JP4746163B2 - 積層フィルム - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は積層フィルムに関し、更に詳しくは耐コロナブロッキング性走行耐久性、電磁変換特性に優れかつドロップアウトの極めて少ない蒸着金属薄膜型磁気記録媒体のベースフィルムとして有用な積層フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気記録媒体の高密度化の進歩はめざましく、例えば、強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリング等の物理沈着法又はメッキ法により非磁性支持体上に形成せしめた金属薄膜型磁気記録媒体、またメタル粉や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を２μｍ以下に塗布した薄層塗膜型磁気記録媒体の開発実用化が進められている。前者の例としては、特開昭５４―１４７０１０号公報には、非磁性材よりなる基材上に付着された第１のＣｏ薄膜磁性層上に、非磁性材層を介して前記第１のＣｏ薄膜磁性層の厚みより大なる厚みの第２のＣｏ薄膜磁性層を形成した磁気記録媒体が開示されており、また特開昭５２―１３４７０６号公報にはＣｏ―Ｃｒ合金からなる垂直磁気記録媒体が開示されている。
【０００３】
また、後者の例として、電子通信学会技術報告ＭＲ９４―７８（１９９５―０２）には極薄層塗布型磁気記録媒体による高密度磁気記録が開示されている。
【０００４】
従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布してなる磁気記録媒体）は記録密度が低く、記録波長も長い為に、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚いのに対して、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティング等の薄膜形成手段によって形成される強磁性金属薄膜は厚みが０．２μｍ以下と非常に薄く、また極薄層塗布型の場合も、非磁性下地層を設けるものの０．１３μｍの厚みのものが提供され非常に薄くなっている。この為、上記の高密度磁気記録媒体においては、非磁性支持体（ベースフィルム）の表面状態が磁性層の表面性に大きな影響を及ぼし、特に金属薄膜型の磁気記録媒体の場合には、非磁性支持体の表面状態がそのまま磁性層（磁気記録層）表面の凹凸として発現してしまう。
【０００５】
さらに金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、実際に使用される時の重大な問題点として、金属薄膜面の走行性がある。磁性体粉末を有機高分子バンダー中に混入させてベースフィルムに塗布してなる塗布型磁気記録媒体の場合には、該バインダー中に潤滑剤を分散させて磁性層面の走行性を向上させることが出来るが、金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、この様な対策をとることができず、走行性を安定して保つのは非常に難しく、特に高温高湿条件下の走行性が劣るなどの欠点を有している。さらにこの場合には、繰り返し使用時の出力低下が塗布型磁気記録媒体と比べて大きいという欠点も存在する。
【０００６】
そして、金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、金属薄膜とベースフィルムとの密着性を良好にする為、金属薄膜成形前にイオンボンバート処理とよばれるベースフィルム表面をイオンにより活性化する処理が施される。この金属薄膜成形時にはフィルム表面に高温の熱がかかり、ベースフィルムが溶けていたりあるいは、機械特性等の物性の低下をまねかぬ様に背面冷却を実施している。背面冷却の方法としては、ドラム状冷却体にベースフィルムを巻付けて実施する場合が多く、この際ドラム表面に金属薄膜が成形されない様にベースフィルム両端をマスキングしている。
【０００７】
従って、イオンバード処理のみされ、金属薄膜が形成されない部分が、フィルム長手方向の同一部分に連続的に発生し、しかもロールの両エッジ部となっている。ベースフィルムの表面が超平坦がゆえにこの部分が巻取られることにより、活性化されたベース表面ともう反対側のベース表面が接触し、ブロッキングをおこしやすくなり、工程トラブルになる。
【０００８】
一方、非磁性支持体（ベースフィルム）の製膜、加工工程での搬送・傷付き、巻取り、巻出しといったハンドリングの観点からは、フィルム表面が平滑過ぎると、フィルム―フィルム相互の滑り性が悪化し、ここでもブロッキング現象が発生し、ロールに巻いたときの形状（ロールフォーメーション）が悪化し、製品歩留りの低下、ひいては製品の製造コストの上昇を来す。従って、製造コストという観点では非磁性支持体（ベースフィルム）の表面は出来るだけ粗いことが望ましい。
【０００９】
このように、非磁性支持体の表面は、電磁変換特性の観点からは平滑であることが要求され、耐ブロッキング性、ハンドリング性、フィルムコストの観点からは粗いことが要求される。特に耐ブロッキング性改良にはフィルムの接触面積を下げる為にも表面を粗いことが要求されていた。そこで、優れた品質の高密度磁気記録媒体を製造するには、上記二律背反する性質を同時に満足させることが必要とされる。
【００１０】
特開平５―１９４７７２号公報には、ポリエステルフィルムの一つの表面に連続薄膜よりなる、磁性層のためのプライマー層が塗設してあり、該プライマー層の連続薄膜の表面は（Ａ）平均粒径０．０６μｍ未満の粒子を核とする高さ１３ｎｍ以下の小突起と（Ｂ）平均粒径０．０６μｍ以上の粒子を核とする高さ３０ｎｍ以下の大突起と（Ｃ）プライマー層を形成する樹脂のみによる微小突起とを有し、これら突起の数が下記式
ＡN≧１．０×１０6（個／ｍｍ2）
ＢN≧１．０５×１０4（個／ｍｍ2）
ＡN≦−３．４×１０2・ＢN＋１３．６×１０6（個／ｍｍ2）
ＣN≦４．０×１０6（個／ｍｍ2）
［ただし、ＡNは小突起の数（個／ｍｍ2）、ＢNは大突起の数（個／ｍｍ2 ）、ＣNは微小突起の数（個／ｍｍ2）である。］
を満足し、そしてプライマー層を形成する樹脂のみによる連続薄膜部の微小表面粗さＲａSが１．１０ｎｍ以下であり、かつ前記連続薄膜の表面粗さＲａが１〜１０ｎｍである、磁気記録媒体用ポリエステルフィルムが開示されている。
【００１１】
特開平５―２９８６７０号公報には、ポリエステルフィルムの一つの表面に連続薄膜よりなる、磁性層のためのプライマー層が塗設してあり、該プライマー層の連続薄膜の表面には（Ａ）平均粒径０．０６μｍ未満の粒子を核とする高さ１３ｎｍ以下の小突起と（Ｂ）平均粒径０．０６μｍ以上の粒子を核とする高さが３０ｎｍ以下の大突起と（Ｃ）プライマー層を形成する樹脂のみによる最大長径が０．３０μｍ以下の微小突起とが形成されており、これら突起の数が下記式
ＡN≧１．０×１０6（個／ｍｍ2）
ＢN≧１．０５×１０4（個／ｍｍ2）
ＡN≦−３．４×１０2・ＢN＋１３．６×１０6（個／ｍｍ2）
ＣN≦４．０×１０6（個／ｍｍ2）
［ただし、ＡNは小突起の数（個／ｍｍ2）、ＢNは大突起の数（個／ｍｍ2 ）、ＣNは微小突起の数（個／ｍｍ2）である。］
を満足し、前記プライマー層を形成する樹脂のみによる連続薄膜部の微小表面粗さＲａSが１．１０ｎｍ以下であり、さらに前記連続薄膜の表面粗さＲａが１〜１０ｎｍであり、そして前記連続薄膜はフィルムを１６０℃で５分間空気中で連続加熱したときにフィルム表面上のポリエステルオリゴマー微結晶の析出率を０．８％以下に抑制できる、磁気記録媒体用ポリエステルフィルムが開示されている。
【００１２】
上記の如きポリエステルフィルムによれば、磁性層面側のベースフィルムの平滑化はある程度は実現できるものの、塗膜層に由来する凝集粗大突起の存在により、ドロップアウトを引起こすという問題を解決することができなかった。また、上記の方策では、走行耐久性向上の為に、磁性層面側のベースフィルム中に粒子を添加しているが、粒子の分散性が悪いために粗大突起が多く、これがドロップアウトの原因となったり、磁気ヘッドの偏摩耗を引き起こして出力が低下するなどの問題があった。さらには、これらの処理でも、イオンボンバード処理により活性化されたロールエッジ部のブロッキングは発生する問題は、解消することができなかった。
【００１３】
【発明の解決しようとする課題】
本発明の目的は、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体用ベースフィルムとして有用な積層フィルムを提供することにある。
【００１４】
本発明の他の目的は、塗膜層形成塗液に由来する、ドロップアウト因となる粗大突起を大幅に低減して、走行耐久性、電磁変換特性に優れ、ドロップアウトが極めて少なくかつ耐ブロッキング性良好なる磁気記録媒体を与えるための積層フィルムを提供することにある。
【００１５】
本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は熱可塑性樹脂Ａからなるベース層Ａおよびベース層Ａの一方の表面上に存在する塗膜層Ｂからなる積層フィルムであって、熱可塑性樹脂Ａは芳香族ポリエステルであり、該塗膜層Ｂは、バインダー樹脂、不活性微粒子および界面活性剤を含有してなり更にシリコーン又はワックスのいづれかを１〜５０重量％含む、バインダー樹脂である水溶性樹脂又は水分散性樹脂を主体とする塗膜であるか、もしくはバインダー樹脂、不活性微粒子および界面活性剤を含有し、更にポリシロキサン共重合ポリエステル樹脂を５〜９０重量％含む水溶性樹脂又は水分散性樹脂を主体とする塗膜よりなり、塗膜層Ｂ中の不活性微粒子は平均粒径が１０〜５０ｎｍの範囲にあり、その含有量は塗膜層Ｂの固形分に基づいて０．５〜３０重量％で含有されること、塗膜層Ｂのバインダー樹脂がアクリル変性ポリエステル樹脂であること、コロナ処理ブロッキングはくり力が１５ｇ／１０ｃｍ以下であることを特徴とする蒸着金属薄膜型磁気記録媒体用積層フィルムによって達成される。
【００１６】
コロナ処理ブロッキングはくり力が１５ｇ／１０ｃｍより高いとフィルムを使用する工程にてブロッキングによる切断が発生する。このコロナ処理ブロッキングはくり力が好ましくは１０ｇ／１０ｃｍ以下である。
【００１７】
ベース層Ａを形成する熱可塑性樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等を例示することができる。これらのうちポリステル系樹脂、さらには芳香族ポリエステルが好ましい。
【００１８】
この芳香族ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ―１，４―シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート等を好ましくは例示することができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートが好ましい。
【００１９】
これらポリエステルは、ホモポリエステルであっても、コポリエステルであっても良い。コポリエステルの場合、例えばポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの共重合成分としては、例えばジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ｐ―キシレングリコール等の他のジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸（但し、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの場合）、２，６―ナフタレンジカルボン酸（但し、ポリエチレンテレフタレートの場合）、５―ナトリウムスルホイソフタル酸等の他のジカルボン酸成分、ｐ―オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸成分等が挙げられる。これら共重合成分の量は２０モル％以下、更には１０モル％以下とするのが好ましい。さらに、トリメリット酸、ピロメリット酸等の３官能以上の多官能化合物を共重合させることもできる。この場合ポリマーが実質的に線状である量、例えば２モル％以下共重合させるのがよい。ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート以外の他のポリエステルの場合の共重合成分についても上記同様に考えられることは理解されるであろう。上記ポリエステルは、それ自体公知であり、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。
【００２０】
ベース層Ａを形成する熱可塑性樹脂Ａは、不活性微粒子を含有していても、実質的に含有しなくてもよい。不活性微粒子を含有する場合、不活性微粒子は好ましくは平均粒径が３０〜４００ｎｍでありそして体積形状係数が０．１〜π／６である不活性微粒子Ａである。平均粒径はより好ましくは４０〜２００ｎｍ、特に好ましくは６０〜１２０ｎｍである。また、体積形状係数は、より好ましくは０．４〜π／６である。
【００２１】
さらに、ベース層Ａに接触していない側の塗膜層Ｂの表面上には、熱可塑性樹脂Ａに含有される不活性微粒子Ａに基因して、０．５万〜１０万個／ｍｍ2の密度で突起が生成される割合で、熱可塑性樹脂Ａが不活性微粒子Ａを含有するのが好ましい。突起密度はより好ましくは０．７５万〜６万個／ｍｍ2であり、さらに好ましくは１万〜３万個／ｍｍ2である。
【００２２】
この平均粒径が３０ｎｍ未満の場合や、突起頻度が０．５万個／ｍｍ2未満の場合には満足な走行耐久性が得られず、一方平均粒径が４００ｎｍを超える場合や突起頻度が１０万個／ｍｍ2を超える場合には電磁変換特性が劣るので、好ましくない。
【００２３】
また、粒子の体積形状係数（ｆ）は下記式
ｆ＝Ｖ／Ｒ3
［ここで、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μｍ3）、Ｒは粒子の平均粒径（μｍ）である。］
で定義される。この係数（ｆ）がπ／６の形状は球（真球）である。そしてこの係数（ｆ）が０．４〜π／６の形状は実質的に球（真球）、ラグビーボールのような楕円球を含むものである。体積形状係数（ｆ）が０．１未満の粒子、例えば薄片状粒子では十分な走行耐久性を得るのが難しい。
【００２４】
