JPH11329071A - 透明導電膜形成用塗料、透明導電膜及び表示装置 - Google Patents
透明導電膜形成用塗料、透明導電膜及び表示装置Info
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- JPH11329071A JPH11329071A JP12796098A JP12796098A JPH11329071A JP H11329071 A JPH11329071 A JP H11329071A JP 12796098 A JP12796098 A JP 12796098A JP 12796098 A JP12796098 A JP 12796098A JP H11329071 A JPH11329071 A JP H11329071A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 透明性が高く電磁波遮蔽効果及び帯電防止効
果に優れているばかりでなく、透過画像や反射光の色相
が自然で、耐塩水性等の耐久性にも優れた透明導電膜、
及びこの透明導電膜が表示面に形成された表示装置を得
る。 【解決手段】 透明導電膜５が、金属微粒子の凝集体を
含有する透明導電膜形成用塗料を塗布することにより形
成された導電層２を有する。また本発明の表示装置は、
前記の透明導電膜５が表示面１に形成されてなる。
果に優れているばかりでなく、透過画像や反射光の色相
が自然で、耐塩水性等の耐久性にも優れた透明導電膜、
及びこの透明導電膜が表示面に形成された表示装置を得
る。 【解決手段】 透明導電膜５が、金属微粒子の凝集体を
含有する透明導電膜形成用塗料を塗布することにより形
成された導電層２を有する。また本発明の表示装置は、
前記の透明導電膜５が表示面１に形成されてなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明導電膜形成用
塗料、透明導電膜及び表示装置に関するものであり、特
に陰極線管やプラズマディスプレイ等の表示面に用いて
優れた帯電防止効果と電磁波遮蔽効果とを有し、膜の可
視光平均透過率が非常に高く透過画像の色相が自然で、
しかも耐塩水性、耐酸化性、耐紫外線性等の耐久性にも
優れた透明導電膜、及びこの透明導電膜を表示面に形成
した表示装置に関する。
塗料、透明導電膜及び表示装置に関するものであり、特
に陰極線管やプラズマディスプレイ等の表示面に用いて
優れた帯電防止効果と電磁波遮蔽効果とを有し、膜の可
視光平均透過率が非常に高く透過画像の色相が自然で、
しかも耐塩水性、耐酸化性、耐紫外線性等の耐久性にも
優れた透明導電膜、及びこの透明導電膜を表示面に形成
した表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在ＴＶブラウン管やコンピュータのデ
ィスプレイ等として用いられている陰極線管は、赤色、
緑色、青色に発光する蛍光面に電子ビームを射突させる
ことによって文字や画像を表示面に映し出すものである
から、この表示面に発生する静電気により埃が付着して
視認性が低下する他、電磁波を輻射して環境に影響を及
ぼす惧れがある。また最近、壁掛けテレビ等としての応
用が進められているプラズマディスプレイにおいても、
静電気の発生や電磁波輻射の可能性が指摘されている。
ィスプレイ等として用いられている陰極線管は、赤色、
緑色、青色に発光する蛍光面に電子ビームを射突させる
ことによって文字や画像を表示面に映し出すものである
から、この表示面に発生する静電気により埃が付着して
視認性が低下する他、電磁波を輻射して環境に影響を及
ぼす惧れがある。また最近、壁掛けテレビ等としての応
用が進められているプラズマディスプレイにおいても、
静電気の発生や電磁波輻射の可能性が指摘されている。
【０００３】これらの問題を解決するため、従来は、表
示装置の表示面上に銀、金等の微粒子を液中に均一に分
散させた塗布液を塗布し乾燥するか、又はスパッタ法や
蒸着法によって導電性の透明金属薄膜を形成し、この透
明金属薄膜の上層及び／又は下層に、これとは屈折率が
異なる透明層を積層して電磁波遮蔽、帯電防止、並びに
反射防止を図っている。
示装置の表示面上に銀、金等の微粒子を液中に均一に分
散させた塗布液を塗布し乾燥するか、又はスパッタ法や
蒸着法によって導電性の透明金属薄膜を形成し、この透
明金属薄膜の上層及び／又は下層に、これとは屈折率が
異なる透明層を積層して電磁波遮蔽、帯電防止、並びに
反射防止を図っている。
【０００４】例えば、特開平８−７７８３２号公報に
は、電磁波遮蔽効果と反射防止効果に優れた透明導電膜
として、平均粒径２nm〜２００nmの範囲内の少なくとも
銀を含む金属微粒子による導電層と、これと屈折率が異
なる透明層とからなるものが提案されている。
は、電磁波遮蔽効果と反射防止効果に優れた透明導電膜
として、平均粒径２nm〜２００nmの範囲内の少なくとも
銀を含む金属微粒子による導電層と、これと屈折率が異
なる透明層とからなるものが提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの方法
では、電磁波遮蔽効果は期待できるものの、銀の光透過
スペクトルに依存して４００nm〜５００nmの透過光に吸
収が生じ、導電膜が黄色に着色し、透過画像の色相が不
自然に変化するという問題、膜の可視光平均透過率が低
いため膜厚分布に起因した透過色のムラが目立ち易く生
産性を悪化させるという問題、並びに塩霧環境では導電
膜の表面抵抗が上昇し電磁波遮蔽効果が低下するので、
海岸等塩霧の影響を受け易い場所では耐久性が低下する
等の問題が解決されなかった。本発明は、上記の課題を
解決するためになされたものであって、従ってその目的
は、膜の可視光平均透過率が高く電磁波遮蔽効果およぴ
帯電防止効果に優れ、透過画像の色相が自然で、耐塩水
性に代表される耐久性にも優れた透明導電膜、及びこの
透明導電膜が表示面に形成された表示装置を提供するこ
とにある。
では、電磁波遮蔽効果は期待できるものの、銀の光透過
スペクトルに依存して４００nm〜５００nmの透過光に吸
収が生じ、導電膜が黄色に着色し、透過画像の色相が不
自然に変化するという問題、膜の可視光平均透過率が低
いため膜厚分布に起因した透過色のムラが目立ち易く生
産性を悪化させるという問題、並びに塩霧環境では導電
膜の表面抵抗が上昇し電磁波遮蔽効果が低下するので、
海岸等塩霧の影響を受け易い場所では耐久性が低下する
等の問題が解決されなかった。本発明は、上記の課題を
解決するためになされたものであって、従ってその目的
は、膜の可視光平均透過率が高く電磁波遮蔽効果およぴ
帯電防止効果に優れ、透過画像の色相が自然で、耐塩水
性に代表される耐久性にも優れた透明導電膜、及びこの
透明導電膜が表示面に形成された表示装置を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明は、請求項１において、導電材として金属微
粒子の凝集体を含有する透明導電膜形成用塗料を提供す
る。前記の金属微粒子は、少なくとも金微粒子を含むこ
とが好ましい。また前記の凝集体は、粒径が５nm〜５０
nmの範囲内であることが好ましい。本発明はまた請求項
４において、前記の透明導電膜形成用塗料を塗布するこ
とにより形成された導電層を有する透明導電膜を提供す
る。前記の導電層は、膜厚が１０nm〜５０nmの範囲内で
あることが好ましい。請求項６において前記透明導電膜
は、導電層の上層及び／又は下層に、前記導電層と屈折
率の異なる少なくとも１層の透明層が積層されているこ
とが好ましい。またこの透明導電膜の最外層には、凹凸
を有する透明層が積層されていることが好ましい。前記
の何れかの透明導電膜は、可視光平均透過率が８０％以
上であり、かつ表面抵抗が１×１０5Ω／□以下である
ことが好ましい。本発明は更に、請求項９において、前
記何れかの透明導電膜が表示面に形成された表示装置を
提供する。
めに本発明は、請求項１において、導電材として金属微
粒子の凝集体を含有する透明導電膜形成用塗料を提供す
る。前記の金属微粒子は、少なくとも金微粒子を含むこ
とが好ましい。また前記の凝集体は、粒径が５nm〜５０
nmの範囲内であることが好ましい。本発明はまた請求項
４において、前記の透明導電膜形成用塗料を塗布するこ
とにより形成された導電層を有する透明導電膜を提供す
る。前記の導電層は、膜厚が１０nm〜５０nmの範囲内で
