JPH10335366A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 パッドに金属突起を設けることにより、チッ
プへのダメージを回避しつつパッドとパッドとを直接ワ
イヤボンドすることを可能にする。 【解決手段】 アイランド13上に第1の半導体チップ
10と第2の半導体チップ11を固着する。パッド12
と外部接続リード15とをボンディングワイヤ16で接
続する。両半導体チップ10、11間で電気接続を行う
べきパッド12aのうち一方のパッド12aには、バン
プ17等の金属導体片を形成する。金属導体片の上面は
パッシベーション皮膜22より上に突出させる。そし
て、第1の半導体チップ1のパッド12aにボンディン
グワイヤ16の1stボンドを打ち、第2の半導体チッ
プ11のバンプ17表面に2ndボンドを打つことによ
り必要な電気接続を行う。
プへのダメージを回避しつつパッドとパッドとを直接ワ
イヤボンドすることを可能にする。 【解決手段】 アイランド13上に第1の半導体チップ
10と第2の半導体チップ11を固着する。パッド12
と外部接続リード15とをボンディングワイヤ16で接
続する。両半導体チップ10、11間で電気接続を行う
べきパッド12aのうち一方のパッド12aには、バン
プ17等の金属導体片を形成する。金属導体片の上面は
パッシベーション皮膜22より上に突出させる。そし
て、第1の半導体チップ1のパッド12aにボンディン
グワイヤ16の1stボンドを打ち、第2の半導体チッ
プ11のバンプ17表面に2ndボンドを打つことによ
り必要な電気接続を行う。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、同一パッケージ内
に複数の半導体チップを収納し、半導体チップ間のワイ
ヤ接続を容易ならしめた半導体装置の製造方法に関す
る。
に複数の半導体チップを収納し、半導体チップ間のワイ
ヤ接続を容易ならしめた半導体装置の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の封止技術として最も普及し
ているのが、半導体チップの周囲を熱硬化性のエポキシ
樹脂で封止するトランスファーモールド技術である。半
導体チップの支持素材としてリードフレームを用い、リ
ードフレームのアイランドに半導体チップをダイボンド
し、半導体チップのボンディングパッドとリードをワイ
ヤでワイヤボンドし、所望の外形形状を具備する金型内
にリードフレームをセットし、金型内にエポキシ樹脂を
注入、これを硬化させることにより製造する。
ているのが、半導体チップの周囲を熱硬化性のエポキシ
樹脂で封止するトランスファーモールド技術である。半
導体チップの支持素材としてリードフレームを用い、リ
ードフレームのアイランドに半導体チップをダイボンド
し、半導体チップのボンディングパッドとリードをワイ
ヤでワイヤボンドし、所望の外形形状を具備する金型内
にリードフレームをセットし、金型内にエポキシ樹脂を
注入、これを硬化させることにより製造する。
【0003】一方、各種電子機器に対する小型、軽量化
の波はとどまるところを知らず、これらに組み込まれる
半導体装置にも、一層の大容量、高機能、高集積化が望
まれることになる。そこで、以前から発想としては存在
していた(例えば、特開平05ー121645号)、1
つのパッケージ内に複数の半導体チップを封止する技術
が注目され、実現化する動きが出てきた。つまり図5
(A)(B)に示すように、アイランド1上に第1と第
2の半導体チップ2a、2bを固着し、第1と第2の半
導体チップ2a、2bのボンディングパッド3とリード
4とをボンディングワイヤ5で接続し、樹脂6で封止し
たものである。
の波はとどまるところを知らず、これらに組み込まれる
半導体装置にも、一層の大容量、高機能、高集積化が望
まれることになる。そこで、以前から発想としては存在
していた(例えば、特開平05ー121645号)、1
つのパッケージ内に複数の半導体チップを封止する技術
が注目され、実現化する動きが出てきた。つまり図5
(A)(B)に示すように、アイランド1上に第1と第
2の半導体チップ2a、2bを固着し、第1と第2の半
導体チップ2a、2bのボンディングパッド3とリード
4とをボンディングワイヤ5で接続し、樹脂6で封止し
たものである。
【0004】回路機能の組み合わせによって第1の半導
体チップ1aと第2の半導体チップ1bとを電気的に接
続する場合は、上述した特開平05ー121645号の
様にパッドからパッドに直接ボンディングワイヤを打つ
