JPH07234502A - 多層フレキソ印刷版 - Google Patents
多層フレキソ印刷版Info
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- JPH07234502A JPH07234502A JP1181995A JP1181995A JPH07234502A JP H07234502 A JPH07234502 A JP H07234502A JP 1181995 A JP1181995 A JP 1181995A JP 1181995 A JP1181995 A JP 1181995A JP H07234502 A JPH07234502 A JP H07234502A
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- JP
- Japan
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- layer
- weight
- photosensitive
- parts
- elastomer
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 熱現像性フレキソ印刷版用に適した多層フレ
キソ版および該版を作製するための処理について提供す
る。 【構成】 (A)フレキシブル基材、(B)放射線に露光する
ことによって硬化した第1感光性エラストマー層、およ
び(C)0.2mm以上の厚みであり、500より少ない分子量の
1重量%以下のエチレン不飽和共重合性分子を有する第
2感光性エラストマー層を含む多層フレキシブル感光性
版。
キソ版および該版を作製するための処理について提供す
る。 【構成】 (A)フレキシブル基材、(B)放射線に露光する
ことによって硬化した第1感光性エラストマー層、およ
び(C)0.2mm以上の厚みであり、500より少ない分子量の
1重量%以下のエチレン不飽和共重合性分子を有する第
2感光性エラストマー層を含む多層フレキシブル感光性
版。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、多層フレキソ印刷版に
関する。
関する。
【0002】
【従来の技術】フレキソ印刷は、エラストマーまたはゴ
ム様の凸版印刷表面を有するフレキシブル基材を用いる
印刷形態に広く適用される用語である。
ム様の凸版印刷表面を有するフレキシブル基材を用いる
印刷形態に広く適用される用語である。
【0003】第1のフレキソ印刷版は、天然または合成
ゴム組成物を、加熱および加圧により、型の中で、従来
のゴム硬化剤、例えばメルカプト組成物を用いて硬化す
ることによって製造される(フレキソグラフィー(Flexo
graphy):プリンシプル・アンド・プラクティス(Principl
es and Practices)、第3版、フレキソグラフィック・テ
クニカル・アソシエイション(Flexographic Technical A
ssociation)、第158〜162頁)。最も最近では、フォト
ポリマーエラストマー組成物(化学線に露光することに
よって硬化可能な組成物を含むエラストマー)を用い
て、凸版印刷版が製造されている。例えば、米国特許第
4,162,919号は、エラストマー重合バインダーとしての
ブロックコポリマー、相溶性エチレン不飽和モノマー、
および光重合開始剤を含有する感光性組成物を使用する
ことについて記載している。同様に、英国特許第1,454,
191号は、エラストマーポリウレタンベースの感光性層
を使用することについて記載している。どちらの場合に
おいても、化学線露光後、凸版層の現像のために、標準
溶剤洗浄処理が用いられる。欧州特許第261,910号は、
水現像性フレキソ印刷版について記載している。
ゴム組成物を、加熱および加圧により、型の中で、従来
のゴム硬化剤、例えばメルカプト組成物を用いて硬化す
ることによって製造される(フレキソグラフィー(Flexo
graphy):プリンシプル・アンド・プラクティス(Principl
es and Practices)、第3版、フレキソグラフィック・テ
クニカル・アソシエイション(Flexographic Technical A
ssociation)、第158〜162頁)。最も最近では、フォト
ポリマーエラストマー組成物(化学線に露光することに
よって硬化可能な組成物を含むエラストマー)を用い
て、凸版印刷版が製造されている。例えば、米国特許第
4,162,919号は、エラストマー重合バインダーとしての
ブロックコポリマー、相溶性エチレン不飽和モノマー、
および光重合開始剤を含有する感光性組成物を使用する
ことについて記載している。同様に、英国特許第1,454,
191号は、エラストマーポリウレタンベースの感光性層
を使用することについて記載している。どちらの場合に
おいても、化学線露光後、凸版層の現像のために、標準
溶剤洗浄処理が用いられる。欧州特許第261,910号は、
水現像性フレキソ印刷版について記載している。
【0004】米国特許第3,948,665号および同4,162,919
号および英国特許第1,454,191号は、凸版層および基材
に加えて、硬度の調整のためにエラストマー層を含むフ
レキソ版について記載している。これら3つの特許は、
溶剤洗浄現像性システムに関するものである。
号および英国特許第1,454,191号は、凸版層および基材
に加えて、硬度の調整のためにエラストマー層を含むフ
レキソ版について記載している。これら3つの特許は、
溶剤洗浄現像性システムに関するものである。
【0005】溶剤洗浄および水性洗浄現像性システムの
両方共、残留現像溶液を除去するために長時間(1〜2
4時間)の乾燥が必要であるので、時間がかかる。加え
て、これらの現像システムは、現像処理中に潜在的毒性
のある副生産廃棄物(溶剤由来の溶剤および材料、例え
ば未反応エチレン性不飽和モノマー等)を生成する。
両方共、残留現像溶液を除去するために長時間(1〜2
4時間)の乾燥が必要であるので、時間がかかる。加え
て、これらの現像システムは、現像処理中に潜在的毒性
のある副生産廃棄物(溶剤由来の溶剤および材料、例え
ば未反応エチレン性不飽和モノマー等)を生成する。
【0006】これらの問題を避けるために、熱現像処理
が用いられる。熱現像処理においては、化学線で画像形
成状態で露光した感光性層を、吸収層に十分な温度で接
触させて、感光性層の未露光部分における組成物を軟化
または溶融させ、吸収材料中に流す。米国特許第3,264,
103号(平版印刷現像)および米国特許第5,015,556号
(凸版印刷現像)参照のこと。この処理の欠点は、熱現
像中の揮発性成分(例えば未反応モノマー等)の放出で
ある。
が用いられる。熱現像処理においては、化学線で画像形
成状態で露光した感光性層を、吸収層に十分な温度で接
触させて、感光性層の未露光部分における組成物を軟化
または溶融させ、吸収材料中に流す。米国特許第3,264,
103号(平版印刷現像)および米国特許第5,015,556号
(凸版印刷現像)参照のこと。この処理の欠点は、熱現
像中の揮発性成分(例えば未反応モノマー等)の放出で
ある。
【0007】フレキソ印刷版の製造においてしばしば用
いられる追加処理段階は、版の感光性、エラストマー層
を、フレキシブル基材を通して紫外線またはe-ビーム
に照射することである。この処理は、米国特許第5,215,
859号、同4,264,705号、同5,015,556号および同4,927,7
23号に記載されている。感光性層は、それによって部分
的に硬化され、現像中に除去されない「フロア」を形成
する。
いられる追加処理段階は、版の感光性、エラストマー層
を、フレキシブル基材を通して紫外線またはe-ビーム
に照射することである。この処理は、米国特許第5,215,
859号、同4,264,705号、同5,015,556号および同4,927,7
23号に記載されている。感光性層は、それによって部分
的に硬化され、現像中に除去されない「フロア」を形成
する。
【0008】残念なことに、基材を通した紫外線もe-
ビーム照射も、熱現像によって製造されるフレキソ印刷
版用に必ずしも満足できるものではない。紫外線裏照射
は、硬化の長さおよび深さを調節することが難しいた