あることが好ましい。請求項６において前記透明導電膜
は、導電層の上層及び／又は下層に、前記導電層と屈折
率の異なる少なくとも１層の透明層が積層されているこ
とが好ましい。またこの透明導電膜の最外層には、凹凸
を有する透明層が積層されていることが好ましい。前記
の何れかの透明導電膜は、可視光平均透過率が８０％以
上であり、かつ表面抵抗が１×１０5Ω／□以下である
ことが好ましい。本発明は更に、請求項９において、前
記何れかの透明導電膜が表示面に形成された表示装置を
提供する。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を好ま
しい具体例によって説明する。図１は本発明の好ましい
表示装置の部分断面図である。この表示装置は、その表
示面１の上に順次、導電層２、透明層３、及び最外層に
凹凸を有する透明層（以下、「凹凸層」という）４が積
層されてなり、この導電層２、透明層３、及び凹凸層４
が本発明の透明導電膜５を形成している。
しい具体例によって説明する。図１は本発明の好ましい
表示装置の部分断面図である。この表示装置は、その表
示面１の上に順次、導電層２、透明層３、及び最外層に
凹凸を有する透明層（以下、「凹凸層」という）４が積
層されてなり、この導電層２、透明層３、及び凹凸層４
が本発明の透明導電膜５を形成している。
【０００８】本発明者らは、表示装置の表示面１に優れ
た反射防止効果と電磁波遮蔽効果とを付与すべく、金属
微粒子を含有する塗料を塗布することにより形成される
透明導電膜について鋭意研究の結果、特に導電材として
金属微粒子の凝集体を含有する塗料を用いて導電層２を
形成すると、金属微粒子が均一に独立分散している場合
より透明で、しかも高い導電性能を有する透明導電膜５
が作成できるという知見を得て本発明に到達した。
た反射防止効果と電磁波遮蔽効果とを付与すべく、金属
微粒子を含有する塗料を塗布することにより形成される
透明導電膜について鋭意研究の結果、特に導電材として
金属微粒子の凝集体を含有する塗料を用いて導電層２を
形成すると、金属微粒子が均一に独立分散している場合
より透明で、しかも高い導電性能を有する透明導電膜５
が作成できるという知見を得て本発明に到達した。
【０００９】以下、本発明を更に詳しく説明する。前記
の導電層２に用いられる金属微粒子としては一般に、
金、銀、パラジウム、ルテニウム、白金、ロジウム、イ
リジウム、オスミウム等の貴金属微粒子が有効に使用で
きる。特に、金微粒子を主成分とした場合は、光透過性
ならびに導電性が著しく高く、しかも化学的にも安定で
あって、この凝集体を表示装置の表示面１に施すと、透
過画像の明度や色相を損なうことなく優れた電磁波遮蔽
性と耐塩水性に代表される化学的安定性が得られ、更に
光透過性が非常に高いので塗膜の膜厚ムラが目立ち難い
という利点が見いだされた。これにより、これまで特に
問題視されてきた成膜工程における良品率を大幅に改善
し経済性を向上させることができた。
の導電層２に用いられる金属微粒子としては一般に、
金、銀、パラジウム、ルテニウム、白金、ロジウム、イ
リジウム、オスミウム等の貴金属微粒子が有効に使用で
きる。特に、金微粒子を主成分とした場合は、光透過性
ならびに導電性が著しく高く、しかも化学的にも安定で
あって、この凝集体を表示装置の表示面１に施すと、透
過画像の明度や色相を損なうことなく優れた電磁波遮蔽
性と耐塩水性に代表される化学的安定性が得られ、更に
光透過性が非常に高いので塗膜の膜厚ムラが目立ち難い
という利点が見いだされた。これにより、これまで特に
問題視されてきた成膜工程における良品率を大幅に改善
し経済性を向上させることができた。
【００１０】前記の透明層２は、導電材用金属の主成分
として金が含まれていることが好ましいが、これに加え
て他の金属、例えば銀、銅、白金、パラジウム、ルテニ
ウム、ロジウム、イリジウム、レニウム、オスミウム等
を含んでもよい。特に銀は、コロイド状分散液として比
較的容易かつ安価に入手可能であり、導電性が高く帯電
防止性・電磁波遮蔽性に優れているので、導電性を維持
しながら透明導電膜のコストを更に引き下げたい場合に
有効である。銀は透明導電膜の導電材として単独で用い
ると耐塩水性が悪いために耐久性がないが、金を主成分
とした混合物として用いると、化学的安定性が増し実用
上十分な耐久性が得られる。
として金が含まれていることが好ましいが、これに加え
て他の金属、例えば銀、銅、白金、パラジウム、ルテニ
ウム、ロジウム、イリジウム、レニウム、オスミウム等
を含んでもよい。特に銀は、コロイド状分散液として比
較的容易かつ安価に入手可能であり、導電性が高く帯電
防止性・電磁波遮蔽性に優れているので、導電性を維持
しながら透明導電膜のコストを更に引き下げたい場合に
有効である。銀は透明導電膜の導電材として単独で用い
ると耐塩水性が悪いために耐久性がないが、金を主成分
とした混合物として用いると、化学的安定性が増し実用
上十分な耐久性が得られる。
【００１１】本発明の透明導電膜形成用塗料において、
前記の金属微粒子は均一に独立分散しているのではな
く、凝集体を形成していることが特に重要である。金属
微粒子の凝集体（以下、単に「凝集体」という）を含む
透明導電膜形成用塗料を基材上に塗布し、乾燥後に焼き
付けて得られる導電層は、金属微粒子が凝集しているこ
とによって層中の粒子間の接触抵抗が、均一に独立分散
した金属微粒子を用いた場合より小さくなる。その結果
として、導電層２を１０nm〜５０nmという極めて薄い層
に形成しても、得られた透明導電膜の表面抵抗が１×１
０5 Ω／□以下となり、優れた帯電防止効果と電磁波遮
蔽効果を有しながら、しかも可視光の平均透過率が８０
％以上という高い透明性を実現し、膜厚のムラも目立た
なくなる。この効果は、凝集体の粒径が５nm〜５０nmの
範囲内、より好ましくは２０nm〜４０nmの範囲内におい
て特に顕著に現れる。
前記の金属微粒子は均一に独立分散しているのではな
く、凝集体を形成していることが特に重要である。金属
微粒子の凝集体（以下、単に「凝集体」という）を含む
透明導電膜形成用塗料を基材上に塗布し、乾燥後に焼き
付けて得られる導電層は、金属微粒子が凝集しているこ
とによって層中の粒子間の接触抵抗が、均一に独立分散
した金属微粒子を用いた場合より小さくなる。その結果
として、導電層２を１０nm〜５０nmという極めて薄い層
に形成しても、得られた透明導電膜の表面抵抗が１×１
０5 Ω／□以下となり、優れた帯電防止効果と電磁波遮
蔽効果を有しながら、しかも可視光の平均透過率が８０
％以上という高い透明性を実現し、膜厚のムラも目立た
なくなる。この効果は、凝集体の粒径が５nm〜５０nmの
範囲内、より好ましくは２０nm〜４０nmの範囲内におい
て特に顕著に現れる。
【００１２】前記の凝集体を形成する方法は多岐に亘る
が、例えば金属微粒子製造過程、あるいは金属微粒子の
均一分散液中に、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウ
ム塩、アンモニウム塩等の水溶性塩；塩酸、硝酸、りん
酸、酢酸等の酸；苛性ソーダ、アンモニア等のアルカ
リ；或いは比較的極性の弱い水溶性の溶剤等を添加する
方法、又は熱処理を行う方法等が何れも適用可能であ
る。
が、例えば金属微粒子製造過程、あるいは金属微粒子の
均一分散液中に、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウ
ム塩、アンモニウム塩等の水溶性塩；塩酸、硝酸、りん
酸、酢酸等の酸；苛性ソーダ、アンモニア等のアルカ
リ；或いは比較的極性の弱い水溶性の溶剤等を添加する
方法、又は熱処理を行う方法等が何れも適用可能であ
る。
【００１３】少なくとも前記の凝集体を含有する透明導
電膜形成用塗料を塗布して得られ、膜厚が１０nm〜５０
nmの範囲内とされた導電層２を有する透明導電膜５が表
示面１上に形成された本発明の表示装置は、透明導電膜
５の可視光平均透過率が８０％以上となり、かつ特定波
長における吸収が小さいので、透過画像の色相を損なう
ことがなく、しかも本発明の目的である優れた帯電防止
効果と電界遮蔽効果が得られ、塩水に対しても実用上十
分なレベルの耐性を有すると共に、その光透過性の高さ
から塗膜の膜厚ムラも目立たないものとなる。
電膜形成用塗料を塗布して得られ、膜厚が１０nm〜５０
