JPH11202102A - 反射防止膜およびそれを配置した表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】広範な波長領域において一様に低い反射率（反
射率１％以下）を示し、同時に膜強度、耐熱性、製造適
性に優れた反射防止膜を提供する。 【解決手段】オルガノシラン類の加水分解物および／ま
たはその部分縮合物を含有する組成物の塗布後または該
組成物の塗布と同時に、硬化反応を促進する化合物を含
有する組成物を塗布して形成されたことを特徴とする低
屈折率層(1) とそれに隣接して屈折率が１．７以上であ
る高屈折率層(2) からなる反射防止膜。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置（Ｌ
ＣＤ）等の画像表示装置の表面の反射率低下に有効な反
射防止膜および反射防止膜を有する画像表示装置に関す
る。特に、量産性と高い膜強度を実現する反射防止膜お
よびそれを配置した表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置の普及、大型化や野
外使用化に伴い、その使用条件下でのタフネス化、例え
ば、反射光耐性（視認性確保）、防汚性や耐熱性の向上
が求められている。表示装置の視認性向上は該装置の主
機能に関わる課題であり、当然その重要性も高く、活発
に視認性向上のための施策が検討されている。一般に視
認性を低下させるのは外光の表面反射による景色の写り
込みであり、これらに対する対処として最表面に反射防
止膜を設ける方法が一般的に行われる。しかしながら、
この反射防止膜はその機能発現のために最表面に設けら
れるため、必然的に反射防止膜の性能に対してタフネス
化の観点から多くの高品質化の課題が集中してくる。例
えば、極限までの反射率低下（反射率１％以下）、指紋
や油脂等の付着防止や易除去性、炎天下や自動車室内の
ような高温環境下での諸性能の維持などである。

【０００３】従来、可視光の波長域を全てカバーできる
性能を有する広波長域／低反射率の反射防止膜として
は、金属酸化物等の透明薄膜を積層させた多層膜が用い
られてきた。単層膜では単色光に対しては有効であるも
のの、ある程度の波長域を有する光に対しては有効に反
射防止できないのに対し、このような多層膜においては
積層数が多いほど広い波長領域で有効な反射防止膜とな
るためである。しかしながら、そのため、従来の反射防
止膜には、物理又は化学蒸着法等の手段によって金属酸
化物等を３層以上積層したものが用いられてきた。この
ような多層蒸着した反射防止膜は、予め最適に設計され
た各層の屈折率と膜厚との関係に従い、その膜厚を高精
度に制御した蒸着を何回も行う必要があり、非常に高コ
ストなものであり、かつ、広い面積の膜を得ることの非
常に困難な大量製造適性に乏しいものであった。

【０００４】一方、上述のような多層膜による方法の他
に、空気との界面において屈折率が除去に変化する様な
膜によって有効な反射防止効果を得る方法が従来知られ
ている。例えば、特開平２−２４５７０２号公報には、
ガラス基板とＭｇＦ₂ の中間の屈折率を持つＳｉＯ₂ 超
微粒子とＭｇＦ₂ 超微粒子を混合してガラス基板に塗布
し、ガラス基板面から塗布膜面に向かって徐々にＳｉＯ
₂ の混合比を減少させてＭｇＦ₂ の混合比を増加させる
事により、塗布面とガラス基板との界面における屈折率
変化が緩やかとなり、反射防止効果が得られる事が記載
されている。

【０００５】また、特開平５−１３０２１号公報には、
エチルシリケート中に分散したＭｇＦ₂ 、ＳｉＯ₂ を有
する超微粒子を用いた二層からなる反射防止膜が開示さ
れている。例えば、第一層は、ＭｇＦ₂ ／ＳｉＯ₂ が７
／３の層で、第二層は、ＭｇＦ₂ ／ＳｉＯ₂ が１／１の
層で、第一層の屈折率が１．４２そして第二層の屈折率
が１．４４である。従って、屈折率変化は大きいとは言
えず、充分な反射防止効果は得られない。

【０００６】更に特開平７−９２３０５号公報には、コ
ア部とその周囲のシェル部からなる屈折率１．４２８の
超微粒子からなり、空気と微粒子とから形成された表面
が凹凸の上層部（低屈折率）と、微粒子のみから形成さ
れた下層部とからなる反射防止膜が、特開平７−１６８
００６号公報には、空気と微粒子（例、ＭｇＦ₂ ）とか
ら形成された表面が凹凸の上層部（低屈折率）、微粒子
のみの中層部（中屈折率）、及び微粒子とバインダーか
ら形成された下層部とからなる反射防止膜が開示されて
いる。

【０００７】しかしながら、前記の特開平２−２４５７
０２号公報、特開平５−１３０２１号公報、特開平７−
９２３０５号公報及び特開平７−１６８００６号公報に
記載の反射防止膜は、空気に対する屈折率が膜厚方向に
徐々に変化する原理を利用したものである。これらの反
射防止膜は、その作成に、煩雑な操作と、熟練した技術
が必要であり、また得られる膜も満足な反射防止効果が
得られていない。

【０００８】また、特公平６−９８７０３号、特開昭６
３−２１６０１号公報にはアルコキシシラン化合物の加
水分解部分縮合物からなる組成物をプラスチック基材表
面に塗布して反射光を低減化させる技術が開示されてい
る。しかしながらこれらの公報に記載の反射防止技術は
基材との屈折率差が小さいため十分な反射防止効果を得
られず、また、塗布する組成物の経時安定性が不足で、
液が数時間で粘度上昇や硬化してしまい、反射防止フィ
ルムを連続塗布で製造するには、適性のないものであっ
た。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、広範
な波長領域において一様に低い反射率（反射率１％以
下）を示し、同時に膜強度、耐久性、耐汚れ付着性、耐
熱性に優れ、また、塗布組成物の経時安定性に優れた反
射防止膜を低コストで、大量かつ大面積製造の適性のあ
る方法で提供することにある。また、その反射防止膜を
配置した表示装置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の上述の課題は、
下記により達成された。 オルガノシランの加水分解物および／またはその部
分縮合物を含有する組成物を塗設して形成された低屈折
率層を有する反射防止膜であって、該低屈折率層が該組
成物の塗布後または該組成物の塗布と同時に、硬化反応
を促進する化合物を含有する組成物を塗布して形成され
たことを特徴とする反射防止膜。

【００１１】本発明における反射防止膜のより好ましい
態様は下記〜であり、また、本発明の反射防止膜を
配置した表示装置は下記〜である。 低屈折率層が(a) 一般式Si(OR¹)₄（式中、Ｒ¹ は炭
素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基
を表す）で表されるアルコキシシランおよび／または
(b) 一般式R²Si(OR³)₃（式中、Ｒ² は炭素数１〜１０の
アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ³ は前記Ｒ¹ に
同義の基を表す）で表されるオルガノシラン、および／
または(c) 一般式R⁴ ₂Si(OR⁵)₂ （式中、Ｒ⁴ は前記Ｒ²
に同義の基、Ｒ⁵ は前記Ｒ¹ に同義の基を表す）で表さ
れるオルガノシランの加水分解物および／またはその部
分縮合物を含有する組成物を塗設して形成されたもので
あることを特徴とする記載の反射防止膜。 低屈折率層が(d) に対して下記(a) を０〜１００重
量％、(b) を０〜２００重量％、(c) を０〜２００重量
％からなり、かつ(a) 〜(c) が同時に０となることはな
い組成物の加水分解物および／またはその部分縮合物か
ら構成される組成物を塗設して形成された低屈折率層で
あることを特徴とする記載の反射防止膜。 (a) 一般式Si(OR¹)₄（式中、Ｒ¹ は炭素数１〜５のアル
キル基または炭素数１〜４のアシル基を表す）で表され
るアルコキシシラン (b) 一般式R²Si(OR³)₃（式中、Ｒ² は炭素数１〜１０の
有機基、Ｒ³ は前記Ｒ ¹ に同義の基を表す）で表される
オルガノシラン (c) 一般式R⁴ ₂Si(OR⁵)₂ （式中、Ｒ⁴ は前記Ｒ² に同義
の基、Ｒ⁵ は前記Ｒ¹に同義の基を表す）で表されるオ
ルガノシラン (d) 末端あるいは側鎖に加水分解性基および／または水
酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を重合体中
に少なくとも１個有するシリル基含有ビニルポリマー 該硬化反応を促進する化合物が下記(e) 〜(h) で表
される化合物群の中から選ばれた少なくとも１種化合物
であることを特徴とするないしに記載の反射防止
膜。 (e) 無機または有機の酸化合物 (f) 無機または有機の塩基化合物 (g) 金属錯体化合物 (h) 有機金属化合物 (i) 金属塩類 該低屈折率層(1) とそれに隣接して屈折率が１．７
以上である高屈折率層(2) からなることを特徴とする
ないしに記載の反射防止膜。 該高屈折率層(2) に隣接し、低屈折率層(1) の反対
側に層(3) を有し、更に屈折率が１．６以下の層(4) を
有するものであって、層(3) が層(4) の屈折率と高屈折
率層(2) の屈折率の中間の屈折率を有することを特徴と
するないしに記載の反射防止膜。 ないしに記載の反射防止膜を配置したことを特
徴とする表示装置。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明は、前記に記載した通り
オルガノシランの加水分解／部分縮合物から形成された
低屈折率層の塗設に当たり硬化反応を促進する化合物を
含有する組成物を塗布することに特徴がある。本発明の
構成要件を詳細に説明する。

