5885435A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、下層が光硬化した感光性樹脂層から成る積層
構造を有する感光性樹脂凸版材に関するものである。
感光性樹脂を使用した凸版材は1通常フィルムやスチー
ル、アルミニウムなどの硬質基板上に一定の厚さの感光
性樹脂層を設けた構造となることが多い。現像時には、
活性光線が露光されずに未硬化の感光性樹脂層を完全に
除去して硬質基板の表面が露出した時点を現像終了とす
るのが普通である。したがって、この際の光硬化によっ
て形成されたレリーフの深さは、感光性樹脂層自体と基
1− 板の厚さの合計である版材の全厚は、印刷機の版胴と圧
胴のクリアランスによって決定されるものである。一般
に印刷機ではこのクリアランスは固定されており、全厚
が300μ、400μ、560μ。
700μ、950μの版材が通常使用されている。また
、凸版印刷の1分野であるフレキソ印刷では。
全厚が1.7mm、 2.Qmm、 2.8mm、 3
.2mm、 4.3mm。
4、7 mm、  6.3 mmなどの極めて厚い版材
が使用されている。
しかしながら、レリーフの深さに関しては、レリーフが
形成されていない部分にインキが付着し。
そのインキが印刷物に転移することがない深さであれば
十分である。レリーフの深度が余りに深い場合には、レ
リーフ底部捷で到達する活性光線量が極めて少ないだめ
に底部の光硬化が不十分になって現像時にこの部分が溶
出したり、著しい膨潤を起こして十分なレリーフが形成
されないことが多い。また、フレキソ版材のようにレリ
ーフが極めて柔軟性を有する場合には、印刷時にレリー
フが倒れるという問題も発生する。
このように、レリーフ深度を不必要に深くすることは多
くの問題発生の原因となるが、必要十分なレリーフの深
度は、印刷の条件によって決定される。例えば0輪転印
刷機は比較的浅いレリーフで十分であるが、平台印刷機
は500μ以上の比較的深いレリーフ深度を必要とする
。また、印圧や使用するインキ、被印刷物の性状によっ
ても必要レリーフ深度は異なる。
決められた版材の全厚のなかでレリーフ深度を調節する
方法としては基板を厚くすることが考えられる。しかし
ながら、基板としてはポリエステルフィルムや、スチー
ル、アルミニウムなどの硬質素材が通常使用されている
ために、厚くするにとがきわめて困難となる。捷だ、金
属基板の場合には、余りに厚くなると版材の切断作業が
著しく困難となる。
レリーフを不必要に深くしないだめの別の方法として、
ポリエステルフィルムなどの透明基板を使用する場合に
は、ネガティブまたはポジティブの原図フィルムを感光
層に密着しての本露光の前または同時に、透明基板側か
ら全面に少量の露光を行なって基板側の感光性樹脂層を
部分的に光硬化させるところのバック露光法が行われる
ことが多い(例えば特公昭46−42452)。この方
法の問題点は、まず基板側からの露光量を厳密にコント
ロールしなければ、刷版の品質に重大な問題が発生する
ことが挙げられる。すなわち、基板側からの活性光線露
光量が多すぎる場合には、バック露光による光硬化反応
の影響が感光層の表面に近いレリーフ形成部分にまでに
出て文字や白抜き部分のうまシの原因となる。また、バ
ック露光量が少なすぎる場合には1本露光時の非露光部
分が余りにも深くなりすぎるためにレリーフが印刷時に
倒れたり、著しい場合にはレリーフの底部が現像時に溶
出するなどトラブルが発生する。このように、バック露
光は適正露光量を厳密に管理しなければならず9作業と
しても煩雑なものである。
また、基板がスチールやアルミニウムなどの金属板であ
る場合には適用不可であることはいうまでもない。
このようなバック露光以外の方法としてポリエステルフ
ィルムを中間層として上方に感光性樹脂層、下層に非感
光性エラストマ層を設けた6層構造を有するフレキソ印