ことが考えられるが、ボールを形成しない2回目のボン
ディングをパッド上に直接打つと、キャピラリツールの
先端が半導体チップの表面に直接接触して半導体チップ
にダメージを与えることになる。そこで、外部接続リー
ド4の一つを中間点とし、第1の半導体チップ1aと第
2の半導体チップ1bの両方から共通の外部接続リード
4にワイヤを打つか(図示しない)、または図5(A)
(B)に示した様に、アイランド1とは電気的に絶縁し
た接続導体7をアイランド1上に固着し、接続導体7を
介して両半導体チップ1a、1bを接続していた。
体チップ1aと第2の半導体チップ1bとを電気的に接
続する場合は、上述した特開平05ー121645号の
様にパッドからパッドに直接ボンディングワイヤを打つ
ことが考えられるが、ボールを形成しない2回目のボン
ディングをパッド上に直接打つと、キャピラリツールの
先端が半導体チップの表面に直接接触して半導体チップ
にダメージを与えることになる。そこで、外部接続リー
ド4の一つを中間点とし、第1の半導体チップ1aと第
2の半導体チップ1bの両方から共通の外部接続リード
4にワイヤを打つか(図示しない)、または図5(A)
(B)に示した様に、アイランド1とは電気的に絶縁し
た接続導体7をアイランド1上に固着し、接続導体7を
介して両半導体チップ1a、1bを接続していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
外部接続リードを介して接続する手法はボンディングワ
イヤ5が長くなるので他との接触事故等の要因になる
他、リード端子の本数増大になるという欠点があり、後
者の接続導体7を用いる手法は部品代と工数的に大幅な
コスト高になり、接続導体7を配置することによりパッ
ケージが大型化するという欠点があった。
外部接続リードを介して接続する手法はボンディングワ
イヤ5が長くなるので他との接触事故等の要因になる
他、リード端子の本数増大になるという欠点があり、後
者の接続導体7を用いる手法は部品代と工数的に大幅な
コスト高になり、接続導体7を配置することによりパッ
ケージが大型化するという欠点があった。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上述した従来の
課題に鑑み成されたもので、半導体チップのパッド上に
導体片を固着し、該導体片にワイヤの2ndボンドを打
つことにより、キャピラリツールが半導体チップに接触
することなく、第1の半導体チップ1aと第2の半導体
チップ1bとをボンディングワイヤで直接接続すること
を可能ならしめたものである。
課題に鑑み成されたもので、半導体チップのパッド上に
導体片を固着し、該導体片にワイヤの2ndボンドを打
つことにより、キャピラリツールが半導体チップに接触
することなく、第1の半導体チップ1aと第2の半導体
チップ1bとをボンディングワイヤで直接接続すること
を可能ならしめたものである。
【0007】
【発明の実施の形態】以下に本発明の一実施の形態を図
面を参照しながら詳細に説明する。図1は本発明の半導
体装置を示す(A)平面図、(B)断面図である。図
中、10、11は各々第1と第2の半導体チップ、12
は第1と第2の半導体チップ10、11の表面に形成し
たボンディングパッド、13は半導体チップ10、11
を搭載するためのアイランド、14は半導体チップ1
0、11を固着するための接着剤、15は外部接続リー
ド、16はパッド12と外部接続リード15とを接続す
るボンディングワイヤ、17は主要部を封止する樹脂を
示している。
面を参照しながら詳細に説明する。図1は本発明の半導
体装置を示す(A)平面図、(B)断面図である。図
中、10、11は各々第1と第2の半導体チップ、12
は第1と第2の半導体チップ10、11の表面に形成し
たボンディングパッド、13は半導体チップ10、11
を搭載するためのアイランド、14は半導体チップ1
0、11を固着するための接着剤、15は外部接続リー
ド、16はパッド12と外部接続リード15とを接続す
るボンディングワイヤ、17は主要部を封止する樹脂を
示している。
【0008】第1と第2の半導体チップ10、11のシ
リコン表面には、前工程において各種の能動、受動回路
素子を形成し、各素子を電極配線で接続することにより
所望の回路機能を達成している。ボンディングパッド1
2は前記電極材料からなり、各チップの周辺部分に複数
個配置されている。各半導体チップ10、11の表面に
はボンディングパッド12を被覆するようにシリコン窒
化膜、シリコン酸化膜、ポリイミド系絶縁膜などのパッ