nmの範囲内とされた導電層２を有する透明導電膜５が表
示面１上に形成された本発明の表示装置は、透明導電膜
５の可視光平均透過率が８０％以上となり、かつ特定波
長における吸収が小さいので、透過画像の色相を損なう
ことがなく、しかも本発明の目的である優れた帯電防止
効果と電界遮蔽効果が得られ、塩水に対しても実用上十
分なレベルの耐性を有すると共に、その光透過性の高さ
から塗膜の膜厚ムラも目立たないものとなる。
【００１４】導電層２は、前記の凝集体に加えて、平均
粒径１００nm以下のシリカ微粒子を凝集体に対して１重
量％〜６０重量％の範囲内で含有していてもよい。シリ
カ微粒子を含む前記透明導電膜形成用塗料を塗布し成膜
して得られた導電層２は、膜強度が著しく向上し、スク
ラッチ強度が向上する。また、導電層２にシリカ微粒子
を含有させることによって、その上層及び／又は下層に
この導電層の屈折率とは異なる屈折率を有する透明層３
を１層以上設ける場合に、透明層３のシリカ系バインダ
ー成分との濡れ性が良いために双方の層の密着性を向上
させる利点もあり、スクラッチ強度をいっそう改善する
ことができる。シリカ微粒子は、膜強度の向上と導電性
とを両立させる観点から、凝集体に対して２０重量％〜
４０重量％の範囲内で含有させることが更に好ましい。
粒径１００nm以下のシリカ微粒子を凝集体に対して１重
量％〜６０重量％の範囲内で含有していてもよい。シリ
カ微粒子を含む前記透明導電膜形成用塗料を塗布し成膜
して得られた導電層２は、膜強度が著しく向上し、スク
ラッチ強度が向上する。また、導電層２にシリカ微粒子
を含有させることによって、その上層及び／又は下層に
この導電層の屈折率とは異なる屈折率を有する透明層３
を１層以上設ける場合に、透明層３のシリカ系バインダ
ー成分との濡れ性が良いために双方の層の密着性を向上
させる利点もあり、スクラッチ強度をいっそう改善する
ことができる。シリカ微粒子は、膜強度の向上と導電性
とを両立させる観点から、凝集体に対して２０重量％〜
４０重量％の範囲内で含有させることが更に好ましい。
【００１５】本発明の透明導電膜５において、導電層２
は前記の成分の他に、膜強度や導電性の向上を目的とし
て、必要なら他の成分、例えば珪素、アルミニウム、ジ
ルコニウム、セリウム、チタン、イットリウム、亜鉛、
マグネシクム、インジウム、錫、アンチモン、ガリウム
等の酸化物、複合酸化物、又は窒化物、特にインジウム
や錫の酸化物、複合酸化物又は窒化物を主成分とする無
機物の微粒子や、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、ブチラール
樹脂、紫外線硬化樹脂等の有機系合成樹脂、珪素、チタ
ン、ジルコニウム等の金属アルコキシドの加水分解物、
又はシリコーンモノマー、シリコーンオリゴマー等の有
機・無機系バインダー成分等を含んでもよい。
は前記の成分の他に、膜強度や導電性の向上を目的とし
て、必要なら他の成分、例えば珪素、アルミニウム、ジ
ルコニウム、セリウム、チタン、イットリウム、亜鉛、
マグネシクム、インジウム、錫、アンチモン、ガリウム
等の酸化物、複合酸化物、又は窒化物、特にインジウム
や錫の酸化物、複合酸化物又は窒化物を主成分とする無
機物の微粒子や、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、ブチラール
樹脂、紫外線硬化樹脂等の有機系合成樹脂、珪素、チタ
ン、ジルコニウム等の金属アルコキシドの加水分解物、
又はシリコーンモノマー、シリコーンオリゴマー等の有
機・無機系バインダー成分等を含んでもよい。
【００１６】前記の少なくとも金属微粒子の凝集体を含
む透明導電膜形成用塗料を基材上に塗布するには、スピ
ンコーティング、ロールコーティング、スプレーコーテ
ィング、バ一コーティング、ディップコーティング、メ
ニスカスコーティング、グラビアコーティング等の通常
の薄膜塗布技術が何れも使用可能である。この内、スピ
ンコーティングは、短時問で均一な厚みの薄膜を形成す
ることができるので特に好ましい塗布法である。塗布
後、塗膜を乾燥し、１００℃〜１０００℃で焼き付ける
ことによって、基材の表面に導電層２が形成される。
む透明導電膜形成用塗料を基材上に塗布するには、スピ
ンコーティング、ロールコーティング、スプレーコーテ
ィング、バ一コーティング、ディップコーティング、メ
ニスカスコーティング、グラビアコーティング等の通常
の薄膜塗布技術が何れも使用可能である。この内、スピ
ンコーティングは、短時問で均一な厚みの薄膜を形成す
ることができるので特に好ましい塗布法である。塗布
後、塗膜を乾燥し、１００℃〜１０００℃で焼き付ける
ことによって、基材の表面に導電層２が形成される。
【００１７】導電層２における金属微粒子（凝集体）の
含有量ならびに膜厚を決定するに際しては、電磁波遮蔽
効果の要求を考慮する必要がある。一般に、帯電防止効
果に加えて電磁波遮蔽効果を発揮させるために必要な導
電層の導電性能は下記の式１によって表わされる。 Ｓ＝５０＋１０log（１／ρｆ）＋１．７ｔ√（ｆ／ρ）…式１ 式中、 Ｓ（dB） ；電磁波遮蔽効果、 ρ（Ω‐cm）；導電層２の体積固有抵抗、 ｆ（MHz） ；電磁波周波数、 ｔ（cm） ；導電層２の膜厚 である。ここで膜厚ｔは、光透過率の観点から１μm
（１×１０-4cm）以下程度であり、極めて微小であるの
で、式１において膜厚ｔを含む項を無視すれば電磁波遮
蔽効果Ｓは近似的に下記の式２で表わすことができる。 Ｓ＝５０＋１０log（１／ρｆ）…式２ ここで、Ｓ（dB）は、値が大きいほど電磁波遮蔽効果が
大きい。
含有量ならびに膜厚を決定するに際しては、電磁波遮蔽
効果の要求を考慮する必要がある。一般に、帯電防止効
果に加えて電磁波遮蔽効果を発揮させるために必要な導
電層の導電性能は下記の式１によって表わされる。 Ｓ＝５０＋１０log（１／ρｆ）＋１．７ｔ√（ｆ／ρ）…式１ 式中、 Ｓ（dB） ；電磁波遮蔽効果、 ρ（Ω‐cm）；導電層２の体積固有抵抗、 ｆ（MHz） ；電磁波周波数、 ｔ（cm） ；導電層２の膜厚 である。ここで膜厚ｔは、光透過率の観点から１μm
（１×１０-4cm）以下程度であり、極めて微小であるの
で、式１において膜厚ｔを含む項を無視すれば電磁波遮
蔽効果Ｓは近似的に下記の式２で表わすことができる。 Ｓ＝５０＋１０log（１／ρｆ）…式２ ここで、Ｓ（dB）は、値が大きいほど電磁波遮蔽効果が
大きい。
【００１８】一般に、電磁波遮蔽効果は、Ｓ＞３０dBで
あれぱ有効、さらにＳ＞６０dBであれば優良とみなされ
る。また、規制対象となる電磁波の周波数は一般に１０
kHz〜１０００MHzの範囲内とされるので、透明導電膜５
の導電性としては、１０3Ω-cm以下の体積固有抵抗
（ρ）が必要になる。すなわち、透明導電膜５の体積固
有抵抗（ρ）はできるだけ低いほうが、より広範な周波
数の電磁波を有効に遮蔽できることになる。この条件を
充たすために、透明導電膜５中の導電層２の膜厚は１０
nm以上とし、更に前記の金を１０重量％以上含有させる
ことが好ましい。導電層２の膜厚が１０nm末満あるいは
金の含有率が１０重量％未満の場合は、導電性が低下
し、実質的な電磁波遮蔽効果が得難くなる。前記の条件
を充たした上で、透明導電膜５中の導電層２の膜厚は、
透明性を考慮すると５０nm以下とすることが好ましい。
あれぱ有効、さらにＳ＞６０dBであれば優良とみなされ
る。また、規制対象となる電磁波の周波数は一般に１０
kHz〜１０００MHzの範囲内とされるので、透明導電膜５
の導電性としては、１０3Ω-cm以下の体積固有抵抗
（ρ）が必要になる。すなわち、透明導電膜５の体積固
有抵抗（ρ）はできるだけ低いほうが、より広範な周波
数の電磁波を有効に遮蔽できることになる。この条件を
充たすために、透明導電膜５中の導電層２の膜厚は１０
nm以上とし、更に前記の金を１０重量％以上含有させる
ことが好ましい。導電層２の膜厚が１０nm末満あるいは
金の含有率が１０重量％未満の場合は、導電性が低下
し、実質的な電磁波遮蔽効果が得難くなる。前記の条件
を充たした上で、透明導電膜５中の導電層２の膜厚は、
透明性を考慮すると５０nm以下とすることが好ましい。
【００１９】本発明の透明導電膜５は、前記の導電層２
の上層及び／又は下層（図１では上層）に、少なくとも
１層の透明層３が積層されていることが好ましい。この
透明層３は、前記の導電層２の屈折率と異なる屈折率を
