JPH11216824A

JPH11216824A - 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム

Info

Publication number: JPH11216824A
Application number: JP1919298A
Authority: JP
Inventors: Mitsumine Toujiyou; 光峰東條; Shunichi Uchida; 俊一内田; Toshifumi Osawa; 利文大澤
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1998-01-30
Filing date: 1998-01-30
Publication date: 1999-08-10
Anticipated expiration: 2018-01-30
Also published as: JP3626588B2

Abstract

(57)【要約】【課題】製膜工程での耐削れ性、巻取り性、耐ブロッ
キング性に優れ、しかも電磁変換特性、ドロップアウト
特性、走行耐久性に優れた磁気記録媒体のベースとして
有用なポリエステルフイルムを提供する。【解決手段】単層又は２層以上からなるポリエステル
フイルム（層Ｃ）の片面に皮膜層Ａが形成されていて、
該皮膜層Ａは平均粒径１０〜１００ｎｍの不活性粒子を
該とし樹脂を結合剤とする、平均突起高さが１５〜１０
０ｎｍの突起Ａａを１×１０⁶〜１×１０⁸個／ｍｍ²
の頻度で有し、かつ該樹脂のみによる平均突起高さ２〜
１５ｎｍの微小突起Ａｂを１×１０⁶〜３×１０⁸個／
ｍｍ²の頻度で有する連続薄膜よりなる皮膜であり、該
皮膜層Ａでの樹脂のみによる連続薄膜部の微小表面粗さ
Ｒａ^Sが０．４〜２．０ｎｍであり、かつ該皮膜層Ａを
形成した面の表面粗さＲａ^Aが０．３〜２ｎｍであり、
そして該層Ｃは単層の場合は実質的に不活性粒子を含ま
ず、また２層以上の場合は皮膜層Ａを形成する側の層に
不活性粒子を含まないことを特徴とする磁気記録媒体用
ポリエステルフイルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用ポリ
エステルフイルムに関し、更に詳しくは製膜工程での耐
削れ性、巻取り性、耐ブロッキング性に優れ、しかも電
磁変換特性、ドロップアウト特性、走行耐久性に優れた
磁気記録媒体のベースとして有用なポリエステルフイル
ムに関する。

【０００２】

【従来の技術】高密度磁気記録媒体として、非磁性支持
体上に強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリングの如
き物理沈着法やメッキ法によって形成した強磁性金属薄
膜磁気記録媒体が知られている。例えば、Ｃｏを蒸着し
た磁気テープ（特開昭５４―１４７０１０号）、Ｃｏ―
Ｃｒ合金を用いた垂直磁気記録媒体（特開昭５２―１３
４７０６号）等が知られている。このような蒸着、スパ
ッタ又はイオンプレーティング等の薄膜形成手段によっ
て形成される金属薄膜は、厚みが１．５μｍ以下と非常
に薄く、それにも拘らず磁気記録層の厚みが３μｍ以上
である塗布型磁気記録媒体（磁性体粉末を有機高分子バ
インダーに混入させて非磁性支持体上に塗布してなる磁
気記録媒体）と同等以上の性能が得られるという利点が
ある。

【０００３】ところで、磁気記録媒体の静的特性である
保磁力Ｈｃまたはヒステリシスループの角形比のような
磁気特性は、用いられる非磁性支持体の表面状態にあま
り依存しないという考えがある。このような考えによっ
たものの例として、米国特許第３７８７３２７号明細書
には真空蒸着によるＣｏ―Ｃｒの多層構造体が開示され
ている。

【０００４】しかしながら、金属薄膜型の磁気記録媒体
においては、非磁性支持体表面に形成される金属薄膜厚
さが薄く、非磁性支持体の表面状態（表面凹凸）がその
まま磁気記録層表面の凹凸として発現し、それが雑音の
原因となることが欠点とされている。

【０００５】雑音の観点からは、非磁性支持体の表面状
態ができるだけ平滑であることが好ましい。一方ベース
フイルムの巻取り、巻出しといったハンドリングの観点
からは、フイルム表面が平滑であると、フイルム―フイ
ルム相互の滑り性が悪く、ブロッキング現象が発生し、
製品にはなり得ず、このためベースフイルム表面が粗で
あることが要求される。このように、電磁変換特性とい
う観点からは非磁性支持体の表面が平滑であることが要
求され、一方ハンドリング性の観点からは粗であること
が要求される。そこで、これら両者の二律背反する性質
を同時に満足することが必要となる。

【０００６】更に、金属薄膜磁気記録媒体には、実際に
使用される時の重大な問題点として、金属薄膜面の走行
性がある。従来の磁性体粉末を有機高分子バインダーに
混入させてベースフイルムに塗布してなる塗布型磁気記
録媒体の場合には、該バインダー中に滑剤を分散させて
磁性面の走行性を向上させることができるが、金属薄膜
磁気記録媒体の場合には、このような対策をとることが
できず、走行性を安定して保つのは非常に困難であり、
特に高温高湿時の走行性が劣るなどの欠点を有してい
た。