シベーション皮膜が形成され、ボンディングパッド12
の上部だけが電気接続のために開口されている。
リコン表面には、前工程において各種の能動、受動回路
素子を形成し、各素子を電極配線で接続することにより
所望の回路機能を達成している。ボンディングパッド1
2は前記電極材料からなり、各チップの周辺部分に複数
個配置されている。各半導体チップ10、11の表面に
はボンディングパッド12を被覆するようにシリコン窒
化膜、シリコン酸化膜、ポリイミド系絶縁膜などのパッ
シベーション皮膜が形成され、ボンディングパッド12
の上部だけが電気接続のために開口されている。
【0009】各半導体チップ10、11は、リードフレ
ームのアイランド13上に並べて接着剤14によりダイ
ボンドされている。基板の導電型が同じ組み合わせであ
る場合は両者共にAgペーストなどのエポキシ系導電接
着剤を使用するが、導電型が異なる場合及び基板電位が
異なる場合は、どちらか一方または両方を絶縁性の接着
剤によってダイボンドしている。
ームのアイランド13上に並べて接着剤14によりダイ
ボンドされている。基板の導電型が同じ組み合わせであ
る場合は両者共にAgペーストなどのエポキシ系導電接
着剤を使用するが、導電型が異なる場合及び基板電位が
異なる場合は、どちらか一方または両方を絶縁性の接着
剤によってダイボンドしている。
【0010】ボンディングワイヤ16は直径30ミクロ
ン程度の金線からなり、ボールボンディング方式により
パッド12と外部接続リード15とを電気的に接続す
る。すなわち、先端に金ボールを形成したボンディング
ワイヤ16を各半導体チップ10、11のパッド12上
に押しつけて1stボンドとし、キャビラリツールを移
動し、外部接続リード15の先端部表面に押圧接着する
と共に切断して2ndボンドとする方式である。各半導
体チップ10、11の、外部接続リード15に近接する
3辺に位置するパッド12は、ボールボンドにより外部
接続リード15に接続する。残りの各1辺、すなわち、
第1と第2の半導体チップ10、11が相対向する辺に
位置するパッド12aは、第1の半導体チップ10から
第2の半導体チップ11にワイヤボンドして、両者を直
接電気的に接続する。2ndボンド側となる第2の半導
体チップ11のパッド12a上には、ワイヤとの接続を
介するバンプ17等の金属導体辺が固着されており、ボ
ンディングワイヤ16の端部は前記金属導体辺にボンデ
ィングされている。詳細は後述する。
ン程度の金線からなり、ボールボンディング方式により
パッド12と外部接続リード15とを電気的に接続す
る。すなわち、先端に金ボールを形成したボンディング
ワイヤ16を各半導体チップ10、11のパッド12上
に押しつけて1stボンドとし、キャビラリツールを移
動し、外部接続リード15の先端部表面に押圧接着する
と共に切断して2ndボンドとする方式である。各半導
体チップ10、11の、外部接続リード15に近接する
3辺に位置するパッド12は、ボールボンドにより外部
接続リード15に接続する。残りの各1辺、すなわち、
第1と第2の半導体チップ10、11が相対向する辺に
位置するパッド12aは、第1の半導体チップ10から
第2の半導体チップ11にワイヤボンドして、両者を直
接電気的に接続する。2ndボンド側となる第2の半導
体チップ11のパッド12a上には、ワイヤとの接続を
介するバンプ17等の金属導体辺が固着されており、ボ
ンディングワイヤ16の端部は前記金属導体辺にボンデ
ィングされている。詳細は後述する。
【0011】第1と第2の半導体チップ10、11、外
部接続リード15の先端部、およびボンディングワイヤ
16を含む主要部は、周囲をエポキシ系の熱硬化樹脂1
8でモールドし、パッケージ化する。リード端子15は
パッケージの側壁の、樹脂18の厚みの約半分の位置か
ら外部に導出される。そして、樹脂18の外部に導出さ
れたリード端子15は一端下方に曲げられ、再度曲げら
れてZ字型にフォーミングされている。このフォーミン
グ形状は、リード端子15の裏面側固着部分をプリント
基板に形成した導電パターンに対向接着する、表面実装
用途の為の形状である。
部接続リード15の先端部、およびボンディングワイヤ
16を含む主要部は、周囲をエポキシ系の熱硬化樹脂1
8でモールドし、パッケージ化する。リード端子15は
パッケージの側壁の、樹脂18の厚みの約半分の位置か
ら外部に導出される。そして、樹脂18の外部に導出さ
れたリード端子15は一端下方に曲げられ、再度曲げら
れてZ字型にフォーミングされている。このフォーミン
