JPS58172242A - ガラス表面の処理剤 - Google Patents
ガラス表面の処理剤Info
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- JPS58172242A JPS58172242A JP5371882A JP5371882A JPS58172242A JP S58172242 A JPS58172242 A JP S58172242A JP 5371882 A JP5371882 A JP 5371882A JP 5371882 A JP5371882 A JP 5371882A JP S58172242 A JPS58172242 A JP S58172242A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
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- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガラス表面に撥水性、撥油性、耐汚染性、低
反射性などを付与する処理剤に関し、さらに詳しく言へ
ば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又は該化
合物の部分加水分解縮合物と、あらかじめ水ガラスをプ
ロトン酸の存在下で反応させた反応生成物とからなるガ
ラス表面の処理剤に関する。
反射性などを付与する処理剤に関し、さらに詳しく言へ
ば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又は該化
合物の部分加水分解縮合物と、あらかじめ水ガラスをプ
ロトン酸の存在下で反応させた反応生成物とからなるガ
ラス表面の処理剤に関する。
ガラス板、鏡、ガラス容器、メガネレンズなどガラス製
品の表面は大気中の湿度及び温度の影響により水分が凝
縮したジ、水によって濡らされた場合、これら水分中に
ガラス成分が溶出し、アルカリ性となるため表面が容易
に浸蝕されて、いわゆる焼けを生ずることは周知である
。
品の表面は大気中の湿度及び温度の影響により水分が凝
縮したジ、水によって濡らされた場合、これら水分中に
ガラス成分が溶出し、アルカリ性となるため表面が容易
に浸蝕されて、いわゆる焼けを生ずることは周知である
。
又、大気中に浮遊する微細な塵や油滴粒子が付着してガ
ラス表面を汚染したシ、特に自動車、航空機、鉄道車輛
のウィンドーにおいて雨水などの水滴が付着してガラス
の透明性あるいは透視性を阻害する。このため従来から
、ガラス表面を撥水性にするため、例えばシリコン系ワ
ックス、ボリア0キサンからなるシリコン油や界面活性
剤などを直接塗布する表面処理剤が提案されている。然
る如、これらは塗布に伴う前処1111゜ 理を必要とされ2.ものが多く、且つ塗布時に発生する
塗布ムラ、あるいは処理剤自身のガラスへの接着性が低
いことによる長期の耐久性、並びに撥油性、耐汚染性忙
ついては満足し得る結果は得られていない。
ラス表面を汚染したシ、特に自動車、航空機、鉄道車輛
のウィンドーにおいて雨水などの水滴が付着してガラス
の透明性あるいは透視性を阻害する。このため従来から
、ガラス表面を撥水性にするため、例えばシリコン系ワ
ックス、ボリア0キサンからなるシリコン油や界面活性
剤などを直接塗布する表面処理剤が提案されている。然
る如、これらは塗布に伴う前処1111゜ 理を必要とされ2.ものが多く、且つ塗布時に発生する
塗布ムラ、あるいは処理剤自身のガラスへの接着性が低
いことによる長期の耐久性、並びに撥油性、耐汚染性忙
ついては満足し得る結果は得られていない。
本発明者は、前記の如き問題点の認識に基づいて、ガラ
ス表面に撥水性、撥油性、耐汚染性などを長期間にわた
って付与し得る優れたガラス表面の処理剤を提供すべく
種々研究、検討を重ねた結果、本発明を完成したもので
ある。
ス表面に撥水性、撥油性、耐汚染性などを長期間にわた
って付与し得る優れたガラス表面の処理剤を提供すべく
種々研究、検討を重ねた結果、本発明を完成したもので
ある。
即ち、本発明者の研究忙よれば、ポリフルオロアルキル
基(以下、Rf基と略す)含有化合物において、Rf基
の臨界表面張力は20 dyn/cInと低く、水けも
とよシ油類のそれよシも低いため、ガラス表面をRf基
含有化合物で覆うと撥水撥油性を付与できること、さら
にRf基含有化合物をガラス表面へ強固に接着して撥水
撥油性表どを長期にわたシ付与するためにはガラス表面
の5iOHと反応する一3i−0−R,−5i−Hal
(Halはハロゲン)の存在が好ましく、−3i−0−