【００１３】オルガノシラン オルガノシランは分子内に少なくとも１つの加水分解に
よりシラノールを与えることのできる官能基を有するシ
ラン化合物を表し、本発明の組成物中では、加水分解、
縮合して得られる加水分解物および／または部分縮合物
となり組成物中における結合剤としての働きをするもの
である。一般的には式(R⁹)₄Si で表される化合物であ
る。式中、Ｒ⁹ は炭素数１〜１０のアルキル基またはア
リール基、炭素数１〜５のアルコキシル基または炭素数
１〜４のオキシアシル基、ハロゲン原子を表す。１分子
中の４個のＲ⁹ はこの定義の範疇であれば互いに同じで
あっても異なっていても良く、自由に組み合わせて選択
することができるが、４つが同時に炭素数１〜１０のア
ルキル基またはアリール基になることはない。

【００１４】Ｒ⁹ の具体例は、炭素数１〜１０のアルキ
ル基またはアリール基としてメチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、ｉ−プロピル基などのアルキル基、そのほ
かγ−クロロプロピル基、ビニル基、 CF₃- 、CF₃CH₂CH
₂-、CF₃CH₂CH₂CH₂- 、C₂F₅CH ₂CH₂CH₂-、C₃F₇CH₂CH₂CH
₂-、C₂F₅CH₂CH₂- 、CF₃OCH₂CH₂CH₂-、C₂F₅OCH₂CH₂CH
₂-、C₃F₇OCH₂CH₂CH₂- 、(CF₃)₂CHOCH₂CH₂CH₂- 、C₄F₉CH
₂OCH₂CH₂CH₂-、３−（パーフルオロシクロヘキシルオキ
シ）プロピル、H(CF₂)₄CH₂OCH₂CH₂CH₂- 、H(CF₂)₄CH₂CH
₂CH₂- 、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリル
オキシプロピル基、γ−メルカプトプロピル基、フェニ
ル基、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基などが
挙げられる。炭素数１〜５のアルコキシ基または炭素数
１〜４のオキシアシル基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ
−ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ア
セトキシ基、ハロゲンとしてはフッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素などを挙げられる。

【００１５】これらのオルガノシランの具体例として
は、以下で説明する(a) 〜(c) 成分のものを挙げること
ができる。 (a) 成分 (a) 成分は、一般式Si(OR¹)₄で表されるアルコキシシラ
ンであり、本発明の組成物中では、加水分解、縮合して
得られる加水分解物および／または部分縮合物となり組
成物中における結合剤としての働きをするものである。
かかるアルコキシシラン中のＲ¹ は、炭素数１〜５のア
ルキル基または炭素数１〜４のアシル基であり、例えば
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、sec-ブチル基、tert−ブチル基、ア
セチル基などが挙げられる。

【００１６】これらのアルコキシシランの具体例として
は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トラｎ−プロポキシシラン、テトラ-i−プロポキシシラ
ン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−アセトキシ
シランなどを挙げることができる。上記アルコキシシラ
ンは１種単独でも、その２種以上を併用しても良い。

【００１７】(b) 成分 (b) 成分は、一般式R²Si(OR³)₃で表されるオルガノシラ
ンであり、本発明の組成物中では、加水分解、縮合して
得られる加水分解物および／または部分縮合物となり組
成物中における結合剤としての働きをするものである。
かかるオルガノシラン中のＲ² は、炭素数１〜１０の有
機基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基などのアルキル基、そのほかγ−ク
ロロプロピル基、ビニル基、CF₃-、CF₃CH₂- 、CF₃CH₂CH
₂-、CF₃CH₂CH₂CH₂- 、C₂F₅CH₂CH₂CH₂-、C₃F₇CH₂CH₂CH
₂-、C₂F₅CH₂CH₂- 、CF₃OCH₂CH₂CH₂-、C₂F₅OCH₂CH₂CH₂-
、C₃F₇OCH₂CH₂CH₂- 、(CF₃)₂CHOCH₂CH₂CH₂- 、C₄F₉CH₂
OCH₂CH₂CH₂-、３−（パーフルオロシクロヘキシルオキ
シ）プロピル、H(CF₂)₄CH₂OCH₂CH₂CH₂- 、H(CF₂)₄CH₂CH
₂CH₂- 、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリル
オキシプロピル基、γ−メルカプトプロピル基、フェニ
ル基、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基などが
挙げられる。また、オルガノシラン中のＲ³ は、炭素数
１〜５のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基であ
り、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、sec-ブチル基、tert−ブチ
ル基、アセチル基などが挙げられる。

【００１８】これらのオルガノシランの具体例として
は、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシ
シラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピ
ルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラ
ン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエト
キシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリ
メトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，４
−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、
３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシ
ラン、CF₃CH₂CH₂Si(OCH₃)₃、CF₃CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃ 、
C₂H₅CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃、C₂F₅CH₂CH₂Si(OCH₃)₃ 、C₃F₇
CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃、C₂F₅OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃ 、C₃F₇
OCH₂CH₂CH₂Si(OC₂H₅)₃、(CF₃)₂CHOCH₂CH₂CH₂Si(OC
H₃)₃ 、C₄F₉CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃、H(CF₂)₄CH₂OCH₂C
H₂CH₂Si（OCH₃）₃ 、３−（パーフルオロシクロヘキシ
ルオキシ）プロピルシラン等を挙げることができる。

【００１９】このうち、フッ素原子を有するオルガノシ
ランが好ましい。また、Ｒ² としてフッ素原子を有さな
いオルガノシランを用いる場合、メチルトリメトキシシ
ランまたはメチルトリエトキシシランを用いる事が好ま
しい。上記のオルガノシランは１種単独で使用してもよ
いし、２種以上を併用する事もできる。

【００２０】(c) 成分 (c) 成分は、一般式R⁴ ₂Si(OR⁵)₂ （式中、Ｒ⁴ およびＲ
⁵ は前記(b) 成分に使用されるオルガノシランで定義さ
れたＲ² およびＲ³ と同義）で表されるジオルガノシラ
ンである。ただし、Ｒ⁴ およびＲ⁵ は(b) 成分と同じ置
換基でなくてもよい。本発明の組成物中では加水分解、
縮合して得られる加水分解物および／または部分縮合物
となり、組成物中における結合剤としての働きをすると
ともに、塗膜を柔軟化し耐アルカリ性を向上させるもの
である。

【００２１】これらのジオルガノシランの具体例は、ジ
メチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、
ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラ
ン、ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロ
ピルジエトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジメトキシシ
ラン、ジ−ｉ−プロピルジエトキシシラン、ジフェニル
ジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、(CF₃
CH₂CH₂)₂Si(OCH₃)₂ 、(CF₃CH₂CH₂CH₂)₂Si(OCH₃)₂、(C₃F
₇OCH₂CH₂CH₂)₂Si(OCH₃)₂、〔H(CF₂)₆CH₂OCH₂CH₂CH₂〕₂
Si(OCH₃)₂ 、(C₂F₅CH₂CH₂)₂Si(OCH₃)₂などを挙げる事が
でき、好ましくはフッ素原子を有するオルガノシランで
ある。またＲ⁴ としてフッ素原子有さないオルガノシラ
ンを用いる場合には、ジメチルジメトキシシラン、ジメ
チルジエトキシシランが好ましい。このようなR⁴ ₂Si(OR
⁵)₂ で表されるオルガノシランは、１種単独で用いても
よいし、あるいは２種以上を併用することもできる。
(c) 成分の本発明の組成物中における割合は、(a) 及び
(b) 成分に対して０〜１５０重量％、好ましくは５〜１
００重量％、さらに好ましくは１０〜６０重量％であ
り、１５０重量％を超えると得られる塗膜の密着性、硬
化性が低下する。

【００２２】(d) シリル基含有ビニルポリマー (d) シリル基含有ビニルポリマーは、主鎖がビニル系重
合体からなり、末端あるいは側鎖に加水分解性基および
／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基
を重合体１分子中に少なくとも１個、好ましくは２個以
上含有するものであり、該シリル基の多くは、下記一般
式