本発明の積層フィルムは、ベース層Ａの一方の表面上に、バインダー樹脂、不活性微粒子および界面活性剤を含有してなる塗膜層Ｂが存在する。このバインダー樹脂としては、例えば水性ポリエステル樹脂、水性アクリル樹脂、水性ポリウレタン樹脂等が好ましく挙げられ、特に水性ポリエステル樹脂が好ましい。この水性ポリエステル樹脂としては、例えば酸成分がイソフタル酸、フタル酸、１，４―シクロヘキサンジカルボン酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５―Ｎａスルホイソフタル酸、２―Ｋスルホテレフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、トリメリット酸モノカリウム塩、ｐ―ヒドロキシ安息香酸等の多価カルボン酸の１種以上よりなり、グリコール成分が例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４―ブタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ｐ―キシリレングリコール、ジメチロールプロパン酸、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物等の多価ヒドロキシ化合物の１種以上より主としてなるポリエステル樹脂が好ましく用いられる。またポリエステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフトポリマー又はブロックコポリマー、あるいは２種のポリマーがミクロな分子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ、コアシェル）を形成したアクリル変性ポリエステル樹脂も同様に用いられる。この水性ポリエステル樹脂としては、水に溶解、乳化、微分散するタイプを自由に用いることができるが、水に乳化、微分散するタイプのものが好ましい。またこれらは親水性を付与するため分子内に例えばスルホン酸塩基、カルボン酸塩基、ポリエーテル単位等が導入されていてもよい。
【００２５】
さらに好ましくは耐コロナ処理ブロッキングを良好にする為、ＪＩＳ―Ｋ７２０６で測定した軟化点（バインダー樹脂を乾固させたもので測定）が５０℃以上であることが好ましく、但し塗布層Ｂの樹脂のＴｇが高すぎると、コーティング条件等により層Ｂの表面が粗れて電磁変換特性が劣る場合がある。
【００２６】
従って、Ｔｇが高いバインダーを使用する場合はコーティング条件を工夫して表面を粗さない様にすることが必要である。この場合の粗さとはＡＦＭ（走査型原子間力顕微鏡）にて１０μｍで測定した時の２乗平均粗さをいい、好ましくは２．０μｍ以下で、さらに好ましくは１．８ｎｍ以下で、さらに好ましくは１．５ｎｍ以下である。
【００２７】
前記不活性微粒子の種類は特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のものが好ましい。例えば、耐熱性ポリマー（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリエステル等）からなる粒子、二酸化ケイ素（シリカ）、炭酸カルシウム等が好ましく挙げられる。これらの中でも、特に好ましくは、架橋シリコーン樹脂粒子、シリカ、コアシェル型有機粒子（例えば、コア：架橋ポリスチレン、シェル：ポリメチルメタクリレートの粒子など）が挙げられる。これらの不活性微粒子は平均粒径が１０〜５０ｎｍの範囲にあるのが好ましい。平均粒径はより好ましくは１５〜４５ｎｍであり、さらに好ましくは１８〜４０ｎｍである。これらの不活性微粒子は塗膜層Ｂの固形分に基づいて、好ましくは０．５〜３０重量％、より好ましくは２〜２０重量％で含有される。
【００２８】
塗膜層Ｂのベース層Ａと接触していない表面上には、塗膜層Ｂ中に含有される不活性微粒子に基因する突起が好ましくは１〜４０個／μｍ2、より好ましくは２〜２０個／μｍ2、特に好ましくは２．５〜１８個／μｍ2、就中３〜１５個／μｍ2で存在する。また、塗膜層Ｂのベース層Ａと接触していない表面上に、非接触三次元粗さ計により求めた表面粗さプロファイルから算出した高さ４ｎｍ以上の粗大突起を、好ましくは最大でも２００個／ｍｍ2以下、より好ましくは最大でも１００個／ｍｍ2以下で有する。上記突起の存在により、優れた走行耐久性が発現する。
【００２９】
界面活性剤（Ｘ）は塗液固形分当り、１０〜５０重量％、好ましくは１２〜４０重量％、特に好ましくは１５〜３０重量％の量で用いられる。また界面活性剤（Ｘ）は、その量が１０重量％（全固形分当り）未満では、ドロップアウト因となりうる粗大突起の発生を抑えることができず、一方、使用量が５０重量％（全固形分当り）を超えると発泡による筋状の塗布欠陥が発生する。そして好ましくは耐コロナ処理ブロッキングを良好にする為ＪＩＳ―Ｋ７２０６で測定した軟化点（界面活性剤を乾固させたもので測定）が３０℃以上であることが好ましい。但し、塗液を塗布する際塗布抜けが発生しない様に塗液の表面張力を下げる為上記以外の界面活性剤Ｙを１０重量％（全固形分当り）を超えない範囲で組合せて使用しても良い。前記界面活性剤Ｘとしてはノニオン系界面活性剤が好ましく、特にアルキルアルコール、アルキルフェニルアルコール、高級脂肪酸等に（ポリ）エチレンオキサイドを付加、結合させたものが好ましい。
【００３０】
界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル系化合物として日本油脂製のノニオンＮＳ―２３０、ＮＳ―２４０、ＨＳ―２２０、ＨＳ―２４０、三洋化成製のノニポール２００、ノニポール４００、ノニポール５００、オクタポール４００、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系化合物として日本油脂製のノニオンＥ―２３０、Ｋ―２２０、Ｋ―２３０、高級脂肪酸のポリオキシエチレンエステル系化合物として日本油脂製のノニオンＳ―１５．４、Ｓ―４０等を例示することができる。
【００３１】
更に塗膜層Ｂに含有するシリコーンとしては、鎖状成分として
【００３２】
【化１】
【００３３】
［ただしＲ1：ＣＨ3、Ｃ6Ｈ5、Ｈ
Ｒ2：ＣＨ3、Ｃ6Ｈ5、Ｈまたは官能性基（例えば、エポキシ基、
アミノ基、水酸基）
ｎ：１００〜７０００］
を有するシリコーン化合物であり、末端にエポキシ基、アミノ基、水酸基、その他の官能性末端基を有するものが挙げられる。本発明においてシリコーン化合物は必ずしもホモポリマーである必要はなく、コポリマーあるいは、数種のホモポリマーの混合体であってもよい。
【００３４】
ワックスとしては、例えば石油系ワックス、植物系ワックス、鉱物系ワックス、動物系ワックス、低分子量ポリオレフィン類などを使用することができ、特に制限されるものではない。石油系ワックスとしてはパラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、酸化ワックスなどが挙げられる。また植物性ワックスとしてはキャンデリラワックス、カルナウバワックス、木ロウ、オリキューリーワックス、さとうきびロウ、ロジン変性ワックスなどが挙げられる。
【００３５】
又塗膜層Ｂに含有する水溶性又は水分散性のポリシロキサン共重合ポリエステル樹脂は、シロキサンの重合を行わせたり、ポリエステル樹脂の両端にラジカル開始剤を付加して、シロキサンの重合を行わせたり、あるいはシロキサンの側鎖に水酸基を付け、末端にイソシアネート基やカルボキシル基を有するポリエステルと反応させて櫛形ポリマーとする等によって製造することができる。重合に用いるポリエステル樹脂成分としては、塗膜層Ｂに用いるポリエステル樹脂で例示したものと同じ樹脂が例示できる。シロキサンとしては鎖状成分として、前述式１に示したものと同様な化合物であり、末端にエポキシ基、アミノ基、水酸基、その他の官能性末端基を有するものがあげられる。本発明においてシリコーン化合物は必ずしもホモポリマーである必要はなく、コポリマーまたは数種のホモポリマーの混合体であってもよい。ポリエステル樹脂成分とシロキサン成分の比率は、重量比で９８：２〜６０：４０、好ましくは９５：５〜８０：２０である。
【００３６】
塗膜層Ｂ中のシリコーンあるいはワックスの含有量は０．１〜５０重量％、好ましくは１〜３０重量％である。１重量％未満であると、ブロッキングの発生及び帯電の増加を引き起こし、５０重量％を越えると磁性層の接着性を悪化させたり、フィルム走行時に接触ロールの汚れを惹起こす。塗膜層Ｂ中のポリシロキサン共重合ポリエステル樹脂の含有量は５〜９０重量％、好ましくは２０〜８０重量％である。５重量％未満であると効果が不充分でブロッキングの発生及び帯電の増加を引き起こし、９０重量％を超えると磁性層の接着性を悪化させたり、フィルム走行時に接触ロールの汚れを惹き起こす。
【００３７】
本発明の積層フィルムは、前記のとおり、塗膜層Ｂのベース層Ａと接触していない表面上に、非接触三次元粗さ計により求めた表面粗さプロファイルから算出した高さ４ｎｍ以上の粗大突起を、好ましくは最大でも２００個／ｍｍ2で有する。この粗大突起数が２００個／ｍｍ2を超える場合、それ自身がドロップアウトの原因物となり、また不活性微粒子Ａの分散不良に起因するときにはヘッドの偏摩耗を引き起こし易くなり、電磁変換特性をも悪化させてしまうので好ましくない。
【００３８】
不活性微粒子Ａの、熱可塑性樹脂層Ａ中での分散性を高めるには、例えば熱可塑性樹脂Ａとしてポリエステルを用いるときには、該ポリエステルの重合時にグリコールスラリーとして投入する時期を最適化する方法、該グリコールスラリーの投入速度を最適化する方法などを用いるか、製膜時に溶融ポリマーを押出口金から押出する前に高精度濾過を行なうのが好ましい。この高精度濾過では、フィルター特に金属繊維焼結フィルターの平均目開きを不活性微粒子Ａの平均粒径の５０倍以上、さらには８０倍以上とするのが好ましい。特に粒子添加方法の最適化と、高精度濾過時の平均目開きの最適化とを組合せるのが好ましい。
【００３９】
本発明の積層フィルムは、ベース層Ａのもう一方の表面すなわち塗膜層Ｂと接触していない表面上に、薄膜層Ｃを有するのが好ましい。薄膜層Ｃは好ましくは不活性微粒子を含有する。また、薄膜層Ｃは塗膜層であることができ、また共押出しによる熱可塑性樹脂層であることができる。薄膜層Ｃが塗膜層Ｃであるとき塗膜層Ｃはバインダー樹脂および不活性微粒子からなることができまたさらに界面活性剤を含有してなることができる。バインダー樹脂、不活性微粒子および界面活性剤としては塗膜層Ｂについて記載したものと同様のものを使用することができる。不活性微粒子Ｃとしては、平均粒径が好ましくは０．０１〜０．１μｍ、より好ましくは０．０２〜０．０８μｍ、特に好ましくは０．０２〜０．０６μｍのものが用いられる。また不活性微粒子の量は、好ましくは０．５〜３０重量％、より好ましくは１〜２０重量％、特に好ましくは２〜１０重量％である。この場合、界面活性剤としては界面活性剤ＸおよびＹをそれぞれ単独で用いることができあるいは組合せて用いることができる。それ故、薄膜層Ｃの組成は塗膜層Ｂと同じ組成であることができる。更に塗膜層Ｃが、塗膜層Ｂと同様にシリコーン又はワックスのいずれかを１〜５０重量％含む水溶性樹脂又は水分散性樹脂を主体とする塗膜、又は水溶性又は、水分散性のポリシロキサン共重合ポリエステル樹脂を５〜９０重量％含む塗膜であることが好ましい。
【００４０】
また薄膜層Ｃは不活性微粒子Ｃを含有する熱可塑性樹脂層からなりそしてベース層Ａとの共押出しにより形成されてもよい。その際薄膜層Ｃの厚みと不活性微粒子Ｃの平均粒径との間で、好ましくは、下記式
０．００１≦（ｄｃ）3×Ｃｃ×ｔｃ≦１００
［ここで、ｄｃ（μｍ）は不活性微粒子の平均粒径であり、Ｃｃ（重量％）は不活性微粒子Ｃの含有量であり、そしてｔｃ（ｎｍ）は薄膜層Ｃの厚みである。］
を満足する。
【００４１】
また、薄膜層Ｃが塗膜層の場合、上記関係は好ましくは
０．００１≦（ｄｃ）3×Ｃｃ×ｔｃ≦０．１
であり、共押し層の場合、上記関係は好ましくは
０．１≦（ｄｃ）3×Ｃｃ×ｔｃ≦１００
である。
【００４２】
この場合、共押出により形成される薄膜層Ｃは不活性微粒子を含む。該不活性微粒子は下記の平均粒径を有し、下記の量含有される。不活性微粒子の平均粒径ｄCは０．１〜１μｍ、さらに０．１５〜０．８μｍ特に０．２〜０．７μｍであることが好ましい。またこの平均粒径ｄCを有する不活性微粒子Ｃの含有量は、薄膜層Ｃに対し、０．０００１〜１重量％、さらには０．００１〜０．５重量％、特に０．００５〜０．１重量％であることが好ましい。
【００４３】
この平均粒径ｄCを有する不活性微粒子としては、例えば（１）耐燃性ポリマー粒子（例えば架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メラミン―ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル等からなる粒子）、（２）金属酸化物（例えば三二酸化アミルニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等）、（３）金属の炭酸塩（例えば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等）、（４）金属の硫酸塩（例えば硫酸カルシウム、硫酸バリウム等）、（５）炭素（例えばカーボンブラック、グラファイト、ダイアモンド等）、及び（６）粘土鉱物（例えばカオリン、クレー、ベントナイト等）が好ましく挙げられる。これらのうち特に、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、メラミン―ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒子、三二酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、合成炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ダイアモンド及びカオリンが好ましく、とりわけ架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、アルミナ、二酸化チタン、二酸化ケイ素及び炭酸カルシウムが好ましい。さらに、不活性微粒子が２種以上の粒子からなる場合、上記不活性微粒子Ｃの平均粒径ｄCよりも小さい平均粒径の第２、第３の粒子として、例えばコロイダルシリカ、α、γ、δ、θ等の結晶形態を有するアルミナ等の微細粒子を好ましく用いることができる。また平均粒径ｄCを有する不活性粒子として例示した粒子種のうち平均粒径の小さい微細粒子も用いることができる。この微細粒子の平均粒径は５〜４００ｎｍ、更には１０〜３００ｎｍ、特に３０〜２５０ｎｍの範囲にあり、かつ前記平均粒径ｄCよりも５０ｎｍ以上、更には１００ｎｍ以上、特に１５０ｎｍ以上小さいことが好ましい。第２、第３の粒子（微細粒子）の含有量は、薄膜層Ｃに対し、０．００５〜１重量％、更には０．０１〜０．７重量％、特に０．０５〜０．５重量％であることが好ましい。
【００４４】
薄膜層Ｃを形成する熱可塑性樹脂はベース層Ａを形成する熱可塑性樹脂Ａと同一でも異なっていてもよい。好ましくは同一である。特に、ベース層Ａと薄膜層Ｃがポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートからなるのが好ましい。これらポリエステルとしては、ｏ―クロロフェノール中の溶液として３５℃で測定して求めた固有粘度が約０．４〜０．９のものが好ましい。
【００４５】
本発明の積層フィルムは、上記薄膜層Ｃの存在によって、エア抜け指数１〜１５ｍｍ／ｈｒを示すのが好ましい。本発明の積層フィルムは、上記薄膜層Ｃが存在しそして上記エア抜け指数を示すことにより、電磁変換特性を損なうことなく、フィルムのハンドリング性、捲取り性の向上が達成される。
【００４６】
本発明において積層フィルムの全厚みは、通常２．５〜２０μｍ、好ましくは３．０〜１０μｍ、更に好ましくは４．０〜１０μｍである。薄膜層Ｃの層厚みは、積層フィルムの全厚みの１／２以下、さらに１／３以下、特に１／４以下であることが好ましい。また塗膜層Ｂの層厚みは１〜１００ｎｍ、さらに２〜５０ｎｍ、特に３〜１０ｎｍ、就中３〜８ｎｍであることが好ましい。