刷用凸版材が提案されている(例えば特開昭51−37
702 )。この方法を適用すればバック露光は不必要
になり、現像溶剤も中間層で阻止されるために下層のエ
ラストマ層に溶剤が膨潤しないので現像後の乾燥時間を
短縮する効果がある。しかしながら、この方法では中間
層と上層および下層を接着するためには接着剤響を及ぼ
すためインキ転移性の低下傾向も認められるなどの欠点
があった。
本発明者らは、このような欠点を持たない感光性樹脂凸
版材について鋭意検討した結果、以下に述べる本発明に
到達した。
すなわち本発明は、少なくとも100μの厚みを有する
全面が光硬化された感光性樹脂層上に200μ以上の感
光性樹脂層を設けてなる積層構造であって、しかも全体
の厚みが少なくとも300μであることを特徴とする感
光性樹脂凸版材に関するものである。
本発明の凸版材は、活性光線を全面に照射することによ
り得られる光硬化感光性樹脂層とその上に設けられたレ
リーフ形成用の感光性樹脂層との積層構造からなってい
る。
このような積層構造を有する感光性樹脂凸版材は従来の
ものにくらべて次のような点がすぐれている。
(1)  バック露光のような製版時の煩雑な作業が不
要であり、バック露光時に発生する露光量過剰による文
字のうまシや露光量不足による画像の脱落などのトラブ
ルが発生しない。
(2)  硬い中間層を介して非感光性層と感光層とを
結合させることによる多層構造凸版材に見られるような
中間層の硬さによる上層のインキ転移性の低下などの問
題が発生しない。
(3)  下層の光硬化された感光性樹脂層の組成と。
上層の感光性樹脂層の組成とを同一まだは同系統のもの
とすれば、下層と上層との間に特に接着層を設けなくて
も一体化が可能である。
(4)  下層は前もって行なう光硬化によって十分に
6次元化しているので、その上の感光性樹脂層からの光
重合性モノマや光増感剤などの感光性成分や可塑剤の移
行が最少限におさえられる。
寸だ、現像液の膨潤性も小さいために、現像後の刷版乾
燥時間の大幅な短縮が可能である。
本発明における凸版材用感光性樹脂層としては。
各種の基本ポリマに光重合性成分と光増感剤9熱安定剤
、可塑剤などを配合したものが用いられる。
基本ポリマとしては、ポリアミド、部分ケン化ポリ酢酸
ビニル、天然ゴム、ポリブタジェン、ブタジェン−アク
リロニトリルブロックコポリマ。
ブタジェン−スチレンブロックコポリマ、イソプレン−
スチレンブロックコポリマ、シリコーンコ゛ム、ポリウ
レタンなどのフレキソ印刷用版材を含む感光性凸版材に
通常使用されているものが挙げ不飽和結合を導入したも
のも本発明に含まれる。
光重合性モノマとしては1分子中にエチレン性不飽和結
合を有するもので基体ポリマと相溶性を有するものであ
れば全て可能である。
光増感剤としては、ベンゾフェノン系、ベンジル系、ア
セトフエ/ン系、ベンゾインアルキルエーテル系、アン
トラキノン系など従来公知の全ての光増感剤系が可能で
ある。
熱安定剤としては、ハイドロキノン、ノーイドロキノン
モノメチルエーテル、t−ブチルカテコールなどの熱重
合禁止剤や、トリフェニルフォスフインなどのリン化合
物など従来公知のものは全て可能である。
また、凸版材には刷版となった場合の柔軟性を改良する
ために、基体ポリマとの相溶性のある可塑剤を含有する
ことも可能である。さらに界面活性剤なども添加するこ
とができる。
これらの感光性樹脂凸版材用組成物を使用して本発明の
積層構造を有する版材を製造するには公知の方法が全て
可能であるが、具体的には次のような方法が考えられる
接着剤をあらかじめ塗布したポリエステルフィルムやス
チール、アルミ斗つムなどの基板上に感光性樹脂組成物
溶液を流延し、乾燥装置で溶媒を除去した後に、所定量
だけ全面に活性光線を露光して光硬化を行なわせる。こ
のようにして得られた基板で裏打ちされた光硬化した感