Rは水の存在で加水分解し、架橋反応を起こしガラス表
面の5iOHと反応して化学的に接着することから、R
f基含有化合物とシラン化合物との反応によって得られ
るRf基含有シラン化合物が優れていること、又、該R
f基含有シラン化合物と、あらかじめ水ガラスをプロト
ン酸の存在下で反応させた反応生成物とを混合すること
(でよ少耐久性が著るしく向上するという事実を見出し
た。−!た、が\る特定の表面処理剤の薄膜をガラス表
面に形成させると、ガラス表面の反射率を低下させるこ
とができ、その結果ガラスの透視性などの阻害要因を解
消可能であるという利点も発揮される。
基(以下、Rf基と略す)含有化合物において、Rf基
の臨界表面張力は20 dyn/cInと低く、水けも
とよシ油類のそれよシも低いため、ガラス表面をRf基
含有化合物で覆うと撥水撥油性を付与できること、さら
にRf基含有化合物をガラス表面へ強固に接着して撥水
撥油性表どを長期にわたシ付与するためにはガラス表面
の5iOHと反応する一3i−0−R,−5i−Hal
(Halはハロゲン)の存在が好ましく、−3i−0−
Rは水の存在で加水分解し、架橋反応を起こしガラス表
面の5iOHと反応して化学的に接着することから、R
f基含有化合物とシラン化合物との反応によって得られ
るRf基含有シラン化合物が優れていること、又、該R
f基含有シラン化合物と、あらかじめ水ガラスをプロト
ン酸の存在下で反応させた反応生成物とを混合すること
(でよ少耐久性が著るしく向上するという事実を見出し
た。−!た、が\る特定の表面処理剤の薄膜をガラス表
面に形成させると、ガラス表面の反射率を低下させるこ
とができ、その結果ガラスの透視性などの阻害要因を解
消可能であるという利点も発揮される。
かくして、本発明は前記知見に基づいて完成されたもの
であシ、Rf基含有シラン化合物又は該化合物の部分加
水分解縮合物と、あらかじめ水ガラスをプロトン酸の存
在下で反応せしめた反応生成物とからなる新規なガラス
表面の処理剤を提供するものである。
であシ、Rf基含有シラン化合物又は該化合物の部分加
水分解縮合物と、あらかじめ水ガラスをプロトン酸の存
在下で反応せしめた反応生成物とからなる新規なガラス
表面の処理剤を提供するものである。
而して、本発明の表面処理剤は優れた撥水撥油性、耐汚
染性、低反射性を発揮するとともに1その性能を長期間
維持させ得るものである。
染性、低反射性を発揮するとともに1その性能を長期間
維持させ得るものである。
本発明における処理剤はRf基含有シラン化合物又は該
化合物の部分加水分解綜合物と、あらかじめ水ガラスを
プロトン酸の存在下で反応せしめた反応生成物とからな
るが、好適な実施態様では、式(RfQ ) as i
(Z) bY4−a−bのRf基含有シラン化合物が
選定される。前記式において、Rt Iri炭素数4〜
16個のパーフルオロアルキル基あるいはエーテル結合
を1個以上含むく、特にmは2〜10の整数であること
が好ましい。Qは二価の有機基であり、2は炭素数1は
低級アルキル基であわ、Yは好ましくは−C1゜−Br
、 −oc’Hs、 −0C2H5,CH3COO−+
(4H5COO−が選定される。aは1〜3の整数で
あり、bは0又は1〜2の整数である。
化合物の部分加水分解綜合物と、あらかじめ水ガラスを
プロトン酸の存在下で反応せしめた反応生成物とからな
るが、好適な実施態様では、式(RfQ ) as i
(Z) bY4−a−bのRf基含有シラン化合物が
選定される。前記式において、Rt Iri炭素数4〜
16個のパーフルオロアルキル基あるいはエーテル結合
を1個以上含むく、特にmは2〜10の整数であること
が好ましい。Qは二価の有機基であり、2は炭素数1は
低級アルキル基であわ、Yは好ましくは−C1゜−Br
、 −oc’Hs、 −0C2H5,CH3COO−+
(4H5COO−が選定される。aは1〜3の整数で
あり、bは0又は1〜2の整数である。
而して、前記式のRf基含有シラン化合物は種々の方法
あるいは経路で入手され得るが、例えば、RfQ化合物
とR8i Y3化合物との反応を含む工程によって合成
される。かかる合成反応は活性水素をもたない溶媒を使
用してもよく、反応温度は0〜150℃、反応時間は1
〜50時間で行われる。
あるいは経路で入手され得るが、例えば、RfQ化合物
とR8i Y3化合物との反応を含む工程によって合成
される。かかる合成反応は活性水素をもたない溶媒を使
用してもよく、反応温度は0〜150℃、反応時間は1
〜50時間で行われる。
本発明において、前記式のRf基含有シラン化合物とし
ては、例えば RfCH2CH2SiC13,RfCH2C’!%5i
Br3+RfCH2CH2Si(OCzHs)3.