【００４７】
本発明の積層フィルムは、従来から知られている或いは当業界に蓄積されている方法で製造することができる。そのうち、ベース層Ａと薄膜層Ｃとの積層構造は共押出し法により製造するのが好ましく、そして塗膜層Ｂの積層は塗布法により行なうのが好ましい。例えば、二軸配向ポリエステルフィルムで説明すると、押出し口金内又は口金以前（一般に前者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式と呼ぶ）で、前述の不活性微粒子Ａを微分散、含有させたポリエステルＡと不活性微粒子Ｃを微分散、含有させたポリエステルＣをそれぞれさらに高精度濾過したのち溶融状態にて積層複合し、前述の好適な厚み比の積層構造と成し、次いで口金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフィルム状に共押出した後、４０〜９０℃の冷却ロールで急冷固化し未延伸積層フィルムを得る。しかる後に、該未延伸積層フィルムを常法に従って一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：該ポリエステルのガラス転移温度）で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで前記方向とは直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸する。更に必要に応じて縦方向及び／又は横方向に再度延伸しても良い。即ち、２段、３段、４段、或いは多段の延伸を行うと良い。全延伸倍率は、面積延伸倍率として通常９倍以上、好ましくは１２〜３５倍、更に好ましくは１５〜３０倍である。更に引き続いて、二軸配向フィルムを（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば１８０〜２５０℃で熱固定結晶化することによって優れた寸法安定性が付与される。なお、熱固定時間は１〜６０秒が好ましい。
【００４８】
上記の方法において、前述の不活性微粒子、バインダー樹脂、界面活性剤を含む塗液、好ましくは水性塗液を塗布する。塗布は最終延伸処理を施す以前のポリエステル層Ａの表面に行ない、塗布後にはフィルムを少なくとも一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前乃至途中で塗膜は乾燥される。その中で、塗布は未延伸積層フィルム又は縦（一軸）延伸積層フィルム、特に縦（一軸）延伸積層フィルムに行なうのが好ましい。塗布方法としては特に限定されないが、例えばロールコート法、ダイコート法等が挙げられる。
【００４９】
上記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は０．２〜８重量％、さらに０．３〜６重量％、特に０．５〜４重量％であることが好ましい。そして塗液（好ましくは水性塗液）には、本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分例えば、他の界面活性剤、安定剤、分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を添加することができる。上述の例は、熱可塑性樹脂Ａ、および薄膜層Ｃの熱可塑性樹脂が共にポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート又はポリエチレンテレフタレートの場合に好適であるが、ベース層Ａのみ或いは薄膜層Ｃのみがポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート又はポリエチレンテレフタレートの場合にも同様である。
【００５０】
なお、積層フィルムの製造に際し、熱可塑性樹脂に、所望により上述の不活性粒子以外の添加剤例えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの固有抵抗調整剤等を添加含有させることができる。
【００５１】
本発明において、磁気記録媒体としてのヘッドタッチ、走行耐久性を初めとする各種性能を向上させ、同時に薄膜化を達成するには、積層フィルムのヤング率を縦方向および横方向でそれぞれ４５０ｋｇ／ｍｍ2以上および６００ｋｇ／ｍｍ2以上、更には４８０ｋｇ／ｍｍ2以上および６８０ｋｇ／ｍｍ2以上、特に５５０ｋｇ／ｍｍ2以上および８００ｋｇ／ｍｍ2以上、就中５５０ｋｇ／ｍｍ2以上および１０００ｋｇ／ｍｍ2以上とするのが好ましい。また、ポリエチレンテレフタレート層の結晶化度は３０〜５０％、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート層の結晶化度は２８〜３８％であることが望ましい。いずれも下限を下回ると、熱収縮率が大きくなるし、一方上限を上回るとフィルムの耐磨耗性が悪化し、ロールやガイドピン表面と摺動した場合に白粉が生じやすくなる。
【００５２】
本発明によれば、本発明の積層フィルムをベースフィルムとする磁気記録媒体、すなわち、本発明の積層フィルムおよび該積層フィルムの塗膜層Ｂ上に存在する磁性層からなる磁気記録媒体が同様に提供される。
【００５３】
本発明の積層フィルムから磁気記録媒体を製造する実施態様は以下のとおりである。
【００５４】
本発明の積層フィルムは、塗膜層Ｂの表面に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバルト、クロム又はこれらを主成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に必要により、薄膜層Ｃ側の表面に公知のバックコート層を設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることが出来る。この蒸着型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV用テープ媒体として極めて有用である。
【００５５】
本発明の積層フィルムは、また、塗膜層Ｂの表面に、鉄又は鉄を主成分とする針状微細磁性粉（メタル粉）をポリ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に必要により、薄膜層Ｃ側の表面に公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体とすることが出来る。また、必要に応じてベース層Ａの上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもできる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ―ＶＨＳ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV、ディジタルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用の磁気テープ媒体として極めて有用である。
【００５６】
本発明の積層フィルムは、また、塗膜層Ｂの表面に、酸化鉄又は酸化クロム等の針状微細磁性粉、又はバリウムフェライト等の板状微細磁性粉をポリ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に必要により、薄膜層Ｃ側の表面に公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用塗布型磁気記録媒体とすることが出来る。また、必要に応じて層Ｃの上に、該磁性粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設することも出来る。この酸化物塗布型磁気記録媒体は、ディジタル信号記録用データストリーマー用ＱＩＣ等の高密度酸化物塗布型磁気記録媒体として有用である。
【００５７】
上述のＷ―ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤＴＶ信号記録用として適用可能なものであり、本発明のフィルムはこれらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に極めて有用なベースフィルムと言うことができる。
【００５８】
【実施例】
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。尚、本発明において用いた測定法及び定義は次の通りである。
【００５９】
（１）固有粘度
オルソクロロフェノール溶媒中３５℃で測定した値から求める。
【００６０】
（２）粒子の平均粒径Ｉ（平均粒径：０．０６μｍ以上）
島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフューグル パーティクル サイズ アナライザー（Centrifugal Particle Size Analyzer）を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（Book「粒度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、頁２４２〜２４７参照）。
【００６１】
（３）粒子の平均粒径II（平均粒径：０．０６μｍ未満）
小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、光散乱法を用いて測定する。即ち、ニコンプインストゥルメント（Ｎｉｃｏｍｐ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．）社製のＮＩＣＯＭＰ ＭＯＤＥＬ ２７０ ＳＵＢＭＩＣＲＯＮ ＰＡＲＴＩＣＬＥ ＳＩＺＥＲ により求められる全粒子の５０重量％の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。
【００６２】
（４）熱可塑性樹脂層Ａ、Ｃの厚み及び全体の厚み
フィルムの全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いる。層Ａ、Ｃの厚みは、薄い側の層厚みを以下に述べる方法にて測定し、また厚い側の層厚みは全体の厚みより塗膜層及び薄い側の層厚みを引き算して求める。即ち、二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、被覆層を除いた表層から深さ５０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する金属元素（Ｍ+）とポリエステルの炭素元素（Ｃ+）の濃度比（Ｍ+／Ｃ+）を粒子濃度とし、表面から深さ５０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面という界面の為に粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値１になった後、上昇して安定値２になる場合と、単調に減少する場合とがある。この分布曲線をもとに、前者の場合は、（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この深さは安定値１を与える深さよりも深い）をもって、当該層の層厚みとした。
【００６３】
測定条件は以下の通りである。
▲１▼測定装置
二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）；パーキン・エルマー（ＰＥＲＫＩＮ ＥＬＭＥＲ）社製 ６３００
▲２▼測定条件
一次イオン種 ：Ｏ2＋
一次イオン加速電圧：１２ＫＶ
一次イオン電流：２００ｎＡ
ラスター領域 ：４００μｍ
分析領域 ：ゲート３０％
測定真空度 ：６．０×１０-9Ｔｏｒｒ
Ｅ―ＧＵＮＮ ：０．５ＫＶ―３．０Ａ
【００６４】
尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多く含有する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらＦＴ―ＩＲ（フーリエトランスフォーム赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）等で上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求める。
【００６５】
（５）塗膜層Ｂ表面の不活性微粒子Ｂによる突起頻度（３５０００倍で測定）フィルム表面の突起頻度の測定は走査型電子顕微鏡により行う。即ち、積層フィルムの塗膜層Ｂの表面写真を倍率３５０００倍にてランダムに２５枚撮影し、表面突起頻度をカウントし、その平均値より１ｍｍ2当たりの突起数に換算し、この値を塗膜層Ｂ表面の不活性微粒子Ｂによる突起頻度とする。
【００６６】
（６）塗膜層Ｂ表面の不活性微粒子Ａによる突起頻度（５０００倍で測定）
フィルム表面の突起頻度の測定は走査型電子顕微鏡により行う。即ち、積層フィルムの塗膜層Ｂの表面写真を倍率５０００倍にてランダムに２５枚撮影し、表面突起頻度をカウントし、その平均値より１ｍｍ2当たりの突起数に換算し、この値を塗膜層Ｂ表面の不活性微粒子Ａによる突起頻度とする。
【００６７】
（７）中心面平均粗さ ＷＲａ
ＷＹＫＯ社製非接触三次元粗さ計（ＴＯＰＯ―３Ｄ）を用いて測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×２３９μｍ（０．０５８ｍｍ2）の条件にて測定を行ない、表面粗さのプロフィル（オリジナルデータ）を得た。同粗さ計内臓ソフトによる表面解析より、ＷＲａは以下の式により計算されアウトプットされた値を用いる。
【００６８】
【数１】
【００６９】
また、Ｚjkは測定方向（２４２μｍ）、それと直行する方向（２３９μｍ）をそれぞれＭ分割、Ｎ分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置に於ける三次元粗さチャート上の高さである。
【００７０】
（８）粗大突起数
上記（７）で得られた表面粗さのプロフイル（オリジナルデータ）を用い、このプロフイルのうちの、測定方向の連続した１５分割分（例えばｊ＝１〜１５）とこれと直交する方向（直交方向）の連続した１５分割分（例えばｋ＝１〜１５）とで形成される面積（１５×１５分割分面積）における高さの平均値を求め（ｊ，ｋ）＝（１，１）の平均高さとする。次いで、測定方向又は直交方向の分割位置を１つ移動させたときの（例えばｊ＝２〜１６、ｋ＝１〜１５又はｊ＝１〜１５、ｋ＝２〜１６）１５×１５分割分面積における高さの平均値を求め（ｊ，ｋ）＝（２，１）又は（１，２）の平均高さとする。さらに分割位置を１つずつ移動させて例えばｊ＝ｐ〜ｐ＋１４，ｋ＝ｑ〜ｑ＋１４の１５×１５分割分面積における高さの平均値を算出して（ｊ，ｋ）＝（ｐ，ｑ）の平均高さを求め、測定方向２５６分割分、直交方向２５６分割分まで平均高さの算出をくり返す。これら平均高さで構成される表面粗さのプロフイルはフィルム表面のうねり曲面成分に相当する。
【００７１】
前記オリジナルデータから前記うねり曲面成分を差引いて、フィルム表面のプロフイル（再構成データ）を再構成する。この再構成データを粗さ計内臓のソフトで解析し、高さ４ｎｍ以上の突起を粗大突起としてカウントし、この測定を測定箇所を変えて１０回実施し、この平均値を１ｍｍ2当りの個数に換算した値を粗大突起数とする。