光性樹脂層上に感光性樹脂組成物を同じように流延し、
乾燥して上層の感光層を設けて積層構造を形成する。基
板に接着剤を塗布しない場合には1版材形成後に基板を
ハク離することによって裏打ちされていない版材とする
ことも可能である。また、感光性組成物を溶媒を含まな
いか、少量含有する状態で押し出し法で成型することも
可能である。
別の方法としては、カレンダリング法で感光性シートを
作り、これを露光することによって光硬化すしめる。こ
のようにして得られた光硬化したシートの上に、感光性
樹脂組成物を流延または押し出し法で感光層を形成する
方法や、下層と同じ9− ようにカレンダリングで成型した感光性シート’に露光
済みの下層にラミネートして一体化することも可能であ
る。
このようにして得られた積層構造を有する感光性凸版材
の下層の厚さは100μ以上あることが必要である。こ
れ以下の厚さでは、たとえば基板で裏打ちされている場
合には、下層は上層のレリーフ形成用の感光性樹脂層と
基板との接着層の役割しか果たさず、また基板の裏打ち
のない場合には、下層は単なる基板の役割を果たすのみ
である。
このように、下層の厚さが100μ以下の場合には、レ
リーフの深度が200μ以上必要とされる凸版材では本
発明の主旨であるレリーフ深度を不必要に深くしないと
いう効果は期待できない。
しだがって、下層の光硬化済み感光性樹脂層の厚さは1
00μ以上であることが必要である。特に。
全厚みが2000μ以上であることを要求されるような
7レキソ印刷用凸版材においては、下層の厚さも100
0μ以上であることが必要になる。このように下層の厚
さが犬と々る場合には、下層自体=1 n− の厚さを得るために積層構造をとり、活性光線の露光は
感光層を形成する毎に行なうか、まだは積層で所定厚さ
の感光層を形成した後に一括して行なうことが可能であ
る。
上層のレリーフを形成する感光性樹脂層の厚さについて
は、200μ以下であると印刷条件を選定してもレリー
フの形成されていない部分にインキが付着し、このイン
キが印刷物に転移する問題が起こる。したがって、上層
の厚さは200μ以上あることが必要である。
版材の全厚みは、基板のない場合は上層と下層の和にな
り、基板がある場合にはそれに基板の厚さが加わる。し
だがって、たとえば基板のない場合を例にとると100
μ以上の下層と200μ以上の上層であれば、この場合
版材の全厚みは300μ以上となる。本発明の積層構造
を採用することによって、不必要にレリーフ深度を深く
しないことによって良好な画像再現性を得るという効果
は。
基板を除く厚さが700μ以上必要とされるような凸版
材、特にフレキソ印刷用凸版材において最も発揮される
本発明の感光性樹脂凸版材は、レリーフ形成用の感光性
樹脂層が粘着性を有するものもあるので必要に応じて、
感光性樹脂層の上にさらに粘着防止層を設けることがで
き、こういった粘着防止層を表面に設けた凸版材も本発
明に含まれる。この場合9版材の厚みとしては、粘着防
止層を除いたものである(上記と同様に基板はもちろん
除かれる)。
粘着防止層は、たとえば感光性樹脂層上に粘着防止物質
(完全ケン化ポリ酢酸ビニル捷たは部分ケン化ポリ酢酸
ビニル、ポリアミドなど)を直接塗布するかあるいはフ
ィルム上に粘着防止物質を塗布乾燥することによって、
粘着防止被膜を設けこの被膜が感光性樹脂層に接するよ
うに圧着する方法などによって形成することができる。
このフィルムとして表面がマット化されたものを用いれ
ば、粘着防止層の表面もマット化されるために原図フィ
ルムの真空密着性はさらに良好となる。もちろん、他の
方法で設けた粘着防止層の上に、マット化フィルムを圧
着することによって粘着防止層表面をマット化すること
も可能である。
このようにして用いられるフィルムとしては、ポリエス
テルフィルムが寸法安定性、酸素遮断性の面から最適で
あるが、ポリエチレンフィルム、ポIJ プロピレンフ