め、問題がある。持続時間が短すぎる裏照射は、凸版印
刷用に不十分な土台を提供し、得られた画像は、印刷版
のベースから剥がれ落ちるかもしれない。一方で、裏照
射が長く維持され過ぎると、感光性層の先端は、硬化し
始め、粘度があり過ぎて熱現像ができなくなる。僅かな
過硬化は、溶剤または水性現像システムに深刻な損害を
与えない。これは、一般に溶剤または水性溶液をブラッ
シングすると、そのブラッシングが表面をなめらかにし
て、画像形成版になお付着した粒子の除去を助成するた
めである。しかしながら、熱現像システムにおいては、
紫外線裏照射が、印刷版の非照射領域を完全に一掃する
ことはないことが分かっている。
ビーム照射も、熱現像によって製造されるフレキソ印刷
版用に必ずしも満足できるものではない。紫外線裏照射
は、硬化の長さおよび深さを調節することが難しいた
め、問題がある。持続時間が短すぎる裏照射は、凸版印
刷用に不十分な土台を提供し、得られた画像は、印刷版
のベースから剥がれ落ちるかもしれない。一方で、裏照
射が長く維持され過ぎると、感光性層の先端は、硬化し
始め、粘度があり過ぎて熱現像ができなくなる。僅かな
過硬化は、溶剤または水性現像システムに深刻な損害を
与えない。これは、一般に溶剤または水性溶液をブラッ
シングすると、そのブラッシングが表面をなめらかにし
て、画像形成版になお付着した粒子の除去を助成するた
めである。しかしながら、熱現像システムにおいては、
紫外線裏照射が、印刷版の非照射領域を完全に一掃する
ことはないことが分かっている。
【0009】フロアを定着させるための電子ビーム照射
の使用は、紫外線照射と比較してより一貫した結果を提
供する。版中への電子ビームの透過は、電子の適正な加
速電圧を選択することによって、正確に調整し得る。比
較的薄い(1.2mmより薄い)フレキソ印刷版が所望であ
る場合には、電子ビームの使用で十分である。しかしな
がら、より厚みのある版(1.2mmより厚い)が所望であ
る場合には、適当なフロアを製造するために電子ビーム
は実際的ではない。これは、版中へ適切に深く浸透させ
るために、過度の高い加速電圧(300KeVより高い)が必
要とされるためである。
の使用は、紫外線照射と比較してより一貫した結果を提
供する。版中への電子ビームの透過は、電子の適正な加
速電圧を選択することによって、正確に調整し得る。比
較的薄い(1.2mmより薄い)フレキソ印刷版が所望であ
る場合には、電子ビームの使用で十分である。しかしな
がら、より厚みのある版(1.2mmより厚い)が所望であ
る場合には、適当なフロアを製造するために電子ビーム
は実際的ではない。これは、版中へ適切に深く浸透させ
るために、過度の高い加速電圧(300KeVより高い)が必
要とされるためである。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、熱現像性フ
レキソ印刷版用に適した多層フレキソ版および該版を作
製するための処理について提供する。
レキソ印刷版用に適した多層フレキソ版および該版を作
製するための処理について提供する。
【0011】1つの態様において、本発明は、(i)第1
感光性エラストマー層をフレキシブル基材に塗布し、(i
i)第1感光性エラストマー層を化学線に露光することに
よって硬化し、そして(iii)硬化の後に、500より少ない
分子量の1重量%以下のエチレン不飽和共重合性分子を
有する感光性エラストマー組成物を含む第2層であっ
て、厚さ0.2mm以上の第2層を第1感光性層に塗布する
ことを含む多層フレキシブル感光性版の製造方法を提供
する。
感光性エラストマー層をフレキシブル基材に塗布し、(i
i)第1感光性エラストマー層を化学線に露光することに
よって硬化し、そして(iii)硬化の後に、500より少ない
分子量の1重量%以下のエチレン不飽和共重合性分子を
有する感光性エラストマー組成物を含む第2層であっ
て、厚さ0.2mm以上の第2層を第1感光性層に塗布する
ことを含む多層フレキシブル感光性版の製造方法を提供
する。
【0012】第2の態様において、本発明は、(A)フレ
キシブル基材、(B)放射線への露光によって硬化した第
1感光性エラストマー層、および(C)0.2mm以上の厚みで
あり、500より少ない分子量の1重量%以下のエチレン
不飽和共重合性分子を有する第2感光性エラストマー層
を含む多層フレキシブル感光性版を提供する。
キシブル基材、(B)放射線への露光によって硬化した第
1感光性エラストマー層、および(C)0.2mm以上の厚みで
あり、500より少ない分子量の1重量%以下のエチレン
不飽和共重合性分子を有する第2感光性エラストマー層
を含む多層フレキシブル感光性版を提供する。
【0013】更に、その他の態様において、本発明は、
(i)第1感光性エラストマー層をフレキシブル基材に塗
布し、(ii)エラストマー組成物を化学線に露光すること
によって硬化し、(iii)500より少ない分子量の1重量%
以下のエチレン不飽和共重合性分子を有する感光性硬化
性エラストマー組成物を含む第2層であって、厚さ0.2m
m以上の第2層を第1感光性層に塗布し、(iv)第2感光
性エラストマー層を紫外線に画像形成状態で露光し、そ
して(v)印刷版を画像形成状態で露光した感光性層を、
吸収材料に、感光性層の未露光部分を吸収層中に流すた
めに十分な温度で接触させることを含む多層フレキソ感
光性版の製造方法を提供する。
(i)第1感光性エラストマー層をフレキシブル基材に塗
布し、(ii)エラストマー組成物を化学線に露光すること
によって硬化し、(iii)500より少ない分子量の1重量%
以下のエチレン不飽和共重合性分子を有する感光性硬化
性エラストマー組成物を含む第2層であって、厚さ0.2m
m以上の第2層を第1感光性層に塗布し、(iv)第2感光
性エラストマー層を紫外線に画像形成状態で露光し、そ
して(v)印刷版を画像形成状態で露光した感光性層を、
吸収材料に、感光性層の未露光部分を吸収層中に流すた
めに十分な温度で接触させることを含む多層フレキソ感
光性版の製造方法を提供する。
【0014】また本発明は、本発明の方法に従って作製
したフレキソ印刷版をも含む。フレキソ印刷版は、基
材、基材に平行な平面において硬化度が一定であるフロ
ア層、および画像を有する凸版層を含む。本発明のフレ
キソ印刷版は、明瞭に現された画像を有し、非照射領域
は完全にきれいな状態である。
したフレキソ印刷版をも含む。フレキソ印刷版は、基
材、基材に平行な平面において硬化度が一定であるフロ
ア層、および画像を有する凸版層を含む。本発明のフレ
キソ印刷版は、明瞭に現された画像を有し、非照射領域
は完全にきれいな状態である。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の方法は、感光性
エラストマー層をフレキシブル基材に塗布し、感光性エ
ラストマー層を化学線に露光することによって硬化し、
そして第1層の硬化の後に、揮発性成分含量の少ない第
2の感光性エラストマー層を硬化した第1層上に塗布す
ることを含む。2つの感光性層の組成物は、好ましくは
同一である。しかしながら、いくつかの好ましい態様に
よれば、2つの感光性層の組成物は、すくなくとも互い
にわずかに異なるものである。感光性エラストマー層
を、フィルム層を基材に塗布するいかなる従来の方法に
よって塗布してもよく、例えば積層、ナイフコーティン
グ、ローラーコーティング、エクストルージョン等が含
まれる。
エラストマー層をフレキシブル基材に塗布し、感光性エ
ラストマー層を化学線に露光することによって硬化し、
そして第1層の硬化の後に、揮発性成分含量の少ない第
2の感光性エラストマー層を硬化した第1層上に塗布す
ることを含む。2つの感光性層の組成物は、好ましくは
同一である。しかしながら、いくつかの好ましい態様に
よれば、2つの感光性層の組成物は、すくなくとも互い
にわずかに異なるものである。感光性エラストマー層
を、フィルム層を基材に塗布するいかなる従来の方法に
よって塗布してもよく、例えば積層、ナイフコーティン
グ、ローラーコーティング、エクストルージョン等が含
まれる。
【0016】第1層を硬化することによって、次のフレ
キソ印刷版の画像形成状態で露光および熱現像で、明瞭
な画像および滑らかなフロアが得られる。第2感光性層
