JPH10303116A - 気泡発生防止機構およびそれを用いた液処理装置、ならびに液供給機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理液通流を停止しても処理液中に気泡が発
生することを防止できる気泡発生防止機構及びそれを用
いた液処理装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 処理液通流の停止の際に処理液の慣性に
より処理液がノズル側に輸送されても、ベローズ８５が
処理液の慣性に対応して縮んで、処理液管路８４内の体
積を減少させ、これにより、エアオペバルブ８１の下流
で減圧状態となることを回避することができる。従っ
て、エアオペバルブ８１の下流において減圧状態から常
圧状態に戻る際に気泡が発生することを防止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウエ
ハやＬＣＤ基板等の被処理体に対して行われるレジスト
液の塗布や現像処理等の液処理に好適な気泡発生防止機
構およびそれを用いた液処理装置、ならびに液供給機構
に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体デバイスや液晶表示装置
（ＬＣＤ）基板の製造においては、被処理体としての半
導体ウエハやＬＣＤ基板にフォトレジストを塗布し、フ
ォトリソグラフィ技術を用いて回路パターンをフォトレ
ジストに転写し、これを現像処理することにより回路が
形成される。

【０００３】このような液処理においては、レジスト
液、現像液、及びシンナー等の処理液がそれを収容する
タンクから送出され、管路を通じて輸送されてノズルを
介して被処理体表面に供給される。この場合、処理液の
管路内における通流の開始・停止は管路の途中に設けら
れた開閉手段であるバルブの開閉で制御している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記のように処理液通
流の開始・停止をバルブの開閉で行う場合、バルブを閉
じて処理液の通流を停止すると、その瞬間に開閉部分の
直下流で減圧状態となる。すなわち、バルブを閉じて処
理液通流状態を急に停止するとき、開閉部分よりも上流
では処理液通流がその瞬間に停止するが、開閉部分より
も下流、特に直下流では処理液通流がその瞬間には停止
せず、処理液の慣性により体積変化が起こり一時的に減
圧状態となる。

【０００５】このように、開閉部分の直下流が一時的に
減圧状態となると、液に溶存している気体まで発泡しや
すくなり、常圧に戻っても処理液中に気泡が残存する。
また、ノズル先端では、図１１の（ａ）に示すように、
バルブを閉じたときに処理液通流の慣性によりノズル先
端１００から一度液１０１が出て、その後、図１１の
（ｂ）に示すように、開閉部分の直下流が減圧状態から
常圧に戻るときに気体１０２を吸い込むため、先端の液
切れ性が悪くなり、ボタ落ち等が発生しやすくなる。

【０００６】このように、処理液中に気泡が発生する
と、処理液がレジスト液である場合には、レジスト液を
被処理体表面に供給したときに、塗布むらが発生し、ま
た、処理液が現像液である場合には、非現像部分が発生
してしまう。したがって、処理液通流を停止しても処理
液中に気泡が発生しないことが望まれている。

【０００７】従来から、気泡発生防止のために、例えば
エアオペレイティドバルブでは、バルブを閉じる速度を
低下させるためスピコン等で調整しているが、調整範囲
には限界があり、所望の速度まで低下させられなかった
り、バルブのクラッキング圧に負けて開閉しなくなった
りする。この傾向は、流路が大きく流体の流量が大きい
ほど、また流速が速いほど生じやすい。

【０００８】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、処理液通流を停止しても処理液中に気泡が発生す
ることを有効に防止することができる気泡発生防止機構
およびそれを用いた液処理装置、ならびに液供給機構を
提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、第１発明は、被処理体に処理液を供給する際に処理
液中に気泡が生じることを防止する気泡発生防止機構で
あって、処理液を処理液供給系から被処理体に通流させ
る処理液流路と、前記処理液流路に設けられ、前記処理
液流路における被処理体供給系側と被処理体側との処理
液通流の開始・停止を行う開閉手段と、前記処理液通流
を停止したときに前記開閉手段の開閉部分よりも被処理
体側における圧力変化を緩和する気泡発生防止部と、を
具備することを特徴とする気泡発生防止機構を提供す
る。

【００１０】第２発明は、第１発明において、前記気泡
発生防止部が、前記処理液通流を停止したときに、処理
液の慣性により発生する前記処理液流路に発生する部分
的な圧力変化に応じて膨縮変形して、流路の体積変化を
生じさせる膨縮部材を有することを特徴とする気泡発生
防止機構を提供する。