ィルム、アセテートフィルム、塩化ビニルフィルム、セ
ロファンなども使用可能である。
上層と下層の感光性樹脂の組成は必ずしも全く同一であ
る必要はない。上下層が同一であれば。
積層時の一体化は最も容易であるが、基本ポリマが共通
であれば、光重合性モノマや光増感剤が異なっていても
1層間に接着層を設けなくとも一体化は容易である。基
本ポリマが、たとえばポリアミド同志1部分ケン化ポリ
酢酸ビニル同志、同種類の合成ゴム同志であれば分子量
や共重合比率などが異なっていても接着層なしで、上下
層を一体化することは可能である。もちろん、感光済み
の下層の表面に接着層を設けてから積層することによっ
て一体化することも可能である。
13− 下層を光硬化させるだめの露光量は、使用される感光性
樹脂の組成および露光条件などによって決定される。露
光量が余りに少ない場合には、光硬化が不十分なために
下層の一部が現像液中に溶出したり、現像液で著しい膨
潤を起こすなどの問題が発生する。露光量を過剰にする
と、上下層の基体ポリマが同一でなり場合などには一体
化が阻害される場合があり、露光時間も長くなるのでプ
ロセスコスト的にも不利である。下層の露光方法につい
ては、高圧水銀灯、ケミカル灯、メタルハライドランプ
など通常使用される全ての活性光線露光装置が使用可能
である。露光はチッ素ガスなどの不活性ガス中や、ポリ
エステルフィルムなどのプラスチックフィルムをかぶせ
て酸素を遮断した状態で行なう方が光重合による硬化反
応は迅速に進行する。しかし1通常の空気中でも露光量
を多くすることによって十分に光硬化させることは可能
である。ポリエステルフィルムなどの透明または半透明
フィルムで裏打ちされた場合や、基板で裏打ちされてい
ない場合には、下層用の感光性14− 樹脂層の両面捷たは裏面からのみ露光することも可能で
ある。
上層の感光性樹脂層の露光は、ポジティブまたはネガテ
ィブの原図フィルムを版面に密着させた後に、下層の露
光で使用されるのと同じような各種の活性光線露光装置
で行われる。この際には。
フィルムを通して活性光線が照射された部分のみが光硬
化する。
上層の感光層にレリーフを形成するためには。
基体ポリマを溶解または分散しうる溶剤で未光硬化部を
溶出または分散させる現像工程が必要である。基体ポリ
マがポリアミドの場合には、アルコールと水との混合溶
剤捷たは水が使用され9部分ケン化ポリ酢酸ビニルの場
合には水2合成ゴムの場合には1.1.1− トリクロ
ルエタンなどのノ・ロゲン化炭化水素が使用される。下
層は、これらの現像溶剤にほとんど膨潤しなくなるまで
光硬化を行なっておく必要がある。下層が現像溶剤に著
しく膨潤すると現像後の刷版乾燥時間が非常に長くなり
、光硬化した下層を設けるメリットが半減する。
現像は、ブラシ式またはスプレ式の現像機で行なわれる
。現像の終了は、上層の未露光部分が洗い出されて下層
が露出した時点であるが、上層のみに適当な染料を添加
しておくと、非画像部に染料の色が見られなくなった時
点で現像終了を決定することができて便利である。
以下実施例により本発明をさらに詳しく説明する。
実施例1.比較例1 (1)感光性樹脂溶液の調整 東しナイロンCM−9000にホルムアルデヒドとメタ
ノールとを反応させることによって、 N −メトキシ
メチル化ポリアミドを得た(メトキシメチル化率約25
モルLl))。
このポリアミド50重量部を70重量部のエタノールに
80°Cで溶解した後に、グリシジルメタクリレートを
2重量部添加し、80°0で1時間反応させた。ポリア
ミドのカルボン酸末端とグリシジルメタクリレートのエ
ポキシ基が反応して2重結合がポリアミド末端に導入さ
れたことが分析の結果確かめられた。次いで、光重合性
モノマとしてグロピレングリコールジグリシジルエーテ
ルジアクリレートを60重量部、光増感剤としてジメチ
ルベンジルケタール2重量部、可塑剤としてN−エチル