グ形状は、リード端子15の裏面側固着部分をプリント
基板に形成した導電パターンに対向接着する、表面実装
用途の為の形状である。
【0012】図2に、相対向する辺に形成したパッド1
2a付近の拡大図を示す。パッド12aは半導体基板上
の絶縁膜20の上にアルミなどの電極配線材料で130
×130μ程度の矩形の大きさで形成され、絶縁膜20
上を引き回した電極配線21にて内部回路と接続してい
る。パッド12aの上部をパッシベーション皮膜22が
被覆し、上部に開口部23を形成してパッド12a表面
を露出している。第2の半導体チップ11のパッド12
aは、2ndボンド用に長方形に拡大しており、その表
面に金又は半田等のバンプ17が形成されている。バン
プ17は第2の半導体チップ11のウェハ工程の最終段
階で、無電界または電解メッキ法によりパッド12a表
面にだけ選択的に形成したもので、パッシベーション皮
膜22より上に突出するように、例えば高さ100μ程
度に形成したものである。外部接続リード15との接続
を行うパッド12には、バンプ17を形成してもしなく
ても良い。そして、第1の半導体チップ10のパッド1
2a表面にボンディングワイヤ16の1stボンドが打
たれ、2ndボンドがバンプ17の表面に打たれる。
2a付近の拡大図を示す。パッド12aは半導体基板上
の絶縁膜20の上にアルミなどの電極配線材料で130
×130μ程度の矩形の大きさで形成され、絶縁膜20
上を引き回した電極配線21にて内部回路と接続してい
る。パッド12aの上部をパッシベーション皮膜22が
被覆し、上部に開口部23を形成してパッド12a表面
を露出している。第2の半導体チップ11のパッド12
aは、2ndボンド用に長方形に拡大しており、その表
面に金又は半田等のバンプ17が形成されている。バン
プ17は第2の半導体チップ11のウェハ工程の最終段
階で、無電界または電解メッキ法によりパッド12a表
面にだけ選択的に形成したもので、パッシベーション皮
膜22より上に突出するように、例えば高さ100μ程
度に形成したものである。外部接続リード15との接続
を行うパッド12には、バンプ17を形成してもしなく
ても良い。そして、第1の半導体チップ10のパッド1
2a表面にボンディングワイヤ16の1stボンドが打
たれ、2ndボンドがバンプ17の表面に打たれる。
【0013】図3、図4にワイヤボンド工程の概略図を
工程順に示した。先ず図3(A)に示すように、キャピ
ラリ25の貫通孔26に挿通されたワイヤ16の先端に
金ボール27を形成し、該金ボール27を第1の半導体
チップ10のパッド12a表面に押圧・加熱超音波振動
により固着して1stボンドとし、図3(B)に示すよ
うにキャピラリ25を上方向、続いて横方向に移動し
て、図3(C)に示すようにバンプ17上部にワイヤ1
6を再度押圧・加熱超音波振動により固着して2ndボ
ンドとする。前記2ndボンドの時は、図4に示すよう
に、キャピラリ25の先端部28でワイヤ16を押潰す
ことによりワイヤ16を切断するので、先端部28が被
固着面29に機械的に直接接触することになる。しかし
本発明では、パッド12a上に形成したバンプ17の上
に2ndボンドを打ち、バンプ17の被固着面29がパ
ッシベーション皮膜22より上方に位置するので、キャ
ピラリの先端部28が第2の半導体チップ11表面にダ
メージを与えることがない。
工程順に示した。先ず図3(A)に示すように、キャピ
ラリ25の貫通孔26に挿通されたワイヤ16の先端に
金ボール27を形成し、該金ボール27を第1の半導体
チップ10のパッド12a表面に押圧・加熱超音波振動
により固着して1stボンドとし、図3(B)に示すよ
うにキャピラリ25を上方向、続いて横方向に移動し
て、図3(C)に示すようにバンプ17上部にワイヤ1
6を再度押圧・加熱超音波振動により固着して2ndボ
ンドとする。前記2ndボンドの時は、図4に示すよう
に、キャピラリ25の先端部28でワイヤ16を押潰す
ことによりワイヤ16を切断するので、先端部28が被
固着面29に機械的に直接接触することになる。しかし
本発明では、パッド12a上に形成したバンプ17の上
に2ndボンドを打ち、バンプ17の被固着面29がパ
ッシベーション皮膜22より上方に位置するので、キャ
ピラリの先端部28が第2の半導体チップ11表面にダ
メージを与えることがない。
【0014】そして図4(B)に示すように、キャピラ
リ25上方に位置する図示せぬクランパがワイヤ16を
挟み固定し、その状態でキャピラリ25を上方に移動す
ることにより、2ndボンドされたワイヤ16と貫通孔