【０００７】この欠点の改良を目的として、特公昭６２
―３０１０５号公報には微細粒子と水溶性樹脂およびシ
ランカップリング剤を用いて微小突起をフイルム表面に
形成することが提案されている。また特公昭６２―３０
１０６号公報、特開昭５９―２２９３１６号公報には微
細粒子と水溶性樹脂を用いて微小突起をフイルム表面に
形成することが提案されている。しかし、これらはいず
れも水溶性樹脂の台形状突起中に微細粒子を存在させた
ものであり、微細粒子をフイルム表面上に均一に存在さ
せたものではない。また特公平１―３４４５６号公報に
は水溶性高分子の不連続皮膜と、これより高い突起を形
成する微細粒子とを夫々独立してフイルム表面に密着さ
せることが提案されている。しかし、これは突起が不連
続皮膜であり、また均一に分散していない微粒子による
ことからフイルム表面上の均一性に劣る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術の欠点を解消し、製膜工程での耐削れ性、巻取り
性、耐ブロッキング性に優れ、しかも電磁変換特性、ド
ロップアウト特性、走行耐久性に優れた磁気記録媒体の
ベースとして有用なポリエステルフイルムを提供するこ
とにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するために、次の構成からなる。単層又は２層以上
からなるポリエステルフイルム（層Ｃ）の片面に皮膜層
Ａが形成されていて、該皮膜層Ａは平均粒径１０〜１０
０ｎｍの不活性粒子を該とし樹脂を結合剤とする、平均
突起高さが１５〜１００ｎｍの突起Ａａを１×１０⁶〜
１×１０⁸個／ｍｍ²の頻度で有し、かつ該樹脂のみに
よる平均突起高さ２〜１５ｎｍの微小突起Ａｂを１×１
０⁶〜３×１０⁸個／ｍｍ²の頻度で有する連続薄膜よ
りなる皮膜であり、該皮膜層Ａでの樹脂のみによる連続
薄膜部の微小表面粗さＲａ^Sが０．４〜２．０ｎｍであ
り、かつ該皮膜層Ａを形成した面の表面粗さＲａ^Aが
０．３〜２ｎｍであり、そして該層Ｃは単層の場合は実
質的に不活性粒子を含まず、また２層以上の場合は皮膜
層Ａを形成する側の層に不活性粒子を含まないことを特
徴とする磁気記録媒体用ポリエステルフイルム。

【００１０】本発明を以下に詳しく述べる。本発明のフ
イルムを構成するポリエステルは、芳香族二塩基酸又は
そのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル
形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルで
ある。かかるポリエステルの好ましい具体例としては、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレ
ート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ（１，
４―シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポ
リエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート等
が例示でき、これらの共重合体又はこれらと小割合の他
樹脂とのブレンド物なども含まれる。

【００１１】かかるポリエステルは従来から知られてい
る方法で製造することができる。例えば、ポリエチレン
テレフタレートはテレフタル酸とエチレングリコールと
をエステル化反応又はジメチルテレフタレートとエチレ
ングリコールとをエステル交換反応せしめ、次いで反応
生成物を重縮合せしめる方法で製造することができる。

【００１２】本発明において、層Ｃのポリエステルフイ
ルムは、単層の場合は実質的に不活性粒子を含有しない
ことが必要であり、また２層以上の積層フイルムの場合
は皮膜層Ａを形成する側の層に不活性粒子を含まないこ
とが必要である。

【００１３】ここで、粒子を実質的に含有しないとは、
フイルム表面に突起を形成するような外部添加粒子や内
部析出粒子は含有しないが、例えばポリエステルの重合
に必要な触媒によって生じることのある、滑剤作用を実
質的に奏さない極々少量の粒子は含有しても差支えない
ことを意味する。例えば表面突起を形成するような粒子
は除き、酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、帯電防
止剤等の他の添加剤を必要に応じて含有することができ
る。

【００１４】本発明において、皮膜層Ａを形成し、不活
性粒子をポリエステルフイルム表面に結合させる樹脂
（結合剤）としては、アルキッド樹脂、不飽和ポリエス
テル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル
樹脂、アクリル―ポリエステル樹脂等を例示することが
できる。これら樹脂は単一重合体でも共重合体でもよ
く、また混合体でもよい。

【００１５】前記アクリル樹脂は、例えばアクリル酸エ
ステル（アルコール残基としては、メチル基、エチル
基、ｎ―プロピル基、イソプロピル基、ｎ―ブチル基、
イソブチル基、ｔ―ブチル基、２―エチルヘキシル基、
シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェニル
エチル基等を例示できる）；メタクリル酸エステル（ア
ルコール残基は上記と同じ）；２―ヒドロキシエチルア
クリレート、２―ヒドロキシエチルメタクリレート、２
―ヒドロキシプロピルアクリレート、２―ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート等の如きヒドロキシ含有モノマ
ー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ―メチルメ
タクリルアミド、Ｎ―メチルアクリルアミド、Ｎ―メチ
ロールアクリルアミド、Ｎ―メチロールメタクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ―ジメチロールアクリルアミド、Ｎ―メトキ
シメチルアクリルアミド、Ｎ―メトキシメチルメタクリ
ルアミド、Ｎ―フェニルアクリルアミド等の如きアミド
基含有モノマー；Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエチルアクリ
レート、Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエチルメタクリレート
等の如きアミノ基含有モノマー；グリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエー
テル等の如きエポキシ基含有モノマー；スチレンスルホ
ン酸、ビニルスルホン酸、及びそれらの塩（例えばナト
リウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等の如きス
ルホン酸基又はその塩を含有するモノマー；クロトン
酸、イタコン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマール
酸、及びそれらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム
塩、アンモニウム塩等）等の如きカルボキシル基又はそ
の塩を含有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコ
ン酸等の無水物を含有するモノマー；その他ビニルイソ
シアネート、アリルイソシアネート、スチレン、ビニル
メチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリス
アルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、
アルキルフマール酸モノエステル、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、アルキルイタコン酸モノエステ
ル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化ビニル等の単量
体の組合せからつくられたものであるが、アクリル酸誘
導体、メタクリル酸誘導体の如き（メタ）アクリル単量
体の成分が５０モル％以上含まれているものが好まし
く、特にメタクリル酸メチルの成分を含有しているもの
が好ましい。