トルエンスルホンアミド15重t 部ヲ加え、均一混合
して感光性樹脂溶液を調製した。
(2)  感光性樹脂凸版材の作成および評価上記(り
で得られた溶液をポリエステル系接着層つきポリエステ
ルフィルム(厚さ100μ)上に。
乾燥後膜厚が1000μとなるように80 ’cで流延
し、60°Cのオーブン中に6時間入れてエタノールを
除去した。このようにして得られたポリエステルフィル
ムで裏打ちされた感光性シートを、ポリエステルフィル
ムの反対側から高圧水銀灯で2分間(照射エネルギー量
700ミリジユール/(2)′)空気中で、露光して光
硬化を行なった。このようにして得られた光硬化感光性
樹脂層(以下光硬化シートという)は、エタノールでほ
とんど膨潤しないことを確認した。
次に、光硬化シートの作成に使用したのと同一17− の感光性樹脂溶液に染料としてメチレンブルーを0.0
2重量部加えた溶液を、光硬化シート上に乾燥後厚さが
900μとなるように流延した。これを60°Cのオー
ブン中で3時間乾燥してエタノールを除去して、上層の
感光性樹脂層を形成した。
さらに、この感光層上に、厚さ50μのサンドマット化
ポリエステルフィルムのマット面上に東しナイロンCM
−9000を1μの厚さに塗布したカバーフィルムを、
CM−9000の塗布面が感光層面に密着するようにラ
ミネートし感光性樹脂凸版材とした。
このようにして得られた100μのポリエステルフィル
ムに裏打ちされた全厚2000μの版拐のカバーフィル
ムをハク離すると、カバーフィルムに塗布してあったa
M−9000の被膜は完全に感光層側に転写した。この
マット化された版面には感光層に見られるような粘着性
は全く残っていないために、テスト用ネガフィルム(1
33線2%。
3%、5%網点、直径200μ、300μ独立点。
幅50μ、70μ細線部あり)を容易に真空密着1 Q
− することができた。このネガフィルムを通してケミカル
灯で6分間露光を行なった。
露光済み版材をエタノール/水−80/20 (重量比
)の現像液の入ったブラシ式洗い出し機で現像したとこ
ろ、2分間で上層の非画像部が完全に溶出して下層が露
出したことが、上層につけである青色がその部分だけ消
失することによって確認できたので現像終了とした。現
像終了後2版を60°Cのオープンに15分間入れて乾
燥を行なった。
得られたレリーフ画像は2係網点、直径200μ独立点
、50μ幅細線まで再現されており、再現性は良好であ
ることがわかった。下層の光硬化シートとこれらのレリ
ーフの間の接着力も十分にあり、印刷中にレリーフが下
層からノヘク離するというl・ラブルも全く発生しない
ことを確認した。
また、レリーフ深度が900μと余り深くないだめに、
印圧をかけてもレリーフが倒れるという問題も発生しな
いことも確められた。
以上のような積層構造を有する凸版材と比較するだめに
、同じ感光性樹脂組成物を使用して、同じく全厚みが2
000μとなるように同じポリエステルフィルム基板上
に流延した。これを60゛0のオーブン中で乾燥してエ
タノールを除去して一層構造の版材を得た。この際の完
全乾燥には14時間かかり、2層構造版材の下層6時間
と上層6時間の合計6時間にくらべて2倍以上の時間を
必要とした。この版材をバック露光なしで同時に評価し
たが、独立点は直径600μまで溶出して再現されず、
細線のゆがみも著しいものであった。ケミカル灯で60
秒間バック露光してから同様の評価を行なったが、直径
200μの独立点は再現されず、しかも文字のうまりが
著しいことがわかった。また、現像後の刷版の乾燥も6
0°Cで1時間かかり、2層構造版材の15分の約4倍
必要であることがわかった。
以上から、光硬化シートを下層にもつ本発明の積層凸版
材は9版材作製時の乾燥時間1画像再現性1作業性、刷
版の乾燥時間などあらゆる面で1層構造の凸版材よりも
有利であることが確認された。