26内部のワイヤとを分離する。以上に説明したよう
に、本発明では第2の半導体チップ10上のボンディン
グパッド12a上にバンプ17を形成し、チップ表面よ
り突出した該バンプ17上にワイヤ16の2ndボンド
を打つので、キャピラリ25によって半導体チップ表面
にダメージを与えることなく、第1の半導体チップ10
と第2の半導体チップ11とを直接ボンディングワイヤ
16で接続できるものである。
リ25上方に位置する図示せぬクランパがワイヤ16を
挟み固定し、その状態でキャピラリ25を上方に移動す
ることにより、2ndボンドされたワイヤ16と貫通孔
26内部のワイヤとを分離する。以上に説明したよう
に、本発明では第2の半導体チップ10上のボンディン
グパッド12a上にバンプ17を形成し、チップ表面よ
り突出した該バンプ17上にワイヤ16の2ndボンド
を打つので、キャピラリ25によって半導体チップ表面
にダメージを与えることなく、第1の半導体チップ10
と第2の半導体チップ11とを直接ボンディングワイヤ
16で接続できるものである。
【0015】尚、バンプ17の他にも、例えば金、アル
ミ等の金属片をパッド12a上に接着剤で固着しても良
く、要はボンディングワイヤ16が接続可能な材料で、
その固着表面29がパッシベーション皮膜22より高い
位置に存在し、その大きさがキャピラリ25先端部分2
8の大きさより大であればよい。
ミ等の金属片をパッド12a上に接着剤で固着しても良
く、要はボンディングワイヤ16が接続可能な材料で、
その固着表面29がパッシベーション皮膜22より高い
位置に存在し、その大きさがキャピラリ25先端部分2
8の大きさより大であればよい。
【0016】
【発明の効果】以上に説明した通り、本発明によれば、
チップにダメージを与えることなく第1の半導体チップ
10と第2の半導体チップ11とを直接ボンディングワ
イヤ16で接続できる利点を有する。その為、複数の半
導体チップを収納した半導体装置を安価に製造すること
ができる利点を有する。更に、従来例のように接続を仲
介する部分がないので、半導体装置の横方向の寸法を縮
小できる利点を有する他、部品代等のコストを大幅に減
じることができる。
チップにダメージを与えることなく第1の半導体チップ
10と第2の半導体チップ11とを直接ボンディングワ
イヤ16で接続できる利点を有する。その為、複数の半
導体チップを収納した半導体装置を安価に製造すること
ができる利点を有する。更に、従来例のように接続を仲
介する部分がないので、半導体装置の横方向の寸法を縮
小できる利点を有する他、部品代等のコストを大幅に減
じることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を説明するための(A)平面図、(B)
断面図である。
断面図である。
【図2】本発明のパッド12a付近を示す(A)断面
図、(B)平面図である。
図、(B)平面図である。
【図3】ワイヤボンド工程を説明するための断面図であ
る。
る。
【図4】ワイヤボンド工程を説明するための断面図であ
る。
る。
【図5】従来例を説明するための(A)平面図、(B)
断面図である。
断面図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 アイランドの上に少なくとも2個の半導
体チップを並べて設置し、前記半導体チップ上のボンデ
ィングパッドと外部接続リードとをボンディングワイヤ
で各々接続し、更に前記半導体チップのボンディングパ
ッドと他の半導体チップのボンディングパッドとをボン
ディングワイヤで接続し、主要部を封止した半導体装置
であって、 前記半導体チップのボンディングパッド上に1stボン
ドを打つと共に、前記他の半導体チップのボンディング
パッドに導体片が固着され、前記導体片に前記ボンディ
ングワイヤの2ndボンドが打たれていることを特徴と
する半導体装置。 - 【請求項2】 前記ワイヤボンディングがボールボンド
であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。 - 【請求項3】 前記導体片が金バンプ又は半田バンプで
あることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9142229A JPH10335366A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9142229A JPH10335366A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10335366A true JPH10335366A (ja) | 1998-12-18 |