【００２３】

【化１】

【００２４】（式中、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ
基、アシロキシ基、アミノキシ基、フェノキシ基、チオ
アルコキシ基、アミノ基などの加水分解性基および／ま
たは水酸基、Ｒ¹⁰は水素原子、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、または炭素数１〜１０のアラルキル基、ａは１〜
３の整数である）で表される。

【００２５】(d) シリル基含有ビニルポリマーは、
（イ）ヒドロシラン化合物を炭素−炭素二重結合を有す
るビニルポリマーと反応させることにより製造してもよ
く、また（ロ）下記一般式

【００２６】

【化２】

【００２７】（ただし、Ｘ、Ｒ¹⁰、ａは前記に同じ、Ｒ
¹¹は重合性二重結合を有する有機基である）で表される
シラン化合物と、各種ビニル系化合物とを重合すること
により製造してもよく、その製造方法は限定されるもの
ではない。

【００２８】ここで、前記（イ）で示される製造方法で
使用されるヒドロシラン化合物としては、例えばメチル
ジクロルシラン、トリクロルシラン、フェニルジクロル
シランなどのハロゲン化シラン類；メチルジエトキシシ
ラン、メチルジメトキシシラン、フェニルジメトキシシ
ラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシランなどの
アルコキシシラン類；メチルジアセトキシシラン、フェ
ニルジアセトキシシラン、トリアセトキシシランなどの
アシロキシシラン類；メチルジアミノキシシラン、トリ
アミノキシシラン、ジメチルアミノキシシラン、トリア
ミノシランなどのアミノシラン類が挙げられる。

【００２９】また、（イ）で示される製造方法で使用さ
れるビニルポリマーとしては、水酸基を含むビニルポリ
マーを除く以外に特に限定はなく、例えば（メタ）アク
リル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）ア
クリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メ
タ）アクリル酸２−エチルヘキシル、ベンジル（メタ）
アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレートな
どの（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル
酸、イタコン酸、フマル酸などのカルボン酸および無水
マレイン酸などの酸無水物；グリシジル（メタ）アクリ
レートなどのエポキシ化合物；ジエチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、アミノエチルビニルエーテルな
どのアミノ化合物；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−
ブチル（メタ）アクリルアミド、イタコン酸ジアミド、
α−エチルアクリルアミド、クロトンアミド、フマル酸
ジアミド、マレイン酸ジアミド、Ｎ−ブトキシメチル
（メタ）アクリルアミドなどのアミド化合物；アクリロ
ニトリル、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチ
レン、塩化ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、
Ｎ−ビニルピロリドン、

【００３０】

【化３】

【００３１】

【化４】

【００３２】

【化５】

【００３３】などから選ばれるビニル系化合物をアリル
メタクリレートのような側鎖に二重結合を有するモノマ
ーと共重合したビニルポリマーが好ましく、共重合モノ
マーとして含フッ素モノマーを少くとも１種用いたもの
が特に好ましい。

【００３４】一方、（ロ）で示される製造方法で使用さ
れるシラン化合物としては、次のものが挙げられる。

【００３５】

【化６】

【００３６】

【化７】

【００３７】また、（ロ）で示される製造方法で使用さ
れるビニル系化合物としては、前記（イ）の製造方法で
ビニルポリマーの重合時に用いられるビニル系化合物を
使用することが可能であるが、かかる（イ）の製造方法
に記載された以外に、２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシビニルエーテル、Ｎ−メチロール
アクリルアミドなどの水酸基を含むビニル系化合物を挙
げることもできる。また、含フッ素モノマーを１種用い
たものが特に好ましい。

【００３８】以上のようなシリル基含有ビニルポリマー
の好ましい具体例としては、例えば下記一般式

【００３９】

【化８】

【００４０】（式中、Ｒ¹²、Ｒ¹⁴は水素原子、フッ素原
子またはメチル基、Ｒ¹³は水素原子、炭素数１〜１２の
アルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
アリル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｎ−ペンテル、ｎ−
ヘキシル、ベンジル、(CF₃)₂CH- 、CF₃CH₂- 、C₇F₁₅CH₂
- 、C₂F₁₅CH₂CH₂-、等の(a) 成分で説明したフッ素原子
を含むアルキル基）を表し、Ｒ¹⁵はメチレン基、エチレ
ン基、プロピレン基、ブチレン基などの炭素数１〜４の
アルキレン基、Ｒ¹⁶はＲ¹³と同様であり、ｍ／（１＋
ｍ）＝０．０１〜０．４、好ましくは０．０２〜０．２
である）で表されるトリアルコキシシリル基含有アクリ
ル重合体を挙げることができる。このシリル基含有ビニ
ルポリマーの数平均分子量は、好ましくは2,000 〜100,
000 、さらに好ましくは4,000 〜50,000である。

【００４１】以上のような本発明に使用される(d) シリ
ル基含有ビニルポリマーの具体例としては、鐘淵化学工
業（株）製、カネカゼムラックや下記のポリマーを挙げ
ることができるが、これらに限定されるものではない。

【００４２】Ｐ−１ メチルメタクリレート／γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン（９０／１０：
重量比） Ｐ−２ ｎ−ブチルメタクリレート／γ−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン（８５／１５：重量比） Ｐ−３ メチルメタクリレート／γ−アクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン（８０／２０：重量比） Ｐ−４ メチルメタクリレート／γ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン（７０／３０：重量比） Ｐ−５ メチルメタクリレート／エチルアクリレート／
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（５０
／３５／１５：重量比）

【００４３】Ｐ−６ エチルメタクリレート／γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン（８０／２０：
重量比） Ｐ−７ ｎ−ブチルメタクリレート／スチレン／γ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン（５０／３５
／１５：重量比） Ｐ−８ メチルメタクリレート／シクロヘキシルアクリ
レート／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン（４０／４５／１５：重量比） Ｐ−９ メチルメタクリレート／メチルアクリレート／
γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（４０／
４０／２０：重量比） Ｐ−10 メチルメタクリレート／ｎ−ブチルアクリレー
ト／ビニルトリメトキシシラン（６０／３０／１０：重
量比）

【００４４】Ｐ−11 FM-1／γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン（８５／１５：重量比） Ｐ−12 FM-4／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン（８５／１５：重量比） Ｐ−13 FM-2／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン（８５／１５：重量比） Ｐ−14 FM-4／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン（７０／３０：重量比） Ｐ−15 FM-4/FM-7/γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン（３０／５５／１５：重量比）

【００４５】Ｐ−16 FM-2/FM-4/γ−アクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン（３０／５０／２０：重量比） Ｐ−17 FM-3/FM-4/γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン（２５／６０／１５：重量比） Ｐ−18 FM-9／メチルメタクリレート／γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン（６０／２５／１５：
重量比） Ｐ−19 FM-7／メチルメタクリレート／γ−アクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン（４０／４５／１５：重
量比） Ｐ−20 FM-4／メチルメタクリレート／ビニルトリメト
キシシラン（６５／２０／１５：重量比） (d) シリル基含有ビニルポリマーの組成物中の割合は、
(b) 成分の原料であるオルガノシランに対し、０〜２０
０重量％、好ましくは２〜１５０重量％、さらに好まし
くは１０〜１００重量％であり、２重量％未満では、得
られる塗膜の耐アルカリ性が低く、一方２００重量％を
超えると得られる塗膜の耐久性の悪化を招く。または、
(d) 成分に対して、(a) を０〜１００重量％、(b) を０
〜２００重量％、(c) を０〜２００重量％からなり、か
つ(a) 〜(c) が同時に０となることはないことが好まし
い。

【００４６】本発明の低屈折率層は上述の方法で調製し
た有機珪素を主成分とする網目高分子構造により形成さ
れている。この網目構造を構築する主成分（モノマー）
は上述の(a) ないし(d) の化合物である。これら有機珪
素モノマー化合物の本発明における好ましい組み合わせ
について下記および実施例に例示する。混合比はゾル液
調製時に使用した各化合物の重量(g) を示す。