【００１６】かかるアクリル樹脂は分子内の官能基で自
己架橋することができるし、メラミン樹脂やエポキシ化
合物等の架橋剤を用いて架橋することもできる。

【００１７】また前記ポリエステル樹脂を構成する酸成
分としては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、フタ
ル酸、１，４―シクロヘキサンジカルボン酸、２，６―
ナフタレンジカルボン酸、４，４′―ジフェニルジカル
ボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン
酸、コハク酸、５―ナトリウムスルホイソフタル酸、２
―カリウムスルホテレフタル酸、トリメリット酸、トリ
メシン酸、無水トリメリット酸、無水フタル酸、ｐ―ヒ
ドロキシ安息香酸、トリメリット酸モノカリウム塩等の
多価カルボン酸を例示しうる。また、ヒドロキシ化合物
成分としては、例えばエチレングリコール、プロピレン
グリコール、１，３―プロパンジオール、１，４―ブタ
ンジオール、１，６―ヘキサンジオール、ネオペンチル
グリコール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ｐ
―キシリレングリコール、ビスフェノールＡのエチレン
オキシド付加物、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ポリエチレンオキシドグリコール、ポリテ
トラメチレンオキシドグリコール、ジメチロールプロピ
オン酸、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジメチ
ロールエチルスルホン酸ナトリウム、ジメチロールプロ
ピオン酸カリウム等の多価ヒドロキシ化合物を例示しう
る。これらの化合物から常法によってポリエステル樹脂
をつくることができる。水性塗液をつくる場合には、５
―ナトリウムスルホイソフタル酸成分又はカルボン酸塩
基を含有するポリエステル樹脂を用いるのが好ましい。
かかるポリエステル樹脂は分子内に官能基を有する自己
架橋型とすることができるし、メラミン樹脂、エポキシ
樹脂のような硬化剤を用いて架橋することもできる。

【００１８】更にまた、前記アクリル―ポリエステル樹
脂はアクリル変性ポリエステル樹脂とポリエステル変性
アクリル樹脂とを包含する意味で用いており、アクリル
樹脂成分とポリエステル樹脂成分とが互いに結合したも
のであって、例えばグラフトタイプ、ブロックタイプ等
を包含する。アクリル―ポリエステル樹脂は、例えばポ
リエステル樹脂の両端にラジカル開始剤を付加してアク
リル単量体の重合を行わせたり、ポリエステル樹脂の側
鎖にラジカル開始剤を付けてアクリル単量体の重合を行
わせたり、あるいはアクリル樹脂の側鎖に水酸基を付
け、末端にイソシアネート基やカルボキシル基を有する
ポリエステルと反応させてくし形ポリマーとする等によ
って製造することができる。

【００１９】本発明において皮膜層Ａに配合される不活
性粒子Ａの材質としては、ポリスチレン、ポリスチレン
―ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレート、メチ
ルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重
合架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデ
ンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナ
ミン樹脂等の如き有機質、シリカ、アルミナ、二酸化チ
タン、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウ
ム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸
バリウム等の如き無機質のいずれを用いてもよい。

【００２０】また内外部のそれぞれの性質が異なる物質
で構成される多層構造のコア―シェル型粒子を用いても
よい。

【００２１】前記不活性粒子Ａの平均粒径は１０〜１０
０ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍである。更に粒度分
布が均一であるものが好ましい。また不活性粒子Ａを核
とし、樹脂を結合剤とする突起Ａａの平均突起高さは１
５〜１００ｎｍ、好ましくは２０〜６０ｎｍである。こ
の平均粒径が１０ｎｍより小さい、あるいは突起高さが
１５ｎｍもより低いと、フイルムの滑り性が悪化し、ま
た磁気テープとした場合の走行耐久性が不足する。一
方、平均粒径が１００ｎｍより大きい、あるいは平均突
起高さが１００ｎｍより高いと、粒子の脱落が発生し、
耐削れ性が悪化する。また削り取られた粒子がフイルム
上に付着堆積して磁気テープとした場合にドロップアウ
トの増加を引き起こす。また、磁気ヘッドとのスペーシ
ングが大きくなり、高密度の磁気記録媒体として供する
ことが困難となる。