【００７２】
（９）ヤング率
東洋ボールドウィン社製の引っ張り試験機テンシロンを用いて、温度２０℃、湿度５０％に調節された室内に於いて、長さ３００ｍｍ、幅１２．７ｍｍの試料フィルムを、１０％／分のひずみ速度で引っ張り、引っ張り応力―ひずみ曲線の初めの直線部分を用いて次ぎの式によって計算する。
Ｅ＝Δσ／Δε
ここで、Ｅはヤング率（ｋｇ／ｍｍ2）、Δσは直線上の２点間の元の平均断面積による応力差、Δεは同じ２点間のひずみ差である。
【００７３】
（１０）エア抜け性
（株）東洋製機製、ベック平滑度試験機を用いて、まずフィルム４０枚を重ね合わせ、その内試料台最上部にくる１枚を除いて、残り３９枚に直径５ｍｍφの孔をあけ、試料台にセットする。このとき孔の中心部が、試料台の中心にくるようにする。この状態で０．５ｋｇ／ｃｍ2の荷重を加え、真空到達度を５５０ｍｍＨｇに設定する。５５０ｍｍＨｇに到達した後、常圧に戻ろうとするため、フィルムとフィルム間を空気が流れ込んでいく。この時、１時間の間３０秒毎に降下していく真空度（ｍｍＨｇ）を測定し、測定時間（ｈｒ）に対する真空度を直線近似したときの直線の傾き（＝ｍｍＨｇ／ｈｒ）を空気漏れ指数Ｇとする。
【００７４】
（１１）微細突起数
アルミニウムを０．５μｍ厚みに蒸着した塗膜層Ｂの表面を、光学顕微鏡ニコン（ＮＩＫＯＮ）製ＯＰＴＩＰＨＯＴを用いて、微分干渉法により倍率４００倍にて観察し、長手方向２μｍ×幅方向５μｍ以上の大きさの突起をカウントし、１ｍｍ2当りの個数に換算した。
【００７５】
（１２）コロナ処理ブロッキングはくり力
ロール状フィルムの長手方向に１００ｍｍ、幅方向に２００ｍｍの長方形にサンプリングしベース層Ａ側に気温２５℃±５℃、湿度５０％±５％の環境下でコロナ処理を施す。
処理は春日電機製ＣＧ―１０２型の高周波電源を用いて以下の条件にて処理した。
電流：４．５Ａ
電極間距離：１．０ｍｍ
処理時間：１．２ｍ／分のスピードで電極間を通過させて処理した
処理したフィルムを直ちにベース層Ａと反対側の面と接触させ、１００ｋｇ／ｃｍ2の圧力にて６０℃×８０％の環境下で１７ｈｒエージングさせたのちテンションにて幅１００ｍｍ当りのはくり力を求める。
【００７６】
（１３）ＡＦＭ粗さ
Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の原子間力顕微鏡Ｎａｎｏ ＳｃｏｐｅIII ＡＦＭのＪスキャナーを使用し、以下の条件で算出される２乗平均粗さを下記の条件で測定する。
探針：単結合シリコンセンサー
走査モード：タッピングモード
走査範囲:１０μｍ×１０μｍ
画素数：２５６×２５６データポイント
スキャン速度：２．０Ｈｚ
測定環境：室温、大気中
数値は５回測定した平均とする。
【００７７】
（１４）磁気テープの製造及び特性評価
二軸配向積層フィルムの塗膜層Ｃの表面に、真空蒸着法により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．２μｍの厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成し、その表面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、更に含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性樹脂Ｃ側の表面に公知方法でバックコート層を設ける。その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍビデオカセットにローディングする。次いで、以下の市販の機器を用いてテープの特性を測定する。
【００７８】
使用機器：
８ｍｍビデオテープレコーダー：ソニー（株）製ＥＤＶ―６０００
Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター
▲１▼Ｃ／Ｎ測定
記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、下記の基準で判定する。
判定基準 基準
◎：市販８ｍｍテーブ対比＋５ｄＢ以上
○：市販８ｍｍテーブ対比＋１ｄＢ以上＋５ｄＢ未満
×：市販８ｍｍテーブ対比＋１ｄＢ未満
▲２▼ドロップアウト
シバソク（株）製ドロップアウトカウンターを使用して、３μｓｅｃ／１０ｄＢ以上のドロップアウトを１０分間測定し、１分当りの個数に換算する。
下記の基準で判定する。
○：ドロップアウト１０ケ／分以下
×：ドロップアウト１１ケ／分以上
▲３▼走行耐久性
前記した蒸着テープに４．２ＭＨｚの映像信号を記録し、２５℃５０％ＲＨ条件下でテープ走行速度４１ｍ／分、巻き戻し速度４１ｍ／分の走行を１回とし、合計２００回くり返した後の出力変動を調べる。この出力変動から次の基準で判定する。
◎：２００回繰り返し後の出力変動が０ｄＢ〜−０．３ｄＢ
○：２００回繰り返し後の出力変動が−０．３ｄＢ〜−０．６ｄＢ
×：２００回繰り返し後の出力変動が−０．６ｄＢ以下
【００７９】
［実施例１〜４］
ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マグネシウムを、重合触媒としてトリメリット酸チタンを、安定剤として亜燐酸を、更に滑剤として表１に示す不活性微粒子を添加して常法により重合し、固有粘度０．６０の層Ａ用、及び層Ｃ用のポリエチレンテフタレート（ＰＥＴ）（それぞれ樹脂Ａ、樹脂Ｃ）を得た。
【００８０】
この樹脂Ａ、樹脂Ｃをそれぞれ１７０℃で３時間乾燥後、２台の押出し機に供給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１１μｍの鋼線フィルターで高精度濾過した後マルチマニホールド型共押出しダイを用いて、樹脂層Ａの片面に樹脂層Ｃを積層させ、急冷して厚さ８９μｍの未延伸積層フィルムを得た。
【００８１】
得られた未延伸フィルムを予熱し、更に低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて３．３倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フィルムの層Ａ面側に表２に示す組成の水性塗液（全固形分濃度１．０重量％）をキスコート法により塗布し、続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．２倍に延伸した。
得られた二軸延伸フィルムを２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み６．４μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。層Ａ、Ｃの厚みについては、２台の押出し機の吐出量により調整した。このフィルムのヤング率は縦方向５００ｋｇ／ｍｍ2、横方向７００ｋｇ／ｍｍ2であった。
【００８２】
この積層フィルムの表面特性、このフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１〜７に示す。
【００８３】
［実施例５］
層Ａのための熱可塑性樹脂として、不活性微粒子を含まない、固有粘度０．６０のポリエチレンテレフタレートを用いる他は実施例１と同様にして積層フィルムを得た。得られたフィルムの特性等を表１〜７に示した。
【００８４】
［実施例６］
不活性微粒子を含まない、同固有粘度０．６０のポリエチレンテレフタレートから実施例１と同様にして厚さ８９μｍの未延伸フィルムを得た。
【００８５】
得られた未延伸フィルムを予熱し、更に低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて３．３倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フィルムの両面に表１に示す組成の水性塗料（Ｂ１）をキスコート法により塗布し、続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み６．４μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。層Ａ、Ｃの厚みについては、２台の押出し機の吐出量により調整した。このフィルムのヤング率は縦方向５００ｋｇ／ｍｍ2、横方向７００ｋｇ／ｍｍ2であった。
【００８６】
この積層フィルムの表面特性、このフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１〜７に示す。
【００８７】
［実施例７］
実施例６において、得られた縦延伸フィルムのそれぞれの面に、表１に示す組成の水性塗料（Ｂ１）および水性塗料（Ｂ３）を塗布する他は、実施例６と同様に実施した。結果を表１〜７に示す。
【００８８】
［実施例８］
実施例７にて塗布する塗料が表１〜７に示す組成の水性塗料（Ｂ１）および水性塗料（Ｂ３＋Ｒ１）を塗布する他は実施例７と同様に実施した結果を表１に示す。
【００８９】
［実施例９］
ベース層が、不活性微粒子を含まない、固有粘度０．６のポリエチレンテレフタレートからなる厚み５．６μｍの層と、平均粒径０．６μｍのシリコーン粒子０．１重量％と平均粒径０．０６μｍのθ―アルミナ粒子０．３重量％を含有するポリエチレンテレフタレートからなる厚み０．８μｍの層とからなる積層フィルムである他は実施例７と同様である。但し、不活性微粒子を含まない層の上に塗膜層Ｂが存在し、不活性微粒子を含む層の上に薄膜層Ｃが存在した。結果を表１〜７に示す。
【００９０】
［比較例２］
熱可塑性樹脂Ａを押出機に供給したのち高精度濾過に使用する鋼線フィルターの目開きを４．８μｍに変更した外は、実施例１と同様にして積層フィルムを得た。この積層フィルム及びこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着テープの特性を表１に示す。表１から明らかなように、このフィルムは表面粗大突起数が多い為に、テープとしたときのドロップアウトが多く、またヘッドの偏磨耗によって走行耐久性が低くなってしまった。
【００９１】
［実施例１０］
層Ａ、層Ｃの添加不活性微粒子及び層厚みを表１に示すとおりとし、塗膜層Ｂの組成を表１〜７に示すとおりとする外は実施例１と同様の積層フィルムを得た。得られたフィルムの特性、及びこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープの特性を表１に示す。
【００９２】
［実施例１１〜１３］
ジメチルテレフタレートの代わりに２，６―ナフタレンジカルボン酸ジメチルを同モル量使用し、不活性微粒子として表１〜７に示す微粒子を用いた外は、実施例１と同様の方法で層Ａ、層Ｃ用のポリエチレン―２，６―ナフタレート（ＰＥＮ）（樹脂Ａ、樹脂Ｃ）を得た。
【００９３】
この樹脂Ａ、樹脂Ｃをそれぞれ１７０℃で６時間乾燥後、実施例１と同様にして各層厚みを調整し、各実施例、比較例を満たす未延伸積層フィルムを得た。
【００９４】
この様にして得られた未延伸フィルムを予熱し、更に低速・高速のロール間でフィルム温度１３５℃にて実施例１１では３．３倍、実施例１２では３．６倍、実施例１３では４．０倍に延伸し、急冷し、次いで表１に示す塗膜Ｂの水性塗液を実施例１と同様に塗布し、続いてステンターに供給し、１５５℃にて横方向に実施例１１では６．４倍、実施例１２では５．６倍、実施例１３では５．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２００℃の熱風で４秒間熱固定し積層フィルムを得た。
【００９５】
［比較例１］
層Ａ、層Ｃの添加不活性微粒子及び層厚みを表１に示すとおりとし、塗膜層Ｂの組成を表１〜７に示すとおりにする以外は実施例１と同様の積層フィルムを得た。得られたフィルムの特性、及びこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープの特性を表１〜７に示す。
【００９６】
［実施例１４〜１７、比較例３〜６］
塗布層Ｂの組成を表１〜７に示すとおりにする以外は実施例１と同様の積層フィルムを得た。得られたフィルムの特性、及びこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープの特性を表１〜７に示す。
【００９７】
表１〜７から明らかなように、実施例の積層フィルムは、優れた電磁変換特性を示すと共に、ドロップアウトの原因となる微細突起が極めて少ないばかりでなく、耐コロナ処理ブロッキングはくり力が良好である。さらに、実施例の積層フィルムは、磁性層面側に当る層Ａに添加する不活性微粒子が適切で、かつ粗大粒子数も少ないことから、これらに起因するドロップアウトが少なく、また走行耐久性も優れている。一方、比較例のフィルムは、これらの特性を同時に満足できていない。
【００９８】
【表１】
【００９９】
【表２】
【０１００】
【表３】
【０１０１】
【表４】
【０１０２】
【表５】
【０１０３】
【表６】
【０１０４】
【表７】
【０１０５】
【発明の効果】
本発明によれば、耐コロナ処理ブロッキングが良好で、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体として用いられた場合にも走行耐久性、電磁変換特性に優れ、ドロップアウトの極めて少ない磁気記録媒体の製造が可能な積層フィルムを提供することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は積層フィルムに関し、更に詳しくは耐コロナブロッキング性走行耐久性、電磁変換特性に優れかつドロップアウトの極めて少ない蒸着金属薄膜型磁気記録媒体のベースフィルムとして有用な積層フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気記録媒体の高密度化の進歩はめざましく、例えば、強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリング等の物理沈着法又はメッキ法により非磁性支持体上に形成せしめた金属薄膜型磁気記録媒体、またメタル粉や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を２μｍ以下に塗布した薄層塗膜型磁気記録媒体の開発実用化が進められている。前者の例としては、特開昭５４―１４７０１０号公報には、非磁性材よりなる基材上に付着された第１のＣｏ薄膜磁性層上に、非磁性材層を介して前記第１のＣｏ薄膜磁性層の厚みより大なる厚みの第２のＣｏ薄膜磁性層を形成した磁気記録媒体が開示されており、また特開昭５２―１３４７０６号公報にはＣｏ―Ｃｒ合金からなる垂直磁気記録媒体が開示されている。
【０００３】
また、後者の例として、電子通信学会技術報告ＭＲ９４―７８（１９９５―０２）には極薄層塗布型磁気記録媒体による高密度磁気記録が開示されている。
【０００４】