有するものであることが好ましい。これによって、導電
層２を保護するばかりでなく、得られた透明導電膜５の
層間界面における外光反射を有効に除去又は軽減するこ
とができる。また前記の透明層３は、単に多層薄膜にお
ける界面反射を防止するのみならず、表示装置の表示面
に用いたとき表面を外力から保護する効果も期待される
ため、実用上十分なハードコート性を有することが更に
好ましい。
の上層及び／又は下層（図１では上層）に、少なくとも
１層の透明層３が積層されていることが好ましい。この
透明層３は、前記の導電層２の屈折率と異なる屈折率を
有するものであることが好ましい。これによって、導電
層２を保護するばかりでなく、得られた透明導電膜５の
層間界面における外光反射を有効に除去又は軽減するこ
とができる。また前記の透明層３は、単に多層薄膜にお
ける界面反射を防止するのみならず、表示装置の表示面
に用いたとき表面を外力から保護する効果も期待される
ため、実用上十分なハードコート性を有することが更に
好ましい。
【００２０】透明層を形成する素材としては、例えばポ
リエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ブチラ
ール樹脂等の熱可塑性、熱硬化性、又は光〜電子線硬化
性樹脂；珪素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム等
の金属アルコキシドの加水分解物；シリコーンモノマー
又はシリコーンオリゴマー等を単独で、又は混合して用
いることができる。
リエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ブチラ
ール樹脂等の熱可塑性、熱硬化性、又は光〜電子線硬化
性樹脂；珪素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム等
の金属アルコキシドの加水分解物；シリコーンモノマー
又はシリコーンオリゴマー等を単独で、又は混合して用
いることができる。
【００２１】特に好ましい透明層は、膜の表面硬度が高
く、屈折率が比較的低いＳｉＯ2 の薄膜である。このＳ
ｉＯ2 薄膜を形成し得る素材の例としては、例えば次式 Ｍ（ＯＲ）mＲn （式中、ＭはＳｉであり、ＲはＣ1〜Ｃ4のアルキル基で
あり、ｍは１〜４の整数であり、ｎは０〜３の整数であ
り、かつｍ＋ｎは４である）で表わされる化合物、又は
その部分加水分解物の１種又はそれ以上の混合物を挙げ
ることができる。前記の式の化合物の例として、特にテ
トラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5） 4） は、薄膜形
成能、透明性、導電層との接合性、膜強度及び反射防止
性能の観点から好適に用いられる。
く、屈折率が比較的低いＳｉＯ2 の薄膜である。このＳ
ｉＯ2 薄膜を形成し得る素材の例としては、例えば次式 Ｍ（ＯＲ）mＲn （式中、ＭはＳｉであり、ＲはＣ1〜Ｃ4のアルキル基で
あり、ｍは１〜４の整数であり、ｎは０〜３の整数であ
り、かつｍ＋ｎは４である）で表わされる化合物、又は
その部分加水分解物の１種又はそれ以上の混合物を挙げ
ることができる。前記の式の化合物の例として、特にテ
トラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5） 4） は、薄膜形
成能、透明性、導電層との接合性、膜強度及び反射防止
性能の観点から好適に用いられる。
【００２２】前記の透明層は、導電層と異なる屈折率に
設定できるのであれば、各種樹脂、金属酸化物、複合酸
化物、又は窒化物等、又は焼き付けによってこれらを生
成し得る前駆体等を含んでもよい。
設定できるのであれば、各種樹脂、金属酸化物、複合酸
化物、又は窒化物等、又は焼き付けによってこれらを生
成し得る前駆体等を含んでもよい。
【００２３】透明層の形成は、導電層の形成に用いた方
法と同様に、前記の成分を含む塗布液（透明層形成用塗
料）を均一に塗布して成膜する方法により行うことがで
きる。塗布は、スピンコーティング、ロールコーティン
グ、スプレーコーティング、バーコードコーティング、
ディップコーティング、メニスカスコーティング、グラ
ビアコーティング等の通常の薄膜塗布技術がいずれも使
用可能である。この内、スピンコーティングは、短時間
で均一な厚みの薄膜を形成することができるので特に好
ましい塗布法である。塗布後、塗膜を乾燥し、１００℃
〜１０００℃で焼き付けることによって透明層３が得ら
れる。
法と同様に、前記の成分を含む塗布液（透明層形成用塗
料）を均一に塗布して成膜する方法により行うことがで
きる。塗布は、スピンコーティング、ロールコーティン
グ、スプレーコーティング、バーコードコーティング、
ディップコーティング、メニスカスコーティング、グラ
ビアコーティング等の通常の薄膜塗布技術がいずれも使
用可能である。この内、スピンコーティングは、短時間
で均一な厚みの薄膜を形成することができるので特に好
ましい塗布法である。塗布後、塗膜を乾燥し、１００℃
〜１０００℃で焼き付けることによって透明層３が得ら
れる。
【００２４】一般に、多層薄膜における層間界面反射防
止能は、薄膜の屈折率と膜厚、及び積層薄膜数により決
定されるため、本発明の透明導電膜においても、導電層
と透明層との合計の積層数を考慮してそれぞれの導電層
及び透明層の厚みを設計することにより、効果的な反射
防止効果が得られる。反射防止能を有する多層膜では、
防止しようとする反射光の波長をλとするとき、２層構
成の反射防止膜であれば基材側から高屈折率層と低屈折
率とをそれぞれλ／４，λ／４、又はλ／２，λ／４の
光学的膜厚とすることによって効果的に反射を防止する
ことができる。また３層構成の反射防止膜であれば基材
側から中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層の順にλ
／４，λ／２，λ／４の光学的膜厚とすることが有効と
される。
止能は、薄膜の屈折率と膜厚、及び積層薄膜数により決
定されるため、本発明の透明導電膜においても、導電層
と透明層との合計の積層数を考慮してそれぞれの導電層
及び透明層の厚みを設計することにより、効果的な反射
防止効果が得られる。反射防止能を有する多層膜では、
防止しようとする反射光の波長をλとするとき、２層構
成の反射防止膜であれば基材側から高屈折率層と低屈折
率とをそれぞれλ／４，λ／４、又はλ／２，λ／４の
光学的膜厚とすることによって効果的に反射を防止する
ことができる。また３層構成の反射防止膜であれば基材
側から中屈折率層、高屈折率層及び低屈折率層の順にλ
／４，λ／２，λ／４の光学的膜厚とすることが有効と
される。
【００２５】特に、製造上の容易さや経済性を考慮する
と、図１に示すように、導電層２の上層に、屈折率が比
較的低く、ハードコート性を兼ね備えたＳｉＯ2膜（屈
折率１．４６）をλ／４ の膜厚で形成することが好適
である。
と、図１に示すように、導電層２の上層に、屈折率が比
較的低く、ハードコート性を兼ね備えたＳｉＯ2膜（屈
折率１．４６）をλ／４ の膜厚で形成することが好適
である。
【００２６】導電層と１層以上の透明層とを含む本発明
の透明導電膜は、導電層及び透明層の焼き付けを順次行
ってもよく、又は同時に行ってもよい。例えば透明導電
膜形成用塗料を表示装置の表示面に塗布し、その上層に
透明層形成用塗料を塗布し、乾燥後に１００℃〜１００
０℃の温度で一括焼き付けすることによって、導電層と
透明層とを同時に形成し、低反射性の透明導電膜を形成
することができる。
の透明導電膜は、導電層及び透明層の焼き付けを順次行
ってもよく、又は同時に行ってもよい。例えば透明導電
膜形成用塗料を表示装置の表示面に塗布し、その上層に
透明層形成用塗料を塗布し、乾燥後に１００℃〜１００
０℃の温度で一括焼き付けすることによって、導電層と
透明層とを同時に形成し、低反射性の透明導電膜を形成
することができる。
【００２７】前記透明導電膜５の最外層には、凹凸を有
する透明層（凹凸層）４を設けることが好ましい。この
凹凸層４は、透明導電膜５の表面反射光を散乱させ、表
示面に優れた防眩性を与える効果がある。凹凸層４の材
質としては、表面硬度と屈折率の観点からシリカが好適
である。この凹凸層４は、凹凸層形成用塗料を前記透明
導電膜５の最外層として前記の各種コーティング法によ
り塗布し、乾燥後に前記の導電層１や透明層２と同時