【００２２】皮膜層Ａでの突起Ａａの表面突起頻度は１
×１０⁶〜１×１０⁸個／ｍｍ²である。この表面突起
頻度が１×１０⁶個／ｍｍ²未満では磁気記録媒体とし
たときの走行耐久性が不足する。他方、１×１０⁸個／
ｍｍ²を超えると電磁変換特性に悪影響を及ぼす。好ま
しい表面突起頻度は２×１０⁶〜５×１０⁷個／ｍ
ｍ²、更に好ましくは３．０×１０⁶〜３．０×１０⁷
個／ｍｍ²である。

【００２３】また、皮膜層Ａは前記の樹脂（結合剤）の
みによる微小突起Ａｂを有し、その平均突起高さは２〜
１５ｎｍ、好ましくは２〜１０ｎｍであり、その頻度は
１×１０⁶〜１×１０⁸個／ｍｍ²、好ましくは５×１
０⁶〜１×１０⁸個／ｍｍ²である。また皮膜層Ａの該
樹脂のみによる連続薄膜部の微小表面粗さＲａ^Sは０．
４〜２．０ｎｍ、好ましくは０．５〜１．５ｎｍであ
る。微小突起Ａｂの平均突起高さが２ｎｍより小さい、
あるいはその頻度が１×１０⁶個／ｍｍ²を下まわる、
あるいは微小表面粗さＲａ^Sが０．４ｎｍを下まわる場
合には、フイルムをロール状に巻取った場合にブロッキ
ング現象が発生する。また微小突起Ａｂの平均突起高さ
が１５ｎｍより大きい、あるいはその頻度が３×１０⁸
個／ｍｍ²を超える、あるいは微小表面粗さＲａ^Sが
２．０ｎｍより大きい場合には、磁気記録媒体としたと
きの保磁力が低下し、電磁変換特性に悪影響を及ぼす。

【００２４】皮膜層Ａを形成した面のＲａ^Aは０．３〜
２ｎｍであり、好ましくは０．５〜１．５ｎｍである。
このＲａ^Aが０．３ｎｍを下まわる場合にはフイルムの
滑り性が悪化し、磁気テープとした場合の走行耐久性が
不足する。一方２ｎｍを超える場合には電磁変換特性が
悪化する。

【００２５】皮膜層Ａをポリエステルフイルム表面上に
形成させる方法としては、不活性粒子Ａａと薄膜形成樹
脂を、場合によっては更に不活性粒子Ａｃを、均一に分
散させた樹脂塗液、好ましくは水性エマルジョンないし
懸濁塗液をポリエステルフイルムの製造工程中にフイル
ム表面に塗布・乾燥固化する方法（インライン法）、ま
たは二軸配向したポリエステルフイルムに前記の塗液を
塗布・乾燥固化する方法（オフライン法）等を採用する
ことかできるが、前者のインライン法が好ましい。これ
らの塗液中に塗布を容易にさせるための界面活性剤を含
有させることは一向に差しつかえない。

【００２６】上記の方法において、不活性Ａａを核とす
る微小突起Ａａ、更には不活性粒子Ａｃによる大突起Ａ
ｃの形成と同時に薄膜形成樹脂のみによる微小突起も形
成する。フイルム表面に塗液を塗布した後の乾燥固化
は、該樹脂が連続薄膜を形成しかつ該樹脂の一部が微小
突起を形成する条件で行われる。その際、樹脂の熱特性
にもよるが、塗液中でのエマルジョンないし懸濁樹脂の
大きさや、乾燥の温度、時間等を適宜選択するのが望ま
しい。これらは後述する実施例から容易に理解できよ
う。さらに述べると、例えば塗液中での樹脂微粒子の大
きさは、光散乱法による粒径測定で２５〜１００ｎｍの
平均粒径を有することが好ましい。かかる平均粒径の樹
脂微粒子は通常のエマルジョンないし懸濁液の調製法で
得ることができ、また市場から入手することもできる。

【００２７】本発明においては、フイルムの巻取り性を
付与するために、層Ｃの皮膜層Ａを形成した他方の片面
に連続薄膜よりなる皮膜層Ｂを設けることが好ましい。

【００２８】皮膜層Ｂは不活性粒子Ｂを含有するが、こ
の不活性粒子Ｂとしては、ポリスチレン、ポリスチレン
―ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレート、メチ
ルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重
合架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデ
ンフルオライド、ポリアクリルニトリル、ベンゾクアナ
ミン樹脂等の如き有機質からなる粒子、シリカ、アルミ
ナ、二酸化チタン、カオリン、タルク、グラファイト、
炭酸カルシウム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブ
ラック、硫酸バリウム等の如き無機質からなる粒子のい
ずれを用いてもよい。またシェルコア型の粒子であって
もよい。

【００２９】前記皮膜層Ｂ中に含有させる不活性粒子Ｂ
の平均粒径は、１０〜２００ｎｍ、好ましくは２０〜１
００ｎｍである。皮膜層Ｂ中の不活性粒子Ｂの含有量は
３〜５０重量％、好ましくは５〜３０重量％である。粒
子Ｂの平均粒径が１０ｎｍ未満、あるいは含有量が３重
量％未満であると、フイルムの巻取り性、製膜工程での
搬送性等の点で満足できず、またブロッキングを起し易
くなる。一方、平均粒径が２００ｎｍを超える場合には
粒子が塗膜から脱落しやすくなる。また皮膜層Ｂ中の不
活性粒子Ｂの含有量が５０重量％を超える場合には皮膜
層Ｂ自体の強度が低下して削れ易くなる。