従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布してなる磁気記録媒体）は記録密度が低く、記録波長も長い為に、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚いのに対して、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティング等の薄膜形成手段によって形成される強磁性金属薄膜は厚みが０．２μｍ以下と非常に薄く、また極薄層塗布型の場合も、非磁性下地層を設けるものの０．１３μｍの厚みのものが提供され非常に薄くなっている。この為、上記の高密度磁気記録媒体においては、非磁性支持体（ベースフィルム）の表面状態が磁性層の表面性に大きな影響を及ぼし、特に金属薄膜型の磁気記録媒体の場合には、非磁性支持体の表面状態がそのまま磁性層（磁気記録層）表面の凹凸として発現してしまう。
【０００５】
さらに金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、実際に使用される時の重大な問題点として、金属薄膜面の走行性がある。磁性体粉末を有機高分子バンダー中に混入させてベースフィルムに塗布してなる塗布型磁気記録媒体の場合には、該バインダー中に潤滑剤を分散させて磁性層面の走行性を向上させることが出来るが、金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、この様な対策をとることができず、走行性を安定して保つのは非常に難しく、特に高温高湿条件下の走行性が劣るなどの欠点を有している。さらにこの場合には、繰り返し使用時の出力低下が塗布型磁気記録媒体と比べて大きいという欠点も存在する。
【０００６】
そして、金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、金属薄膜とベースフィルムとの密着性を良好にする為、金属薄膜成形前にイオンボンバート処理とよばれるベースフィルム表面をイオンにより活性化する処理が施される。この金属薄膜成形時にはフィルム表面に高温の熱がかかり、ベースフィルムが溶けていたりあるいは、機械特性等の物性の低下をまねかぬ様に背面冷却を実施している。背面冷却の方法としては、ドラム状冷却体にベースフィルムを巻付けて実施する場合が多く、この際ドラム表面に金属薄膜が成形されない様にベースフィルム両端をマスキングしている。
【０００７】
従って、イオンバード処理のみされ、金属薄膜が形成されない部分が、フィルム長手方向の同一部分に連続的に発生し、しかもロールの両エッジ部となっている。ベースフィルムの表面が超平坦がゆえにこの部分が巻取られることにより、活性化されたベース表面ともう反対側のベース表面が接触し、ブロッキングをおこしやすくなり、工程トラブルになる。
【０００８】
一方、非磁性支持体（ベースフィルム）の製膜、加工工程での搬送・傷付き、巻取り、巻出しといったハンドリングの観点からは、フィルム表面が平滑過ぎると、フィルム―フィルム相互の滑り性が悪化し、ここでもブロッキング現象が発生し、ロールに巻いたときの形状（ロールフォーメーション）が悪化し、製品歩留りの低下、ひいては製品の製造コストの上昇を来す。従って、製造コストという観点では非磁性支持体（ベースフィルム）の表面は出来るだけ粗いことが望ましい。
【０００９】
このように、非磁性支持体の表面は、電磁変換特性の観点からは平滑であることが要求され、耐ブロッキング性、ハンドリング性、フィルムコストの観点からは粗いことが要求される。特に耐ブロッキング性改良にはフィルムの接触面積を下げる為にも表面を粗いことが要求されていた。そこで、優れた品質の高密度磁気記録媒体を製造するには、上記二律背反する性質を同時に満足させることが必要とされる。
【００１０】
特開平５―１９４７７２号公報には、ポリエステルフィルムの一つの表面に連続薄膜よりなる、磁性層のためのプライマー層が塗設してあり、該プライマー層の連続薄膜の表面は（Ａ）平均粒径０．０６μｍ未満の粒子を核とする高さ１３ｎｍ以下の小突起と（Ｂ）平均粒径０．０６μｍ以上の粒子を核とする高さ３０ｎｍ以下の大突起と（Ｃ）プライマー層を形成する樹脂のみによる微小突起とを有し、これら突起の数が下記式
ＡN≧１．０×１０6（個／ｍｍ2）
ＢN≧１．０５×１０4（個／ｍｍ2）
ＡN≦−３．４×１０2・ＢN＋１３．６×１０6（個／ｍｍ2）
ＣN≦４．０×１０6（個／ｍｍ2）
［ただし、ＡNは小突起の数（個／ｍｍ2）、ＢNは大突起の数（個／ｍｍ2 ）、ＣNは微小突起の数（個／ｍｍ2）である。］
を満足し、そしてプライマー層を形成する樹脂のみによる連続薄膜部の微小表面粗さＲａSが１．１０ｎｍ以下であり、かつ前記連続薄膜の表面粗さＲａが１〜１０ｎｍである、磁気記録媒体用ポリエステルフィルムが開示されている。
【００１１】
特開平５―２９８６７０号公報には、ポリエステルフィルムの一つの表面に連続薄膜よりなる、磁性層のためのプライマー層が塗設してあり、該プライマー層の連続薄膜の表面には（Ａ）平均粒径０．０６μｍ未満の粒子を核とする高さ１３ｎｍ以下の小突起と（Ｂ）平均粒径０．０６μｍ以上の粒子を核とする高さが３０ｎｍ以下の大突起と（Ｃ）プライマー層を形成する樹脂のみによる最大長径が０．３０μｍ以下の微小突起とが形成されており、これら突起の数が下記式
ＡN≧１．０×１０6（個／ｍｍ2）
ＢN≧１．０５×１０4（個／ｍｍ2）
ＡN≦−３．４×１０2・ＢN＋１３．６×１０6（個／ｍｍ2）
ＣN≦４．０×１０6（個／ｍｍ2）
［ただし、ＡNは小突起の数（個／ｍｍ2）、ＢNは大突起の数（個／ｍｍ2 ）、ＣNは微小突起の数（個／ｍｍ2）である。］
を満足し、前記プライマー層を形成する樹脂のみによる連続薄膜部の微小表面粗さＲａSが１．１０ｎｍ以下であり、さらに前記連続薄膜の表面粗さＲａが１〜１０ｎｍであり、そして前記連続薄膜はフィルムを１６０℃で５分間空気中で連続加熱したときにフィルム表面上のポリエステルオリゴマー微結晶の析出率を０．８％以下に抑制できる、磁気記録媒体用ポリエステルフィルムが開示されている。
【００１２】
上記の如きポリエステルフィルムによれば、磁性層面側のベースフィルムの平滑化はある程度は実現できるものの、塗膜層に由来する凝集粗大突起の存在により、ドロップアウトを引起こすという問題を解決することができなかった。また、上記の方策では、走行耐久性向上の為に、磁性層面側のベースフィルム中に粒子を添加しているが、粒子の分散性が悪いために粗大突起が多く、これがドロップアウトの原因となったり、磁気ヘッドの偏摩耗を引き起こして出力が低下するなどの問題があった。さらには、これらの処理でも、イオンボンバード処理により活性化されたロールエッジ部のブロッキングは発生する問題は、解消することができなかった。
【００１３】
【発明の解決しようとする課題】
本発明の目的は、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体用ベースフィルムとして有用な積層フィルムを提供することにある。
【００１４】
本発明の他の目的は、塗膜層形成塗液に由来する、ドロップアウト因となる粗大突起を大幅に低減して、走行耐久性、電磁変換特性に優れ、ドロップアウトが極めて少なくかつ耐ブロッキング性良好なる磁気記録媒体を与えるための積層フィルムを提供することにある。
【００１５】
本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は熱可塑性樹脂Ａからなるベース層Ａおよびベース層Ａの一方の表面上に存在する塗膜層Ｂからなる積層フィルムであって、熱可塑性樹脂Ａは芳香族ポリエステルであり、該塗膜層Ｂは、バインダー樹脂、不活性微粒子および界面活性剤を含有してなり更にシリコーン又はワックスのいづれかを１〜５０重量％含む、バインダー樹脂である水溶性樹脂又は水分散性樹脂を主体とする塗膜であるか、もしくはバインダー樹脂、不活性微粒子および界面活性剤を含有し、更にポリシロキサン共重合ポリエステル樹脂を５〜９０重量％含む水溶性樹脂又は水分散性樹脂を主体とする塗膜よりなり、塗膜層Ｂ中の不活性微粒子は平均粒径が１０〜５０ｎｍの範囲にあり、その含有量は塗膜層Ｂの固形分に基づいて０．５〜３０重量％で含有されること、塗膜層Ｂのバインダー樹脂がアクリル変性ポリエステル樹脂であること、コロナ処理ブロッキングはくり力が１５ｇ／１０ｃｍ以下であることを特徴とする蒸着金属薄膜型磁気記録媒体用積層フィルムによって達成される。
【００１６】
コロナ処理ブロッキングはくり力が１５ｇ／１０ｃｍより高いとフィルムを使用する工程にてブロッキングによる切断が発生する。このコロナ処理ブロッキングはくり力が好ましくは１０ｇ／１０ｃｍ以下である。
【００１７】
ベース層Ａを形成する熱可塑性樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等を例示することができる。これらのうちポリステル系樹脂、さらには芳香族ポリエステルが好ましい。
【００１８】
この芳香族ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ―１，４―シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート等を好ましくは例示することができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートが好ましい。
【００１９】
これらポリエステルは、ホモポリエステルであっても、コポリエステルであっても良い。コポリエステルの場合、例えばポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの共重合成分としては、例えばジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ｐ―キシレングリコール等の他のジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸（但し、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの場合）、２，６―ナフタレンジカルボン酸（但し、ポリエチレンテレフタレートの場合）、５―ナトリウムスルホイソフタル酸等の他のジカルボン酸成分、ｐ―オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸成分等が挙げられる。これら共重合成分の量は２０モル％以下、更には１０モル％以下とするのが好ましい。さらに、トリメリット酸、ピロメリット酸等の３官能以上の多官能化合物を共重合させることもできる。この場合ポリマーが実質的に線状である量、例えば２モル％以下共重合させるのがよい。ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート以外の他のポリエステルの場合の共重合成分についても上記同様に考えられることは理解されるであろう。上記ポリエステルは、それ自体公知であり、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。
【００２０】
ベース層Ａを形成する熱可塑性樹脂Ａは、不活性微粒子を含有していても、実質的に含有しなくてもよい。不活性微粒子を含有する場合、不活性微粒子は好ましくは平均粒径が３０〜４００ｎｍでありそして体積形状係数が０．１〜π／６である不活性微粒子Ａである。平均粒径はより好ましくは４０〜２００ｎｍ、特に好ましくは６０〜１２０ｎｍである。また、体積形状係数は、より好ましくは０．４〜π／６である。
【００２１】
さらに、ベース層Ａに接触していない側の塗膜層Ｂの表面上には、熱可塑性樹脂Ａに含有される不活性微粒子Ａに基因して、０．５万〜１０万個／ｍｍ2の密度で突起が生成される割合で、熱可塑性樹脂Ａが不活性微粒子Ａを含有するのが好ましい。突起密度はより好ましくは０．７５万〜６万個／ｍｍ2であり、さらに好ましくは１万〜３万個／ｍｍ2である。
【００２２】
この平均粒径が３０ｎｍ未満の場合や、突起頻度が０．５万個／ｍｍ2未満の場合には満足な走行耐久性が得られず、一方平均粒径が４００ｎｍを超える場合や突起頻度が１０万個／ｍｍ2を超える場合には電磁変換特性が劣るので、好ましくない。
【００２３】
また、粒子の体積形状係数（ｆ）は下記式
ｆ＝Ｖ／Ｒ3
［ここで、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μｍ3）、Ｒは粒子の平均粒径（μｍ）である。］
で定義される。この係数（ｆ）がπ／６の形状は球（真球）である。そしてこの係数（ｆ）が０．４〜π／６の形状は実質的に球（真球）、ラグビーボールのような楕円球を含むものである。体積形状係数（ｆ）が０．１未満の粒子、例えば薄片状粒子では十分な走行耐久性を得るのが難しい。
【００２４】
本発明の積層フィルムは、ベース層Ａの一方の表面上に、バインダー樹脂、不活性微粒子および界面活性剤を含有してなる塗膜層Ｂが存在する。このバインダー樹脂としては、例えば水性ポリエステル樹脂、水性アクリル樹脂、水性ポリウレタン樹脂等が好ましく挙げられ、特に水性ポリエステル樹脂が好ましい。この水性ポリエステル樹脂としては、例えば酸成分がイソフタル酸、フタル酸、１，４―シクロヘキサンジカルボン酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５―Ｎａスルホイソフタル酸、２―Ｋスルホテレフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、トリメリット酸モノカリウム塩、ｐ―ヒドロキシ安息香酸等の多価カルボン酸の１種以上よりなり、グリコール成分が例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４―ブタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ｐ―キシリレングリコール、ジメチロールプロパン酸、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物等の多価ヒドロキシ化合物の１種以上より主としてなるポリエステル樹脂が好ましく用いられる。またポリエステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフトポリマー又はブロックコポリマー、あるいは２種のポリマーがミクロな分子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ、コアシェル）を形成したアクリル変性ポリエステル樹脂も同様に用いられる。この水性ポリエステル樹脂としては、水に溶解、乳化、微分散するタイプを自由に用いることができるが、水に乳化、微分散するタイプのものが好ましい。またこれらは親水性を付与するため分子内に例えばスルホン酸塩基、カルボン酸塩基、ポリエーテル単位等が導入されていてもよい。
【００２５】
さらに好ましくは耐コロナ処理ブロッキングを良好にする為、ＪＩＳ―Ｋ７２０６で測定した軟化点（バインダー樹脂を乾固させたもので測定）が５０℃以上であることが好ましく、但し塗布層Ｂの樹脂のＴｇが高すぎると、コーティング条件等により層Ｂの表面が粗れて電磁変換特性が劣る場合がある。
【００２６】
従って、Ｔｇが高いバインダーを使用する場合はコーティング条件を工夫して表面を粗さない様にすることが必要である。この場合の粗さとはＡＦＭ（走査型原子間力顕微鏡）にて１０μｍで測定した時の２乗平均粗さをいい、好ましくは２．０μｍ以下で、さらに好ましくは１．８ｎｍ以下で、さらに好ましくは１．５ｎｍ以下である。
【００２７】
