JPS58202908A - 金属薄板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、例えばリボン形スピーカの振動板として最
適な、ベリリウム又はベリリウムを含む金属からなる金
属薄板の製造方法に関する。

従来、ベリリウム又は之を含む金属は軽量で比熱が大き
く熱伝導度が良く、また音の伝播速度が速い等、数々の
利点を有した金属であることから、特にリボン形スピー
カの振動板に最適である。しかしベリリウムは延性が乏
しく、もろいため、常温での圧延はできなかった。

従って従来、ベリリウム又はベリリウムを含む金属から
なる金属薄板は第１図に示す装置を用いて製造されてい
た。

即ち先ず第１工程として、銅又はアルミニウム等から形
成された基板ｌを真空排気用の真空槽ｌＯ内にセントし
、それから前記真空槽１０内をｌＯ”−’〜ｌ　０−５
（Ｔｏｒｒ）程度に排気し、さらに前記基板ｌをヒータ
で４００℃〜６００℃に加熱する（第２図参照）。

第２工程として、ベリリウムＢｅを加熱用のヒータＨで
加熱して蒸発させ、前記基板ｌにベリリウムＢｅからな
る薄膜２を形成する（第３図参照）。

その後、第３工程として、薄膜２を形成した基板１を前
記溝１１１２から取り出し、エツチング等の手段によっ
て除去してベリリウムＢｅからなる金属の薄板２′を製
造していたく第４図参照）。

上記従来の蒸着法によるベリリウムＢｅ等の金属薄板は
引張強度などの機械的強度が十分とは言えなかった。

この発明は上述の如き点に鑑みてなされたものでありそ
の目的とするところは、冷間圧延加工を施こすことによ
って極めて薄く、しかも量産性が良く安価で高純度なベ
リリウム金属薄板の製造方法を提供するのにある。

以下本発明の一実施例（リボン形振動板用の製造方法）
を第５図および第８図に従って説明する。

先ず第１工程乃至第３工程は従来の蒸着法とはぼ同様で
ある。

すなわち第１工程として、銅又はアルミニウム等から形
成された基板ｌを真空排気用の真空槽１θ内にセントし
、そして前記真空槽ｌＯ内をｌＯ４ 〜１０　　　（Ｔｏｒｒ）程度に排気し、その後前記基
板１をヒータＨで４００℃〜６００℃で加熱する。

第２工程として、ベリリウムＢｅを加熱用のヒータｈで
加熱して蒸発させることによって前記基板１にベリリウ
ムＢｅを蒸発させ、ベリリウムＢｅからなる薄膜２を形
成する（第６図参照）。

その後、第３工程として、薄膜２を形成した基板１を前
記真空槽１０内から取り出してから、エツチング等の手
段で除去してベリリウムＢｅ又はベリリウムＢｅを含む
金蝉からなる薄板２だけと□１１ する（第７図参照）。

この場合、基板１が銅で形成されている場合にはエツチ
ング剤としては硝酸などが用いられ、基板ｌがアルミニ
ウムで形成されている場合にはエンチング剤としては水
酸化ナトリウムなどのアルカリ溶液が用いられる。この
第３工程の蒸着法で得られるＢｅ又は１３ｅを含む金属
薄板の結晶は、粒径が１０．ｕ以下と非常に小さく、か
つ結晶粒が規則正しく配列されているため、従来、熱間
加工でなければ圧延が困難とされていたＢｅ又はＢｅを
含む金属薄板が冷間で圧延できる。

第４工程として、対設されたロール４，４間にベリリウ
ムＢｅ又はベリリウムＢｅを含む金属からなる薄板２を
挿通することによって、冷間圧延加工を於こして、ベリ
リウムＢｅ又はＢｅを含む金属からなる薄板を製造する
。この場合、製造される薄板につき、その膜厚と圧延回
数との関係を示すと第１３図を得る。ここに、曲線Ａは
ローラ４．４の直径が１００ｍｍ、圧延加重が１０００
ｋｇ／ｃｊ、曲線Ｂはローラ４，４の直径φが５０ｍｍ
、圧延加重がｉ’ｏｏｏ嘘／−１曲線Ｃはローラ４．４
の直径φが５θｍｍ、圧延加重が２０００１ｇ／ｃ−で
ある。このことからローラ４，４の径は小さく、圧延加
重が大きい方がより１回あたりの圧下率が大きいことが
わかる。このことがらローラ４，４の径を圧延加重を適
当に選ぶことによって圧延回数を減らすこともできる。

このようにして得られたＢｅ又はＢｅを含む金属薄板は
引張り強度が４０〜６０ｋｇ／ａｊで蒸着法で得られる
２０〜３０瞳／−に対して非常に大きな値を示す。

第９図は薄膜２としてベリリウムＢｅを用いた場合の冷
間圧延前の、第１θ図は冷間圧延後を示した顕微鏡写真
であり、また第１１図は薄膜２として１．０重量パーセ
ントのアルミニウム合金を含んだ場合の冷間圧延前の、
第１２図は冷間圧延後のＩｆＩＩｋ鏡写真である。