【００４７】ＳＰ−１ メチルトリメトキシシラン １０ｇ、ジメチルジメトキ
シシラン ５ｇ、上記化合物Ｐ−１２ ２．５ｇ ＳＰ−２ メチルトリメトキシシラン １２ｇ、ジメチルジエトキ
シシラン ８ｇ、３，３，３−トリフルオロプロピルト
リメトキシシラン ４ｇ、上記化合物Ｐ−１２ ３ｇ ＳＰ−３ テトラエトキシシラン １５ｇ、３，３，３−トリフル
オロブチルトリエトキシシラン １５ｇ ＳＰ−４ テトラエトキシシラン １０ｇ、ジメチルジメトキシシ
ラン ５ｇ、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエ
トキシシラン １０ｇ、上記化合物Ｐ−１２１．５ｇ ＳＰ−５ メチルトリメトキシシラン １０ｇ、ジメチルジメトキ
シシラン ５ｇ、３−パーフルオロエトキシプロピルト
リメトキシシラン ５ｇ、上記化合物Ｐ−５２．５ｇ ＳＰ−６ テトラエトキシシラン １０ｇ、ビス（３，３，３−ト
リフルオロプロピル）ジエトキシシラン ５ｇ、上記化
合物Ｐ−７ ３ｇ ＳＰ−７ テトラエトキシシラン ５ｇ、メチルトリメトキシシラ
ン １０ｇ、ジメチルジメトキシシラン ５ｇ、３，
３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン １
２ｇ ＳＰ−８ シクロヘキシルトリメトキシシラン １８ｇ、ビス
（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリエトキシシ
ラン １２ｇ、テトラエトキシシラン １５ｇ ＳＰ−９ テトラエトキシシラン １２ｇ、ジメチルジクロロシラ
ン １０ｇ、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエ
トキシシラン １５ｇ ＳＰ−10 メチルトリエトキシシラン １２ｇ、ジメチルジメトキ
シシラン ５ｇ、ビス（３，３，３−トリフルオロプロ
ピル）トリメトキシシラン ５ｇ、上記化合物Ｐ−８
４．５ｇ

【００４８】本発明において、以下の説明中で上記のオ
ルガノシラン類の加水分解／部分縮合物の塗布組成物を
「ゾル液」、このゾル液塗布時に用いられる硬化反応を
促進する化合物を含有する組成物の液を「促進液」と称
す。また、ゾル液と促進液の２液を同時に低屈折率層を
形成したい基材の表面に塗布することを「同時塗布」、
ゾル液塗布後、完全または不完全乾燥した状態で促進液
をゾル液塗布面上に塗布することを「オーバーコート
（ＯＣ）」と称する。

【００４９】本発明の促進液に用いられる硬化反応促進
化合物としては特に制限はなく、用いたゾル液の構成成
分に応じて縮合反応を促進可能な成分を有するものであ
れば好適に用いることができる。一般的に有効なのは下
記(e) 〜(h) の化合物群であり、これらの中から好まし
い化合物を必要量添加することができる。また、これら
の群の中から２種以上をお互いの促進効果が阻害されな
い範囲内で適宜選択して併用することができる。なお、
硬化反応を促進化合物はオルガノシランに対して１〜２
０重量％用いることが好ましい。

【００５０】(e) 成分 (e) の無機酸としては、塩酸、臭化水素、ヨウ化水素、
硫酸、亜硫酸、硝酸、亜硝酸、燐酸、亜燐酸など、有機
酸化合物としてはカルボン酸類（蟻酸、酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、コハク酸、シクロヘキサンカルボン酸、オ
クタン酸、マレイン酸、２−クロロプロピオン酸、シア
ノ酢酸、トリフルオロ酢酸、パーフルオロオクタン酸、
安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、フタル酸など）、
スルホン酸類（メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、
トリフルオロメタンスルホン酸）、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸など）、燐酸
・ホスホン酸類（燐酸ジメチルエステル、フェニルホス
ホン酸など）、ルイス酸類（三フッ化ホウ素エーテラー
ト、スカンジウムトリフレート、アルキルチタン酸、ア
ルミン酸など）、ヘテロポリ酸（燐モリブデン酸、燐タ
ングステン酸など）を挙げることができる。

【００５１】(f) 成分 (f) の無機塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化
アルミニウム、アンモニアなど、有機塩基化合物として
はアミン類（エチレンジアミン、ジエチレントリアミ
ン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミ
ン、トリエチルアミン、ジブチルアミン、テトラメチル
エチレンジアミン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリ
ン、エタノールアミン、ジアザビシクロウンデセン、キ
ヌクリジン、アニリン、ピリジンなど）、ホスフィン類
（トリフェニルホスフィン、トリメチルホスフィンな
ど）、金属アルコキサイド（ナトリウムメチラート、カ
リウムエチラートなど）を挙げることができる。

【００５２】(g) 成分 (g) の金属キレート化合物は、一般式Ｒ¹⁷ＯＨ（式中、
Ｒ¹⁷は炭素数１〜６のアルキル基を示す）、で表される
アルコールとＲ¹⁸ＣＯＣＨ₂ ＣＯＲ¹⁹（式中、Ｒ¹⁸は炭
素数１〜６のアルキル基、Ｒ¹⁹は炭素数１〜５のアルキ
ル基または炭素数１〜１６のアルコキシ基を示す）で表
されるジケトンを配位子とした、遷移金属を中心金属と
するものであれば特に制限なく好適に用いることができ
る。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物
を併用しても良い。本発明の(g) 金属キレート化合物と
して特に好ましいものは中心金属にＡｌ、Ｔｉ、Ｚｒを
有するものであり、一般式 Zr(OR¹⁷) _p1(R¹⁸COCHCOR¹⁹)
_p2 、Ti (OR¹⁷) _q1(R¹⁸COCHCOR¹⁹) _q2 および Al(O
R¹⁷) _r1(R¹⁸COCHCOR¹⁹) _r2 で表される化合物群から選
ばれるものが好ましく、前記(a) 〜(c) 成分と(d) シリ
ル基含有ビニル系樹脂との縮合反応を促進する作用をな
す。

【００５３】(g) 金属キレート化合物中のＲ¹⁷およびＲ
¹⁸は、同一または異なってもよく炭素数１〜６のアルキ
ル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ｎ−ブチル基、sec −ブチル基、ｔ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ
⁵ は、前記と同様の炭素数１〜６のアルキル基のほか、
炭素数１〜１６のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エ
トキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−
ブトキシ基、sec −ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ラウ
リル基、ステアリル基などである。また、(g) 金属キレ
ート化合物中のｐ ₁ 〜ｒ₂ は４あるいは６座配位となる
様に決定される整数を表す。

【００５４】これらの(g) 金属キレート化合物の具体例
としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテート
ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトア
セテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチル
アセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プ
ロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス
（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキ
ス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジル
コニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エ
チルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ
・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロ
ポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチ
タニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセ
トアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチル
アセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチ
ルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビ
ス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エ
チルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチ
ルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナ
ート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムな
どのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。こ
れらの(g) 金属キレート化合物のうち好ましいものは、
トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウ
ム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チ
タニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートア
ルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミ
ニウムである。これらの(g) 金属キレート化合物は、１
種単独であるいは２種以上混合して使用することができ
る。また、(g) 成分としては、これらの金属キレート化
合物の部分加水分解物を使用することもできる。

【００５５】(g) 金属キレート化合物の組成物中の割合
は、ゾル液の原料であるオルガノシランに対し、０．０
１〜５０重量％、好ましくは０．１〜５０重量％、さら
に好ましくは０．５〜１０重量％である。

【００５６】(h) 成分 (h) の好ましい有機金属化合物としては特に制限はない
が有機遷移金属が活性が高く、好ましい。中でもスズの
化合物は安定性と活性が良く特に好ましい。これらの具
体的化合物例としては、(C₄H₉)₂Sn(OCOC₁₁H₂₃)₂ 、(C₄H
₉)₂Sn(OCOCH=CHCOOCH₃)₂、(C₄H₉)₂Sn(OCOCH=CHCOOC₄H₉)
₂ 、(C₈H₁₇)₂Sn(OCOC₁₁H₂₃)₂、(C₈H₁₇)₂Sn(OCOCH=CHCOO
CH₃)₂ 、(C₈H₁₇)₂Sn(OCOCH=CHCOOC₄H₉)₂、(C₈H₁₇)₂Sn(O
COCH=CHCOOC₈H₁₇)₂ 、Sn(OCOCC₈H₁₇)₂などのカルボン酸
型有機スズ化合物；(C₄H₉)₂Sn(SCH₂COOC₈H₁₇)₂、(C₄H₉)
₂Sn(SCH₂COOC₈H₁₇)₂、(C₈H₁₇)₂Sn(SCH₂COOC₈H₁₇)₂ 、(C
₈H ₁₇)₂Sn(SCH₂CH₂COOC₈H₁₇)₂、(C₈H₁₇)₂Sn(SCH₂COOC₈H
₁₇)₂ 、(C₈H₁₇)₂Sn(SCH₂COOC₁₂H₂₅)₂、