に、又は別個に１００℃〜１０００℃の温度で焼き付け
て形成することができる。特に、凹凸層４の塗布法とし
ては、スプレーコーティングが好適である。なお、この
凹凸の凹部と凸部との高低差は５nm以上、５００nm以下
であることが望しい。
する透明層（凹凸層）４を設けることが好ましい。この
凹凸層４は、透明導電膜５の表面反射光を散乱させ、表
示面に優れた防眩性を与える効果がある。凹凸層４の材
質としては、表面硬度と屈折率の観点からシリカが好適
である。この凹凸層４は、凹凸層形成用塗料を前記透明
導電膜５の最外層として前記の各種コーティング法によ
り塗布し、乾燥後に前記の導電層１や透明層２と同時
に、又は別個に１００℃〜１０００℃の温度で焼き付け
て形成することができる。特に、凹凸層４の塗布法とし
ては、スプレーコーティングが好適である。なお、この
凹凸の凹部と凸部との高低差は５nm以上、５００nm以下
であることが望しい。
【００２８】本発明の透明導電膜５の少なくとも何れか
１層には、着色材が含有されていてもよい。この着色材
は、透過画像のコントラストの向上や、透過光、反射光
の色彩調整のために用いられる。この着色材としては、
例えばモノアゾピグメント、キナクリドン、アイアンオ
キサイド・エロー、ジスアゾピグメント、フタロシアニ
ングリーン、フタロシアニンブルー、シアニンブルー、
フラバンスロンエロー、ジアンスラキノリルレッド、イ
ンダンスロンブルー、チオインジゴボルドー、ペリレン
オレンジ、ペリレンスカーレット、ペリレンレッド１７
８、ペリレンマルーン、ジオキサジンバイオレット、イ
ソインドリンエロー、二ッケルニトロソエロー、マダー
レーキ、銅アゾメチンエロー、アニリンブラック、アル
カリブルー、亜鉛華、酸化チタン、弁柄、酸化クロム、
鉄黒、チタンエロー、コバルトブルー、セルリアンブル
ー、コバルトグリーン、アルミナホワィト、ビリジア
ン、カドミウムエロー、カドミウムレッド、朱、リトポ
ン、黄鉛、モリブデートオレンジ、クロム酸亜鉛、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、鉛白、群
青、マンガンバイオレット、エメラルドグリーン、紺
青、カーボンブラック等の有機及び無機顔料、ならびに
アゾ染料、アントラキノン染料、インジゴイド染料、フ
タロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染
料、メチン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロソ
染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、ナフタル
イミド染料、ペリノン染料等の染料を挙げることができ
る。これらの着色材は単独で、又は２種以上を組み合わ
せて用いることができる。
１層には、着色材が含有されていてもよい。この着色材
は、透過画像のコントラストの向上や、透過光、反射光
の色彩調整のために用いられる。この着色材としては、
例えばモノアゾピグメント、キナクリドン、アイアンオ
キサイド・エロー、ジスアゾピグメント、フタロシアニ
ングリーン、フタロシアニンブルー、シアニンブルー、
フラバンスロンエロー、ジアンスラキノリルレッド、イ
ンダンスロンブルー、チオインジゴボルドー、ペリレン
オレンジ、ペリレンスカーレット、ペリレンレッド１７
８、ペリレンマルーン、ジオキサジンバイオレット、イ
ソインドリンエロー、二ッケルニトロソエロー、マダー
レーキ、銅アゾメチンエロー、アニリンブラック、アル
カリブルー、亜鉛華、酸化チタン、弁柄、酸化クロム、
鉄黒、チタンエロー、コバルトブルー、セルリアンブル
ー、コバルトグリーン、アルミナホワィト、ビリジア
ン、カドミウムエロー、カドミウムレッド、朱、リトポ
ン、黄鉛、モリブデートオレンジ、クロム酸亜鉛、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、鉛白、群
青、マンガンバイオレット、エメラルドグリーン、紺
青、カーボンブラック等の有機及び無機顔料、ならびに
アゾ染料、アントラキノン染料、インジゴイド染料、フ
タロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染
料、メチン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロソ
染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、ナフタル
イミド染料、ペリノン染料等の染料を挙げることができ
る。これらの着色材は単独で、又は２種以上を組み合わ
せて用いることができる。
【００２９】着色材を用いる場合、その種類と量は、対
応する透明導電膜の光学的な膜特性に対応して適宜選択
されるべきである。透明性薄膜の吸光度Ａは、一般的に
は下記の式で表わされる。 Ａ＝log10（Ｉ0／Ｉ）＝εＣＤ 式中、Ｉ0；入射光、Ｉ；透過光、Ｃ；色濃度、Ｄ；光
距離、ε；モル吸光係数である。
応する透明導電膜の光学的な膜特性に対応して適宜選択
されるべきである。透明性薄膜の吸光度Ａは、一般的に
は下記の式で表わされる。 Ａ＝log10（Ｉ0／Ｉ）＝εＣＤ 式中、Ｉ0；入射光、Ｉ；透過光、Ｃ；色濃度、Ｄ；光
距離、ε；モル吸光係数である。
【００３０】本発明の透明導電膜で着色材を用いる場合
は、一般にモル吸光係数がε＞１０の着色材が用いられ
る。また着色材の配合量は、使用する着色材のモル吸光
係数に依存して変わるが、着色材を配合した積層膜又は
単層膜の吸光度Ａが０．０００４〜０．０９６９abs.の
範囲内となるような量であることが好ましい。これらの
条件が満たされない場合は透明度及び／又は反射防止効
果が低下する。上記着色材を導電層２に配合する場合
は、その配合量を、金属の含有量に対して２０重量％以
下、特に１０重量％以下とすることが好ましい。１０重
量％を越えると導電性の低下が認められ、２０重量％を
越えると電磁波遮蔽効果に支障を来すことになる。
は、一般にモル吸光係数がε＞１０の着色材が用いられ
る。また着色材の配合量は、使用する着色材のモル吸光
係数に依存して変わるが、着色材を配合した積層膜又は
単層膜の吸光度Ａが０．０００４〜０．０９６９abs.の
範囲内となるような量であることが好ましい。これらの
条件が満たされない場合は透明度及び／又は反射防止効
果が低下する。上記着色材を導電層２に配合する場合
は、その配合量を、金属の含有量に対して２０重量％以
下、特に１０重量％以下とすることが好ましい。１０重
量％を越えると導電性の低下が認められ、２０重量％を
越えると電磁波遮蔽効果に支障を来すことになる。
【００３１】本発明の表示装置は、前記の何れかの透明
導電膜５が表示面１上に形成されてなっている。この表
示装置は、表示面１の帯電が防止されているので表示面
に挨等が付着せず、電磁波が遮蔽されるので各種の電磁
波障害が防止され、光透過性に優れているので画像が明
るく、透過画像の色相が自然であり、膜厚が均一なので
表示面の塗布ムラが目立たず、しかも耐塩水性が高いの
で塩霧に曝されるような環境にあっても耐久性が高い。
また導電層２の他に、前記の透明層３び／又は凹凸層４
が形成されていれば、外光に対する優れた反射防止効果
及び／又は防眩効果も得られる。
導電膜５が表示面１上に形成されてなっている。この表
示装置は、表示面１の帯電が防止されているので表示面
に挨等が付着せず、電磁波が遮蔽されるので各種の電磁
波障害が防止され、光透過性に優れているので画像が明
るく、透過画像の色相が自然であり、膜厚が均一なので
表示面の塗布ムラが目立たず、しかも耐塩水性が高いの
で塩霧に曝されるような環境にあっても耐久性が高い。
また導電層２の他に、前記の透明層３び／又は凹凸層４
が形成されていれば、外光に対する優れた反射防止効果
及び／又は防眩効果も得られる。
【００３２】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。実施例及び比較例に共通の原液として、
下記のものを調整した。 （金水性ゾル）０．１５ミリモル／ｌの塩化金酸を含む
水溶液と、０．０２４ミリモル／ｌの水素化ホウ素ナト
リウムとを混合し、得られたコロイド状分散液を濃縮
し、０．１０２モル／ｌの金微粒子を含む水性ゾルを得
た。金微粒子の平均粒径は６nmであった。 （銀水性ゾル）クエン酸ナトリウム二水和物（１４ｇ）