【００１１】第３発明は、第１発明または第２発明にお
いて、気泡発生防止部が前記処理液流路に設けられてい
ることを特徴とする気泡発生防止機構を提供する。第４
発明は、第１発明または第２発明において、気泡発生防
止部が前記開閉手段内に設けられていることを特徴とす
る気泡発生防止機構を提供する。

【００１２】第５発明は、被処理体に処理液を供給して
処理を行う液処理装置であって、被処理体表面に処理液
を供給する処理液供給手段と、処理液供給手段に処理液
を供給する処理液供給系と、前記処理液供給手段と前記
処理液供給系との間に設けられ、処理液通流の開始・停
止を行う開閉手段と、前記処理液通流を停止したとき
に、前記開閉手段の液開閉部分よりも被処理体側におけ
る圧力変化を緩和する気泡発生防止部と、を具備するこ
とを特徴とする液処理装置を提供する。

【００１３】第６発明は、第５発明において、前記気泡
発生防止部は、前記処理液通流を停止したときに、処理
液の慣性により発生する前記処理液流路に発生する部分
的な圧力変化に応じて膨縮変形して、流路の体積変化を
生じさせる膨縮部材を有することを特徴とする液処理装
置を提供する。

【００１４】第７発明は、第５発明または第６発明にお
いて、気泡発生防止部が前記処理液供給手段と処理液供
給系との間に設けられていることを特徴とする液処理装
置を提供する。第８発明は、第５発明または第６発明に
おいて、気泡発生防止部が前記開閉手段内に設けられて
いることを特徴とする液処理装置を提供する。

【００１５】第９発明は、体積変化が可能な膨縮部を有
する液体流路を有し、該流路の液体の通流が停止された
際に、液体の慣性で前記流路先端から液体がこぼれ出る
ことを阻止することを特徴とする液供給機構を提供す
る。

【００１６】第１発明によれば、気泡発生防止部によ
り、処理液通流を停止したときに開閉手段の開閉部分よ
りも被処理体側における圧力変化を緩和するので、処理
液通流を停止した際に開閉部分直下流が減圧状態になる
ことを阻止することができ、また、通流停止とともに先
端から液が出過ぎることを阻止することができ、結果と
して気泡の発生を防止することができる。

【００１７】第２発明によれば、気泡発生防止部が膨縮
変形可能な膨縮部材を有しているので、処理液通流を停
止したときに開閉手段の開閉部分よりも被処理体側にお
ける圧力変化に応じて膨縮変形し、処理液通流を停止し
ても開閉部分直下流において減圧状態になることを阻止
することができ、また、通流停止とともに先端から液が
出過ぎることを阻止することができ、結果として気泡の
発生を防止することができる。なお、このような膨縮部
材としては、例えばベローズ、フレキシブルチューブ、
アキュームレータ等が好適である。

【００１８】また、第６発明及び第７発明によれば、被
処理体に処理液を供給して処理を行う液処理装置に、そ
れぞれ第１発明および第２発明の気泡発生防止機構を適
用しているので、気泡の発生を防止した処理液で被処理
体に対して液処理を行うことができ、液処理不良の低減
を図ることができる。

【００１９】さらに、第３発明および第７発明のよう
に、気泡発生防止部を前記処理液供給手段と処理液供給
系との間に設けることにより、既存の開閉手段をそのま
ま適用することができる。

【００２０】さらにまた、第４発明および第８発明のよ
うに、気泡発生防止部を開閉手段に設けることにより、
液開閉部分により近い直下流で減圧状態が起こることを
回避できる。減圧状態は開閉部分により近いほど起こり
易いので、この構成により気泡発生をより一層効果的に
防止することができる。

【００２１】さらにまた、第９発明によれば、体積変化
が可能な膨縮部を有する液体流路を有し、該流路の液体
の通流が停止された際に、液体の慣性で前記流路先端か
ら液体がこぼれ出ることを阻止するので、液体流路先端
からの空気の吸い込み等がなく、液切れ性が良くなる。
すなわち、ボタ落ち等が防止される。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の実施の形態について詳細に説明する。図１は、本発
明が適用されるＬＣＤ基板の塗布・現像処理システムを
示す斜視図である。