を加える前の第1層のこのような硬化は、フロアの厚み
の調節を促す。フロアの厚さは、単に第1層の厚みを変
えることによって調節してもよい。第1層の厚みは、好
ましくは0.2mm以上、より好ましくは約0.5mm〜1.5mmの
範囲である。第2層の厚みは、好ましくは0.2mm以上、
より好ましくは約0.4mm〜1.5mmの範囲である。
キソ印刷版の画像形成状態で露光および熱現像で、明瞭
な画像および滑らかなフロアが得られる。第2感光性層
を加える前の第1層のこのような硬化は、フロアの厚み
の調節を促す。フロアの厚さは、単に第1層の厚みを変
えることによって調節してもよい。第1層の厚みは、好
ましくは0.2mm以上、より好ましくは約0.5mm〜1.5mmの
範囲である。第2層の厚みは、好ましくは0.2mm以上、
より好ましくは約0.4mm〜1.5mmの範囲である。
【0017】第1層の硬化の度合いは、熱現像中に層が
除去されない程度でなければならない。従って、第1層
は、完全に硬化または架橋していてもよい。しかしなが
ら、硬化中に第1層が完全に架橋しないほうがよい。こ
れは、凸版形成層の塗布後まで第1層が完全に架橋して
いなければ、第1層と第2層との間の付着が改良される
ためである。
除去されない程度でなければならない。従って、第1層
は、完全に硬化または架橋していてもよい。しかしなが
ら、硬化中に第1層が完全に架橋しないほうがよい。こ
れは、凸版形成層の塗布後まで第1層が完全に架橋して
いなければ、第1層と第2層との間の付着が改良される
ためである。
【0018】第2感光性層における揮発性成分の含量が
低いことは、熱現像中のこれらの揮発性成分の放出を減
少させるために望ましい。第2感光性層は、好ましくは
1.0%より少なく、より好ましくは0.5%より少なく、そ
して最も好ましくは0.1重量%より少ないエチレン不飽
和共重合性分子で、500より少ない分子量の分子を含
む。その他の材料で、熱現像中に揮発し得る材料の量の
限度もこれと同様である。多くの光重合開始剤で、熱現
像中に揮発しないものが見られるが、そのような化合物
が好ましい。同様に、多くの染料または顔料は、揮発性
成分の放出を増加させることなく、安全に使用し得る。
無機添加剤、抗酸化剤、オゾン劣化防止剤等は、一般に
熱現像中に揮発しないが、最少量で用いるべきものであ
り、可能であれば使用しないほうがよい。
低いことは、熱現像中のこれらの揮発性成分の放出を減
少させるために望ましい。第2感光性層は、好ましくは
1.0%より少なく、より好ましくは0.5%より少なく、そ
して最も好ましくは0.1重量%より少ないエチレン不飽
和共重合性分子で、500より少ない分子量の分子を含
む。その他の材料で、熱現像中に揮発し得る材料の量の
限度もこれと同様である。多くの光重合開始剤で、熱現
像中に揮発しないものが見られるが、そのような化合物
が好ましい。同様に、多くの染料または顔料は、揮発性
成分の放出を増加させることなく、安全に使用し得る。
無機添加剤、抗酸化剤、オゾン劣化防止剤等は、一般に
熱現像中に揮発しないが、最少量で用いるべきものであ
り、可能であれば使用しないほうがよい。
【0019】基材は、どんなフレキシブル材料であって
もよく、例えば金属シート類、プラスチックフィルム
類、開放または独立気泡フォーム類、圧縮性ゴム、また
はこれらの材料のいくつかの組み合わせが含まれる。プ
ラスチック類は、特にポリエステル類、例えばポリエチ
レンテレフタレート(PET)が、フレキシブル基材と
しての用途に適している。基材を、所望により良好な付
着性のために表面処理してもよい。このような表面処理
の一例として、コロナ処理をして、次に下塗り剤(例え
ば米国特許第08/189,075号に開示のようなアジリジン官
能性材料)を用いて表面処理をすることなどが挙げられ
る。基材は、0.075〜2mmの厚さ、好ましくは0.1〜1.5mm
の厚さであることが好ましい。
もよく、例えば金属シート類、プラスチックフィルム
類、開放または独立気泡フォーム類、圧縮性ゴム、また
はこれらの材料のいくつかの組み合わせが含まれる。プ
ラスチック類は、特にポリエステル類、例えばポリエチ
レンテレフタレート(PET)が、フレキシブル基材と
しての用途に適している。基材を、所望により良好な付
着性のために表面処理してもよい。このような表面処理
の一例として、コロナ処理をして、次に下塗り剤(例え
ば米国特許第08/189,075号に開示のようなアジリジン官
能性材料)を用いて表面処理をすることなどが挙げられ
る。基材は、0.075〜2mmの厚さ、好ましくは0.1〜1.5mm
の厚さであることが好ましい。
【0020】1つの好ましい態様において、硬化第1感
光性エラストマー層は、20〜90、好ましくは60〜90、よ
り好ましくは75〜85重量部の熱可塑性エラストマーブロ
ックコポリマー;3〜50、好ましくは3〜20、より好まし
くは5〜15重量部の架橋剤;および0.5〜5.0、好ましく
は1〜2.5重量部の光重合開始剤を含む。エラストマーブ
ロックコポリマーは、好ましくはA-B-A型ブロックコ
ポリマーであって、Aは非エラストマーブロック、好ま
しくはビニルポリマーそして最も好ましくはポリスチレ
ンであり、Bはエラストマーブロック、好ましくはポリ
ブタジエンまたはポリイソプレンである。非エラストマ
ー/エラストマー比は、10:90〜35:65の範囲であった
ほうがよい。スチレン-イソプレン-スチレンブロックコ
ポリマーが特に好ましい。
光性エラストマー層は、20〜90、好ましくは60〜90、よ
り好ましくは75〜85重量部の熱可塑性エラストマーブロ
ックコポリマー;3〜50、好ましくは3〜20、より好まし
くは5〜15重量部の架橋剤;および0.5〜5.0、好ましく
は1〜2.5重量部の光重合開始剤を含む。エラストマーブ
ロックコポリマーは、好ましくはA-B-A型ブロックコ
ポリマーであって、Aは非エラストマーブロック、好ま
しくはビニルポリマーそして最も好ましくはポリスチレ
ンであり、Bはエラストマーブロック、好ましくはポリ
ブタジエンまたはポリイソプレンである。非エラストマ
ー/エラストマー比は、10:90〜35:65の範囲であった
ほうがよい。スチレン-イソプレン-スチレンブロックコ
ポリマーが特に好ましい。
【0021】この好ましい態様において、架橋剤は、1
以上の末端エチレン基を有するエチレン不飽和化合物で
あったほうがよい。適当な化合物は、多官能性アクリレ
ート類およびメタクリレート類を含む。例えば、限定で
はないが、以下の化合物が挙げられる:適当な架橋剤;
エチレングリコールジアクリレート、ヘキサンジオール
ジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、エチレングリコールジメタ
クリレート、1,3-プロパンジオールジメタクリレート、
1,2,4-ブタントリオールトリメタクリレート、および1,
4-ブタンジオールジアクリレート。更に多くの適当な化
合物の例は、米国特許第4,400,459号に記載されてい
る。単官能性および多官能性アクリレート類またはメタ
クリレート類を用いてもよい。しかしながら、このよう
な混合物を用いるときには、架橋剤1分子あたり平均1.
3以上のアクリレート基を有することが望ましい。好ま
しくは架橋剤1分子あたり平均1.7以上のアクリレート
基を有し、そして最も好ましくは架橋剤1分子あたり平
均2.1以上のアクリレート基を有する。
以上の末端エチレン基を有するエチレン不飽和化合物で
あったほうがよい。適当な化合物は、多官能性アクリレ
ート類およびメタクリレート類を含む。例えば、限定で
はないが、以下の化合物が挙げられる:適当な架橋剤;
エチレングリコールジアクリレート、ヘキサンジオール
ジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、エチレングリコールジメタ
クリレート、1,3-プロパンジオールジメタクリレート、
1,2,4-ブタントリオールトリメタクリレート、および1,
4-ブタンジオールジアクリレート。更に多くの適当な化
合物の例は、米国特許第4,400,459号に記載されてい
る。単官能性および多官能性アクリレート類またはメタ
クリレート類を用いてもよい。しかしながら、このよう
な混合物を用いるときには、架橋剤1分子あたり平均1.