と、硫酸第一鉄（７．５ｇ）を溶解させた水溶液（６０
ｇ）を５℃に保持した状態で、硝酸銀（２．５ｇ）を溶
解した水溶液（２５ｇ）を加え、赤褐色の銀ゾルを得
た。この銀ゾルを遠心分離により水洗して不純物イオン
を除去した後、純水を加えて０．１８５モル／ｌの銀微
粒子を含む水性ゾルを得た。銀微粒子の平均粒径は１０
nmであった。 （コロイダルシリカ）日本化学工業社製「シリカドール
３０」を用いた。 （透明層形成用塗料Ａ）テトラエトキシシラン（０．８
ｇ）と０．１Ｎ塩酸（０．８ｇ）とエチルアルコール
（９８．４ｇ）とを混合し、均一な溶液とした。 （凹凸層形成用塗料Ｂ）テトラエトキシシラン（３．０
ｇ）と０．１Ｎ塩酸（１０ｇ）とエチルアルコール（８
７．０ｇ）とを混合し、均一な溶液とした。
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。実施例及び比較例に共通の原液として、
下記のものを調整した。 （金水性ゾル）０．１５ミリモル／ｌの塩化金酸を含む
水溶液と、０．０２４ミリモル／ｌの水素化ホウ素ナト
リウムとを混合し、得られたコロイド状分散液を濃縮
し、０．１０２モル／ｌの金微粒子を含む水性ゾルを得
た。金微粒子の平均粒径は６nmであった。 （銀水性ゾル）クエン酸ナトリウム二水和物（１４ｇ）
と、硫酸第一鉄（７．５ｇ）を溶解させた水溶液（６０
ｇ）を５℃に保持した状態で、硝酸銀（２．５ｇ）を溶
解した水溶液（２５ｇ）を加え、赤褐色の銀ゾルを得
た。この銀ゾルを遠心分離により水洗して不純物イオン
を除去した後、純水を加えて０．１８５モル／ｌの銀微
粒子を含む水性ゾルを得た。銀微粒子の平均粒径は１０
nmであった。 （コロイダルシリカ）日本化学工業社製「シリカドール
３０」を用いた。 （透明層形成用塗料Ａ）テトラエトキシシラン（０．８
ｇ）と０．１Ｎ塩酸（０．８ｇ）とエチルアルコール
（９８．４ｇ）とを混合し、均一な溶液とした。 （凹凸層形成用塗料Ｂ）テトラエトキシシラン（３．０
ｇ）と０．１Ｎ塩酸（１０ｇ）とエチルアルコール（８
７．０ｇ）とを混合し、均一な溶液とした。
【００３３】（実施例１）透明導電膜形成用塗料の調製 ： 金水性ゾル ２３ｇ １／１００Ｎ‐ＮａＯＨ ０．０１ｇ イソプロピルアルコール １０ｇ エチルアルコール ６６．９９ｇ 得られた混合液を超音波分散機（BRANSON ULTRASONlCS
社製「ソ二ファイヤー４５０」）で分散し、透明導電膜
形成用塗料を調製した。この塗料中で金微粒子は、Ｎａ
ＯＨの添加によりほとんどが凝集し、ＴＥＭの観察で粒
径が２０nm〜２５nmの範囲内の凝集体となっていた。
社製「ソ二ファイヤー４５０」）で分散し、透明導電膜
形成用塗料を調製した。この塗料中で金微粒子は、Ｎａ
ＯＨの添加によりほとんどが凝集し、ＴＥＭの観察で粒
径が２０nm〜２５nmの範囲内の凝集体となっていた。
【００３４】成膜：上記の透明導電膜形成用塗料をブラ
ウン管の表示面にスピンコーターを用いて塗布し、乾燥
後、この塗布面に前記の透明層形成用塗料Ａを、同様に
スピンコーターを用いて塗布し、このブラウン管を乾燥
機に入れ、１５０℃で１時間焼き付け処理して透明導電
膜を形成することにより、反射防止性の透明導電膜を有
する実施例１の陰極線管を作成した。
ウン管の表示面にスピンコーターを用いて塗布し、乾燥
後、この塗布面に前記の透明層形成用塗料Ａを、同様に
スピンコーターを用いて塗布し、このブラウン管を乾燥
機に入れ、１５０℃で１時間焼き付け処理して透明導電
膜を形成することにより、反射防止性の透明導電膜を有
する実施例１の陰極線管を作成した。
【００３５】（実施例２）透明導電膜形成用塗料の調製 ： 金水性ゾル ２３ｇ １／１００ＮーＮａＯＨ ０．０１ｇ イソプロピルアルコール １０ｇ コロイダルシリカ ０．４６ｇ エチルアルコール ６６．５３ｇ 上記の成分を混合し、実施例１と同様に処理して透明導
電膜形成用塗料を調製した。この塗料中でほとんどの金
微粒子は、粒径が２０nm〜２５nmの範囲内の凝集体とな
っていた。また塗料中のＳｉＯ2／Ａｕの重量比は３０
／１００であった。
電膜形成用塗料を調製した。この塗料中でほとんどの金
微粒子は、粒径が２０nm〜２５nmの範囲内の凝集体とな
っていた。また塗料中のＳｉＯ2／Ａｕの重量比は３０
／１００であった。
【００３６】成膜：上記の透明導電膜形成用塗料と透明
層形成用塗料Ａとを用い、実施例１と同様に処理して反
射防止性の透明導電膜を有する実施例２の陰極線管を作
成した。
層形成用塗料Ａとを用い、実施例１と同様に処理して反
射防止性の透明導電膜を有する実施例２の陰極線管を作
成した。
【００３７】（実施例３）透明導電膜形成用塗料の調製 ： 金水性ゾル １７ｇ 銀水性ゾル １ｇ １／１００Ｎ‐ＮａＯＨ ０．０１ｇ イソプロピルアルコール １０ｇ コロイダルシリカ ０．３６ｇ エチルアルコール ７１．６３ｇ 上記の成分を混合し、実施例１と同様に処理して透明導
電膜形成用塗料を調製した。この塗料中でほとんどの金
微粒子及び銀微粒子は、粒径が２０nm〜２５nmの範囲内
の凝集体となっていた。また塗料中のＳｉＯ2／Ａｇ／
Ａｕの重量比は、 ３０／６／９４であった。
電膜形成用塗料を調製した。この塗料中でほとんどの金
微粒子及び銀微粒子は、粒径が２０nm〜２５nmの範囲内
の凝集体となっていた。また塗料中のＳｉＯ2／Ａｇ／
Ａｕの重量比は、 ３０／６／９４であった。
【００３８】成膜：上記の透明導電膜形成用塗料と透明
層形成用塗料Ａとを用い、実施例１と同様に処理して反
射防止性の透明導電膜を有する実施例３の陰極線管を作
成した。
層形成用塗料Ａとを用い、実施例１と同様に処理して反
射防止性の透明導電膜を有する実施例３の陰極線管を作
成した。
【００３９】（実施例４）実施例３で用いた透明導電膜
形成用塗料をブラウン管の表示面にスピンコーターを用
いて塗布し、乾燥後、この塗布面に前記の透明層形成用
塗料Ａを同様にスピンコ一ターを用いて塗布し、更に凹
凸層を形成するために前記の凹凸層形成用塗料Ｂをスプ
レーにて噴霧、積層し、このブラウン管を乾燥機に入れ
て１５０℃で１時間焼き付け処埋し、最外層に凹凸層が
形成された３層構造の透明導電膜を形成することによ
り、防眩性、反射防止性の透明導電膜を有する実施例４
の陰極線管を作成した。
形成用塗料をブラウン管の表示面にスピンコーターを用
いて塗布し、乾燥後、この塗布面に前記の透明層形成用
塗料Ａを同様にスピンコ一ターを用いて塗布し、更に凹
凸層を形成するために前記の凹凸層形成用塗料Ｂをスプ
レーにて噴霧、積層し、このブラウン管を乾燥機に入れ
て１５０℃で１時間焼き付け処埋し、最外層に凹凸層が
形成された３層構造の透明導電膜を形成することによ
り、防眩性、反射防止性の透明導電膜を有する実施例４
の陰極線管を作成した。
【００４０】（比較例１）透明導電膜形成用塗料の調製 ： 銀水性ゾル ４０ｇ イソプロピルアルコール １０ｇ エチルアルコール ５０ｇ 上記の成分を混合し、実施例１と同様に処理して透明導
電膜形成用塗料を調製した。この比較例１の塗料におい
ては、ＴＥＭによる観察で銀微粒子が均一に分散し、凝
集体はほとんど認められなかった。
電膜形成用塗料を調製した。この比較例１の塗料におい
ては、ＴＥＭによる観察で銀微粒子が均一に分散し、凝
集体はほとんど認められなかった。
【００４１】成膜：上記の透明導電膜形成用塗料と透明
層形成用塗料Ａとを用い、実施例１と同様に処理して反
射防止性の透明導電膜を有する比較例１の陰極線管を作
成した。
層形成用塗料Ａとを用い、実施例１と同様に処理して反
射防止性の透明導電膜を有する比較例１の陰極線管を作
成した。
【００４２】（比較例２）透明導電膜形成用塗料の調製 ： 金水性ゾル ５０ｇ イソプロピルアルコール １０ｇ エチルアルコール ４０ｇ 上記の成分を混合し、実施例１と同様に処理して透明導
電膜形成用塗料を調製した。この比較例２の塗料におい
ては、ＴＥＭによる観察で金微粒子が均一に分散し、凝
集体はほとんど認められなかった。
電膜形成用塗料を調製した。この比較例２の塗料におい
ては、ＴＥＭによる観察で金微粒子が均一に分散し、凝
集体はほとんど認められなかった。
【００４３】成膜：上記の透明導電膜形成用塗料と透明
層形成用塗料Ａとを用い、実施例１と同様に処理して反
射防止性の透明導電膜を有する比較例２の陰極線管を作
成した。
層形成用塗料Ａとを用い、実施例１と同様に処理して反