【００２３】この塗布・現像処理システムは、複数の基
板Ｓを収容するカセットＣを載置するカセットステーシ
ョン１と、基板Ｓにレジスト塗布及び現像を含む一連の
処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部２
と、カセットステーション１上のカセットＣと処理部２
との間でＬＣＤ基板の搬送を行うための搬送機構３とを
備えている。そして、カセットステーション１において
システムへのカセットＣの搬入およびシステムからのカ
セットＣの搬出が行われる。また、搬送機構３はカセッ
トの配列方向に沿って設けられた搬送路１２上を移動可
能な搬送アーム１１を備え、この搬送アーム１１により
カセットＣと処理部２との間で基板Ｓの搬送が行われ
る。

【００２４】処理部２は、前段部分２ａと後段部分２ｂ
とに分かれており、それぞれ中央に通路１５、１６を有
しており、これら通路の両側に各処理ユニットが配設さ
れている。そして、これらの間には中継部１７が設けら
れている。

【００２５】前段部２ａは、通路１５に沿って移動可能
なメインアーム１８を備えており、通路１５の一方側に
は、ブラシ洗浄ユニット２１、水洗ユニット２２、アド
ヒージョン処理ユニット２３、及び冷却ユニット２４
が、他方側には２つのレジスト塗布ユニット２５が配置
されている。一方、後段部２ｂは、通路１６に沿って移
動可能なメインアーム１９を備えており、通路１９の一
方側には複数の加熱処理ユニット２６及び冷却ユニット
２７からなる熱系ユニット群２８が、他方側には２つの
現像処理ユニット２９が配置されている。熱系ユニット
群２８は、ユニットが２段積層されてなる組が通路１９
に沿って３つ並んでおり、上段が加熱処理ユニット２６
であり、下段が冷却ユニット２７である。加熱処理ユニ
ット２６は、レジストの安定化のためのプリベーク、露
光後のポストエクスポージャーベーク、及び現像後のポ
ストベーク処理を行うものである。なお、後段部２ｂの
後端には露光装置（図示せず）との間で基板Ｓの受け渡
しを行うためのインターフェース部３０が設けられてい
る。

【００２６】上記メインアーム１８は、搬送機構３のア
ーム１１との間で基板Ｓの受け渡しを行うとともに、前
段部２ａの各処理ユニットに対する基板Ｓの搬入・搬
出、さらには中継部１７との間で基板Ｓの受け渡しを行
う機能を有している。また、メインアーム１９は中継部
１７との間で基板Ｓの受け渡しを行うとともに、後段部
２ｂの各処理ユニットに対する基板Ｓの搬入・搬出、さ
らにはインターフェース部３０との間の基板Ｓの受け渡
しを行う機能を有している。このように各処理ユニット
を集約して一体化することにより、省スペース化および
処理の効率化を図ることができる。

【００２７】このように構成される塗布・現像処理シス
テムにおいては、カセットＣ内の基板Ｓが、処理部２に
搬送され、まず、洗浄ユニット２１及び水洗ユニット２
２により洗浄処理され、レジストの定着性を高めるため
にアドヒージョン処理ユニット２３にて疎水化処理さ
れ、冷却ユニット２４で冷却後、レジスト塗布ユニット
２５でレジストが塗布される。その後、基板Ｓは、加熱
処理ユニット２６の一つでプリベーク処理され、冷却ユ
ニット２７で冷却された後、インターフェース部３０を
介して露光装置に搬送されてそこで所定のパターンが露
光される。そして、再びインターフェース部３０を介し
て搬入され、加熱処理ユニット２６の一つでポストエク
スポージャーベーク処理が施される。その後、冷却ユニ
ット２７で冷却された基板Ｓは、現像処理ユニット２９
で現像処理され、所定の回路パターンが形成される。現
像処理された基板Ｓは、メインアーム１９，１８および
搬送機構３によってカセットステーション１上の所定の
カセットに収容される。

【００２８】本発明の対象である気泡発生防止機構は、
上述のシステムのうち、レジスト塗布ユニット２５及び
現像ユニット２９に適用される。

【００２９】図２は、レジスト塗布ユニット２５におけ
るレジスト液及び溶剤の供給系を示す図である。レジス
ト塗布ユニット２５は、基板Ｓを吸着保持するスピンチ
ャック３１を有し、その上方に、ノズルホルダー３２が
設けられている。ノズルホルダー３２には、レジスト液
ノズル３３と溶剤ノズル３４が取り付けられており、こ
れらにはそれぞれレジスト液供給系４０および溶剤供給
系５０が接続されている。なお、スピンチャック３１に
保持された基板Ｓは回転可能なカップ（図示せず）に囲
繞され、このカップは塗布動作中に蓋体（図示せず）に
より密閉される。