RfCHzCHz81Cb。
ては、例えば RfCH2CH2SiC13,RfCH2C’!%5i
Br3+RfCH2CH2Si(OCzHs)3.
RfCHzCHz81Cb。
CH3
(RfCHzCHz)s 5iC1,Rf(CH2CH
g)+ 5i(OCHs)z。
g)+ 5i(OCHs)z。
Rf C0NHCH1CH2NHCHg C島CH2S
i C13。
i C13。
Rf CH2CH20CONHCH2CH2CH35i
C1s 。
C1s 。
Rf CH2CH2NHCH2CH2Si C13H3
RfSO2NC穐CH2C0NHCH2CH2CH2S
i C13゜が挙げられる。
i C13゜が挙げられる。
水ガラスはJIS−に1408.に規定されるごくあシ
ふれたものでよく、8i02 /Nag○=0.5〜4
から選定され、例えば、メタけい酸ナトリウム(Nag
5ins )及び種々の割合の水和物、オルトけい酸
ナトリウム(Na4sto4 ) 、二けい酸ナトリウ
ム(Na2 Si205 )、 四けい酸ナトリウム(
Na2Si40g)が挙げられ、それぞれを単独又は混
合したものでもよい。
ふれたものでよく、8i02 /Nag○=0.5〜4
から選定され、例えば、メタけい酸ナトリウム(Nag
5ins )及び種々の割合の水和物、オルトけい酸
ナトリウム(Na4sto4 ) 、二けい酸ナトリウ
ム(Na2 Si205 )、 四けい酸ナトリウム(
Na2Si40g)が挙げられ、それぞれを単独又は混
合したものでもよい。
水ガラスと反応させるプロトン酸は、例えばH2SO4
,HCl、 HNO3,HClO4,H3PO4,HB
r、 HI。
,HCl、 HNO3,HClO4,H3PO4,HB
r、 HI。
HIO2,CF2COOHが挙げられる。
水ガラスをプロトン酸の存在下で反応させるには水ガラ
ス溶液及びプロトン酸溶液を非プロトン系水溶性溶媒、
例5..えばテトラヒドロフランに加え、室温にて1〜
10時間、好ましくは2〜5時間混合攪拌することKよ
シ行われる。水ガラスとプロトン酸の混合比率は両者m
ol / Lにおいて1:0.5〜10容量比であるの
が望ましい。反応終了後、好ましどはNaC1を加えて
二層に分離させることにより、非プロトン系水溶性溶媒
中に反応生成物が得られる。場合によっては反応生成物
を水溶性溶媒で抽出してもよい。
ス溶液及びプロトン酸溶液を非プロトン系水溶性溶媒、
例5..えばテトラヒドロフランに加え、室温にて1〜
10時間、好ましくは2〜5時間混合攪拌することKよ
シ行われる。水ガラスとプロトン酸の混合比率は両者m
ol / Lにおいて1:0.5〜10容量比であるの
が望ましい。反応終了後、好ましどはNaC1を加えて
二層に分離させることにより、非プロトン系水溶性溶媒
中に反応生成物が得られる。場合によっては反応生成物
を水溶性溶媒で抽出してもよい。
本発明の処理剤はRf基含有シラン化合物と、あらかじ
め水ガラスにプロトン酸を反応せしめた反応生成物とを
非プロトン酸系水溶性溶媒中で室温如て10分〜1時間
混合攪拌することによって得られる。Rf基含有シラン
化合物と、あらかじめ水ガラスをプロトン酸の存在下で
反応せしめた反応生成物の混合比率は1:0.1〜5重
量比から選定される。
め水ガラスにプロトン酸を反応せしめた反応生成物とを
非プロトン酸系水溶性溶媒中で室温如て10分〜1時間
混合攪拌することによって得られる。Rf基含有シラン
化合物と、あらかじめ水ガラスをプロトン酸の存在下で
反応せしめた反応生成物の混合比率は1:0.1〜5重
量比から選定される。
かくして得られる本発明の処理剤は、常法にのは非プロ
トン系水溶性溶剤の1種又は2種板チ溶液とするのが好
オしい。又、エアゾール型のものは、前記溶剤溶液にさ
らにエアゾール噴射剤を添加して適当な容器に、9項す
ればよい。
トン系水溶性溶剤の1種又は2種板チ溶液とするのが好
オしい。又、エアゾール型のものは、前記溶剤溶液にさ
らにエアゾール噴射剤を添加して適当な容器に、9項す