3以上のアクリレート基を有することが望ましい。好ま
しくは架橋剤1分子あたり平均1.7以上のアクリレート
基を有し、そして最も好ましくは架橋剤1分子あたり平
均2.1以上のアクリレート基を有する。
【0022】架橋剤の代わりに、エチレン不飽和オリゴ
マー、例えばポリアクリロイルオリゴマー等を用いても
よい。オリゴマーを用いる場合には、A-B-A型ブロッ
クコポリマーの量は、20〜80重量部であったほうがよ
く、オリゴマーの量は、15〜50重量部であったほうが
よい。エチレン不飽和オリゴマーを低分子量架橋剤と組
み合わせて用いてもよい。この組み合わせを用いる場合
には、ブロックコポリマーおよび架橋剤の相対的な量を
調節する必要があるかもしれない。感光性組成物が硬直
または粘性であると処理ができないが、流動性であると
保存中流れ出すため、このような調節は重要である。
マー、例えばポリアクリロイルオリゴマー等を用いても
よい。オリゴマーを用いる場合には、A-B-A型ブロッ
クコポリマーの量は、20〜80重量部であったほうがよ
く、オリゴマーの量は、15〜50重量部であったほうが
よい。エチレン不飽和オリゴマーを低分子量架橋剤と組
み合わせて用いてもよい。この組み合わせを用いる場合
には、ブロックコポリマーおよび架橋剤の相対的な量を
調節する必要があるかもしれない。感光性組成物が硬直
または粘性であると処理ができないが、流動性であると
保存中流れ出すため、このような調節は重要である。
【0023】光重合開始剤は、化学線に露光することに
よってフリーラジカルを発生する化合物である。どんな
公知の分類の光重合開始剤であってもよいが、詳しく
は、例えばキノン類、ベンゾフェノン類、ベンゾインエ
ーテル類、アリールケトン類、ペルオキシド類、ビイミ
ダゾール類、ジアリールヨードニウム類、トリアリール
スルホニウム類およびホスホニウム類、ジアゾニウム類
等のフリーラジカル光重合開始剤が挙げられる。また、
放射線によって活性化された増感剤によって作用された
時にフリーラジカルを提供する化合物を含む化合物の混
合物であってもよい。
よってフリーラジカルを発生する化合物である。どんな
公知の分類の光重合開始剤であってもよいが、詳しく
は、例えばキノン類、ベンゾフェノン類、ベンゾインエ
ーテル類、アリールケトン類、ペルオキシド類、ビイミ
ダゾール類、ジアリールヨードニウム類、トリアリール
スルホニウム類およびホスホニウム類、ジアゾニウム類
等のフリーラジカル光重合開始剤が挙げられる。また、
放射線によって活性化された増感剤によって作用された
時にフリーラジカルを提供する化合物を含む化合物の混
合物であってもよい。
【0024】追加の添加剤、例えば着色料、加工助剤、
オゾン劣化防止剤、スペクトル増感剤、および酸化防止
剤を所望により加えてもよい。加工助剤は、例えばエラ
ストマーブロックコポリマーと相溶性の低分子量ポリマ
ー、例えば低分子量のα−メチルスチレンポリマーまた
はコポリマー、またはフッ素化界面活性剤等のものであ
ってもよい。オゾン劣化防止剤には、炭化水素ワックス
類、ノルボルネン類および植物油が含まれる。適当な酸
化防止剤には、アルキル化フェノール類、アルキル化ビ
スフェノール類、重合トリメチルジヒドロキノン、およ
びジラウリルチオプロピオネートが含まれる。
オゾン劣化防止剤、スペクトル増感剤、および酸化防止
剤を所望により加えてもよい。加工助剤は、例えばエラ
ストマーブロックコポリマーと相溶性の低分子量ポリマ
ー、例えば低分子量のα−メチルスチレンポリマーまた
はコポリマー、またはフッ素化界面活性剤等のものであ
ってもよい。オゾン劣化防止剤には、炭化水素ワックス
類、ノルボルネン類および植物油が含まれる。適当な酸
化防止剤には、アルキル化フェノール類、アルキル化ビ
スフェノール類、重合トリメチルジヒドロキノン、およ
びジラウリルチオプロピオネートが含まれる。
【0025】いくつかの好ましい態様において、第2感
光性エラストマー層は、20〜80、好ましくは40〜60重
量部の熱可塑性ブロックコポリマーを含む。このブロッ
クコポリマーは、硬化第1層において用いたものと同様
であってもよい。第2感光性エラストマー層は、更に15
〜60、好ましくは35〜45重量部のエチレン不飽和オリゴ
マーを含む。好ましくは、オリゴマーは、1000より大き
い分子量、より好ましくは2000より大きい分子量、最も
好ましくは3000より大きい分子量を有するポリアクリロ
イルオリゴマーである。オリゴマーは、残留モノマーが
500ppmより少なく、好ましくは300ppmより少なく、最も
好ましくは150ppmより少なくなるまで揮発性成分を除去
されていることが好ましい。このオリゴマーは、凸版印
刷用に架橋剤として働く。低分子量の材料を用いる場合
に未露光領域に存在するような毒性揮発性成分の放出を
することなくフレキソ印刷版の熱現像を可能にするため
に、低分子量の化合物よりも、オリゴマーを用いる。オ
リゴマーアクリレート架橋剤/エラストマーブロックコ
ポリマーの重量比は、低分子量の架橋剤を用いる場合に
必要となる量よりも高いことが好ましい。熱現像を効果
的に行い得るように凸版の粘度を十分低く維持するた
め、高い比が必要である。適当なオリゴマーの例には、
ポリアクリロイルゴム類(例えばポリブタジエンアクリ
レート類およびポリイソプレンアクリレート類)があ
る。
光性エラストマー層は、20〜80、好ましくは40〜60重
量部の熱可塑性ブロックコポリマーを含む。このブロッ
クコポリマーは、硬化第1層において用いたものと同様
であってもよい。第2感光性エラストマー層は、更に15
〜60、好ましくは35〜45重量部のエチレン不飽和オリゴ
マーを含む。好ましくは、オリゴマーは、1000より大き
い分子量、より好ましくは2000より大きい分子量、最も
好ましくは3000より大きい分子量を有するポリアクリロ
イルオリゴマーである。オリゴマーは、残留モノマーが
500ppmより少なく、好ましくは300ppmより少なく、最も
好ましくは150ppmより少なくなるまで揮発性成分を除去
されていることが好ましい。このオリゴマーは、凸版印
刷用に架橋剤として働く。低分子量の材料を用いる場合
に未露光領域に存在するような毒性揮発性成分の放出を
することなくフレキソ印刷版の熱現像を可能にするため
に、低分子量の化合物よりも、オリゴマーを用いる。オ
リゴマーアクリレート架橋剤/エラストマーブロックコ
ポリマーの重量比は、低分子量の架橋剤を用いる場合に
必要となる量よりも高いことが好ましい。熱現像を効果
的に行い得るように凸版の粘度を十分低く維持するた
め、高い比が必要である。適当なオリゴマーの例には、
ポリアクリロイルゴム類(例えばポリブタジエンアクリ
レート類およびポリイソプレンアクリレート類)があ
る。
【0026】この感光性硬化性凸版層は、更に0.5〜5.