【００３０】レジスト液供給系４０は、レジスト液供給
配管４１を有しており、その一端には前記レジスト液ノ
ズル３３が設けられ、他端にはレジスト液容器４２が設
けられている。レジスト液容器４２内のレジスト液は、
ベローズポンプ４３によりノズル３３に向けて供給され
る。このベローズポンプ４３は、ステッピングモーター
４４によりボールねじ４５を回転させることにより、レ
ジスト液の吸引及びレジスト液の送出が可能となってい
る。

【００３１】ベローズポンプ４３から送出されたレジス
ト液はフィルター４６、脱気機構４７、エアオペレーシ
ョンバルブ４８、及びサックバックバルブ４９を通って
レジスト液ノズル３３から吐出される。なお、エアオペ
レーションバルブ４８は、レジスト液の供給管路を開閉
する機能を有しており、サックバックバルブ４９は、ノ
ズル３３先端に残留しているレジスト液を引き戻してそ
の固化を防止する機能を有している。後述するように、
エアオペレーションバルブ４８の下流側またはエアオペ
レーションバルブ４８の内部には気泡発生防止部が設け
られており、これらにより気泡発生防止機構が構成され
る。

【００３２】溶剤供給系５０は、溶剤供給配管５１を有
しており、その一端には前記溶剤ノズル３４が設けら
れ、他端には溶剤容器５２が設けられている。溶剤容器
５２には溶剤として例えばシンナーが貯留されており、
この溶剤がガス圧送によりノズル３４に向けて供給され
る。このガス圧送は、ガスボンベ５３内の圧送ガス、例
えば窒素ガスを容器５２内に供給することにより行われ
る。溶剤容器５２内の溶剤は、ガス圧送されることによ
り、フィルター５４および後述する脱気機構５５を通っ
て、ノズル３４から吐出される。

【００３３】図３は現像ユニット２９における現像液供
給系を示す図である。現像ユニット２９は、基板Ｓを吸
着保持するチャック７３を有し、その上方に、基板Ｓと
略同一の幅を有し、その底部にその長手方向に沿って複
数の液吐出孔を有するノズル７２が設けられている。そ
して、このノズル７２に現像液供給系６０が接続されて
いる。なお、チャック７３に保持された基板Ｓはカップ
（図示せず）に囲繞されている。

【００３４】現像液供給系６０は、現像液容器６１を有
しており、容器６１には現像液が貯留されている。容器
６１には圧送ガスとして例えば窒素ガスを貯蔵したガス
ボンベ６３が配管６４を介して接続されている。また、
容器６１内の現像液には配管６２の端部が浸漬されお
り、配管６２の途中には中間容器６６及び脱気機構６７
が順に設けられている。そして、容器６１内の現像液
は、ガスボンベ６３内の圧送ガス、例えば窒素ガスが配
管６４を介して容器６１に供給されることにより、配管
６２を通ってノズル７２に向けて圧送される。なお、中
間容器６６の外側には、例えば静電容量センサからなる
リミットセンサ６６ａおよびエンプティセンサ６６ｂが
設けられており、これらからの信号が図示しないコント
ローラに出力され、現像液の液面の位置が制御される。

【００３５】脱気機構６７の下流側で配管６２は複数の
配管、例えば配管６２ａと配管６２ｂとに分岐し、各配
管にはノズル７２に至るまでに、それぞれフローメータ
ー６８ａ，６８ｂ、フィルター６９ａ，６９ｂ、温調水
が循環されるウォータージャケット７０ａ，７０ｂ、エ
アオペレーションバルブ７１ａ，７１ｂが順に設けられ
ており、ノズル７２にはこれら２つの配管を介して２ヶ
所から現像液が導入される。そして、現像に際しては、
ノズル７２の底部に設けられた液吐出孔から吐出した現
像液が基板Ｓに供給される。後述するように、エアオペ
レーションバルブの下流側またはエアオペレーションバ
ルブの内部には気泡発生防止部が設けられており、これ
らにより気泡発生防止機構が構成される。