ればよい。
本発明のガラス表面の処理剤は被処理ガラス製品の形状
や前記調製形態に応じて任意の方法で被処理ガラス製品
に適用され得る。例えば、溶剤溶液型のものである場合
には、浸漬塗布、吹付けなどの如き被覆加工の既知の方
法によりガラス製品の表面に付着させる方法が採用され
得る。ガラス表面に付着後は100%相対湿度下、60
〜180℃の温度で1〜60分間処理を施こすのが好ま
しく、処理剤のガラス面への接着を強固なものとなし得
る。
や前記調製形態に応じて任意の方法で被処理ガラス製品
に適用され得る。例えば、溶剤溶液型のものである場合
には、浸漬塗布、吹付けなどの如き被覆加工の既知の方
法によりガラス製品の表面に付着させる方法が採用され
得る。ガラス表面に付着後は100%相対湿度下、60
〜180℃の温度で1〜60分間処理を施こすのが好ま
しく、処理剤のガラス面への接着を強固なものとなし得
る。
本発明の処理剤は他のRf基含有化合物、各種化合物、
その他のプレンダーなどを混合してもよく、さらに帯電
防止剤、架橋剤など適宜添加剤を添加して使用すること
も可能である。
その他のプレンダーなどを混合してもよく、さらに帯電
防止剤、架橋剤など適宜添加剤を添加して使用すること
も可能である。
本発明の表面処理剤で処理され得るガラス製−品は特に
限定されることなく種々の例が挙げられ、例えば、ガラ
ス板、鏡、ガラゝス容器、ガラス器具、メガネレンズな
どに適用され得る。
限定されることなく種々の例が挙げられ、例えば、ガラ
ス板、鏡、ガラゝス容器、ガラス器具、メガネレンズな
どに適用され得る。
本発明の処理剤の評価法は次の通シである。
即ち、撥水性はガラス、表面上に水を置き接触角を測定
することによシ行い、撥油性は同様にヘキサデカンあ接
触角を測定することによシ行った。また、反射率は、正
反射光測定付属装置付323形(日立製作所社製の自動
記録分光光度計)を使用して、入射角5°で測定した。
することによシ行い、撥油性は同様にヘキサデカンあ接
触角を測定することによシ行った。また、反射率は、正
反射光測定付属装置付323形(日立製作所社製の自動
記録分光光度計)を使用して、入射角5°で測定した。
尚、塗膜の厚みは、”タリステップ” (Rank T
aylor+1obson社製)を使用し、針圧を測定
して求めた。
aylor+1obson社製)を使用し、針圧を測定
して求めた。
次に本発明の実施例について、さらに具体的に説明する
が、この説明が本発明を限定するものでないことは勿論
である。
が、この説明が本発明を限定するものでないことは勿論
である。
合成例 1゜
CnF2n+I CH= CH2(nは6.8.1.0
.12の混合物であシ平均値は9.0’ ) 9□””
9.2 f ’(0,2モル)、(CHW2siHcl
1 s、 9 f (0,2モル)、H2PtCl4
・HzOO,052tを温度計、冷却管及び攪拌機を装
着した内容積200−の四ツロフラスコに入れ、乾燥窒
素気流下でゆっくシ攪拌しながら80℃で200時間反
応せた。反応終了後、蒸留することによシ反応生成物を
得た。反応生成物はガスクロマトグラフィー、IR,N
MRで分析するとCnF2n+□CH2CH2S i
(CH3)2’CI であり、それへの転化率は95
%であった。
.12の混合物であシ平均値は9.0’ ) 9□””
9.2 f ’(0,2モル)、(CHW2siHcl
1 s、 9 f (0,2モル)、H2PtCl4
・HzOO,052tを温度計、冷却管及び攪拌機を装
着した内容積200−の四ツロフラスコに入れ、乾燥窒
素気流下でゆっくシ攪拌しながら80℃で200時間反
応せた。反応終了後、蒸留することによシ反応生成物を
得た。反応生成物はガスクロマトグラフィー、IR,N
MRで分析するとCnF2n+□CH2CH2S i
(CH3)2’CI であり、それへの転化率は95
%であった。
合成例 2゜
CnF2n+、C00CH(CRs)z (nは6.