射防止性の透明導電膜を有する比較例２の陰極線管を作
成した。
【００４４】（比較例３）透明導電膜形成用塗料の調製 ： アンチモンドープ酸化スズ微粉末 １．５ｇ （住友大阪セメント社製、平均粒径０．０１μｍ） カーボンブラック ０．３ｇ （三菱化学社製、「ＭＡ‐１００」） イソプロピルアルコール １０ｇ ブチルセロソルブ １０ｇ 純水 ７８．２ｇ 上記の成分を混合し、実施例１と同様に処理して透明導
電膜形成用塗料を調製した。
電膜形成用塗料を調製した。
【００４５】成膜：上記の透明導電膜形成用塗料と透明
層形成用塗料Ａとを用い、実施例１と同様に処理して反
射防止性の透明導電膜を有する比較例３の陰極線管を作
成した。
層形成用塗料Ａとを用い、実施例１と同様に処理して反
射防止性の透明導電膜を有する比較例３の陰極線管を作
成した。
【００４６】（評価測定）陰極線管上に形成された透明
導電膜の性能を下記の装置又は方法で測定し、また外観
を目視により評価した。 膜厚 ：ＳＥＭ観察により測定 表面抵抗 ：三菱化学社製「ロレスタＡＰ」（４端子法） 電磁波遮蔽性 ：０．５MHz基準で前記式１により計算 耐塩水性 ：塩水浸漬３日後の０．５MHz電磁波遮蔽効果 スクラッチ試験 ：１kgの荷重下に、シャープペンシル先端の金属部分で膜 表面を擦り、傷の付き具合を目視により評価 ○；傷なし △；やや傷付き ×；傷付き 透過率 ：東京電色社製「Automatic Haze Meter H III DP」 ヘーズ ：東京電色社製「Automatic Haze Meter H III DP」 グロス ：東京電色社製可変角度光沢計「MODEL TC‐108D」 入射角６０゜ 透過率差 ：日立製作所製「U‐3500」形自記分光光度計を用い、 可視光領域での最大透過率と最小透過率との差を求めた （可視光領域における最大ー最小透過率差が小さいほど透過 率がよりフラットになり、透過画像の色相が鮮明となる。 特に１０％以下では、透過画像の色彩が黒色に近づき、よ り高度な鮮明さを持つようになる。） 視感反射率 ：EG&G GAMMASCIENTIFIC社製「MODEL C-11」 反射色 ：ミノルタカメラ社製「CR-300」 （ClE表色系を使用し、CIE色度図における白色点 ｘ＝０．３１３７，ｙ＝０．３１９８ からのズレの距離をΔｘ、Δｙを用いて √（Δｘ2＋Δｙ2） で表わした。これにより、√（Δｘ2＋Δｙ2）の値がより 「０」に近いものほど反射色が白色、すなわち目に優しい 自然光に近いものとなる。） 視認性 ：低反射性能、反射色、透過色を含む総合評価 ○ ；良好 ○△；やや良好、 △ ；可 △×；やや不良 × ；不良 膜ムラ ：目視による外観色の均一性評価 ○ ；良好 ○△；やや良好 △ ；可 △×；やや不良 × ；不良 以上の評価試験結果を表１及び表２に示す。
導電膜の性能を下記の装置又は方法で測定し、また外観
を目視により評価した。 膜厚 ：ＳＥＭ観察により測定 表面抵抗 ：三菱化学社製「ロレスタＡＰ」（４端子法） 電磁波遮蔽性 ：０．５MHz基準で前記式１により計算 耐塩水性 ：塩水浸漬３日後の０．５MHz電磁波遮蔽効果 スクラッチ試験 ：１kgの荷重下に、シャープペンシル先端の金属部分で膜 表面を擦り、傷の付き具合を目視により評価 ○；傷なし △；やや傷付き ×；傷付き 透過率 ：東京電色社製「Automatic Haze Meter H III DP」 ヘーズ ：東京電色社製「Automatic Haze Meter H III DP」 グロス ：東京電色社製可変角度光沢計「MODEL TC‐108D」 入射角６０゜ 透過率差 ：日立製作所製「U‐3500」形自記分光光度計を用い、 可視光領域での最大透過率と最小透過率との差を求めた （可視光領域における最大ー最小透過率差が小さいほど透過 率がよりフラットになり、透過画像の色相が鮮明となる。 特に１０％以下では、透過画像の色彩が黒色に近づき、よ り高度な鮮明さを持つようになる。） 視感反射率 ：EG&G GAMMASCIENTIFIC社製「MODEL C-11」 反射色 ：ミノルタカメラ社製「CR-300」 （ClE表色系を使用し、CIE色度図における白色点 ｘ＝０．３１３７，ｙ＝０．３１９８ からのズレの距離をΔｘ、Δｙを用いて √（Δｘ2＋Δｙ2） で表わした。これにより、√（Δｘ2＋Δｙ2）の値がより 「０」に近いものほど反射色が白色、すなわち目に優しい 自然光に近いものとなる。） 視認性 ：低反射性能、反射色、透過色を含む総合評価 ○ ；良好 ○△；やや良好、 △ ；可 △×；やや不良 × ；不良 膜ムラ ：目視による外観色の均一性評価 ○ ；良好 ○△；やや良好 △ ；可 △×；やや不良 × ；不良 以上の評価試験結果を表１及び表２に示す。
【００４７】
【表１】
【表２】
【００４８】上記表１、表２の結果から、金属微粒子の
凝集体を含む透明導電膜が形成された本発明の陰極線管
は、従来の均一分散した金属微粒子を含む比較例１、比
較例２及びアンチモンドープ酸化スズ系の比較例３に比
べ、膜厚が１／２以下の薄さであるにかかわらず表面抵
抗、電磁波遮蔽性が同等〜同等以上であり、耐塩水性、
耐スクラッチ性にも優れ、特に透過率が優れて透明性が
高く、しかも透過率差が小さいので透過画像の色相が損
なわれず、反射が少なく反射色も着色が少なく、視認
性、膜ムラも良好であることがわかる。実施例４は最外
層に凹凸層が形成されているのでグロスが減少し、外光
の写り込みが抑制され透過画像が更に見易くなっている
ことがわかる。
凝集体を含む透明導電膜が形成された本発明の陰極線管
は、従来の均一分散した金属微粒子を含む比較例１、比
較例２及びアンチモンドープ酸化スズ系の比較例３に比
べ、膜厚が１／２以下の薄さであるにかかわらず表面抵
抗、電磁波遮蔽性が同等〜同等以上であり、耐塩水性、
耐スクラッチ性にも優れ、特に透過率が優れて透明性が
高く、しかも透過率差が小さいので透過画像の色相が損
なわれず、反射が少なく反射色も着色が少なく、視認
性、膜ムラも良好であることがわかる。実施例４は最外
層に凹凸層が形成されているのでグロスが減少し、外光
の写り込みが抑制され透過画像が更に見易くなっている
ことがわかる。
【００４９】
【発明の効果】本発明の透明導電膜は、金属微粒子を凝
集体として含有する透明導電膜形成用塗料を塗布するこ
とにより形成された導電層を有するものであるので、形
成された透明導電膜は、導電層の膜厚が極めて薄く従っ
て可視光平均透過率が高いにも係わらず、電磁波遮蔽効
果およぴ帯電防止効果に優れ、特に金微粒子の凝集体を
用いた場合には透過画像の色相が自然で、しかも耐塩水
性に代表される耐久性にも優れている。従ってこの透明
導電膜が表示面に形成された本発明の表示装置は、透過
画像の色相が損なわれず、優れた帯電防止性と電磁波遮
蔽性と化学的安定性を有し、しかも光透過性が高いため
に透過画像が明るく塗膜の膜厚ムラも目立たないものと
なる。
集体として含有する透明導電膜形成用塗料を塗布するこ
とにより形成された導電層を有するものであるので、形
成された透明導電膜は、導電層の膜厚が極めて薄く従っ
て可視光平均透過率が高いにも係わらず、電磁波遮蔽効
果およぴ帯電防止効果に優れ、特に金微粒子の凝集体を
用いた場合には透過画像の色相が自然で、しかも耐塩水
性に代表される耐久性にも優れている。従ってこの透明
導電膜が表示面に形成された本発明の表示装置は、透過
画像の色相が損なわれず、優れた帯電防止性と電磁波遮
蔽性と化学的安定性を有し、しかも光透過性が高いため
に透過画像が明るく塗膜の膜厚ムラも目立たないものと
なる。
【図１】 本発明の表示装置の一実施例を示す部分断面
図
図
１：表示面 ２：導電層 ３：透明層 ４：凹凸層 ５：透明導電膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３０９ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３０９Ｚ ３１８ ３１８Ａ Ｈ０１Ｂ 5/14 Ｈ０１Ｂ 5/14 Ａ Ｈ０１Ｊ 5/08 Ｈ０１Ｊ 5/08 11/02 11/02 Ｅ 17/16 17/16 29/88 29/88 Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｖ
Claims (9)
- 【請求項１】 導電材として金属微粒子の凝集体を含有