前記不活性微粒子の種類は特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のものが好ましい。例えば、耐熱性ポリマー（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリエステル等）からなる粒子、二酸化ケイ素（シリカ）、炭酸カルシウム等が好ましく挙げられる。これらの中でも、特に好ましくは、架橋シリコーン樹脂粒子、シリカ、コアシェル型有機粒子（例えば、コア：架橋ポリスチレン、シェル：ポリメチルメタクリレートの粒子など）が挙げられる。これらの不活性微粒子は平均粒径が１０〜５０ｎｍの範囲にあるのが好ましい。平均粒径はより好ましくは１５〜４５ｎｍであり、さらに好ましくは１８〜４０ｎｍである。これらの不活性微粒子は塗膜層Ｂの固形分に基づいて、好ましくは０．５〜３０重量％、より好ましくは２〜２０重量％で含有される。
【００２８】
塗膜層Ｂのベース層Ａと接触していない表面上には、塗膜層Ｂ中に含有される不活性微粒子に基因する突起が好ましくは１〜４０個／μｍ2、より好ましくは２〜２０個／μｍ2、特に好ましくは２．５〜１８個／μｍ2、就中３〜１５個／μｍ2で存在する。また、塗膜層Ｂのベース層Ａと接触していない表面上に、非接触三次元粗さ計により求めた表面粗さプロファイルから算出した高さ４ｎｍ以上の粗大突起を、好ましくは最大でも２００個／ｍｍ2以下、より好ましくは最大でも１００個／ｍｍ2以下で有する。上記突起の存在により、優れた走行耐久性が発現する。
【００２９】
界面活性剤（Ｘ）は塗液固形分当り、１０〜５０重量％、好ましくは１２〜４０重量％、特に好ましくは１５〜３０重量％の量で用いられる。また界面活性剤（Ｘ）は、その量が１０重量％（全固形分当り）未満では、ドロップアウト因となりうる粗大突起の発生を抑えることができず、一方、使用量が５０重量％（全固形分当り）を超えると発泡による筋状の塗布欠陥が発生する。そして好ましくは耐コロナ処理ブロッキングを良好にする為ＪＩＳ―Ｋ７２０６で測定した軟化点（界面活性剤を乾固させたもので測定）が３０℃以上であることが好ましい。但し、塗液を塗布する際塗布抜けが発生しない様に塗液の表面張力を下げる為上記以外の界面活性剤Ｙを１０重量％（全固形分当り）を超えない範囲で組合せて使用しても良い。前記界面活性剤Ｘとしてはノニオン系界面活性剤が好ましく、特にアルキルアルコール、アルキルフェニルアルコール、高級脂肪酸等に（ポリ）エチレンオキサイドを付加、結合させたものが好ましい。
【００３０】
界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル系化合物として日本油脂製のノニオンＮＳ―２３０、ＮＳ―２４０、ＨＳ―２２０、ＨＳ―２４０、三洋化成製のノニポール２００、ノニポール４００、ノニポール５００、オクタポール４００、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系化合物として日本油脂製のノニオンＥ―２３０、Ｋ―２２０、Ｋ―２３０、高級脂肪酸のポリオキシエチレンエステル系化合物として日本油脂製のノニオンＳ―１５．４、Ｓ―４０等を例示することができる。
【００３１】
更に塗膜層Ｂに含有するシリコーンとしては、鎖状成分として
【００３２】
【化１】
［ただしＲ1：ＣＨ3、Ｃ6Ｈ5、Ｈ
Ｒ2：ＣＨ3、Ｃ6Ｈ5、Ｈまたは官能性基（例えば、エポキシ基、
アミノ基、水酸基）
ｎ：１００〜７０００］
を有するシリコーン化合物であり、末端にエポキシ基、アミノ基、水酸基、その他の官能性末端基を有するものが挙げられる。本発明においてシリコーン化合物は必ずしもホモポリマーである必要はなく、コポリマーあるいは、数種のホモポリマーの混合体であってもよい。
【００３４】
ワックスとしては、例えば石油系ワックス、植物系ワックス、鉱物系ワックス、動物系ワックス、低分子量ポリオレフィン類などを使用することができ、特に制限されるものではない。石油系ワックスとしてはパラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、酸化ワックスなどが挙げられる。また植物性ワックスとしてはキャンデリラワックス、カルナウバワックス、木ロウ、オリキューリーワックス、さとうきびロウ、ロジン変性ワックスなどが挙げられる。
【００３５】
又塗膜層Ｂに含有する水溶性又は水分散性のポリシロキサン共重合ポリエステル樹脂は、シロキサンの重合を行わせたり、ポリエステル樹脂の両端にラジカル開始剤を付加して、シロキサンの重合を行わせたり、あるいはシロキサンの側鎖に水酸基を付け、末端にイソシアネート基やカルボキシル基を有するポリエステルと反応させて櫛形ポリマーとする等によって製造することができる。重合に用いるポリエステル樹脂成分としては、塗膜層Ｂに用いるポリエステル樹脂で例示したものと同じ樹脂が例示できる。シロキサンとしては鎖状成分として、前述式１に示したものと同様な化合物であり、末端にエポキシ基、アミノ基、水酸基、その他の官能性末端基を有するものがあげられる。本発明においてシリコーン化合物は必ずしもホモポリマーである必要はなく、コポリマーまたは数種のホモポリマーの混合体であってもよい。ポリエステル樹脂成分とシロキサン成分の比率は、重量比で９８：２〜６０：４０、好ましくは９５：５〜８０：２０である。
【００３６】
塗膜層Ｂ中のシリコーンあるいはワックスの含有量は０．１〜５０重量％、好ましくは１〜３０重量％である。１重量％未満であると、ブロッキングの発生及び帯電の増加を引き起こし、５０重量％を越えると磁性層の接着性を悪化させたり、フィルム走行時に接触ロールの汚れを惹起こす。塗膜層Ｂ中のポリシロキサン共重合ポリエステル樹脂の含有量は５〜９０重量％、好ましくは２０〜８０重量％である。５重量％未満であると効果が不充分でブロッキングの発生及び帯電の増加を引き起こし、９０重量％を超えると磁性層の接着性を悪化させたり、フィルム走行時に接触ロールの汚れを惹き起こす。
【００３７】
本発明の積層フィルムは、前記のとおり、塗膜層Ｂのベース層Ａと接触していない表面上に、非接触三次元粗さ計により求めた表面粗さプロファイルから算出した高さ４ｎｍ以上の粗大突起を、好ましくは最大でも２００個／ｍｍ2で有する。この粗大突起数が２００個／ｍｍ2を超える場合、それ自身がドロップアウトの原因物となり、また不活性微粒子Ａの分散不良に起因するときにはヘッドの偏摩耗を引き起こし易くなり、電磁変換特性をも悪化させてしまうので好ましくない。
【００３８】
不活性微粒子Ａの、熱可塑性樹脂層Ａ中での分散性を高めるには、例えば熱可塑性樹脂Ａとしてポリエステルを用いるときには、該ポリエステルの重合時にグリコールスラリーとして投入する時期を最適化する方法、該グリコールスラリーの投入速度を最適化する方法などを用いるか、製膜時に溶融ポリマーを押出口金から押出する前に高精度濾過を行なうのが好ましい。この高精度濾過では、フィルター特に金属繊維焼結フィルターの平均目開きを不活性微粒子Ａの平均粒径の５０倍以上、さらには８０倍以上とするのが好ましい。特に粒子添加方法の最適化と、高精度濾過時の平均目開きの最適化とを組合せるのが好ましい。
【００３９】
本発明の積層フィルムは、ベース層Ａのもう一方の表面すなわち塗膜層Ｂと接触していない表面上に、薄膜層Ｃを有するのが好ましい。薄膜層Ｃは好ましくは不活性微粒子を含有する。また、薄膜層Ｃは塗膜層であることができ、また共押出しによる熱可塑性樹脂層であることができる。薄膜層Ｃが塗膜層Ｃであるとき塗膜層Ｃはバインダー樹脂および不活性微粒子からなることができまたさらに界面活性剤を含有してなることができる。バインダー樹脂、不活性微粒子および界面活性剤としては塗膜層Ｂについて記載したものと同様のものを使用することができる。不活性微粒子Ｃとしては、平均粒径が好ましくは０．０１〜０．１μｍ、より好ましくは０．０２〜０．０８μｍ、特に好ましくは０．０２〜０．０６μｍのものが用いられる。また不活性微粒子の量は、好ましくは０．５〜３０重量％、より好ましくは１〜２０重量％、特に好ましくは２〜１０重量％である。この場合、界面活性剤としては界面活性剤ＸおよびＹをそれぞれ単独で用いることができあるいは組合せて用いることができる。それ故、薄膜層Ｃの組成は塗膜層Ｂと同じ組成であることができる。更に塗膜層Ｃが、塗膜層Ｂと同様にシリコーン又はワックスのいずれかを１〜５０重量％含む水溶性樹脂又は水分散性樹脂を主体とする塗膜、又は水溶性又は、水分散性のポリシロキサン共重合ポリエステル樹脂を５〜９０重量％含む塗膜であることが好ましい。
【００４０】
また薄膜層Ｃは不活性微粒子Ｃを含有する熱可塑性樹脂層からなりそしてベース層Ａとの共押出しにより形成されてもよい。その際薄膜層Ｃの厚みと不活性微粒子Ｃの平均粒径との間で、好ましくは、下記式
０．００１≦（ｄｃ）3×Ｃｃ×ｔｃ≦１００
［ここで、ｄｃ（μｍ）は不活性微粒子の平均粒径であり、Ｃｃ（重量％）は不活性微粒子Ｃの含有量であり、そしてｔｃ（ｎｍ）は薄膜層Ｃの厚みである。］
を満足する。
【００４１】
また、薄膜層Ｃが塗膜層の場合、上記関係は好ましくは
０．００１≦（ｄｃ）3×Ｃｃ×ｔｃ≦０．１
であり、共押し層の場合、上記関係は好ましくは
０．１≦（ｄｃ）3×Ｃｃ×ｔｃ≦１００
である。
【００４２】
この場合、共押出により形成される薄膜層Ｃは不活性微粒子を含む。該不活性微粒子は下記の平均粒径を有し、下記の量含有される。不活性微粒子の平均粒径ｄCは０．１〜１μｍ、さらに０．１５〜０．８μｍ特に０．２〜０．７μｍであることが好ましい。またこの平均粒径ｄCを有する不活性微粒子Ｃの含有量は、薄膜層Ｃに対し、０．０００１〜１重量％、さらには０．００１〜０．５重量％、特に０．００５〜０．１重量％であることが好ましい。
【００４３】
この平均粒径ｄCを有する不活性微粒子としては、例えば（１）耐燃性ポリマー粒子（例えば架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メラミン―ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル等からなる粒子）、（２）金属酸化物（例えば三二酸化アミルニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等）、（３）金属の炭酸塩（例えば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等）、（４）金属の硫酸塩（例えば硫酸カルシウム、硫酸バリウム等）、（５）炭素（例えばカーボンブラック、グラファイト、ダイアモンド等）、及び（６）粘土鉱物（例えばカオリン、クレー、ベントナイト等）が好ましく挙げられる。これらのうち特に、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、メラミン―ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒子、三二酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、合成炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ダイアモンド及びカオリンが好ましく、とりわけ架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、アルミナ、二酸化チタン、二酸化ケイ素及び炭酸カルシウムが好ましい。さらに、不活性微粒子が２種以上の粒子からなる場合、上記不活性微粒子Ｃの平均粒径ｄCよりも小さい平均粒径の第２、第３の粒子として、例えばコロイダルシリカ、α、γ、δ、θ等の結晶形態を有するアルミナ等の微細粒子を好ましく用いることができる。また平均粒径ｄCを有する不活性粒子として例示した粒子種のうち平均粒径の小さい微細粒子も用いることができる。この微細粒子の平均粒径は５〜４００ｎｍ、更には１０〜３００ｎｍ、特に３０〜２５０ｎｍの範囲にあり、かつ前記平均粒径ｄCよりも５０ｎｍ以上、更には１００ｎｍ以上、特に１５０ｎｍ以上小さいことが好ましい。第２、第３の粒子（微細粒子）の含有量は、薄膜層Ｃに対し、０．００５〜１重量％、更には０．０１〜０．７重量％、特に０．０５〜０．５重量％であることが好ましい。
【００４４】
薄膜層Ｃを形成する熱可塑性樹脂はベース層Ａを形成する熱可塑性樹脂Ａと同一でも異なっていてもよい。好ましくは同一である。特に、ベース層Ａと薄膜層Ｃがポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレートからなるのが好ましい。これらポリエステルとしては、ｏ―クロロフェノール中の溶液として３５℃で測定して求めた固有粘度が約０．４〜０．９のものが好ましい。
【００４５】
本発明の積層フィルムは、上記薄膜層Ｃの存在によって、エア抜け指数１〜１５ｍｍ／ｈｒを示すのが好ましい。本発明の積層フィルムは、上記薄膜層Ｃが存在しそして上記エア抜け指数を示すことにより、電磁変換特性を損なうことなく、フィルムのハンドリング性、捲取り性の向上が達成される。
【００４６】
本発明において積層フィルムの全厚みは、通常２．５〜２０μｍ、好ましくは３．０〜１０μｍ、更に好ましくは４．０〜１０μｍである。薄膜層Ｃの層厚みは、積層フィルムの全厚みの１／２以下、さらに１／３以下、特に１／４以下であることが好ましい。また塗膜層Ｂの層厚みは１〜１００ｎｍ、さらに２〜５０ｎｍ、特に３〜１０ｎｍ、就中３〜８ｎｍであることが好ましい。
【００４７】
本発明の積層フィルムは、従来から知られている或いは当業界に蓄積されている方法で製造することができる。そのうち、ベース層Ａと薄膜層Ｃとの積層構造は共押出し法により製造するのが好ましく、そして塗膜層Ｂの積層は塗布法により行なうのが好ましい。例えば、二軸配向ポリエステルフィルムで説明すると、押出し口金内又は口金以前（一般に前者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式と呼ぶ）で、前述の不活性微粒子Ａを微分散、含有させたポリエステルＡと不活性微粒子Ｃを微分散、含有させたポリエステルＣをそれぞれさらに高精度濾過したのち溶融状態にて積層複合し、前述の好適な厚み比の積層構造と成し、次いで口金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフィルム状に共押出した後、４０〜９０℃の冷却ロールで急冷固化し未延伸積層フィルムを得る。しかる後に、該未延伸積層フィルムを常法に従って一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：該ポリエステルのガラス転移温度）で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで前記方向とは直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸する。更に必要に応じて縦方向及び／又は横方向に再度延伸しても良い。即ち、２段、３段、４段、或いは多段の延伸を行うと良い。全延伸倍率は、面積延伸倍率として通常９倍以上、好ましくは１２〜３５倍、更に好ましくは１５〜３０倍である。更に引き続いて、二軸配向フィルムを（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば１８０〜２５０℃で熱固定結晶化することによって優れた寸法安定性が付与される。なお、熱固定時間は１〜６０秒が好ましい。