【００３０】前記不活性粒子Ｂを含有して皮膜層を形成
する樹脂としては、皮膜層Ａで例示した樹脂と同じ樹脂
を例示することができる。また、これらに更にセルロー
ス系樹脂を含有させてもよい。

【００３１】前記皮膜層Ｂには、本発明の効果を損われ
ない範囲であれば、所望により他の成分、例えば界面活
性剤、安定剤、分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を添加す
ることができる。

【００３２】また、皮膜層Ｂを形成した面のＲａ^Bは１
〜３０ｎｍ、好ましくは２〜２０ｎｍである。Ｒａ^Bが
１ｎｍ未満の場合にはフイルムの巻取り性、製膜工程で
の搬送性が不足したり、ブロッキングを起こし易くな
る。一方Ｒａ^Bが３０ｎｍを超える場合には皮膜層Ｂが
削れ易くなる問題がある。

【００３３】本発明の層Ｃは、従来から知られている方
法で製造することができる。

【００３４】例えば、二軸配向ポリエステルフイルムで
説明すると、芯層が単層の場合、まずポリエステルを口
金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフイルム
状に押出した後、４０〜９０℃で急冷固化し未延伸フイ
ルムを得る。しかる後に、該未延伸フイルムを常法に従
って一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１０）〜
（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：ポリエステルの
ガラス転移温度）において２．５〜８．０倍の倍率、好
ましくは３．０〜７．５倍の倍率、で延伸し、次いで皮
膜層Ａ、Ｂを形成する塗液をフイルム両面にそれぞれ塗
布し、その後に前記方向とは直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋
７０）℃の温度において２．５〜８．０倍の倍率、好ま
しくは３．０〜７．５倍の倍率、で延伸する。更に必要
に応じて縦方向及び／又は横方向に再度延伸してもよ
い。即ち、２段、３段、４段、或いは更に多段の延伸を
行うとよい。全延伸倍率は、面積延伸倍率として通常９
倍以上、好ましくは１２〜３５倍、更に好ましくは１５
〜３２倍である。更に引き続いて、二軸配向フイルムを
（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば１８
０〜２５０℃で熱固定結晶化することによって優れた寸
法安定性が付与される。なお、熱固定時間は１〜６０秒
間が好ましい。

【００３５】共押出法の場合、２種のポリエステルを押
出口金内又は口金以前（一般に前者はマルチマニホール
ド方式、後者はフィードブロック方式と呼ぶ）で溶融状
態にて積層複合し、好適な厚み比となして共押出をして
２層積層の未延伸フイルムとし、その後は前記単層法と
同様に行う。

【００３６】なお、ポリエステルフイルムの製造に際
し、ポリエステルに所望により添加剤例えば安定剤、着
色剤、溶融ポリマーの固有抵抗調整剤（制電剤）等を添
加含有させることができる。

【００３７】本発明の磁気記録媒体用ポリエステルフイ
ルムは、皮膜層Ａの表面に、真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバル
ト、クロム又はこれらを主成分とする合金もしくは酸化
物より成る強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面
に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカー
ボン（ＤＬＣ）等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑
層を順次設け、更に皮膜層Ｂの表面に公知のバックコー
ト層を設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／
Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、
エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体
とすることが出来る。この蒸着型電磁記録媒体は、アナ
ログ信号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタ
ルビデオカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミ
リ、ＤＤＳIV用テープ媒体として用いることができ、極
めて有用である。

【００３８】本発明の磁気記録媒体用ポリエステルフイ
ルムは、また、皮膜層Ａの表面に、鉄又は鉄を主成分と
する針状微細磁性粉をポリ塩化ビニール、塩化ビニール
・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一分散し、
磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍと
なるように塗布し、更に皮膜層Ｂの表面に公知の方法で
バックコート層を設けることにより、特に短波長領域で
の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロ
ップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル
塗布型磁気記録媒体とすることが出来る。また、必要に
応じて皮膜層Ａの上に、メタル粉含有磁性層の下地層と
して微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性
層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもで
きる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号
記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ―ＶＨ
Ｓ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットコ
ーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV、ディジタ
ルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用テープ媒体として極め
て有用である。

【００３９】本発明の磁気記録媒体用ポリエステルフイ
ルムは、また、皮膜層Ａの表面に、酸化鉄又は酸化クロ
ム等の針状微細磁性粉、又はバリウムフェライト等の板
状微細磁性粉をポリ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸
ビニール共重合体等のバインダーに均一分散せしめ、磁
性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとな
るように塗布せしめ、更に皮膜層Ｂの上に公知の方法で
バックコート層を設けることにより、特に短波長領域で
の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロ
ップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用塗布型
磁気記録媒体とすることが出来る。また、必要に応じて
皮膜層Ａの上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として
微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と
同様の有機バインダー中に分散、塗設することも出来
る。この酸化物塗布型磁気記録媒体は、ディジタル信号
記録用データストリーマー用ＱＩＣ等の高密度酸化物塗
布型磁気記録媒体として有用である。