Family
ID=15310432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9142229A Pending JPH10335366A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10335366A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100491234B1 (ko) * | 2001-12-03 | 2005-05-25 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 반도체 집적 회로 장치 |
JP2006261542A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Nec Electronics Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2007220790A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Renesas Technology Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2008028414A (ja) * | 2007-09-14 | 2008-02-07 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
JP2009295988A (ja) * | 2008-06-09 | 2009-12-17 | Micronas Gmbh | 特別に形作られたボンドワイヤを有する半導体装置およびそのような装置を製造するための方法 |
JP2014220439A (ja) * | 2013-05-10 | 2014-11-20 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
CN107785347A (zh) * | 2016-08-24 | 2018-03-09 | 三星显示有限公司 | 半导体芯片和电子装置 |
-
1997
- 1997-05-30 JP JP9142229A patent/JPH10335366A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100491234B1 (ko) * | 2001-12-03 | 2005-05-25 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 반도체 집적 회로 장치 |
US7148567B2 (en) | 2001-12-03 | 2006-12-12 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor integrated circuit device |
JP2006261542A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Nec Electronics Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP4666592B2 (ja) * | 2005-03-18 | 2011-04-06 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2007220790A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Renesas Technology Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
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CN107785347A (zh) * | 2016-08-24 | 2018-03-09 | 三星显示有限公司 | 半导体芯片和电子装置 |
CN107785347B (zh) * | 2016-08-24 | 2023-08-15 | 三星显示有限公司 | 半导体芯片和电子装置 |
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