8.10.12の混合物であシ平均値は9.0)111
.2f(0,2モル)、H2N (CH2)a Si
(CH3)2 C130,3f(0,2モル)、乾燥テ
トラヒドロフラン1502を温度計、冷却管及び攪拌機
を装着した内容積500m7!の四ツロフラスコに入れ
、乾燥窒素気流下でゆつくシ攪拌しながら還流温度(約
60℃)で5時間反応させた。テトラヒドロフランを留
去し反応生成物を得た。反応生成物はガスクロマトグラ
フィー、IRXNMRで分析するとCnF2n+1CO
NH(CH2)3 Si (CHa)z C1であり、
それへの転化率は100係であった。
8.10.12の混合物であシ平均値は9.0)111
.2f(0,2モル)、H2N (CH2)a Si
(CH3)2 C130,3f(0,2モル)、乾燥テ
トラヒドロフラン1502を温度計、冷却管及び攪拌機
を装着した内容積500m7!の四ツロフラスコに入れ
、乾燥窒素気流下でゆつくシ攪拌しながら還流温度(約
60℃)で5時間反応させた。テトラヒドロフランを留
去し反応生成物を得た。反応生成物はガスクロマトグラ
フィー、IRXNMRで分析するとCnF2n+1CO
NH(CH2)3 Si (CHa)z C1であり、
それへの転化率は100係であった。
合成例3゜
(0,1モル)、H1’N (CHj)3 Si (O
C2H5)322.1 ?(0,1モル)、乾燥テトラ
ヒドロフラン1502を合成例2と同様の方法で反応さ
せ反応生成物を得た。反応生成物は、ガスクロマトグラ
フィー、IR,NMRで分析すると であり、それへの転化率は100チであった。
C2H5)322.1 ?(0,1モル)、乾燥テトラ
ヒドロフラン1502を合成例2と同様の方法で反応さ
せ反応生成物を得た。反応生成物は、ガスクロマトグラ
フィー、IR,NMRで分析すると であり、それへの転化率は100チであった。
実施例 1゜
二けい酸ナトリウム(Na2 Si205) 1モル
/lの水溶液25−1H2so、0.7モル/lの水溶
液50ffi7!、テトラヒドロフラン40−を攪拌機
全装着したフラスコに入れ、室温で4時間攪拌して反応
させた。反応終了後、NaC’120fを添加して液を
二層に分離させた。反応生成物が溶解しているテトラヒ
ドロフラン溶液を分取し、攪拌機を装着した1tの三ツ
ロフラスコに入れ、次に合成例1の反応生成物CnF’
2n+I c)I2CH25i(CH3)2 C11,
09F を添加して室温にて攪拌しながら30分間反
応させた。反応液にアセトン450−1水50−を加え
て溶剤溶液を調製した。
/lの水溶液25−1H2so、0.7モル/lの水溶
液50ffi7!、テトラヒドロフラン40−を攪拌機
全装着したフラスコに入れ、室温で4時間攪拌して反応
させた。反応終了後、NaC’120fを添加して液を
二層に分離させた。反応生成物が溶解しているテトラヒ
ドロフラン溶液を分取し、攪拌機を装着した1tの三ツ
ロフラスコに入れ、次に合成例1の反応生成物CnF’
2n+I c)I2CH25i(CH3)2 C11,
09F を添加して室温にて攪拌しながら30分間反
応させた。反応液にアセトン450−1水50−を加え
て溶剤溶液を調製した。
別に、洗剤及びアセトンで洗浄し1チ塩酸溶液に浸漬後
、乾燥したガラス板(ンーダ石灰ガラス)を用意して、
表面に調製済みの溶剤溶液をアプリケーターで塗布し、
10011b相対湿度中、160℃、20分間キユアリ
ングした。この表面に水を滴下して水の接触角を、ヘキ
サデカンを滴下してヘキサデカンの接触角をそれぞれ測
定した。測定結果を第一1表に示す。
、乾燥したガラス板(ンーダ石灰ガラス)を用意して、
表面に調製済みの溶剤溶液をアプリケーターで塗布し、
10011b相対湿度中、160℃、20分間キユアリ
ングした。この表面に水を滴下して水の接触角を、ヘキ
サデカンを滴下してヘキサデカンの接触角をそれぞれ測
定した。測定結果を第一1表に示す。
実施例2〜3
合成例2の反応生成物CnF2n+、C0NH(CH2
)s 5l(CH3)2C1141?又は合成例3の生
成物90fを用いた他は実施例1と同様の方法で溶剤溶
液を調製し、実施例1と同様の方法でガラス表面に塗布
、処理後、水及びヘキサデカンの接触角を測定した。測
定結果を第1表に示す。
)s 5l(CH3)2C1141?又は合成例3の生
成物90fを用いた他は実施例1と同様の方法で溶剤溶
液を調製し、実施例1と同様の方法でガラス表面に塗布
、処理後、水及びヘキサデカンの接触角を測定した。測
定結果を第1表に示す。
比較例1〜3
合成例1〜6の反応生成物単独の溶剤溶液(20重量%
アセトン溶液)を調製し、実施例1と同様の方法でガラ
ス表面に塗布し、処理後、水及びヘキサデカンの接触角
を測定した。測定結果を第1表に示す。
アセトン溶液)を調製し、実施例1と同様の方法でガラ