【００４０】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。尚、例中の「部」は重量部である。また本発明
において用いた測定法は次の通りである。

【００４１】（１）粒子の平均粒径（平均粒径：０．０
６μｍ以上）島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフューグルパーテ
ィクルサイズアナライザー（Centrifugal Particle
Size Analyzer）を用いて測定する。得られる遠心沈降
曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算
曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球
直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（「粒
度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、２４２頁
〜２４７頁参照）。

【００４２】（２）超微細粒子の平均粒径（平均粒径：
０．０６μｍ未満）小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、
光散乱法を用いて測定する。即ち、ニコム・インスツル
メンツ・インコーポレイテッド（ＮｉｃｏｍｐＩｎｓｔ
ｒｕｍｅｎｔｓＩｎｃ．）社製のＮＩＣＯＭＰＭＯ
ＤＥＬ２７０ＳＵＢＭＩＣＲＯＮＰＡＲＴＩＣＬ
ＥＳＩＺＥＲにより求められる全粒子の５０重量％
の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。

【００４３】（３）層厚フイルムの全厚はマイクロメーターにてランダムに１０
点測定し、その平均値を用いる。層厚は、薄い側の層厚
を以下に述べる方法にて測定し、また厚い側の層厚は全
厚より薄い側の層厚に引き算して求める。即ち、二次イ
オン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ
５０００ｎｍの範囲のフイルム中の粒子の内最も高濃度
の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度
比（Ｍ⁺／Ｃ⁺）を粒子濃度とし、表面から深さ５００
０ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では当然粒子濃
度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くな
る。本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値１になった
後、上昇或いは減少して安定値２になる場合と、単調に
減少する場合とがある。この分布曲線をもとに、前者の
場合は（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える
深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安定値１の
１／２になる深さ（この深さは安定値１を与える深さよ
りも深い）をもって、当該層の層厚とする。

【００４４】二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）：Ｐ
ＥＲＫＩＮＥＬＭＥＲ社製６３００の測定条件は下
記の通りである。一次イオン種：Ｏ２＋一次イオン加速電圧：１２ＫＶ一次イオン電流：２００ｍＡラスター領域：４００μｍ□ 分析領域：ゲート３０％測定真空度：６．０×１０^-9ＴｏｒｒＥ―ＧＵＮＮ：０．５ＫＶ―３．０Ａ尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多く含有する粒
子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合はＳＩ
ＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしなが
らＦＴ―ＩＲ（フーリエトランスフォーム赤外分光
法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線高電子分光法）等で
上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求める。

【００４５】以上は共押出層の場合に有効な測定法であ
って、塗布層の場合はフイルムの小片をエポキシ樹脂に
て固定成形し、ミクロトームにて約６０ｎｍの厚みの超
薄切片（フイルムの流れ方向に平行に切断する）を作成
し、この試料を透過型電子顕微鏡（日立製作所製Ｈ―８
００型）にて観察し、層の境界面より層厚みを求める。

【００４６】（４）フイルムの表面粗さ（中心線平均粗
さ：Ｒａ）中心線平均粗さ（Ｒａ）はＪＩＳ―Ｂ６０１に準じて測
定する。本発明では（株）小坂研究所の触針式表面粗さ
計（SURFCORDER SE,30C ）を用い、次の条件で測定して
求める。（ａ）触針先端半径：２μｍ（ｂ）測定圧力：３０ｍｇ（ｃ）カットオフ：０．０８ｍｍ（ｄ）測定長：８．０ｍｍ（ｅ）データーのまとめ方：同一試料について６回繰返
し測定し、最も大きい値を１つ除き、残り５つのデータ
を用いて平均値として中心線平均粗さ（Ｒａ）を求め
る。

【００４７】（５）突起Ａａ、Ａｂの頻度 Digital Instruments 社製の原子間力顕微鏡 Nano Scop
eIII、ＡＦＭのＪスキャナーを使用し、以下の条件で２
μｍ×２μｍの範囲を１０ケ所測定し、ＡＦＭ像より各
々の突起の数をカウントし、その平均値を面積換算によ
り個／ｍｍ²当たりの突起個数として算出する。走査モード；タッピングモード面素数；２５６×２５６データポイントスキャン速度；２．０Ｈｚ測定環境；室温、大気中

【００４８】（６）突起Ａａ、Ａｂの平均高さ前述のＡＦＭ像から各々の突起をランダムに１００個選
定し、突起１個ずつの高さを測定し、その平均値をもっ
て突起の平均高さとする。

【００４９】（７）微小表面粗さＲａ^S 前述の２μｍ×２μｍのＡＦＭ像から不活性粒子を核と
する突起Ａａのない部分を選定してフイルム表面粗さ曲
線からその中心線の方向に測定長さＬの部分を抜き取
り、この抜き取り部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向を
Ｙ軸として、粗さ曲線をＹ＝ｆ（ｘ）で表わしたとき、
次の式で与えられた値をｎｍ単位で表わす。