0、好ましくは1〜2.5重量%の感光性フリーラジカル重
合開始剤を含む。
0、好ましくは1〜2.5重量%の感光性フリーラジカル重
合開始剤を含む。
【0027】硬化性第1エラストマー層と同様に、感光
性硬化性凸版層も加工助剤、オゾン劣化防止剤、酸化防
止剤等を含み得る。
性硬化性凸版層も加工助剤、オゾン劣化防止剤、酸化防
止剤等を含み得る。
【0028】その他の好ましい態様において、硬化第1
層は、感光性硬化性エラストマーポリウレタンを含む。
このポリウレタンは、(i)有機ジイソシアネート、(ii)
イソシアネート基と重合し得る2以上の遊離水素基を有
し、1分子あたり1以上のエチレン不飽和付加重合基を
有する、1以上の鎖延長剤、および(iii)500の最少分子
量、およびイソシアネート基と重合し得る2以上の水素
を含む基を有する有機ポリオールの反応生成物である。
この第1層を、化学線に露光することによって硬化す
る。その後、第2感光性硬化性エラストマーポリウレタ
ン層を硬化した第1層の上に押し出す。この第2感光性
層は、(i)有機ジイソシアネート、(ii)イソシアネート
基と重合し得る2以上の遊離水素基を有し、1分子あた
り1以上のエチレン不飽和付加重合基を有する、1以上
の鎖延長剤、および(iii)500の最少分子量、およびイソ
シアネート基と重合し得る2以上の水素を含む基を有す
る有機ポリオールの反応生成物である。これらの材料に
関するより詳しい内容については、米国特許第5,015,55
6号を参照し得る。更に、加工助剤、オゾン劣化防止
剤、酸化防止剤およびその他の所望の添加剤を用いても
よい。
層は、感光性硬化性エラストマーポリウレタンを含む。
このポリウレタンは、(i)有機ジイソシアネート、(ii)
イソシアネート基と重合し得る2以上の遊離水素基を有
し、1分子あたり1以上のエチレン不飽和付加重合基を
有する、1以上の鎖延長剤、および(iii)500の最少分子
量、およびイソシアネート基と重合し得る2以上の水素
を含む基を有する有機ポリオールの反応生成物である。
この第1層を、化学線に露光することによって硬化す
る。その後、第2感光性硬化性エラストマーポリウレタ
ン層を硬化した第1層の上に押し出す。この第2感光性
層は、(i)有機ジイソシアネート、(ii)イソシアネート
基と重合し得る2以上の遊離水素基を有し、1分子あた
り1以上のエチレン不飽和付加重合基を有する、1以上
の鎖延長剤、および(iii)500の最少分子量、およびイソ
シアネート基と重合し得る2以上の水素を含む基を有す
る有機ポリオールの反応生成物である。これらの材料に
関するより詳しい内容については、米国特許第5,015,55
6号を参照し得る。更に、加工助剤、オゾン劣化防止
剤、酸化防止剤およびその他の所望の添加剤を用いても
よい。
【0029】感光性硬化性凸版層のトップを顔料層で覆
うことが望ましいこともある。この顔料層は、感光性エ
ラストマー組成物であるほうがよい。しばしば、顔料層
のバインダーは、顔料の添加剤を有する感光性凸版層の
組成物と同一または近似したものである。
うことが望ましいこともある。この顔料層は、感光性エ
ラストマー組成物であるほうがよい。しばしば、顔料層
のバインダーは、顔料の添加剤を有する感光性凸版層の
組成物と同一または近似したものである。
【0030】帯電防止層を凸版層または顔料層の上に加
えて用いてもよい。この帯電防止層は、例えば五酸化バ
ナジウム、第4アンモニウム化合物等の材料、または熱
現像中に除去し得るその他の材料または層を含んでいて
もよい。
えて用いてもよい。この帯電防止層は、例えば五酸化バ
ナジウム、第4アンモニウム化合物等の材料、または熱
現像中に除去し得るその他の材料または層を含んでいて
もよい。
【0031】レリーズ層を凸版層のトップに加えて、フ
レキソ版の画像形成露光において用いたフィルムを有す
る画像が、フレキソ版に膠着することを防いでもよい。
レリーズ層は、好ましくは米国特許出願第08/189,079号
に記載のように、ポリアミド類またはヒドロキシアルキ
ルセルロースからなる。更に、保護カバー層を版のトッ
プに用いてもよい。この保護層は、簡単に除去できるも
のでなければならない。なぜなら、フレキソ印刷版を画
像形成露光する前に除去するからである。このカバー層
または保護層は、プラスチックフィルム類(例えばポリ
エステル)またはポリマー被覆紙を含む様々な材料であ
り得る。
レキソ版の画像形成露光において用いたフィルムを有す
る画像が、フレキソ版に膠着することを防いでもよい。
レリーズ層は、好ましくは米国特許出願第08/189,079号
に記載のように、ポリアミド類またはヒドロキシアルキ
ルセルロースからなる。更に、保護カバー層を版のトッ
プに用いてもよい。この保護層は、簡単に除去できるも
のでなければならない。なぜなら、フレキソ印刷版を画
像形成露光する前に除去するからである。このカバー層
または保護層は、プラスチックフィルム類(例えばポリ
エステル)またはポリマー被覆紙を含む様々な材料であ
り得る。
【0032】本発明の方法は、更にフレキソ印刷版の感
光性硬化性層を化学線(好ましくは紫外線)に画像形成
状態で露光することを含む。その後露光した版を吸収剤
表面に十分な温度で接触させて、版の未露光部分を軟化
または溶融させ、吸収剤表面に流すことにより、露光し
た版を現像してもよい。
光性硬化性層を化学線(好ましくは紫外線)に画像形成
状態で露光することを含む。その後露光した版を吸収剤
表面に十分な温度で接触させて、版の未露光部分を軟化
または溶融させ、吸収剤表面に流すことにより、露光し
た版を現像してもよい。
【0033】得られたフレキソ印刷版は、鮮明な画像を
有し、非照射領域は完全にきれいな状態であって、汚れ
のないフロアを残す。本発明による汚れのないフロア
は、紫外線またはe-ビーム照射で裏側を硬化する手段
によってフレキソ版上に製造したフロアと比較して、本
質的に滑らかであり、フロア表面上の僅かで一貫した組
織を超えるような、目に見えるデコボコがない。従来の
裏照射方法を、第1層の予備硬化段階に置き換えて、基
材の平面に平行な第1層における平面の硬化度を均一ま
たは比較的一定にするフロアを設定することによって、
滑らかなフロアが設定されるものと考えられる。これら
の平面における硬化が一般に均一であるため、フロア層
と第2層の非照射部分との境界面におけるフロア層の硬
化の度合いは、だいたい均一である。未硬化材料用の良
好な溶剤におけるゲルフラクションまたは膨張度等の技
術によって硬化度を測定してもよい。例えば、THF
(テトラヒドロフラン)は、S-I-Sブロックコポリマー
用の良好な溶剤として公知である。これにより、材料
は、より滑らかなフロアを生む熱現像中により均一に除
去され得る。
有し、非照射領域は完全にきれいな状態であって、汚れ
のないフロアを残す。本発明による汚れのないフロア
は、紫外線またはe-ビーム照射で裏側を硬化する手段
によってフレキソ版上に製造したフロアと比較して、本
質的に滑らかであり、フロア表面上の僅かで一貫した組
織を超えるような、目に見えるデコボコがない。従来の
裏照射方法を、第1層の予備硬化段階に置き換えて、基
材の平面に平行な第1層における平面の硬化度を均一ま
たは比較的一定にするフロアを設定することによって、
滑らかなフロアが設定されるものと考えられる。これら
の平面における硬化が一般に均一であるため、フロア層
と第2層の非照射部分との境界面におけるフロア層の硬
化の度合いは、だいたい均一である。未硬化材料用の良
好な溶剤におけるゲルフラクションまたは膨張度等の技
術によって硬化度を測定してもよい。例えば、THF
(テトラヒドロフラン)は、S-I-Sブロックコポリマー