【００４８】
上記の方法において、前述の不活性微粒子、バインダー樹脂、界面活性剤を含む塗液、好ましくは水性塗液を塗布する。塗布は最終延伸処理を施す以前のポリエステル層Ａの表面に行ない、塗布後にはフィルムを少なくとも一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前乃至途中で塗膜は乾燥される。その中で、塗布は未延伸積層フィルム又は縦（一軸）延伸積層フィルム、特に縦（一軸）延伸積層フィルムに行なうのが好ましい。塗布方法としては特に限定されないが、例えばロールコート法、ダイコート法等が挙げられる。
【００４９】
上記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は０．２〜８重量％、さらに０．３〜６重量％、特に０．５〜４重量％であることが好ましい。そして塗液（好ましくは水性塗液）には、本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分例えば、他の界面活性剤、安定剤、分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を添加することができる。上述の例は、熱可塑性樹脂Ａ、および薄膜層Ｃの熱可塑性樹脂が共にポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート又はポリエチレンテレフタレートの場合に好適であるが、ベース層Ａのみ或いは薄膜層Ｃのみがポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート又はポリエチレンテレフタレートの場合にも同様である。
【００５０】
なお、積層フィルムの製造に際し、熱可塑性樹脂に、所望により上述の不活性粒子以外の添加剤例えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの固有抵抗調整剤等を添加含有させることができる。
【００５１】
本発明において、磁気記録媒体としてのヘッドタッチ、走行耐久性を初めとする各種性能を向上させ、同時に薄膜化を達成するには、積層フィルムのヤング率を縦方向および横方向でそれぞれ４５０ｋｇ／ｍｍ2以上および６００ｋｇ／ｍｍ2以上、更には４８０ｋｇ／ｍｍ2以上および６８０ｋｇ／ｍｍ2以上、特に５５０ｋｇ／ｍｍ2以上および８００ｋｇ／ｍｍ2以上、就中５５０ｋｇ／ｍｍ2以上および１０００ｋｇ／ｍｍ2以上とするのが好ましい。また、ポリエチレンテレフタレート層の結晶化度は３０〜５０％、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート層の結晶化度は２８〜３８％であることが望ましい。いずれも下限を下回ると、熱収縮率が大きくなるし、一方上限を上回るとフィルムの耐磨耗性が悪化し、ロールやガイドピン表面と摺動した場合に白粉が生じやすくなる。
【００５２】
本発明によれば、本発明の積層フィルムをベースフィルムとする磁気記録媒体、すなわち、本発明の積層フィルムおよび該積層フィルムの塗膜層Ｂ上に存在する磁性層からなる磁気記録媒体が同様に提供される。
【００５３】
本発明の積層フィルムから磁気記録媒体を製造する実施態様は以下のとおりである。
【００５４】
本発明の積層フィルムは、塗膜層Ｂの表面に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバルト、クロム又はこれらを主成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に必要により、薄膜層Ｃ側の表面に公知のバックコート層を設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることが出来る。この蒸着型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV用テープ媒体として極めて有用である。
【００５５】
本発明の積層フィルムは、また、塗膜層Ｂの表面に、鉄又は鉄を主成分とする針状微細磁性粉（メタル粉）をポリ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に必要により、薄膜層Ｃ側の表面に公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体とすることが出来る。また、必要に応じてベース層Ａの上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもできる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ―ＶＨＳ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV、ディジタルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用の磁気テープ媒体として極めて有用である。
【００５６】
本発明の積層フィルムは、また、塗膜層Ｂの表面に、酸化鉄又は酸化クロム等の針状微細磁性粉、又はバリウムフェライト等の板状微細磁性粉をポリ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に必要により、薄膜層Ｃ側の表面に公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用塗布型磁気記録媒体とすることが出来る。また、必要に応じて層Ｃの上に、該磁性粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設することも出来る。この酸化物塗布型磁気記録媒体は、ディジタル信号記録用データストリーマー用ＱＩＣ等の高密度酸化物塗布型磁気記録媒体として有用である。
【００５７】
上述のＷ―ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤＴＶ信号記録用として適用可能なものであり、本発明のフィルムはこれらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に極めて有用なベースフィルムと言うことができる。
【００５８】
【実施例】
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。尚、本発明において用いた測定法及び定義は次の通りである。
【００５９】
（１）固有粘度
オルソクロロフェノール溶媒中３５℃で測定した値から求める。
【００６０】
（２）粒子の平均粒径Ｉ（平均粒径：０．０６μｍ以上）
島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフューグル パーティクル サイズ アナライザー（Centrifugal Particle Size Analyzer）を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（Book「粒度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、頁２４２〜２４７参照）。
【００６１】
（３）粒子の平均粒径II（平均粒径：０．０６μｍ未満）
小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、光散乱法を用いて測定する。即ち、ニコンプインストゥルメント（Ｎｉｃｏｍｐ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．）社製のＮＩＣＯＭＰ ＭＯＤＥＬ ２７０ ＳＵＢＭＩＣＲＯＮ ＰＡＲＴＩＣＬＥ ＳＩＺＥＲ により求められる全粒子の５０重量％の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。
【００６２】
（４）熱可塑性樹脂層Ａ、Ｃの厚み及び全体の厚み
フィルムの全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いる。層Ａ、Ｃの厚みは、薄い側の層厚みを以下に述べる方法にて測定し、また厚い側の層厚みは全体の厚みより塗膜層及び薄い側の層厚みを引き算して求める。即ち、二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、被覆層を除いた表層から深さ５０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する金属元素（Ｍ+）とポリエステルの炭素元素（Ｃ+）の濃度比（Ｍ+／Ｃ+）を粒子濃度とし、表面から深さ５０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面という界面の為に粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値１になった後、上昇して安定値２になる場合と、単調に減少する場合とがある。この分布曲線をもとに、前者の場合は、（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この深さは安定値１を与える深さよりも深い）をもって、当該層の層厚みとした。
【００６３】
測定条件は以下の通りである。
▲１▼測定装置
二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）；パーキン・エルマー（ＰＥＲＫＩＮ ＥＬＭＥＲ）社製 ６３００
▲２▼測定条件
一次イオン種 ：Ｏ2＋
一次イオン加速電圧：１２ＫＶ
一次イオン電流：２００ｎＡ
ラスター領域 ：４００μｍ
分析領域 ：ゲート３０％
測定真空度 ：６．０×１０-9Ｔｏｒｒ
Ｅ―ＧＵＮＮ ：０．５ＫＶ―３．０Ａ
【００６４】
尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多く含有する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらＦＴ―ＩＲ（フーリエトランスフォーム赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）等で上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求める。
【００６５】
（５）塗膜層Ｂ表面の不活性微粒子Ｂによる突起頻度（３５０００倍で測定）フィルム表面の突起頻度の測定は走査型電子顕微鏡により行う。即ち、積層フィルムの塗膜層Ｂの表面写真を倍率３５０００倍にてランダムに２５枚撮影し、表面突起頻度をカウントし、その平均値より１ｍｍ2当たりの突起数に換算し、この値を塗膜層Ｂ表面の不活性微粒子Ｂによる突起頻度とする。
【００６６】
（６）塗膜層Ｂ表面の不活性微粒子Ａによる突起頻度（５０００倍で測定）
フィルム表面の突起頻度の測定は走査型電子顕微鏡により行う。即ち、積層フィルムの塗膜層Ｂの表面写真を倍率５０００倍にてランダムに２５枚撮影し、表面突起頻度をカウントし、その平均値より１ｍｍ2当たりの突起数に換算し、この値を塗膜層Ｂ表面の不活性微粒子Ａによる突起頻度とする。
【００６７】
（７）中心面平均粗さ ＷＲａ
ＷＹＫＯ社製非接触三次元粗さ計（ＴＯＰＯ―３Ｄ）を用いて測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×２３９μｍ（０．０５８ｍｍ2）の条件にて測定を行ない、表面粗さのプロフィル（オリジナルデータ）を得た。同粗さ計内臓ソフトによる表面解析より、ＷＲａは以下の式により計算されアウトプットされた値を用いる。
【００６８】
【数１】
また、Ｚjkは測定方向（２４２μｍ）、それと直行する方向（２３９μｍ）をそれぞれＭ分割、Ｎ分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置に於ける三次元粗さチャート上の高さである。
【００７０】
（８）粗大突起数
上記（７）で得られた表面粗さのプロフイル（オリジナルデータ）を用い、このプロフイルのうちの、測定方向の連続した１５分割分（例えばｊ＝１〜１５）とこれと直交する方向（直交方向）の連続した１５分割分（例えばｋ＝１〜１５）とで形成される面積（１５×１５分割分面積）における高さの平均値を求め（ｊ，ｋ）＝（１，１）の平均高さとする。次いで、測定方向又は直交方向の分割位置を１つ移動させたときの（例えばｊ＝２〜１６、ｋ＝１〜１５又はｊ＝１〜１５、ｋ＝２〜１６）１５×１５分割分面積における高さの平均値を求め（ｊ，ｋ）＝（２，１）又は（１，２）の平均高さとする。さらに分割位置を１つずつ移動させて例えばｊ＝ｐ〜ｐ＋１４，ｋ＝ｑ〜ｑ＋１４の１５×１５分割分面積における高さの平均値を算出して（ｊ，ｋ）＝（ｐ，ｑ）の平均高さを求め、測定方向２５６分割分、直交方向２５６分割分まで平均高さの算出をくり返す。これら平均高さで構成される表面粗さのプロフイルはフィルム表面のうねり曲面成分に相当する。
【００７１】
前記オリジナルデータから前記うねり曲面成分を差引いて、フィルム表面のプロフイル（再構成データ）を再構成する。この再構成データを粗さ計内臓のソフトで解析し、高さ４ｎｍ以上の突起を粗大突起としてカウントし、この測定を測定箇所を変えて１０回実施し、この平均値を１ｍｍ2当りの個数に換算した値を粗大突起数とする。
【００７２】
（９）ヤング率
東洋ボールドウィン社製の引っ張り試験機テンシロンを用いて、温度２０℃、湿度５０％に調節された室内に於いて、長さ３００ｍｍ、幅１２．７ｍｍの試料フィルムを、１０％／分のひずみ速度で引っ張り、引っ張り応力―ひずみ曲線の初めの直線部分を用いて次ぎの式によって計算する。
Ｅ＝Δσ／Δε
ここで、Ｅはヤング率（ｋｇ／ｍｍ2）、Δσは直線上の２点間の元の平均断面積による応力差、Δεは同じ２点間のひずみ差である。
【００７３】
（１０）エア抜け性
（株）東洋製機製、ベック平滑度試験機を用いて、まずフィルム４０枚を重ね合わせ、その内試料台最上部にくる１枚を除いて、残り３９枚に直径５ｍｍφの孔をあけ、試料台にセットする。このとき孔の中心部が、試料台の中心にくるようにする。この状態で０．５ｋｇ／ｃｍ2の荷重を加え、真空到達度を５５０ｍｍＨｇに設定する。５５０ｍｍＨｇに到達した後、常圧に戻ろうとするため、フィルムとフィルム間を空気が流れ込んでいく。この時、１時間の間３０秒毎に降下していく真空度（ｍｍＨｇ）を測定し、測定時間（ｈｒ）に対する真空度を直線近似したときの直線の傾き（＝ｍｍＨｇ／ｈｒ）を空気漏れ指数Ｇとする。
【００７４】
（１１）微細突起数
アルミニウムを０．５μｍ厚みに蒸着した塗膜層Ｂの表面を、光学顕微鏡ニコン（ＮＩＫＯＮ）製ＯＰＴＩＰＨＯＴを用いて、微分干渉法により倍率４００倍にて観察し、長手方向２μｍ×幅方向５μｍ以上の大きさの突起をカウントし、１ｍｍ2当りの個数に換算した。
【００７５】
（１２）コロナ処理ブロッキングはくり力
ロール状フィルムの長手方向に１００ｍｍ、幅方向に２００ｍｍの長方形にサンプリングしベース層Ａ側に気温２５℃±５℃、湿度５０％±５％の環境下でコロナ処理を施す。
処理は春日電機製ＣＧ―１０２型の高周波電源を用いて以下の条件にて処理した。
電流：４．５Ａ
電極間距離：１．０ｍｍ
処理時間：１．２ｍ／分のスピードで電極間を通過させて処理した