【００５０】

【数１】

【００５１】実際にはこの測定は１枚のＡＦＭ像につ
き、０．４〜１．２μｍの長さについて５ケ所の測定を
実施し、１０枚のＡＦＭ像の合計５０ケ所の平均値をも
って微小表面粗さＲａ^Sとする。

【００５２】（８）耐削れ性フイルムを２５〜３０ｃｍ長さ、幅１／２インチにサン
プリングし、レザー刃を皮膜層Ｂの面に対し９０°の角
度、深さ０．５ｍｍの条件であてがい、荷重５００ｇ／
０．５インチ、速度６．７ｃｍ／ｓｅｃで走行させたと
きに、レザー刃に付着した削れ粉の深さ方向の幅を顕微
鏡写真撮影（×１６０倍）して求めた。削れ粉の深さ方
向の幅が３μｍ未満を（○）、３〜５μｍを（△）、５
μｍ超を（×）とする。削れ粉の深さ方向の幅が小さい
ほど削れ性に優れている。

【００５３】（９）ブロッキング２枚のフイルムの皮膜層Ａ形成面と皮膜層Ｂ形成面を重
ね合わせ、これに１５０ｋｇ／ｃｍ²の圧力を６０℃に
おいて８０％ＲＨの雰囲気下６５時間かけた後剥離し、
その剥離力で評価する（５ｃｍ当たりのｇ数）。なお、
評価は剥離力から下記の基準で行う。 ○：０〜１０ｇ／ｃｍ未満 △：１０ｇ／ｃｍ以下〜１５ｇ／ｃｍ未満 ×：１５ｇ／ｃｍ以上〜破れ

【００５４】（１０）巻取り性スリット時の巻取り条件を最適化後、幅５６０ｍｍ×長
さ９０００ｍのサイズで、１０ロールのスリットを行
い、１週間放置後の、フイルムシワの発生のないロール
本を良品として、以下の基準にて巻取り性の評価をす
る。良品ロール本数判定基準８本以上 ○ ３〜７本 △ ２本以下 ×

【００５５】（１１）磁気テープの製造及び特性評価積層フイルムの皮膜層Ａの表面に、真空蒸着法により、
コバルト１００％の強磁性薄膜を０．０２μｍの厚みに
なるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成し、その表
面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、更に含
フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に層Ｃ又は皮
膜層Ｂの表面に公知方法でバックコート層を設ける。そ
の後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍビデオカセ
ットにローディングする。次いで、以下の市販の機器を
用いてテープの特性を測定する。

【００５６】保磁力Ｈｃの測定ＪＩＳＣ−２５６１に示される方法により、ヒステリ
シスループを測定し、保磁力Ｈｃを求める。測定には試
料振動式磁力計（理研電子（株）製ＢＨＶ−３０）を使
用する。 ○；１３００Ｏｅ超 △；１０００〜１３００Ｏｅ ×；１０００Ｏｅ未満

【００５７】Ｃ／Ｎ測定記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／ＮをＯｄＢとし、相対値で表す。使用機器：８ｍｍビデオテープレコーダー：ソニー（株）製ＥＤＶ
―６０００Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター ○ ；２ｄＢ超 × ；−２〜２ｄＢ × ；−２ｄＢ未満

【００５８】ドロップアウト（Ｄ／Ｏ）測定ドロップアウトカウンターを用いて、１５μｓ／１８ｄ
Ｂにて１分間当たりの個数を測定する。 ○ ：０〜２０（個／分）未満 △ ：２０〜４０（個／分） × ：４０（個／分）超

【００５９】走行耐久性４０℃、８０％ＲＨで、テープ、走行速度８５ｃｍ／分
で記録再生を５００回繰り返した後のＣ／Ｎを測定し、
初期値からのずれを次の基準で判定する。 ○ ：初期値に対して＋０．０ｄＢ超 △ ：初期値に対して−１．０ｄＢ〜＋０．０ｄＢ × ：初期値に対して−１．０ｄＢ未満

【００６０】［実施例１］ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マ
ンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤
として亜燐酸を、添加して常法により重合し、実質的に
不活性粒子を含有しないポリエチレンテフタレート（Ｐ
ＥＴ）を得た。

【００６１】このポリエチレンテレフタレートを１７０
℃で３時間乾燥後、押出機に供給し、溶融温度２８０〜
３００℃にて溶融して、ダイよりシート状に押出し、急
冷して厚さ８２μｍの未延伸フイルムを得た。

【００６２】得られた未延伸フイルムを予熱し、更に低
速・高速のロール間でフイルム温度９５℃にて縦方向に
３．２倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フイルムの一
方の面に表１、２の皮膜層Ａの樹脂および粒子Ａを含む
水分散性塗液を、他の面に皮膜層Ｂの樹脂および粒子Ｂ
を含む水分散性塗液を各々０．００５μｍ、０．０２０
μｍ（延伸乾燥後）の厚みになるよう塗布し、続いてス
テンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．１倍に延
伸した。得られた二軸延伸フイルムを２２０℃の熱風で
４秒間熱固定し、厚み６．０μｍの磁気記録媒体用ポリ
エステルフイルムを得た。