用の良好な溶剤として公知である。これにより、材料
は、より滑らかなフロアを生む熱現像中により均一に除
去され得る。
【0034】2段階硬化手順の結果として得られるこれ
らの版のその他の特異的な特徴は、画像を有する凸版層
が、しばしばフロア層を有する境界面において、境界面
におけるフロア層の硬化度とは異なる硬化度を有するこ
とである。
らの版のその他の特異的な特徴は、画像を有する凸版層
が、しばしばフロア層を有する境界面において、境界面
におけるフロア層の硬化度とは異なる硬化度を有するこ
とである。
【0035】
【実施例】実施例1 7ミル(0.18mm)のポリエチレンテレフタレート(PE
T)(層A)を空気中でコロナ処理し、CX-100TM、アジ
リジン官能性化合物のイソプロピルアルコール溶液(ポ
リビニルケミカル社(Polyvinyl Chemical)より市販)で
被覆した。2ミル(0.05mm)乾燥接着層(B)を基材に
積層した。36ミル(0.91mm)の感光性硬化性エラストマ
ー組成物(C)を接着層の上に積層した。その後層Cを
紫外線で30秒間トップから、そして30秒間ボトムから基
材を通して露光し、フォトポリマーを完全に硬化した。
36ミル(0.91mm)感光性硬化性エラストマー層(D)を
硬化ポリマー層に積層した。4ミル(0.1mm)のポリエス
テルフィルム(G)をレリーズ層(F)と顔料層(E)
で積層した。その後この多層構造物を上記の構造物に積
層し、層DおよびEが互いに接触するようにした。
T)(層A)を空気中でコロナ処理し、CX-100TM、アジ
リジン官能性化合物のイソプロピルアルコール溶液(ポ
リビニルケミカル社(Polyvinyl Chemical)より市販)で
被覆した。2ミル(0.05mm)乾燥接着層(B)を基材に
積層した。36ミル(0.91mm)の感光性硬化性エラストマ
ー組成物(C)を接着層の上に積層した。その後層Cを
紫外線で30秒間トップから、そして30秒間ボトムから基
材を通して露光し、フォトポリマーを完全に硬化した。
36ミル(0.91mm)感光性硬化性エラストマー層(D)を
硬化ポリマー層に積層した。4ミル(0.1mm)のポリエス
テルフィルム(G)をレリーズ層(F)と顔料層(E)
で積層した。その後この多層構造物を上記の構造物に積
層し、層DおよびEが互いに接触するようにした。
【0036】層の組成: A−アジリジン被覆PET B−80重量% クラトン(Kraton)1117TM(スチレン−イ
ソプレン−スチレン(SIS)ブロックコポリマー、シェル
・ケミカル社(Shell Chemical Co.)より市販) 1.6重量% イルガキュア(Irgacure)651TM(アセトフェ
ノン光重合開始剤、チバ-ガイギー社(Chiba-Geigy)より
市販) 8.4重量% ピコテックス(Picotex)75TM(α-メチルス
チレン/ビニルトルエンコポリマー、ヘルクレス(Hercu
les)社より市販) 4.0重量% ヘキサンジオールジアクリレート 3.0重量% トリメチロールプロパントリアクリレート 3.0重量% ヘキサンジオールジメタクリレート C−65.9重量% クラトン1117TM 24.4重量% ポリブタジエンジアクリレートポリBD-300
TM(アトケム(Atochem)) 1.2重量% イルガキュア651TM 3.4重量% ピコテックス75TM 3.4重量% シンテン(Syntene)160TM炭化水素ワックス 1.0重量% 酸化防止剤(イルガノックス(Irganox)1076
TM(チバ-ガイギー)、シアノックス(Cyanox)LTDP
TM(アメリカン・シアナミド(American Cyanamid))) D−65.9重量% クラトン1117TM 24.4重量% ポリブタジエンジアクリレート 1.2重量% イルガキュア651TM 3.4重量% ピコテックス75TM 3.4重量% シンテン(Syntene)160TM炭化水素ワックス 1.0重量% 酸化防止剤(イルガノックス1076TMおよび
シアノックスLTDPTM) E−層Dと同様の組成で、バインダー層中に4%顔料 F−ヒドロキシプロピルセルロース G−PET
ソプレン−スチレン(SIS)ブロックコポリマー、シェル
・ケミカル社(Shell Chemical Co.)より市販) 1.6重量% イルガキュア(Irgacure)651TM(アセトフェ
ノン光重合開始剤、チバ-ガイギー社(Chiba-Geigy)より
市販) 8.4重量% ピコテックス(Picotex)75TM(α-メチルス
チレン/ビニルトルエンコポリマー、ヘルクレス(Hercu
les)社より市販) 4.0重量% ヘキサンジオールジアクリレート 3.0重量% トリメチロールプロパントリアクリレート 3.0重量% ヘキサンジオールジメタクリレート C−65.9重量% クラトン1117TM 24.4重量% ポリブタジエンジアクリレートポリBD-300
TM(アトケム(Atochem)) 1.2重量% イルガキュア651TM 3.4重量% ピコテックス75TM 3.4重量% シンテン(Syntene)160TM炭化水素ワックス 1.0重量% 酸化防止剤(イルガノックス(Irganox)1076
TM(チバ-ガイギー)、シアノックス(Cyanox)LTDP
TM(アメリカン・シアナミド(American Cyanamid))) D−65.9重量% クラトン1117TM 24.4重量% ポリブタジエンジアクリレート 1.2重量% イルガキュア651TM 3.4重量% ピコテックス75TM 3.4重量% シンテン(Syntene)160TM炭化水素ワックス 1.0重量% 酸化防止剤(イルガノックス1076TMおよび
シアノックスLTDPTM) E−層Dと同様の組成で、バインダー層中に4%顔料 F−ヒドロキシプロピルセルロース G−PET
【0037】実施例2 実施例1の多層フレキシブル版を、以下のように画像形
成状態で露光し、現像した。層Gを除去し、ネガ画像を
有するフィルムをレリーズ層Fに向かって置いた。版上
に逆画像を作るため、紫外線に3分露光した。バーコー
ド模様を作るため、紫外線に9分露光した。その他の模
様については、ネガフィルムを通した露光を15分行っ
た。露光後、版を吸収材料と昇温下で接触させることに
よって現像した。用いた吸収材料は、ファイバーウェブ
・アメリカ社(Fiberweb AmericaInc.)より市販のセレ
ックス(CEREX)で、スパンボンデッドのナイロン6,6不織
布材料であった。吸収材料および画像露光版の両方を、
熱輸送エレメントに付着させた。吸収材料を運ぶエレメ
ントを約175℃に維持し、フレキソ印刷版を運ぶエレメ
ントを約60℃に維持した。10回の接触の後、36ミル(0.
91mm)の凸版および38ミル(0.97mm)のフロアを有す
る、きれいで、滑らかなフロアを示すフレキソ印刷版が
得られた。
成状態で露光し、現像した。層Gを除去し、ネガ画像を
有するフィルムをレリーズ層Fに向かって置いた。版上
に逆画像を作るため、紫外線に3分露光した。バーコー
ド模様を作るため、紫外線に9分露光した。その他の模
様については、ネガフィルムを通した露光を15分行っ
た。露光後、版を吸収材料と昇温下で接触させることに
よって現像した。用いた吸収材料は、ファイバーウェブ
・アメリカ社(Fiberweb AmericaInc.)より市販のセレ
ックス(CEREX)で、スパンボンデッドのナイロン6,6不織
布材料であった。吸収材料および画像露光版の両方を、
熱輸送エレメントに付着させた。吸収材料を運ぶエレメ
ントを約175℃に維持し、フレキソ印刷版を運ぶエレメ
ントを約60℃に維持した。10回の接触の後、36ミル(0.