することを特徴とする透明導電膜形成用塗料。 - 【請求項２】 金属微粒子が少なくとも金微粒子を含む
ことを特徴とする請求項１に記載の透明導電膜形成用塗
料。 - 【請求項３】 前記凝集体の粒径が５nm〜５０nmの範囲
内であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載
の透明導電膜形成用塗料。 - 【請求項４】 請求項１〜請求項３の何れかに記載の透
明導電膜形成用塗料を塗布することにより形成された導
電層を有することを特徴とする透明導電膜。 - 【請求項５】 前記導電層の膜厚が１０nm〜５０nmの範
囲内であることを特徴とする請求項４に記載の透明導電
膜。 - 【請求項６】 前記導電層の上層及び／又は下層に、前
記導電層と屈折率の異なる少なくとも１層の透明層が積
層されたことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載
の透明導電膜。 - 【請求項７】 最外層に凹凸を有する透明層が積層され
たことを特徴とする請求項６に記載の透明導電膜。 - 【請求項８】 可視光平均透過率が８０％以上であり、
かつ表面抵抗が１×１０5Ω／□以下であることを特徴
とする請求項４〜請求項７の何れかに記載の透明導電
膜。 - 【請求項９】 請求項４〜請求項８の何れかに記載の透
明導電膜が表示面に形成されたことを特徴とする表示装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12796098A JP3501942B2 (ja) | 1998-05-11 | 1998-05-11 | 透明導電膜形成用塗料、透明導電膜及び表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12796098A JP3501942B2 (ja) | 1998-05-11 | 1998-05-11 | 透明導電膜形成用塗料、透明導電膜及び表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11329071A true JPH11329071A (ja) | 1999-11-30 |
| JP3501942B2 JP3501942B2 (ja) | 2004-03-02 |
Family
ID=14972930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12796098A Expired - Fee Related JP3501942B2 (ja) | 1998-05-11 | 1998-05-11 | 透明導電膜形成用塗料、透明導電膜及び表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3501942B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002194248A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-10 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材ならびに表示装置 |
| US7053126B2 (en) | 2002-03-25 | 2006-05-30 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Process for producing noble-metal type fine-particle dispersion, coating liquid for forming transparent conductive layer, transparent conductive layered structure and display device |
| US7438835B2 (en) | 2002-03-25 | 2008-10-21 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Transparent conductive film, coating liquid for forming such film, transparent conductive layered structure, and display device |
| US7786178B2 (en) | 2003-04-28 | 2010-08-31 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Process for producing fine silver particle colloidal dispersion, fine silver particle colloidal dispersion, and conductive silver film |
| US7922938B2 (en) | 2005-12-08 | 2011-04-12 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Fine silver particle colloidal dispersion, coating liquid for silver film formation, processes for producing these, and silver film |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI573846B (zh) * | 2010-03-09 | 2017-03-11 | 西瑪奈米技術以色列有限公司 | 形成具有燒結添加物之透明導電塗層的方法 |
-
1998
- 1998-05-11 JP JP12796098A patent/JP3501942B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002194248A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-10 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材ならびに表示装置 |
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| US7438835B2 (en) | 2002-03-25 | 2008-10-21 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Transparent conductive film, coating liquid for forming such film, transparent conductive layered structure, and display device |
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| US8524786B2 (en) | 2003-04-28 | 2013-09-03 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Process for producing fine silver particle colloidal dispersion, fine silver particle colloidal dispersion, and conductive silver film |
| US7922938B2 (en) | 2005-12-08 | 2011-04-12 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Fine silver particle colloidal dispersion, coating liquid for silver film formation, processes for producing these, and silver film |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3501942B2 (ja) | 2004-03-02 |
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