実施例2.比較例2 (1)  光硬化シートの作成 下記の組成の感光性樹脂溶液を用いて光硬化シートを作
成した。
(a)  日本合成化学■製 部分ケン化ポリ酢酸ビニ
ルパゴーセノール”KP−06(ケン化度約73モル係
)         50重量部(b)  エチレンク
リコールシフリシジルエーテルジメタクリレート   
     40重量部(c)  ジエチレングリコール
     8重量部(d)  ジメチルベンジルケタノ
ール  2重量部(θ) エタノール        
 40重量部(f)  水             
40重量部上記(a)〜(f)を70°Cで均一に溶解
し、この溶液を9部分ケン化ポリ酢酸ビニルを主成分と
する接着剤を塗布したスチール基板(厚さ200μ)上
に、乾燥後の膜厚が200μになるように流延し。
60°Cのオーブン中で2時間乾燥して水とエタノール
とを除去した。次いで窒素気流中でケミカル=21− 灯を用いて6分間露光し、光硬化シートを作成した。な
お、このようにして得られた光硬化シートは完全に耐水
性を持っていることを確認した。
(2)感光性樹脂凸版材の作成および評価感光性樹脂と
して部分ケン化ポリ酢酸ビニル“ゴーセノールnKL−
05(ケン化度約80モルチ)を50重量部、光重合性
モノマとしてプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ルジアクリレート40重量部、光増感剤としてジメチル
ベンジルケタール1重量部、可塑剤としてジエチレング
リコール9重量部、耐熱安定剤としてノ1イドロキノン
0.02重量部を添加し、これに水を10重量部加えて
90°Cで溶融状態にした。
この溶融状物を厚さ600μとなるように、先に得られ
たスチール基板で裏打ちされた露光済み下層シート上に
スリットダイから押し出した後に冷却して成型した。
このようにして得られた全厚1000μの感光性凸版材
を、実施例1と同じテストネガフィルムを用い、高圧水
銀灯で2分露光し、水を入れたスプ22− し式現像機で現像した。その結果、2%網点、直径20
0μ独立点、50μ細線とも問題なく再現され、上下層
の接着力も十分であることが確かめられた。
比較のために、接着剤つき200μスチール基板上に、
上層用感光性組成物を厚さが800μになるようにスリ
ットダイから押し出し成型しだ0このようにして得られ
た一層構造の感光層から成り全厚を同じ1000μとし
だ版材を同様に評価した。その結果、レリーフ深度が8
00μと深いために、200μの独立点が再現されず、
50μの細線にも著しいゆがみが発生することが確かめ
られた。
実施例3 旭化成■製スチレンーブタジェンブロックコポリマであ
る″タフフブレンA″90部9光重合性モノマとしてト
リメテロールプ0パントリアクリレート9重量部、光増
感剤としてベンゾインイソプロピルエーテル1重量部、
耐熱安定剤とノーイドフキノンモノメチルエーテル05
重量部を2本日型カレンダロールを通して厚さ3000
μの感光性シートを成型した。このシートの両面からケ
ミカル灯で6分間露光して光硬化を行なって、i、i、
1−トリクロルエタンでほとんど膨潤しなくなる丑でキ
ユアリングを行ない、下層の光硬化シートを得た。
上層用感光性組成物として、下層と同一の組成物を、4
0%(重量)濃度となるよう80′Cでトルエンに溶解
した。この溶液を、乾燥後の厚さが700μとなるよう
に、先に得られた露光済み下層ノート上に流延し、so
’cで6時間乾燥してトルエンを除去した。
このようにして得られた全厚3700μのフレキソ印刷
用感光性凸版材を実施例1と同じテストネガフィルムを
使用し、ケミカル灯で6分間露光した後に、1.i、i
−ト、リクロルエタンを入れたブラシ式洗い出し機で現
像を行なった。その結果、2係網点、直径200μ独立
点1幅5oμ細線とも問題なく再現されることが確かめ
られた。また。