【００５７】

【化９】

【００５８】などのメルカプチド型有機スズ化合物

【００５９】

【化１０】

【００６０】などのスルフィド型有機スズ化合物

【００６１】(C₄H₉)₂SnO、(C₈H₁₇)₂SnO 、または(C₄H₉)
₂SnO、(C₈H₁₇)₂SnO などの有機スズオキサイドとエチル
シリケートマレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、
フタル酸ジオクチルなどのエステル化合物との反応生成
物などの有機スズ化合物などを挙げることができる。

【００６２】(i) 成分 (i) の金属塩類としては有機酸のアルカリ金属塩（例え
ばナフテン酸ナトリウム、ナフテン酸カリウム、オクタ
ン酸ナトリウム、２−エチルヘキサン酸ナトリウム、ラ
ウリル酸カリウムなど）が好ましく用いられる。

【００６３】本発明の「ゾル液」および「促進液」には
上記成分の外に必要に応じて種々の化合物を添加して使
用することができる。以下に主な併用素材を挙げて説明
する。

【００６４】Ａ：溶媒 溶媒はゾル液中の(a) 〜(d）成分および促進液中の(e)
〜（i)成分を均一に混合させ、本発明の組成物の固形分
調整をすると同時に、種々の塗布方法に適用できるよう
にし、組成物の分散安定性及び保存安定性を向上させる
ものである。これらの溶媒は上記目的の果たせるもので
あれば特に限定されない。また、ゾル液と促進液の溶媒
は同じであっても異なっていても良いが、ＯＣ法で製造
する場合には完全または不完全に乾燥された下層の膜に
対して浸透性の高い溶剤を用いると促進化合物の膜内拡
散が起こり易いため、効果的な硬化促進が図れて好まし
い。これらの溶媒の好ましい例として、例えば水、アル
コール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、
エステル類等が好適である。

【００６５】このうち、アルコール類としては、例えば
１価アルコールまたは２価アルコールを挙げることがで
き、このうち１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽
和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類
の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロ
ピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチル
アルコール、sec −ブチルアルコール、tert−ブチルア
ルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノ
ブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエ
ーテルなどを挙げることができる。

【００６６】また、芳香族炭化水素類の具体例として
は、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類
の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
ど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケト
ンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げ
ることができる。これらの(e) 有機溶媒は、１種単独で
あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
(e) 有機溶媒の組成物中の割合は特に限定されるもので
はなく、全固形分濃度を使用目的に応じて調節する量が
用いられる。

【００６７】Ｂ：キレート配位子化合物 促進液に(g）金属錯体化合物を用いる場合、硬化反応速
度の調節や液安定性向上の観点でキレート配位能のある
化合物を用いることも好ましい。好ましく用いられるも
のとしては一般式R¹⁸COCH₂COR^1９ で表されるβ−ジケ
トン類および／またはβ−ケトエステル類であり、本発
明の組成物の安定性向上剤として作用するものである。
すなわち、前記促進液中に存在する(g) 金属キレート化
合物（好ましくはジルコニウム、チタニウムおよび／ま
たはアルミニウム化合物）中の金属原子に配位すること
により、これらの金属キレート化合物による(a) 〜(d)
成分の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる膜の
硬化速度をコントロールするものと考えられる。Ｒ¹⁸お
よびＲ¹⁹は、前記(g) 金属キレート化合物を構成するＲ
¹⁸およびＲ¹⁹と同義であるが、使用に際して同一構造で
ある必要はない。

【００６８】このβ−ジケトン類および／またはβ−ケ
トエステル類の具体例としては、アセチルアセトン、ア
セト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−
プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ
−ブチル、アセト酢酸−sec-ブチル、アセト酢酸−ｔ−
ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン
−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタ
ン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘ
キサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのう
ち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好まし
く、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジ
ケトン類および／またはβ−ケトエステル類は、１種単
独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。
かかるβ−ジケトン類および／またはβ−ケトエステル
類は、(g) 金属キレート化合物１モルに対し２モル以
上、好ましくは３〜２０モルであり、２モル未満では得
られる組成物の保存安定性に劣るものとなる。

【００６９】Ｃ：水 本発明の好ましいゾル液には、前記(a) 〜(d) 成分を主
成分した混合物の加水分解・縮合用として水を添加す
る。水の使用量は、(a) 〜(d) 成分１モルに対し、通
常、１．２〜３．０モル、好ましくは１．３〜２．０モ
ル、程度である。本発明の好ましいゾル液及び促進液
は、その全固形分濃度が、０．１〜５０重量％、好まし
くは１〜４０重量％であり、５０重量％を超えると、組
成物の保存安定性が悪化して好ましくない。

【００７０】Ｄ：充填剤 本発明のゾル液には、得られる塗膜の硬度向上を目的と
してコロイド状シリカを添加することも可能である。こ
のコロイド状シリカとしては、水分散コロイド状シリ
カ、メタノールもしくはイソプロピルアルコールなどの
有機溶媒分散コロイド状シリカを挙げることができる。

【００７１】本発明の組成物には、得られる塗膜の着
色、凹凸性の付与、下地への紫外線透過防止、防蝕性の
付与、耐熱性などの諸特性を発現させるために、上記コ
ロイド状シリカの他に充填材を添加・分散させることも
可能である。この充填材としては、例えば有機顔料、無
機顔料などの非水溶性の顔料または顔料以外の粒子状、
繊維状もしくは鱗片状の金属および合金ならびにこれら
の酸化物、水酸化物、炭化物、窒化物、硫化物などが挙
げられる。この充填材の具体例としては、粒子状、繊維
状もしくは鱗片状の鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、
銀、亜鉛、フェライト、カーボンブラック、ステンレス
鋼、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸
化クロム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、
酸化コバルト、合成ムライト、水酸化アルミニウム、水
酸化鉄、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレ
ー、ケイソウ土、消石灰、石膏、タルク、炭酸バリウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウ
ム、ベントナイト、雲母、亜鉛緑、クロム緑、コバルト
緑、ビリジアン、ギネー緑、コバルトクロム緑、シェー
レ緑、緑上、マンガン緑、ピグメントグリーン、群青、
紺青、ピグメントグリーン、岩群青、コバルト青、セル
リアンブルー、ホウ酸銅、モリブデン青、硫化銅、コバ
ルト紫、マルス紫、マンガン紫、ピグメントバイオレッ
ト、亜酸化鉛、鉛酸カルシウム、ジンクエロー、硫化
鉛、クロム黄、黄土、カドミウム黄、ストロンチウム
黄、チタン黄、リサージ、ピグメントエロー、亜酸化
銅、カドミウム赤、セレン赤、クロムバーミリオン、ベ
ンガラ、亜鉛白、アンチモン白、塩基性硫酸鉛、チタン
白、リトポン、ケイ酸鉛、酸化ジルコン、タングステン
白、鉛亜鉛華、バンチソン白、フタル酸鉛、マンガン
白、硫酸鉛、黒鉛、ボーン黒、ダイヤモンドブラック、
サーマトミック黒、植物性黒、チタン酸カリウムウィス
カー、二硫化モリブデンなどを挙げることができる。

【００７２】これらの充填材の平均粒径または平均長さ
は、通常、５〜５００nm、好ましくは１０〜２００nmで
ある。充填材を用いる場合の組成物中の割合は、(a) 〜
(d)成分の全固形分１００重量部に対し、１０〜３００
重量部程度である。

【００７３】Ｅ：その他の添加物 本発明のゾル液及び促進液には、そのほかオルトギ酸メ
チル、オルト酢酸メチル、テトラエトキシシランなどの
公知の脱水剤、各種界面活性剤、前記以外のシランカッ
プリング剤、チタンカップリング剤、染料、分散剤、増
粘剤、レベリング剤などの添加剤を添加することもでき
る。

【００７４】さらに、本発明のゾル液中には、前記溶媒
以外の溶剤を含有させることができ、かかる溶剤として
は、前記(a) 〜(d) 成分を混合した際に、沈澱を生起し
ない溶剤であればどのようなものでもよく、一般の塗
料、コーティング剤などに用いられる脂肪族炭化水素
類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ケトン
類、エステル類、エーテル類、ケトンエーテル類、ケト
ンエステル類、エステルエーテル類などを挙げることが
でき、この具体例としては例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソアミルなどである。これらの有機溶
剤は、本発明の組成物１００重量部に対し、通常、１０
０重量部以下程度使用される。

【００７５】本発明のゾル液を調製するに際しては、ま
ず前記(a) 〜(d) 成分を含有する組成物を調製し、これ
に水を添加して加水分解する方法であれば如何なる方法
でもよい。この時必要に応じて加水分解を促進するため
に触媒を用いても良い。用いる触媒の量は、液の経時安
定性を損なわない範囲であれば特に制限はない。例えば
下記〜の調製方法が好ましい。 (a)〜(d) 成分と溶媒及び加水分解触媒からなる溶液
に、オルガノシラン類１モルに対し０．２〜３モルの水
を加えて加水分解・縮合反応を行う方法。