ス表面に塗布し、処理後、水及びヘキサデカンの接触角
を測定した。測定結果を第1表に示す。
第 1 表
実施例 4゜
実施例1における第1表記載の組成物5fを、トリクロ
ロトリフルオロエタン/アセトンの混合溶媒(3/1)
で稀釈して500tとし、溶剤溶液を調製した。別に洗
剤及びアセトンで洗浄し、1チ塩酸溶液に浸漬後乾燥し
たガラス板(ンーダ石灰ガラス)を用意した。このガラ
ス板を前記溶剤溶液中に浸漬し、引上速度50ctn/
分で引き上げ、160℃で1時間乾燥した。
ロトリフルオロエタン/アセトンの混合溶媒(3/1)
で稀釈して500tとし、溶剤溶液を調製した。別に洗
剤及びアセトンで洗浄し、1チ塩酸溶液に浸漬後乾燥し
たガラス板(ンーダ石灰ガラス)を用意した。このガラ
ス板を前記溶剤溶液中に浸漬し、引上速度50ctn/
分で引き上げ、160℃で1時間乾燥した。
膜厚は0.1μであり、反射率は1.0%であった(光
の波長540mμ)。尚、未処理ガラス板の反射率は4
.2%であった。
の波長540mμ)。尚、未処理ガラス板の反射率は4
.2%であった。
実施例 5゜
実施例4において、実施例1の組成物の代シに実施−2
の組成物を使用した他は、同様に処理し、膜厚0.1μ
の薄膜をガラス板表面に形成した。反射率は1.1俤で
あった。
の組成物を使用した他は、同様に処理し、膜厚0.1μ
の薄膜をガラス板表面に形成した。反射率は1.1俤で
あった。
実施例6゜
実施例4において、実施例1の組成物の代シに実施例6
の組成物を使用した他は同様に処理したガラス板の反射
率は1.0俤であった。
の組成物を使用した他は同様に処理したガラス板の反射
率は1.0俤であった。
実施例7〜8
水ガラス1号又は水ガラス3号を用いた他は実施例1と
同様の方法で溶剤溶液を調製し−、実施例1と同様の方
法で接触角を測定した。測定結果を第2表に示す。
同様の方法で溶剤溶液を調製し−、実施例1と同様の方
法で接触角を測定した。測定結果を第2表に示す。
第 2 表
実施例 9〜11
プロトン酸をHCl + H3PO4’、 CF3 C
○○Hとした他は実施例1と同様の方法で溶剤溶液を調
製し、実施例1と同様の方法で接触角を測定した。測定
結果を第3表に示す。
○○Hとした他は実施例1と同様の方法で溶剤溶液を調
製し、実施例1と同様の方法で接触角を測定した。測定
結果を第3表に示す。
第 3 表
Rf基含有シラン化合物を異にする他は実施例1と同様
の方法で溶剤溶液を調製し、実施例1と同様の方法で接
触1:角、・:鄭測定した。測定結果を第4表に示す。
の方法で溶剤溶液を調製し、実施例1と同様の方法で接
触1:角、・:鄭測定した。測定結果を第4表に示す。
Claims (5)
- (1) ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物又
は該化合物の部分加水分解縮合物と、あらかじめ水ガラ
スをプロトン酸の存在下で反応せしめた反応生成物とか
らなるガラス表面の処理剤。 - (2) ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物が
、式 %式% 〔但し、上記式において、Rfは炭素数4〜16個のポ
リフルオロアルキル基であってエーテゲン、アルコキシ
基、又はRCO〇−(Rは水素原子又は低級アルキル基
)、aは1〜3の整数、bは0又は1〜2の整数を示す
。〕で表わされる特許請求の範囲第1項記載の処理剤。 - (3) ポリフルオロアルキル基が炭素数4〜16個
ツバ−フルオロアルキル基である特許請求の範囲第1項
又は第2項記載の処理剤。 - (4) ポリフルオロアルキル基が 1以上の整数)である特許請求の範囲第1項又は第2項
記載の処理剤。 - (5) ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物と
、あらかじめ水ガラスをプロトン酸の存在下で反応せし
めた反応生成物とが1:0.1〜5重量比である特許請
求の範囲第1項記載の処理剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5371882A JPS58172242A (ja) | 1982-04-02 | 1982-04-02 | ガラス表面の処理剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5371882A JPS58172242A (ja) | 1982-04-02 | 1982-04-02 | ガラス表面の処理剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58172242A true JPS58172242A (ja) | 1983-10-11 |
Family