現像後の刷版の乾燥時間も60°Cで20分間と短時間
で終了することも明らかになった。
実施例4 日本ゼオン■製のアクリロニトリル−ブタジェンコポリ
マである“′N工POT、−1Qs2!J″′90重量
部、光重合性モノマとしてトリメチロールプロパントリ
メタクリレート8重量部、光増感剤としてベンゾインメ
チルエーテル2重量部、耐熱安定剤としてt−ブチルカ
テコール02重量部をパンパリミキサで十分混練した後
に、4本ロールの逆り型カレンダリングロールで厚さ4
000μの感光性シートを作成した。このソートの両面
から高圧水銀灯を4分間露光して、i、1.1−)リフ
ロンエタンに膨潤しなくなる壕で光キュアを進めて下層
用光硬化シートを得た。
上層用シートとして、下層用と同一の組成物を同じくパ
ンパリミキサで混練し、逆り型カレンダリングロールで
成型して厚さ2000μの感光性ノートを得た。
露光済みの下層シート表面に、シートと同−組25− 酸物を濃度20%(重量)でトルエンに溶解した溶液を
厚さ20μ(接着剤として)に塗布し、トルエンが完全
に蒸発しないうちに上層シートをラミネートすることに
よって全厚6000μのフレキン印刷用感光性樹脂版材
を得た。
これをターンボール印刷用の実用ネガフィルムを使用し
、ケミカル灯で8分露光し、1,1.1−トリクロルエ
タンを入れたブラシ式洗い出し機で現像した。その結果
、刷版硬度ショアA50で5%の網点が再現されており
、ダンボール印刷用として十分の品質を有していること
が確認された。刷版の乾燥時間は60°C940分と、
同じ厚さの1層構造の版材にくらべて大幅に短縮されて
いることがわかった。
特許出願人  東 し 株 式 会 社26− 手  続  補  +1:   書 特許庁長官島田春樹殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第182362舅 2、発明の名称 感光性樹脂凸版(2 3、補正をする者 代表取締役社長  伊 藤 昌 壽 4、補正命令のl]付    自発 5、補正により増加する発明の数  なし6、補正の対
象 明細書中1発明の詳細な説明」の欄 7、補正の内容 明  細  書  中 (1)第1頁R終行 [深さは、」と1感光性」との間に下記を挿入する。
「感光性樹脂層自体の厚さに等しくなる。この場合」 2−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  少なくとも100μの厚みを有する全面が光
    硬化された感光性樹脂層上に200μ以上の感光性樹脂
    層を設けてなる積層構造であって、しかも全体の厚みが
    少なくとも300μであることを特徴とする感光性樹脂
    凸版材。
JP18236281A 1981-11-16 1981-11-16 感光性樹脂凸版材 Pending JPS5885435A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1986001312A1 (en) * 1984-08-03 1986-02-27 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin printing material for letterset printing

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1986001312A1 (en) * 1984-08-03 1986-02-27 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin printing material for letterset printing

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