【００７６】 (a)〜(c) 成分と溶媒からなる溶液に、
オルガノシラン類１モルに対し０．２〜３モルの水を加
えて加水分解・縮合反応を行い、次いで(d) シリル基含
有ビニルポリマーと加水分解触媒を添加する方法。 (a)〜(c) 成分と溶媒及び加水分解触媒からなる溶液
に、オルガノシラン類１モルに対し０．２〜３モルの水
を加えて加水分解・縮合反応を行い、次いで(d) シリル
基含有ビニルポリマーを加えて混合し、さらに縮合反応
を行なう方法。

【００７７】本発明のソル液及び促進液をカーテンフロ
ーコート、ディップコート、スピンコート、ロールコー
ト等の塗布法によって、透明フィルムあるいは高または
中屈折率層等に塗布し、常温での乾燥、あるいは３０〜
２００℃程度の温度で１分〜１００時間程度加熱するこ
とにより、低屈折率層は形成される。

【００７８】同時重層塗布をする場合には多段の吐出口
を有するスライドギーサー上で下層塗布液と上層塗布液
のそれぞれが必要な塗布量になる様に吐出流量を調整
し、形成した多層流を連続的に支持体に乗せ、乾燥させ
る方法（同時重層法）が特に好ましい。

【００７９】本発明の反射防止膜は、上記の方法で組成
物を塗設して形成された低屈折率層(1) が、それよりも
高い屈折率を有する高屈折率層(2) の上に形成され、２
層以上の層より構成されることが好ましい。低屈折率層
の屈折率は１．４５以下が好ましく、特に１．４０以下
が好ましい。高屈折率層の屈折率は１．７以上が好まし
く、特に１．７５以上が好ましい。また、これらの層が
支持体、好ましくは透明フィルム上に塗設されているこ
とが好ましい。

【００８０】また、本発明の反射防止膜は、上記の方法
で組成物を塗設して形成された低屈折率層(1) が、それ
よりも高い屈折率を有する高屈折率層(2) の上に形成さ
れ、高屈折率層(2) に隣接し、低屈折率層(1) の反対側
に中屈折率層(3) が、さらに層(4) （支持体下塗など）
の屈折率と高屈折率層の屈折率の中間の屈折率を有する
中屈折率層の上に高屈折率層が形成された４層より構成
されることが特に好ましい。低屈折率層に隣接する高屈
折率層の屈折率として、１．７以上が好ましく、特に
１．７５以上が好ましい。また、これらの層が支持体、
好ましくは透明フィルム上に塗設されていることが好ま
しい。

【００８１】それぞれの層の膜厚は、層(1) が５０〜２
００nm、層(2) が５０〜２００nm、層(3) が５０〜２０
０nm、層(4) が１μｍ〜１００μｍが好ましく、更に好
ましくは層(1) が６０〜１５０nm、層(2) が５０〜１５
０nm、層(3) が６０〜１５０nm、層(4) が５〜２０μ
ｍ、特に好ましくは層(1) が６０〜１２０nm、層(2) が
５０〜１００nm、層(3) が６０〜１２０nm、層(4) が５
〜１０μｍである。層(4) は屈折率が１．６０以下であ
ることが好ましく、層(3) は層(2) と層(4) の中間の屈
折率が好ましい。

【００８２】本発明の反射防止膜の代表例を図１に示
す。高屈折率層１２が透明フィルム（支持体）１３上に
形成され、さらに低屈折率層１１が高屈折率層１２上に
形成されている。反射防止膜を構成する層数の増加は、
通常反射防止膜が適用可能な光の波長範囲を拡大する。
これは、金属化合物を用いる従来の多層膜の形成原理に
基づくものである。

【００８３】上記二層を有する反射防止膜では、高屈折
率層１２及び低屈折率層１１がそれぞれ下記の条件(1)
及び(2) を一般に満足する。 mλ／４×０．７＜ｎ₁ ｄ₁ ＜ mλ／４×１．３ (1) nλ／４×０．７＜ｎ₂ ｄ₂ ＜ nλ／４×１．３ (2) 上記式に於て、ｍは正の整数（一般に、１、２又は３）
を表し、ｎ₁ は高屈折率層の屈折率を表し、ｄ₁ は高屈
折率層の層厚（nm）を表し、ｎは正の奇数（一般に、
１）を表し、ｎ₂ は低屈折率層の屈折率を表し、そして
ｄ₂ は低屈折率層の層厚（nm）を表す。高屈折率層の屈
折率ｎ₁ は、一般に透明フィルムより少なくとも０．０
５高く、そして、低屈折率層の屈折率ｎ₂ は、一般に高
屈折率層の屈折率より少なくとも０．１低くかつ透明フ
ィルムより少なくとも０．０５低い。更に、高屈折率層
の屈折率ｎ₁ は、一般に１．７〜２．２の範囲にある。
上記条件(1) 及び(2) は、従来から良く知られた条件で
あり、例えば、特開昭５９−５０４０１号公報に記載さ
れている。

【００８４】本発明の反射防止膜の他の代表例を図２に
示す。下塗層２０と中屈折率層２２が透明フィルム（支
持体）２３上に形成され、高屈折率層２４が中屈折層２
２上に形成され、さらに低屈折率層２１が高屈折率層２
４上に形成されている。中屈折層率２２の屈折率は、高
屈折率層２４と下塗層２０との間の値を有する。図２の
反射防止膜は、図１の反射防止膜に比較して、更に適用
可能な光の波長領域が拡がっている。

【００８５】三層を有する反射防止膜の場合、中、高及
び低屈折率層がそれぞれ下記の条件(3) 〜(5) を一般に
満足する。 ｈλ／４×０．７＜ｎ₃ ｄ₃ ＜ｈλ／４×１．３ (3) ｋλ／４×０．７＜ｎ₄ ｄ₄ ＜ｋλ／４×１．３ (4) ｊλ／４×０．７＜ｎ₅ ｄ₅ ＜ｊλ／４×１．３ (5) 上記式に於て、ｈは正の整数（一般に、１、２又は３）
を表し、ｎ₃ は中屈折率層の屈折率を表し、ｄ₃ は中屈
折率層の層厚（nm）を表し、ｋは正の整数（一般に、
１、２又は３）を表し、ｎ₄ は高屈折率層の屈折率を表
し、ｄ₄ は高屈折率層の層厚（nm）を表し、ｊは正の奇
数（一般に、１）を表し、ｎ₅ は低屈折率層の屈折率を
表し、そしてｄ₅ は低屈折率層の層厚（nm）を表す。中
屈折率層の屈折率ｎ₃ は、一般に１．５〜１．７の範囲
にあり、高屈折率層の屈折率ｎ₄ は、一般に１．７〜
２．２の範囲にある。

【００８６】本発明の反射防止膜は、一般に、支持体と
その上に設けられた低屈折率層からなる。支持体は通
常、透明フィルムである。透明フィルムを形成する材料
としては、セルロース誘導体（例、ジアセチルセルロー
ス、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニル
セルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニ
ルセルロース及びニトロセルロース）、ポリアミド、ポ
リカーボネート（例、米国特許第３，０２３，１０１号
に記載のもの）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレン
テレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシ
エタン−４，４′−ジカルボキシレート及び特公昭４８
−４０４１４号公報に記載のポリエステル）、ポリスチ
レン、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピ
レン及びポリメチルペンテン）、ポリメチルメタクリレ
ート、シンジオタクチックポリスチレン、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリ
エーテルイミド及びポリオキシエチレンを挙げることが
できる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート及
びポリエチレンテレフタレートが好ましい。透明フィル
ムの屈折率は１．４０〜１．６０が好ましい。

【００８７】本発明の反射防止膜が、多層膜である場
合、一般に、低屈折率層は、低屈折率層より高い屈折率
を有する少なくとも一層の層（即ち、前記の高屈折率
層、中屈折率層）と共に用いられる。上記より高い屈折
率を有する層を形成するための有機材料としては、熱可
塑性樹脂（例、ポリスチレン、ポリスチレン共重合体、
ポリカーボネート、ポリスチレン以外の芳香環、複素
環、脂環式環状基を有するポリマー、またはフッ素以外
のハロゲン基を有するポリマー）；熱硬化性樹脂組成物
（例、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ないしエポキシ
樹脂などを硬化剤とする樹脂組成物）；ウレタン形成性
組成物（例、脂環式ないしは芳香族イソシアネートおよ
びポリオールの組み合わせ）；およびラジカル重合性組
成物（上記の化合物（ポリマー等）に二重結合を導入す
ることにより、ラジカル硬化を可能にした変性樹脂また
はプレポリマーを含む組成物）などを挙げることができ
る。高い皮膜形成性を有する材料が好ましい。上記より
高い屈折率を有する層は、有機材料中に分散した無機系
微粒子も使用することができる。上記に使用される有機
材料としては、一般に無機系微粒子が高屈折率を有する
ため有機材料単独で用いられる場合よりも低屈折率のも
のも用いることができる。そのような材料として、上記
に述べた有機材料の他、アクリル系を含むビニル系共重
合体、ポリエステル、アルキド樹脂、繊維素系重合体、
ウレタン樹脂およびこれらを硬化せしめる各種の硬化
剤、硬化性官能基を有する組成物など、透明性があり無
機系微粒子を安定に分散せしめる各種の有機材料を挙げ
ることができる。