【００６３】［比較例１及び３］皮膜層Ａと皮膜層Ｂの
樹脂及び粒子、芯層Ｃの厚みを表１、２のように変更す
る以外は実施例１と同様の方法で磁気記録媒体用ポリエ
ステルフイルムを得た。

【００６４】［実施例２、比較例４］表１、２に示す芯
層Ｃの第一層、第二層用のポリエチレンテレフタレート
をそれぞれ２台の押し出し機に供給して、マルチマニホ
ールド型共押し出しダイを用いて積層し、皮膜層Ａと皮
膜層Ｂの樹脂及び粒子を表１、２のように変更する以外
は実施例１と同様の方法で磁気記録媒体用ポリエステル
フイルムを得た。

【００６５】［実施例３及び４、比較例２及び５］表
１、２に示す粒子を用い、かつジメチルテレフタレート
の代わりに２，６―ナフタレンジカルボン酸ジメチルを
同モル量使用した以外は実施例１と同様の方法でポリエ
チレン―２，６―ナフタレート（ＰＥＮ）を得た。

【００６６】このポリエチレン―２，６―ナフタレート
を１７０℃で６時間乾燥後、実施例１と同様にして、各
実施例、比較例を満たす未延伸フイルムを得た。

【００６７】得られた未延伸フイルムを予熱し、更に低
速・高速のロール間でフイルム温度１３５℃にて縦方向
に３．５倍延伸し、急冷し、次いで表１、２に示す皮膜
層Ａ及び皮膜層Ｂの水性塗液を実施例１と同様に塗布
し、続いてステンターに供給し、１５５℃にて横方向に
５．６倍に延伸した。得られた二軸延伸フイルムを２０
０℃の熱風で４秒間熱固定し、積層記録媒体用ポリエス
テルフイルムを得た。

【００６８】

【表１】

【００６９】

【表２】

【００７０】表２から明らかなように、本発明による磁
気記録媒体用ポリエステルフイルムは製膜工程での耐削
れ性、巻取り性、耐ブロッキング性に優れ、磁気記録媒
体として用いられる場合に電磁変換特性、ドロップアウ
ト特性、走行耐久性に極めて優れる。これに対し、本発
明の要件を満たさないものはこれらの特性を同時に満足
することはできない。

【００７１】［発明の利用性］本発明の磁気記録媒体用
ポリエステルフイルムは全厚みが２．５〜２０μｍ程度
であり、磁気記録媒体のベースに好適に用いられる。そ
して磁気記録媒体としては金属薄膜型のものに有用であ
る。また本発明のポリエステルフイルムは磁性層の厚み
が１μｍ以下の塗布型磁気記録媒体にも供し得る他に、
デジタル信号記録型磁気記録媒体にも使うことができ
る。

【００７２】

【発明の効果】本発明によれば、製膜工程での耐削れ
性、巻取り性、耐ブロッキング性に優れ、しかも電磁変
換特性、ドロップアウト特性、走行耐久性に優れた磁気
記録媒体のベースフイルムとして有用なポリエステルフ
イルムを提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＧ１１Ｂ 5/704 Ｇ１１Ｂ 5/704 // Ｂ２９Ｋ 67:00 105:16 Ｂ２９Ｌ 7:00 9:00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】単層又は２層以上からなるポリエステル
フイルム（層Ｃ）の片面に皮膜層Ａが形成されていて、
該皮膜層Ａは平均粒径１０〜１００ｎｍの不活性粒子を
該とし樹脂を結合剤とする、平均突起高さが１５〜１０
０ｎｍの突起Ａａを１×１０⁶〜１×１０⁸個／ｍｍ²
の頻度で有し、かつ該樹脂のみによる平均突起高さ２〜
１５ｎｍの微小突起Ａｂを１×１０⁶〜３×１０⁸個／
ｍｍ²の頻度で有する連続薄膜よりなる皮膜であり、該
皮膜層Ａでの樹脂のみによる連続薄膜部の微小表面粗さ
Ｒａ^Sが０．４〜２．０ｎｍであり、かつ該皮膜層Ａを
形成した面の表面粗さＲａ^Aが０．３〜２ｎｍであり、
そして該層Ｃは単層の場合は実質的に不活性粒子を含ま
ず、また２層以上の場合は皮膜層Ａを形成する側の層に
不活性粒子を含まないことを特徴とする磁気記録媒体用
ポリエステルフイルム。
【請求項２】皮膜層Ａを形成する樹脂がアクリル樹
脂、ポリエステル樹脂及びアクリル―ポリエステル樹脂
からなる群より選ばれる少なくとも一種の樹脂である請
求項１に記載の磁気記録媒体用ポリエステルフイルム。
【請求項３】層Ｃの他の片面に連続薄膜よりなる皮膜
層Ｂが形成されていて、該皮膜層Ｂは平均粒径１０〜２
００ｎｍの不活性粒子を３〜５０重量％含有し、表面の
表面粗さＲａ^Bが１〜３０ｎｍである請求項１又は２に
記載の磁気記録媒体用ポリエステルフイルム。
【請求項４】請求項１、２又は３記載のポリエステル
フイルムの皮膜層Ａの上に磁気記録層を設けてなる磁気
記録媒体。