なおこの実施例としては、ベリリウムＢｅを主成分とし
て１重量パーセントのアルミニウムＡＩを添加した場合
につき説明しているが、ベリリウムＢｅに添加するため
の他の元素としてはＣｕ。

Ｚｎ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｔｉ　、Ａｕ、Ａｇ等を０．１〜１
５重ｉｔパーセントの範囲で添加してベリリウム合金を
製造する場合にも本発明を容昌に通用できる。

また本発明の第２実施例につき、第１４図乃至第１７図
に従い工程順に説明する。

この実施例においては第１工程および第２工程は前記第
１実施例と同様であるので説明を省略する。

その後第３工程として、ローラ４，４間に銅、又はアル
ミニウムの基板ｌを、この基板１に蒸着したベリリウム
Ｂｅ又はベリリウムＢｅを含む金属からなる薄膜２との
２層の金属薄板を冷間圧延加工しく第１６図参照）、そ
の後第４工程として前記基板１部分をエツチング剤を用
いてエツチングすることによってベリリウムＢｅ又はベ
リリウムＢｅを含む金属からなる薄膜２を製造する（第
１７図参照）。

また本発明の第３実施例を第１８図および第２２図に従
い説明する。先ず、第１工程及び第２工程は前記第１お
よび第２工程と同様であるが、第３工程としてベリリウ
ムＢｅ以外の金属、例えばベリリウムＢｅを含む金属、
アルミニウム等を巻着して薄１ｍ１５を形成しく第２０
図参照）、第４工程として基板ｌの全部とへリジウムＢ
ｅ以外の金属の一部とをエツチングしく第２１図参照）
、その後第５工程としてエツチング処理した後のベリリ
ウムＢｅ又はベリリウムＢｅを含む金属を冷間圧延する
ことによってベリリウムｆ３ｅ又はベリリウムＢｅを含
む合金からなる金属薄板を製造する。

また本発明の第４実施例を第２３図乃至第２７図に従っ
て説明すると、前記第３実施例が第２工程において基板
ｌにベリリウムＢｅを蒸着してベリリウムＢｅの薄膜２
を形成しく第１９図参照）、その後第３工程としてベリ
リウムＢｅ以外の金属、例えばアルミニウムを蒸着して
他の金属の薄膜５を形成していた（第２０図参照）のと
異なり、この実施例に壊いては第２工程で基板１にベリ
リウムＢｅ以外の、例えばアルミニウムを蒸着してそ、
ト の薄膜５を形成しく第２［１＃＠）　、第３工程でベリ
リウムＢｅを蒸着してその薄膜２を形成した（第２５図
参照）点が前記第３実施例と異なる。

さらに本発明の第５実施例としては、第１工程から第３
工程までは前記第４実施例と同様であるが、第４工程に
おいて基板ｌと、この基板１に蒸着したベリリウムＢｅ
の薄膜２と、ベリリウムＢｅ以外の、例えばアルミニウ
ムの薄膜５とを冷間圧延しく第３１図参照）、次いで第
５工程として基板ｌの全部とベリリウムＢｅ以外の金属
５、例えばアルミニウムのａ！ｌ１ｌｓとをエツチング
することによってベリリウムＢｅおよびベリリウムＢｅ
を含む金属からなる薄板１を製造する（第３２図参照）
。

上述のように本発明は、ベリリウム又はベリリウムを含
む金属を基板に蒸着してから冷間圧延加工を施こすので
加工性が悪いベリリウム又はベリリウムを含む金属でも
きわめて薄く且つ引張強度などの機械的強度が十分な薄
板を製造できる。

また全行程を通じて、材料の歩留まりがよく、しかも量
産に通しているためコストは低源となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の蒸着層の断面図、第２図乃至第４図は従
来の蒸着法を工程毎に示した断面図、第５図乃至第８図
は本発明の第１実施例を工程毎に示した断面図、第９図
はベリリウム薄板の冷間圧延前の、また第１０図は冷間
圧延後の結晶構造を示した電子顕＠繞写真、第１１図は
アルミニウムを１重量パーセント含んだベリリウム薄板
の冷間圧延前の、また第１２図は冷間圧延後の電子ａｍ
鏡写真、第１３図は本発明の冷間圧延手段による圧延回
数と膜厚との関係特性を示したグラフ、第１４図乃至第
１７図は本発明の第２一実施例を工程毎に示した断面図
、第１′８図乃至第２２図は本発明の第３実施例を工程
毎に示した断面図、第２３図乃至第２７図は本発明の第
４実施例を工程毎に示した断面図、第２８図乃至第３２
図は本発明の第５実施例を工程毎に示した断面図である
。 ｌ・・・基板、２・・・ベリリウムまたはベリリウムを
含む金属、４・・・ロール、５・・・銅からなる薄膜罠
」し回 一一一一一二 第４図 第２１図　　　　第、７図 圧延１荻（回）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 加熱、溶融したベリリウム又はベリリウムを含む金属を
   基板に蒸着し薄膜を形成する工程と、前記基板をエツチ
   ングする工程と、前記１１ｍ１１を冷間圧延する工程と
   より成る金属薄板の製造方法。