【００８８】さらに有機置換されたケイ素系化合物をこ
れに含めることができる。これらのケイ素系化合物は一
般式： Ｒ⁵¹ _m Ｒ⁵² _n ＳｉＺ_(4-m-n) （ここでＲ⁵¹及びＲ⁵²は、それぞれアルキル基、アルケ
ニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、アミ
ノ、メルカプト、メタクリロイルないしシアノで置換さ
れた炭化水素基を表し、Ｚは、アルコキシル基、アルコ
キシアルコキシル基、ハロゲン原子ないしアシルオキシ
基から選ばれた加水分解可能な基を表し、ｍ＋ｎが１ま
たは２である条件下で、ｍ及びｎはそれぞれ０、１また
は２である。）で表される化合物ないしはその加水分解
生成物である。

【００８９】これらに分散される無機系微粒子の好まし
い無機化合物としては、アルミニウム、チタニウム、ジ
ルコニウム、アンチモンなどの金属元素の酸化物を挙げ
ることができる。これらの化合物は、微粒子状で、即ち
粉末ないしは水および／またはその他の溶媒中へのコロ
イド状分散体として、市販されている。これらをさらに
上記の有機材料または有機ケイ素化合物中に混合分散し
て使用する。

【００９０】上記より高い屈折率を有する層を形成する
材料として、被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自
身が液状である無機系材料（例、各種元素のアルコキシ
ド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物
（例、キレート化合物）、活性無機ポリマー）を挙げる
ことができる。これらの好適な例としては、チタンテト
ラエトキシド、チタンテトラ−ｉ−プロポキシド、チタ
ンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−ブト
キシド、チタンテトラ−sec −ブトキシド、チタンテト
ラ−tert−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、
アルミニウムトリ−ｉ−プロポキシド、アルミニウムト
リブトキシド、アンチモントリエトキシド、アンチモン
トリブトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジル
コニウムテトラ−ｉ−プロポキシド、ジルコニウムテト
ラ−ｎ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブト
キシド、ジルコニウムテトラ−sec −ブトキシド及びジ
ルコニウムテトラ−tert−ブトキシドなどの金属アルコ
レート化合物；ジイソプロポキシチタニウムビス（アセ
チルアセトネート）、ジブトキシチタニウムビス（アセ
チルアセトネート）、ジエトキシチタニウムビス（アセ
チルアセトネート）、ビス（アセチルアセトンジルコニ
ウム）、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニ
ウムジ−ｎ−ブトキシドモノエチルアセトアセテート、
アルミニウムジ−ｉ−プロポキシドモノメチルアセトア
セテート及びトリ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモノエ
チルアセトアセテートなどのキレート化合物；さらには
炭素ジルコニルアンモニウムあるいはジルコニウムを主
成分とする活性無機ポリマーなどを挙げることができ
る。上記に述べた他に、屈折率が比較的低いが上記の化
合物と併用できるものとしてとくに各種のアルキルシリ
ケート類もしくはその加水分解物、微粒子状シリカとく
にコロイド状に分散したシリカゲルも使用することがで
きる。

【００９１】本発明の反射防止膜は、表面にアンチグレ
ア機能（即ち、入射光を表面で散乱させて膜周囲の景色
が膜表面に移るのを防止する機能）を有するように処理
することができる。例えば、このような機能を有する反
射防止膜は、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成
し、そしてその表面に反射防止膜（例、低屈折率層等）
を形成することにより得られる。上記微細な凹凸の形成
は、例えば、無機又は有機の微粒子を含む層を透明フィ
ルム表面に形成することにより行なわれる。５０nm〜２
μm の粒径を有する微粒子を低屈折率層形成塗布液に、
０．１〜５０重量％の量で導入し、反射防止膜の最上層
に凹凸を形成しても良い。アンチグレア機能を有する
（即ち、アンチグレア処理された）反射防止膜は、一般
に３〜３０％のヘイズを有する。

【００９２】本発明の反射防止膜（アンチグレア機能を
有する反射防止膜が好ましい）は、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エクレトロル
ミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置
（ＣＲＴ）等の画像表示装置に組み込むことができる。
このような反射防止膜を有する画像表示装置は、入射光
の反射が防止され、視認性が格段に向上する。本発明の
反射防止膜を備えた液晶表示装置（ＬＣＤ）は、たとえ
ば、下記の構成を有する。透明電極を有する一対の基板
とその間に封入されたネマチック液晶からなる液晶セ
ル、及び液晶セルの両側に配置された偏光板からなる液
晶表示装置であって、少なくとも一方の偏光板が表面に
本発明の反射防止膜を備えている液晶表示装置。

【００９３】本発明においては、中間層としてハードコ
ート層、防湿防止層、帯電防止層等を、透明フィルム上
に設けることもできる。ハードコート層としては、アク
リル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー及び／又は
オリゴマー及びモノマー（例、紫外線硬化型樹脂）の他
に、シリカ系の材料も使用することができる。

【００９４】

【実施例】以下に実施例を挙げ本発明を更に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
実施例中、部および％は、特に断らない限り重量基準で
ある。

【００９５】(1) シリル基含有ビニル系樹脂（Ｐ−12）
の調製 還流冷却器、攪拌機を装着した１リットル三ツ口フラスコ
に、フッ素モノマーＦＭ−４を３０．６ｇ、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン５．４ｇを入れ、
窒素気流下７０℃に加熱攪拌した。２，２′−アゾビス
（２，４−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬（株）
よりＶ−６５の名称で市販）４．８ｇをメチルエチルケ
トン２５mlに溶解した溶液を添加すると同時に、２７
５．４ｇのＦＭ−４、γ−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン４８．６ｇに１９．２ｇのＶ−６５を溶
解した溶液の滴下を開始し、等速で６時間かけて滴下し
た。滴下終了後、４．８ｇのＶ−６５と２５mlのメチル
エチルケトン溶液を加え、８０℃でさらに４時間加熱攪
拌を行ったのちメチルエチルケトン２８０mlを加え、冷
却する事により標記Ｐ−１２の溶液６３５ｇを得た。固
形分含量は５４．４％、得られたポリマーのゲルパーミ
エーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算
数平均分子量は９６００であった。

【００９６】(2) 低屈折率層用ゾル液の調製 攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に(b) メチルトリメ
トキシシラン１００ｇ、(c) ジメチルジメトキシシラン
５０ｇ、(d) シリル基含有ビニル樹脂（固形分５０％に
調製）５０ｇ、(e) エタノール４０ｇを加え混合したの
ち、イオン交換水３０ｇを加え、６０℃で４分間反応さ
せたのち、室温まで冷却し、低屈折率層用ゾル液Ａを得
た。必要に応じて(a) テトラエトキシシランを用いて同
様の反応を行ない、表１に示すゾル液Ｂ〜Ｆ、Ｘ、Ｙを
得た。

【００９７】

【表１】

【００９８】(3) 低屈折率層用促進液の調製 攪拌装置を備えた反応器中で下記に示した硬化反応促進
化合物と溶媒を加え混合、必要に応じて加熱溶解して低
屈折率層用促進液イ〜ホを得た。 促進液イ：１０規定塩酸水５ｇとメチルエチルケトン１
００ｇの溶液 促進液ロ：トリフルオロ酢酸２ｇとメチルエチルケトン
１００ｇの溶液 促進液ハ：ジアザビシクロウンデセン３ｇとメチルエチ
ルケトン１００ｇの溶液 促進液ニ：アルミニウムジイソプロポキシアセトアエト
ナート２．７ｇとメチルエチルケトン１００ｇの溶液 促進液ホ：ジブチルジラウリン酸錫３ｇとメチルエチル
ケトン１００ｇの溶液