91mm)の凸版および38ミル(0.97mm)のフロアを有す
る、きれいで、滑らかなフロアを示すフレキソ印刷版が
得られた。
【0038】実施例3 7ミル(0.18mm)のポリエチレンテレフタレート(PE
T)(層A)を空気中でコロナ処理し、CX-100TM、アジ
リジン官能性化合物のイソプロピルアルコール溶液(ポ
リビニルケミカル社(Polyvinyl Chemical)より市販)で
被覆した。ウェブを約100℃で乾燥し、数百オングスト
ロームの厚みのコーティングを得た。その後層Bをブレ
ンドし、ツインスクリューエクストルーダーで押し出し
て、感光性組成物の35ミル(0.89mm)のコーティングを
製造した。この感光性層Bを紫外線に露光して硬化し
た。続けて、第2感光性組成物(層C)を硬化層Bの上
に押し出して、25ミル(0.63mm)の層を製造した。
T)(層A)を空気中でコロナ処理し、CX-100TM、アジ
リジン官能性化合物のイソプロピルアルコール溶液(ポ
リビニルケミカル社(Polyvinyl Chemical)より市販)で
被覆した。ウェブを約100℃で乾燥し、数百オングスト
ロームの厚みのコーティングを得た。その後層Bをブレ
ンドし、ツインスクリューエクストルーダーで押し出し
て、感光性組成物の35ミル(0.89mm)のコーティングを
製造した。この感光性層Bを紫外線に露光して硬化し
た。続けて、第2感光性組成物(層C)を硬化層Bの上
に押し出して、25ミル(0.63mm)の層を製造した。
【0039】層Bの組成: 80.3重量% SISブロックコポリマー 10.0重量% エチレン化ビスフェノールAジアクリレー
ト 7.4重量% ポリ(α-メチルスチレン/ビニルトルエ
ン) 0.5重量% 酸化防止剤 1.3重量% イルガキュア651TM 0.5重量% 炭化水素ワックス
ト 7.4重量% ポリ(α-メチルスチレン/ビニルトルエ
ン) 0.5重量% 酸化防止剤 1.3重量% イルガキュア651TM 0.5重量% 炭化水素ワックス
【0040】層Cの組成: 55.3重量% SISブロックコポリマー 35.0重量% ポリブタジエンジアクリレート 7.4重量% ポリ(α-メチルスチレン/ビニルトルエ
ン) 0.5重量% 酸化防止剤 1.3重量% イルガキュア651TM 0.5重量% 炭化水素ワックス
ン) 0.5重量% 酸化防止剤 1.3重量% イルガキュア651TM 0.5重量% 炭化水素ワックス
【0041】5ミル(0.13mm)のポリエステルフィルム
(E)を五酸化バナジウムの0.2%溶液で被覆した。五
酸化バナジウム溶液を、0.1%の五酸化バナジウムおよ
び0.1%の界面活性剤をイオン交換水に溶解して調製し
た。乾燥後、コーティング重量は、15mg/m2であった。
被覆フィルムEへ、10%ポリアミドのn-プロピルアルコ
ール/トルエン溶液からなるコーティング(D)を加え
た。少量のFC170界面活性剤(スリー・エム(3M)社)を接
着を調整するために加えた。ポリアミド層Dの乾燥コー
ティング重量は、0.19mg/cm2であった。多層シートD-
Eを多層シートA-B-Cへ、層Dと層Cが接触するよう
に積層した。得られた多層構造物は、67ミル(1.7mm)
の厚みであった。
(E)を五酸化バナジウムの0.2%溶液で被覆した。五
酸化バナジウム溶液を、0.1%の五酸化バナジウムおよ
び0.1%の界面活性剤をイオン交換水に溶解して調製し
た。乾燥後、コーティング重量は、15mg/m2であった。
被覆フィルムEへ、10%ポリアミドのn-プロピルアルコ
ール/トルエン溶液からなるコーティング(D)を加え
た。少量のFC170界面活性剤(スリー・エム(3M)社)を接
着を調整するために加えた。ポリアミド層Dの乾燥コー
ティング重量は、0.19mg/cm2であった。多層シートD-
Eを多層シートA-B-Cへ、層Dと層Cが接触するよう
に積層した。得られた多層構造物は、67ミル(1.7mm)
の厚みであった。
【0042】実施例4 7ミル(0.18mm)ポリエステルフィルム(A)をコロナ
処理し、CX-100TMで下塗りした。28ミル(0.71mm)の硬
化性ポリウレタンエラストマー(B)を下塗りフィルム
上に反応押出した。このポリウレタンを、始めにポリエ
ステルを通して電子ビームを照射し、その後トップから
紫外線を30秒間、硬化するまで照射して硬化させた。硬
化性ポリウレタンエラストマーの27ミル(0.69mm)の第
2層(C)を層Bに積層した。
処理し、CX-100TMで下塗りした。28ミル(0.71mm)の硬
化性ポリウレタンエラストマー(B)を下塗りフィルム
上に反応押出した。このポリウレタンを、始めにポリエ
ステルを通して電子ビームを照射し、その後トップから
紫外線を30秒間、硬化するまで照射して硬化させた。硬
化性ポリウレタンエラストマーの27ミル(0.69mm)の第
2層(C)を層Bに積層した。
【0043】静電気防止層(E)を4ミル(0.1mm)のポ
リエステルフィルム(F)に被覆した。次に、放射線硬
化性顔料層(D)を層Eのトップに加えた。その後、こ
の多層材料を上記のフレキシブル版に積層して、層Dお
よびEを互いに接触させた。
リエステルフィルム(F)に被覆した。次に、放射線硬
化性顔料層(D)を層Eのトップに加えた。その後、こ
の多層材料を上記のフレキシブル版に積層して、層Dお
よびEを互いに接触させた。
【0044】ポリウレタン層CおよびDを、同一組成と
した。これらの層を形成するために、62.5重量部のポリ
オールの流れを37.5重量部の4,4-ビス(イソシアナート
シクロヘキシルメタン)と、ツインエクストルーダー中
で混合し、薄いフィルムとして押し出した。ポリオール
の流れは、以下の成分を含有する: 286.1重量部 1000MWのポリ1,2-(ブチレンオキサイド)
ジオール 32.8重量部 1,4-ブタンジオール 10.7重量部 2-グリセロールメタクリレート 10.6重量部 イルガキュア651TM(フリーラジカル開始
剤) 0.1重量部 メチレンブルー 0.06重量部 塩化第2鉄 0.26重量部 ジブチルスズジラウレート
した。これらの層を形成するために、62.5重量部のポリ
オールの流れを37.5重量部の4,4-ビス(イソシアナート
シクロヘキシルメタン)と、ツインエクストルーダー中
で混合し、薄いフィルムとして押し出した。ポリオール
の流れは、以下の成分を含有する: 286.1重量部 1000MWのポリ1,2-(ブチレンオキサイド)
ジオール 32.8重量部 1,4-ブタンジオール 10.7重量部 2-グリセロールメタクリレート 10.6重量部 イルガキュア651TM(フリーラジカル開始
剤) 0.1重量部 メチレンブルー 0.06重量部 塩化第2鉄 0.26重量部 ジブチルスズジラウレート
【0045】放射線硬化性顔料層Dを、以下の材料を溶
液中に合わせることによって調製した: a.30重量%固体メタクリレート官能性塩化ポリビニル
コポリマーの300部のメチルエチルケトン溶液; b.30重量%固体メタクリレート官能性ポリウレタン樹
脂(1,4-ブタンジオール、1-グリセロールメタクリレー
トおよび4,4-ビスイソシアナートシクロヘキシルメタン
からなる硬質部分を36重量%含有)の300部のメチルエ
チルケトン溶液; c.3部のイルガキュア369TM(チバ-ガイギー)光重合
開始剤; d.350部のメチルエチルケトン溶剤; e.10部のサン(Sun)-234TMマゼンタ(サン・ケミカル(S
un Chemical)社)顔料、10部の(上記のaで記載した)
メタクリレート化PVCコポリマー溶液、および30部の
メチルエチルケトン溶剤からなる50部の顔料分散体。こ
の分散体を、10μmより大きい粒子が見えなくなるま
で、この混合物をサンドミルすることによって調製し
た。
液中に合わせることによって調製した: a.30重量%固体メタクリレート官能性塩化ポリビニル
コポリマーの300部のメチルエチルケトン溶液; b.30重量%固体メタクリレート官能性ポリウレタン樹
脂(1,4-ブタンジオール、1-グリセロールメタクリレー
トおよび4,4-ビスイソシアナートシクロヘキシルメタン
からなる硬質部分を36重量%含有)の300部のメチルエ
チルケトン溶液; c.3部のイルガキュア369TM(チバ-ガイギー)光重合
開始剤; d.350部のメチルエチルケトン溶剤; e.10部のサン(Sun)-234TMマゼンタ(サン・ケミカル(S
un Chemical)社)顔料、10部の(上記のaで記載した)
メタクリレート化PVCコポリマー溶液、および30部の
メチルエチルケトン溶剤からなる50部の顔料分散体。こ
の分散体を、10μmより大きい粒子が見えなくなるま
で、この混合物をサンドミルすることによって調製し
た。
【0046】これらの材料を、高速ミキサーを用いてブ
レンドした。その後、放射線硬化性顔料層を4ミル(0.1
mm)のポリエステルフィルムに、十分な厚さで塗布し、
オーブン乾燥後に0.54mg/cm2の重量を有するコーティン
グを提供した。
レンドした。その後、放射線硬化性顔料層を4ミル(0.1
mm)のポリエステルフィルムに、十分な厚さで塗布し、
オーブン乾燥後に0.54mg/cm2の重量を有するコーティン
グを提供した。
【0047】実施例5 実施例4で作製したフレキシブル版を、4ミル(0.1m
m)のポリエステル被覆層を除去した後、ネガ画像を有
するフィルムを通して紫外線照射して画像露光した。露
光時間は、逆画像用に3分、およびその他の画像用に9
分とした。6回の熱現像接触を、175℃/60℃(それぞ
れ、吸収材料を運ぶエレメントおよびフレキソ版用)の
処理温度で行った。フレキソ印刷版は、27ミル(0.69m
m)の凸版画像、および28ミル(0.71mm)のフロアを有
するかなり明瞭なフロアを示した。
m)のポリエステル被覆層を除去した後、ネガ画像を有
するフィルムを通して紫外線照射して画像露光した。露
光時間は、逆画像用に3分、およびその他の画像用に9
分とした。6回の熱現像接触を、175℃/60℃(それぞ
れ、吸収材料を運ぶエレメントおよびフレキソ版用)の
処理温度で行った。フレキソ印刷版は、27ミル(0.69m
m)の凸版画像、および28ミル(0.71mm)のフロアを有
するかなり明瞭なフロアを示した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/36 (72)発明者 ジョン・アーサー・マーテンス アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター(番 地の表示なし) (72)発明者 ゲイリー・アレン・ストース アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター(番 地の表示なし)
Claims (7)
- 【請求項1】 (A)フレキシブル基材、(B)放射線に露光
することによって硬化した第1感光性エラストマー層、
および(C)0.2mm以上の厚みであり、500より少ない分子