ID=12950602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5371882A Pending JPS58172242A (ja) | 1982-04-02 | 1982-04-02 | ガラス表面の処理剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58172242A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02311485A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
JPH0377892A (ja) * | 1989-08-21 | 1991-04-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機けい素化合物及びその製造方法 |
JPH0377893A (ja) * | 1989-08-21 | 1991-04-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素環状有機けい素化合物及びその製造方法 |
JPH0517489A (ja) * | 1991-07-04 | 1993-01-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シロキサン化合物 |
US5562952A (en) * | 1993-11-11 | 1996-10-08 | Nissin Electric Co., Ltd. | Plasma-CVD method and apparatus |
US6403225B1 (en) | 1998-11-10 | 2002-06-11 | Nissan Motor Co., Ltd. | Article superior in slipping waterdrops down surface thereof |
US6939613B2 (en) | 2002-03-18 | 2005-09-06 | Hoya Corporation | Optical member, process of producing optical member, and process of producing thin film |
US7150917B2 (en) | 2002-08-02 | 2006-12-19 | Hoya Corporation | Optical member |
-
1982
- 1982-04-02 JP JP5371882A patent/JPS58172242A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02311485A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
JPH0377892A (ja) * | 1989-08-21 | 1991-04-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機けい素化合物及びその製造方法 |
JPH0377893A (ja) * | 1989-08-21 | 1991-04-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素環状有機けい素化合物及びその製造方法 |
JPH0517489A (ja) * | 1991-07-04 | 1993-01-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シロキサン化合物 |
US5562952A (en) * | 1993-11-11 | 1996-10-08 | Nissin Electric Co., Ltd. | Plasma-CVD method and apparatus |
US6403225B1 (en) | 1998-11-10 | 2002-06-11 | Nissan Motor Co., Ltd. | Article superior in slipping waterdrops down surface thereof |
US6939613B2 (en) | 2002-03-18 | 2005-09-06 | Hoya Corporation | Optical member, process of producing optical member, and process of producing thin film |
US7150917B2 (en) | 2002-08-02 | 2006-12-19 | Hoya Corporation | Optical member |
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