【００９９】(4) 第１層（ハードコート層）の塗設 ２５重量部のジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサア
クリレート（商品名：ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、
２５重量部のウレタンアクリレートオリゴマー（商品
名：ＵＶ−６３００Ｂ、日本合成化学工業（株）製）、
２重量部の光重合開始剤（商品名：イルガキュアー９０
７、チバ−ガイギー社製）及び０．５重量部の増感剤
（商品名：カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）
を５０重量部のメチルエチルケトンに溶解した塗布液
を、９０μm の厚みを有するＴＡＣフィルム上にワイヤ
ーバーを用いて塗布し、次いで塗布膜に紫外線照射して
ハードコート層（屈折率：１．５３、層厚：５μm ）を
形成した。

【０１００】(5) 第２層（中屈折率層）の塗設 ＴｉＯ₂ の微分散液とバインダーとしてポリメチルメタ
クリレート（屈折率：１．４８）を含む塗布液（固形
分：２重量％、ＴｉＯ₂ ／バインダー＝２２／７８、重
量比）を、ハードコート層の上にワイヤーバーを用いて
塗布し、１００℃で乾燥して、中屈折率層（屈折率：
１．６２、層厚：７８nm）を形成した。 (6) 第３層（高屈折率層）の塗設 ＴｉＯ₂ の微分散液と上記バインダーを含む塗布液（固
形分：２重量％、ＴｉＯ₂ ／バインダー＝６８／３２、
重量比）を、中屈折率層の上にワイヤーバーを用いて塗
布し、１００℃で乾燥して、高屈折率層（屈折率：２．
００、層厚：１２７nm）を形成した。

【０１０１】(7) 第４層（低屈折率層）の塗設 上記の表１の組成物を高屈折率層の上に下記表２に記載
の方法に従って膜厚９５nmとなる様にワイヤーバーを用
いて塗布し、１２０℃、５分間乾燥して低屈折率層を形
成した。層の屈折率は１．３〜１．５の範囲であった。

【０１０２】

【表２】

【０１０３】(8) 塗設フィルムの性能評価 こうして得られた第１〜４層を塗設したフィルムについ
て、表面反射率（光波長４００〜６５０nmの平均反射
率）および膜表面強度の測定を実施した。膜表面強度
は、手指先、ティッシュ、消しゴム、手指爪先でそれぞ
れこすり、目視観察し、手指先こすりで傷付くものを
０、ティッシュでこすり傷付くものを１、消しゴムこす
りで傷付くものを２、手指爪先こすりで傷付くものを
３、どの方法でも傷が認められないものを４とした。結
果を表３に示した。

【０１０４】

【表３】

【０１０５】本実施例から明らかなように、本発明の反
射防止膜は非常に低い表面反射率と広い波長領域を有
し、かつ十分に強靱な膜強度を有していることがわか
る。また、指紋跡もティッシュふき取りで容易に消す事
ができ耐汚れ付着性も良好であった。一方、比較例では
表面反射率あるいは膜強度が不十分のものが多かった。

【０１０６】(9) 塗布液の経時安定性評価 上記で調整したゾル液Ａ〜Ｇ、Ｘ、Ｙを４０℃の温度で
７２時間保存し経時ゾル液Ａ’〜Ｇ’、Ｘ’、Ｙ’を得
た。この経時ゾル液を上記(7) の表２のＡ〜Ｇ、Ｘ、Ｙ
に代え塗布、乾燥して評価用サンプルを得た（表４）。

【０１０７】

【表４】

【０１０８】このサンプルを用いて前述の(8) に記載の
評価方法に従ってフィルムとしての性能を評価した。結
果は表５に示した。

【０１０９】

【表５】

【０１１０】本実施例から明らかなように、本発明の方
法で調製した反射防止膜はその塗布液の経時変化による
性能の劣化や、塗布性適性の低下が殆ど見られなかっ
た。一方、本発明に依らない方法で調製した膜は、たと
え経時保存前には十分な性能を発現可能な液であって
も、経時保存による劣化が著しく、経時後に満足な製造
適性を有するものではなくなってしまった。

【０１１１】(10)（反射防止フィルムを設置した表示装
置の作成） 上記実施例で作成した実施例１〜１１、比較例３の反射
防止フィルムを日本電気株式会社より入手したパーソナ
ルコンピューターＰＣ９８２１ＮＳ／３４０Ｗの液晶デ
ィスプレイ表面に貼り付け、表面装置サンプルを作成
し、その表面反射による風景映り込み程度を目視にて評
価した。本発明の実施例１〜１１の反射防止フィルムを
設置した表示装置は周囲の風景映り込みが殆どなく、快
適な視認性を示しかつ充分な表面強度を有するものであ
ったのに対し、比較例３のフィルムを設置した表示装置
は周囲の映り込みが多く、視認性が劣るものであった。
また、表面強度にも劣るものであった。

【０１１２】

【発明の効果】本発明では、オルガノシラン構造を有す
る化合物の部分加水分解反応により得られた組成物と縮
合反応促進能を有する化合物を含有する組成物を別液と
して塗布して低屈折率層を作成し、さらにその直下層の
屈折率を１．６以上とすることにより、良好な光学特
性、膜強度に優れた大面積の反射防止膜を安価にかつ製
造適性を有した形で提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止膜の代表的な一例の断面図を
示す。

【図２】本発明の反射防止膜の代表的な別の一例の断面
図を示す。

【符号の説明】

１１、２１：低屈折率層 １２、２４：高屈折率層 ２２：中屈折率層 １３、２３：透明フィルム ２０：下層層

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 オルガノシランの加水分解物および／ま
   たはその部分縮合物を含有する組成物を塗設して形成さ
   れた低屈折率層を有する反射防止膜であって、該低屈折
   率層が該組成物の塗布後または該組成物の塗布と同時
   に、硬化反応を促進する化合物を含有する組成物を塗布
   して形成されたことを特徴とする反射防止膜。
2. 【請求項２】 低屈折率層が(a) 一般式Si(OR¹)₄（式中
   Ｒ¹ は炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４の
   アシル基を表す）で表されるアルコキシシランおよび／
   または(b) 一般式R²Si(OR³)₃（式中、Ｒ² は炭素数１〜
   １０のアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ³ は前記
   Ｒ¹ に同義の基を表す）で表されるオルガノシラン、お
   よび／または(c) 一般式R⁴ ₂Si(OR⁵)₂ （式中、Ｒ⁴ は前
   記Ｒ²に同義の基、Ｒ⁵ は前記Ｒ¹ に同義の基を表す）
   で表されるオルガノシランの加水分解物および／または
   その部分縮合物を含有する組成物を塗設して形成された
   ものであることを特徴とする請求項１記載の反射防止
   膜。
3. 【請求項３】 低屈折率層が(d) に対して下記(a) を０
   〜１００重量％、(b) を０〜２００重量％、(c) を０〜
   ２００重量％からなり、かつ(a) 〜(c) が同時に０とな
   ることはない組成物の加水分解物および／またはその部
   分縮合物から構成される組成物を塗設して形成された低
   屈折率層であることを特徴とする請求項１記載の反射防
   止膜。 (a) 一般式Si(OR¹)₄（式中、Ｒ¹ は炭素数１〜５のアル
   キル基または炭素数１〜４のアシル基を表す）で表され
   るアルコキシシラン (b) 一般式R²Si(OR³)₃（式中、Ｒ² は炭素数１〜１０の
   有機基、Ｒ³ は前記Ｒ ¹ に同義の基を表す）で表される
   オルガノシラン (c) 一般式R⁴ ₂Si(OR⁵)₂ （式中、Ｒ⁴ は前記Ｒ² に同義
   の基、Ｒ⁵ は前記Ｒ¹に同義の基を表す）で表されるオ
   ルガノシラン (d) 末端あるいは側鎖に加水分解性基および／または水
   酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を重合体中
   に少なくとも１個有するシリル基含有ビニルポリマー
4. 【請求項４】 該硬化反応を促進する化合物が下記(e)
   〜(h) で表される化合物群の中から選ばれた少なくとも
   １種化合物であることを特徴とする請求項１ないし３に
   記載の反射防止膜。 (e) 無機または有機の酸化合物 (f) 無機または有機の塩基化合物 (g) 金属錯体化合物 (h) 有機金属化合物 (i) 金属塩類
5. 【請求項５】 該低屈折率層(1) とそれに隣接して屈折
   率が１．７以上である高屈折率層(2) からなることを特
   徴とする請求項１ないし４に記載の反射防止膜。
6. 【請求項６】 該高屈折率層(2) に隣接し、低屈折率層
   (1) の反対側に層(3) を有し、更に屈折率が１．６以下
   の層(4) を有するものであって、層(3) が層(4) の屈折
   率と高屈折率層(2) の屈折率の中間の屈折率を有するこ
   とを特徴とする請求項１ないし５に記載の反射防止膜。
7. 【請求項７】 請求項１ないし６に記載の反射防止膜を
   配置したことを特徴とする表示装置。