処理したフィルムを直ちにベース層Ａと反対側の面と接触させ、１００ｋｇ／ｃｍ2の圧力にて６０℃×８０％の環境下で１７ｈｒエージングさせたのちテンションにて幅１００ｍｍ当りのはくり力を求める。
【００７６】
（１３）ＡＦＭ粗さ
Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の原子間力顕微鏡Ｎａｎｏ ＳｃｏｐｅIII ＡＦＭのＪスキャナーを使用し、以下の条件で算出される２乗平均粗さを下記の条件で測定する。
探針：単結合シリコンセンサー
走査モード：タッピングモード
走査範囲:１０μｍ×１０μｍ
画素数：２５６×２５６データポイント
スキャン速度：２．０Ｈｚ
測定環境：室温、大気中
数値は５回測定した平均とする。
【００７７】
（１４）磁気テープの製造及び特性評価
二軸配向積層フィルムの塗膜層Ｃの表面に、真空蒸着法により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．２μｍの厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成し、その表面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、更に含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性樹脂Ｃ側の表面に公知方法でバックコート層を設ける。その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍビデオカセットにローディングする。次いで、以下の市販の機器を用いてテープの特性を測定する。
【００７８】
使用機器：
８ｍｍビデオテープレコーダー：ソニー（株）製ＥＤＶ―６０００
Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター
▲１▼Ｃ／Ｎ測定
記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、下記の基準で判定する。
判定基準 基準
◎：市販８ｍｍテーブ対比＋５ｄＢ以上
○：市販８ｍｍテーブ対比＋１ｄＢ以上＋５ｄＢ未満
×：市販８ｍｍテーブ対比＋１ｄＢ未満
▲２▼ドロップアウト
シバソク（株）製ドロップアウトカウンターを使用して、３μｓｅｃ／１０ｄＢ以上のドロップアウトを１０分間測定し、１分当りの個数に換算する。
下記の基準で判定する。
○：ドロップアウト１０ケ／分以下
×：ドロップアウト１１ケ／分以上
▲３▼走行耐久性
前記した蒸着テープに４．２ＭＨｚの映像信号を記録し、２５℃５０％ＲＨ条件下でテープ走行速度４１ｍ／分、巻き戻し速度４１ｍ／分の走行を１回とし、合計２００回くり返した後の出力変動を調べる。この出力変動から次の基準で判定する。
◎：２００回繰り返し後の出力変動が０ｄＢ〜−０．３ｄＢ
○：２００回繰り返し後の出力変動が−０．３ｄＢ〜−０．６ｄＢ
×：２００回繰り返し後の出力変動が−０．６ｄＢ以下
【００７９】
［実施例１〜４］
ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マグネシウムを、重合触媒としてトリメリット酸チタンを、安定剤として亜燐酸を、更に滑剤として表１に示す不活性微粒子を添加して常法により重合し、固有粘度０．６０の層Ａ用、及び層Ｃ用のポリエチレンテフタレート（ＰＥＴ）（それぞれ樹脂Ａ、樹脂Ｃ）を得た。
【００８０】
この樹脂Ａ、樹脂Ｃをそれぞれ１７０℃で３時間乾燥後、２台の押出し機に供給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１１μｍの鋼線フィルターで高精度濾過した後マルチマニホールド型共押出しダイを用いて、樹脂層Ａの片面に樹脂層Ｃを積層させ、急冷して厚さ８９μｍの未延伸積層フィルムを得た。
【００８１】
得られた未延伸フィルムを予熱し、更に低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて３．３倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フィルムの層Ａ面側に表２に示す組成の水性塗液（全固形分濃度１．０重量％）をキスコート法により塗布し、続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．２倍に延伸した。
得られた二軸延伸フィルムを２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み６．４μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。層Ａ、Ｃの厚みについては、２台の押出し機の吐出量により調整した。このフィルムのヤング率は縦方向５００ｋｇ／ｍｍ2、横方向７００ｋｇ／ｍｍ2であった。
【００８２】
この積層フィルムの表面特性、このフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１〜７に示す。
【００８３】
［実施例５］
層Ａのための熱可塑性樹脂として、不活性微粒子を含まない、固有粘度０．６０のポリエチレンテレフタレートを用いる他は実施例１と同様にして積層フィルムを得た。得られたフィルムの特性等を表１〜７に示した。
【００８４】
［実施例６］
不活性微粒子を含まない、同固有粘度０．６０のポリエチレンテレフタレートから実施例１と同様にして厚さ８９μｍの未延伸フィルムを得た。
【００８５】
得られた未延伸フィルムを予熱し、更に低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて３．３倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フィルムの両面に表１に示す組成の水性塗料（Ｂ１）をキスコート法により塗布し、続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み６．４μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。層Ａ、Ｃの厚みについては、２台の押出し機の吐出量により調整した。このフィルムのヤング率は縦方向５００ｋｇ／ｍｍ2、横方向７００ｋｇ／ｍｍ2であった。
【００８６】
この積層フィルムの表面特性、このフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１〜７に示す。
【００８７】
［実施例７］
実施例６において、得られた縦延伸フィルムのそれぞれの面に、表１に示す組成の水性塗料（Ｂ１）および水性塗料（Ｂ３）を塗布する他は、実施例６と同様に実施した。結果を表１〜７に示す。
【００８８】
［実施例８］
実施例７にて塗布する塗料が表１〜７に示す組成の水性塗料（Ｂ１）および水性塗料（Ｂ３＋Ｒ１）を塗布する他は実施例７と同様に実施した結果を表１に示す。
【００８９】
［実施例９］
ベース層が、不活性微粒子を含まない、固有粘度０．６のポリエチレンテレフタレートからなる厚み５．６μｍの層と、平均粒径０．６μｍのシリコーン粒子０．１重量％と平均粒径０．０６μｍのθ―アルミナ粒子０．３重量％を含有するポリエチレンテレフタレートからなる厚み０．８μｍの層とからなる積層フィルムである他は実施例７と同様である。但し、不活性微粒子を含まない層の上に塗膜層Ｂが存在し、不活性微粒子を含む層の上に薄膜層Ｃが存在した。結果を表１〜７に示す。
【００９０】
［比較例２］
熱可塑性樹脂Ａを押出機に供給したのち高精度濾過に使用する鋼線フィルターの目開きを４．８μｍに変更した外は、実施例１と同様にして積層フィルムを得た。この積層フィルム及びこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着テープの特性を表１に示す。表１から明らかなように、このフィルムは表面粗大突起数が多い為に、テープとしたときのドロップアウトが多く、またヘッドの偏磨耗によって走行耐久性が低くなってしまった。
【００９１】
［実施例１０］
層Ａ、層Ｃの添加不活性微粒子及び層厚みを表１に示すとおりとし、塗膜層Ｂの組成を表１〜７に示すとおりとする外は実施例１と同様の積層フィルムを得た。得られたフィルムの特性、及びこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープの特性を表１に示す。
【００９２】
［実施例１１〜１３］
ジメチルテレフタレートの代わりに２，６―ナフタレンジカルボン酸ジメチルを同モル量使用し、不活性微粒子として表１〜７に示す微粒子を用いた外は、実施例１と同様の方法で層Ａ、層Ｃ用のポリエチレン―２，６―ナフタレート（ＰＥＮ）（樹脂Ａ、樹脂Ｃ）を得た。
【００９３】
この樹脂Ａ、樹脂Ｃをそれぞれ１７０℃で６時間乾燥後、実施例１と同様にして各層厚みを調整し、各実施例、比較例を満たす未延伸積層フィルムを得た。
【００９４】
この様にして得られた未延伸フィルムを予熱し、更に低速・高速のロール間でフィルム温度１３５℃にて実施例１１では３．３倍、実施例１２では３．６倍、実施例１３では４．０倍に延伸し、急冷し、次いで表１に示す塗膜Ｂの水性塗液を実施例１と同様に塗布し、続いてステンターに供給し、１５５℃にて横方向に実施例１１では６．４倍、実施例１２では５．６倍、実施例１３では５．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２００℃の熱風で４秒間熱固定し積層フィルムを得た。
【００９５】
［比較例１］
層Ａ、層Ｃの添加不活性微粒子及び層厚みを表１に示すとおりとし、塗膜層Ｂの組成を表１〜７に示すとおりにする以外は実施例１と同様の積層フィルムを得た。得られたフィルムの特性、及びこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープの特性を表１〜７に示す。
【００９６】
［実施例１４〜１７、比較例３〜６］
塗布層Ｂの組成を表１〜７に示すとおりにする以外は実施例１と同様の積層フィルムを得た。得られたフィルムの特性、及びこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープの特性を表１〜７に示す。
【００９７】
表１〜７から明らかなように、実施例の積層フィルムは、優れた電磁変換特性を示すと共に、ドロップアウトの原因となる微細突起が極めて少ないばかりでなく、耐コロナ処理ブロッキングはくり力が良好である。さらに、実施例の積層フィルムは、磁性層面側に当る層Ａに添加する不活性微粒子が適切で、かつ粗大粒子数も少ないことから、これらに起因するドロップアウトが少なく、また走行耐久性も優れている。一方、比較例のフィルムは、これらの特性を同時に満足できていない。
【００９８】
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
【表５】
【表６】
【表７】
【発明の効果】
本発明によれば、耐コロナ処理ブロッキングが良好で、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体として用いられた場合にも走行耐久性、電磁変換特性に優れ、ドロップアウトの極めて少ない磁気記録媒体の製造が可能な積層フィルムを提供することができる。
Claims (16)
- 熱可塑性樹脂Ａからなるベース層Ａおよびベース層Ａの一方の表面上に存在する塗膜層Ｂからなる積層フィルムであって、熱可塑性樹脂Ａは芳香族ポリエステルＡであり、該塗膜層Ｂはバインダー樹脂、不活性微粒子、界面活性剤、及びシリコーン又はワックスのいずれかを１〜５０重量％含む、バインダー樹脂である水溶性樹脂又は水分散性樹脂を主体とする塗膜であり、塗膜層Ｂ中の不活性微粒子は平均粒径が１０〜５０ｎｍの範囲にあり、その含有量は塗膜層Ｂの固形分に基づいて０．５〜３０重量％で含有されること、塗膜層Ｂのバインダー樹脂がアクリル変性ポリエステル樹脂であること、コロナ処理ブロッキングはくり力が１５ｇ／１０ｃｍ以下であることを特徴とする蒸着金属薄膜型磁気記録媒体用積層フィルム。
- 熱可塑性樹脂Ａからなるベース層Ａおよびベース層Ａの一方の表面上に存在する塗膜層Ｂからなる積層フィルムであって、熱可塑性樹脂Ａは芳香族ポリエステルＡであり、該塗膜層Ｂがバインダー樹脂、不活性微粒子、界面活性剤、更に水溶性又は水分散性のポリシロキサン共重合ポリエステル樹脂を５〜９０重量％含む塗膜であり、塗膜層Ｂ中の不活性微粒子は平均粒径が１０〜５０ｎｍの範囲にあり、その含有量は塗膜層Ｂの固形分に基づいて０．５〜３０重量％で含有されること、塗膜層Ｂのバインダー樹脂がアクリル変性ポリエステル樹脂であること、コロナ処理ブロッキングはくり力が１５ｇ／１０ｃｍ以下であることを特徴とする蒸着金属薄膜型磁気記録媒体用積層フィルム。
- ベース層Ａを形成する熱可塑性樹脂Ａが不活性微粒子を実質的に含有しない、請求項１または２に記載の積層フィルム。
- ベース層Ａを形成する熱可塑性樹脂Ａが平均粒径３０〜４００ｎｍ、体積形状係数０．１〜π／６の不活性微粒子Ａを含有する請求項１または２に記載の積層フィルム。
- 不活性微粒子Ａが、不活性微粒子Ａに基因して、ベース層Ａに接触しない側の塗膜層Ｂの表面上に、０．５万〜１０万個／ｍｍ２の密度で突起を生成する割合で熱可塑性樹脂Ａに含有される請求項１または２に記載の積層フィルム。
- 塗膜層Ｂのベース層Ａと接触していない表面上に、塗膜層Ｂに含有される不活性微粒子に基因する突起が１〜４０個／μｍ２存在する請求項１または２に記載の積層フィルム。
- 塗膜層Ｂが、ベース層Ａと接触していない表面上に、非接触三次元粗さ計により求めた表面粗さプロファイルから算出した、高さ４ｎｍ以上の粗大突起を最大でも２００個／ｍｍ２以下で有する請求項１または２に記載の積層フィルム。
- 界面活性剤がノニオン系界面活性剤である請求項１または２に記載の積層フィルム。
- ベース層Ａの塗膜層Ｂと接触していない表面上に、薄膜層Ｃがさらに存在する請求項１または２に記載の積層フィルム。
- 薄膜層Ｃがバインダー樹脂、不活性微粒子および界面活性剤からなる塗膜層である請求項９に記載の積層フィルム。
- 薄膜層Ｃが塗膜層Ｂと同じ組成からなる請求項１０に記載の積層フィルム。
- 薄膜層Ｃが不活性微粒子Ｃを含有する熱可塑性樹脂層からなりそしてベース層Ａとの共押出しにより形成される請求項９に記載の積層フィルム。
- 薄膜層Ｃが下記式
０．００１≦（ｄｃ）3×Ｃｃ×ｔｃ≦１００
［ここで、ｄｃ（μｍ）は不活性微粒子Ｃの平均粒径であり、Ｃｃ（重量％）は不活性微粒子Ｃの含有量であり、そしてｔｃ（ｎｍ）は薄膜層Ｃの厚みである。］
を満足する請求項１２に記載の積層フィルム。 - 積層フィルムがエア抜け指数１〜１５ｍｍＨｇ／ｈｒを示す請求項１０または１２に記載の積層フィルム。
- 請求項１または２に記載の積層フィルムおよび該積層フィルムの塗膜層Ｂ上に存在する蒸着金属薄膜型磁性層からなる磁気記録媒体。
- アナログ信号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダーまたはデータ８ｍｍ、ＤＤＳIV用である請求項１５に記載の磁気記録媒体。
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