量の1重量%以下のエチレン不飽和共重合性分子を有す
る第2感光性エラストマー層を含む多層フレキシブル感
光性版。 - 【請求項2】 第1エラストマー層が、(A)20〜90重量
部の熱可塑性エラストマーABA型ブロックコポリマー
であって、Aがビニルポリマーであり、Bがエラストマ
ーであり、A:Bの比が10:90〜30:70であるブロック
コポリマー、(B)1分子あたり、平均で1.3以上のアクリ
レート基を有する3〜50重量部の架橋剤、および(C)0.5
〜5.0重量部の光重合開始剤を含み、未硬化感光性層
が、(X)20〜80重量部の熱可塑性エラストマーABA型
ブロックコポリマー、(Y)15〜50重量部の1000より大き
い分子量を有するポリアクリロイル架橋バインダー、お
よび(Z)0.5〜5.0重量部の光重合開始剤を含む、請求項
1記載の多層フレキシブル感光性版。 - 【請求項3】 ポリアクリロイル架橋バインダーが、50
0ppmより少ない未反応モノマーを含む、請求項2記載の
多層フレキシブル感光性版。 - 【請求項4】 (i)第1感光性エラストマー層をフレキ
シブル基材に塗布し、(ii)第1感光性エラストマー層を
化学線に露光することによって硬化し、そして(iii)第
1層を硬化した後に、第2感光性エラストマー層を第1
感光性層に塗布することを含む、請求項1〜3のいずれ
かに記載の多層フレキシブル感光性版の製造方法。 - 【請求項5】 (i)第2感光性エラストマー層を紫外線
に画像形成状態で露光し、そして(ii)画像形成状態で露
光した感光性エラストマー層を、吸収材料に、感光性層
の未露光部分を吸収層中に流すために十分な温度で接触
させることによって印刷版を現像することを含む、請求
項1〜3のいずれかに記載の多層感光性版由来のフレキ
ソ印刷版の製造方法。 - 【請求項6】 基材、基材に平行な平面において硬化度
が一定であるフロア層、および画像を有する凸版層を有
するフレキソ印刷版。 - 【請求項7】 フロア層が、(A)20〜90重量部の熱可塑
性エラストマーABA型ブロックコポリマーであって、
Aがビニルポリマーであり、Bがエラストマーであり、
A:Bの比が10:90〜30:70であるブロックコポリマ
ー、(B)1分子あたり、平均で1.3以上のアクリレート基
を有する3〜50重量部の架橋剤、および(C)0.5〜5.0重量
部の光重合開始剤の硬化生成物を含み、画像を有する凸
版層が、(X)20〜80重量部の熱可塑性エラストマーAB
A型ブロックコポリマー、(Y)15〜50重量部の1000より
大きい分子量を有するポリアクリロイル架橋バインダ
ー、および(Z)0.5〜5.0重量部の光重合開始剤の硬化生
成物を含む、請求項6記載のフレキソ印刷版。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US18845094A | 1994-01-28 | 1994-01-28 | |
US188450 | 1994-01-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07234502A true JPH07234502A (ja) | 1995-09-05 |
Family
ID=22693212
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1181995A Pending JPH07234502A (ja) | 1994-01-28 | 1995-01-27 | 多層フレキソ印刷版 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0665469A3 (ja) |
JP (1) | JPH07234502A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004501397A (ja) * | 2000-05-22 | 2004-01-15 | クレイトン・ポリマーズ・リサーチ・ベー・ベー | フレキソ印刷板の製造方法 |
JP2008520003A (ja) * | 2004-11-12 | 2008-06-12 | マクダーミッド プリンティング ソリューションズ, エルエルシー | 感光性印刷スリーブの熱処理方法 |
JP2009517254A (ja) * | 2005-11-30 | 2009-04-30 | マクダーミッド プリンティング ソリューションズ, エルエルシー | 処理時間を短縮した感光性樹脂印刷版 |
JP2011064950A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-03-31 | Toppan Printing Co Ltd | 印刷用凸版およびその製造方法 |
JP2013029738A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | Fujifilm Corp | 熱現像用フレキソ印刷版原版、及び、フレキソ印刷版の製版方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998013730A1 (en) * | 1996-09-27 | 1998-04-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multilayer flexographic printing plate |
DE60125755T2 (de) | 2000-05-17 | 2007-11-15 | E.I. Dupont De Nemours And Co., Wilmington | Verfahren zur herstellung einer flexodruckplatte |
US6773859B2 (en) * | 2001-03-06 | 2004-08-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making a flexographic printing plate and a photosensitive element for use in the process |
US7348123B2 (en) | 2001-04-18 | 2008-03-25 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing a flexographic printing plate |
ITMI20040041A1 (it) | 2004-01-15 | 2004-04-15 | Printgraph Waterless S P A | Sottorivestimento autolivellante per macchine da stampa |
US8715906B2 (en) | 2008-12-12 | 2014-05-06 | E I Du Pont De Nemours And Company | High resolution, solvent resistant, thin elastomeric printing plates |
US8541162B2 (en) | 2010-09-01 | 2013-09-24 | E I Du Pont De Nemours And Company | High resolution, solvent resistant, thin elastomeric printing plates |
US8563220B2 (en) | 2010-09-01 | 2013-10-22 | E I Du Pont De Nemours And Company | High resolution, solvent resistant, thin elastomeric printing plates |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL295625A (ja) * | 1962-07-26 | |||
US3479182A (en) * | 1965-05-12 | 1969-11-18 | Simon L Chu | Lithographic plates |
US3645730A (en) * | 1968-10-11 | 1972-02-29 | Grace W R & Co | Reproduction of images using light sensitive curable liquid polymers |
US4264705A (en) * | 1979-12-26 | 1981-04-28 | Uniroyal, Inc. | Multilayered elastomeric printing plate |
US5187044A (en) * | 1991-05-14 | 1993-02-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Flexographic printing plate |
-
1995
- 1995-01-26 EP EP95400168A patent/EP0665469A3/en not_active Withdrawn
- 1995-01-27 JP JP1181995A patent/JPH07234502A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004501397A (ja) * | 2000-05-22 | 2004-01-15 | クレイトン・ポリマーズ・リサーチ・ベー・ベー | フレキソ印刷板の製造方法 |
JP2008520003A (ja) * | 2004-11-12 | 2008-06-12 | マクダーミッド プリンティング ソリューションズ, エルエルシー | 感光性印刷スリーブの熱処理方法 |
JP2009517254A (ja) * | 2005-11-30 | 2009-04-30 | マクダーミッド プリンティング ソリューションズ, エルエルシー | 処理時間を短縮した感光性樹脂印刷版 |
JP2011064950A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-03-31 | Toppan Printing Co Ltd | 印刷用凸版およびその製造方法 |
JP2013029738A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | Fujifilm Corp | 熱現像用フレキソ印刷版原版、及び、フレキソ印刷版の製版方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0665469A3 (en) | 1996-02-21 |
EP0665469A2 (en) | 1995-08-02 |
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