【００３６】次に、本発明に係る気泡発生防止機構につ
いて説明する。図４は、気泡発生防止部が処理液供給管
路に設けられた場合の一実施形態を示す平面図である。
エアオペレーションバルブ８１は処理液導入口８２と処
理液導出口８３とを備えており、処理液管路８４から輸
送された処理液を処理液導入口８２から導入し、処理液
通流の開始・停止の信号に従って適宜処理液を処理液導
出口８３から導出するように構成されている。

【００３７】エアオペバルブ８１の下流、すなわち処理
液導出口よりも基板Ｓ側（ノズル側）に、処理液通流を
停止したときに圧力変化を緩和するように、圧力変化に
応じて膨縮変形する膨縮部材であるべローズ８５が設け
られている。このべローズ８５は、処理液通流を停止し
たときの処理液の慣性、すなわち処理液通流を停止して
も処理液がノズル側に通流しようとする性質により発生
する処理液管路８４中の部分的な圧力変化を阻止する。

【００３８】上記構成において、エアオペバルブ８１に
より処理液通流を停止すると、エアオペバルブ８１の上
流では、処理液通流がバルブを閉じるとともに停止す
る。一方、エアオペバルブ８１の下流では、処理液通流
を停止しても処理液が慣性によりノズル側に僅かに輸送
される。このとき、従来の構成のように、エアオペバル
ブ８１の下流がリジットな状態であれば、エアオペバル
ブ８１の下流では減圧状態となるが、本構成によれば、
処理液通流を停止して処理液の慣性により処理液がノズ
ル側に輸送されても、ベローズ８５が圧力変化に応じて
縮んで、処理液管路８４内の体積を減少させる。これに
より、エアオペバルブ８１の下流で減圧状態となること
を回避することができる。したがって、エアオペバルブ
８１の下流において減圧状態から常圧状態に戻る際に気
泡が発生することを防止する。さらに、このようにエア
オペバルブ８１の下流にべローズ８５を設けることによ
り、処理液通流の際の圧力変化に対応して膨縮するの
で、ノズル先端において通流停止とともに処理液が出過
ぎることがなくなり、それに伴うノズルにおける気体の
吸い込みを防止することができる。

【００３９】本発明においては、処理液通流を停止した
ときに圧力変化を緩和するように、圧力変化に応じて膨
縮変形する膨縮部材として、べローズ８５の代わりに、
図５に示すように、例えばシリコーンゴム等のゴムやシ
リコーン樹脂等の軟質樹脂のような弾性材料等からなる
フレキシブルチューブ８６をエアオペバルブ８１の下流
の処理液管路８４に設けてもよく、図６に示すように、
アキュムレータ８７をエアオペバルブ８１の下流の処理
液管路８４に設けてもよい。このような膨縮部材として
は、これらに限らず、弾性材料で構成され、気体量に応
じて膨張・収縮を自在にできるものを用いることもでき
る。

【００４０】このような構成にすることにより、上記と
同様に圧力変化に対応して処理液管路８４内の体積を減
少させ、エアオペバルブ８１の下流で減圧状態となるこ
とを回避することができ、これによりエアオペバルブ８
１の下流において減圧状態から常圧状態に戻る際に気泡
が発生することを防止する。また、ノズル先端において
通流停止とともに処理液が出過ぎることがなくなり、そ
れに伴うノズルにおける気体の吸い込みを防止すること
ができる。

【００４１】次に、本発明に係る気泡発生防止機構の他
の実施形態について説明する。図７は、本発明の気泡発
生防止機構が開閉手段であるエアオペバルブ内に設けら
れた場合の一実施形態を示す平面図である。エアオペバ
ルブ９１は処理液導入口９２と処理液導出口９３とを備
えており、処理液管路から輸送された処理液を処理液導
入口９２から導入し、処理液通流の開始・停止の信号に
従って適宜処理液を処理液導出口９３から導出するよう
に構成されている。

【００４２】エアオペバルブ９１のシリンダ９４の処理
液通流路９５は、処理液導入口９２からほぼ水平であ
り、途中で液開閉部９６に向かって上方に向きを変え、
液開閉部９６よりも下流で下方に向かい、さらに再びほ
ぼ水平となるように向きを変えて、処理液導出口９３と
つながっている。

【００４３】液開閉部９６では、処理液通流路９５を膜
９７が覆っており、その膜９７はシリンダ９４内壁全周
に取り付けられており、その中をエアの供給・排出によ
り昇降するピストン９８の先端で押圧・開放されるよう
になっている。このピストン９８は、液開閉部９６より
も上方に配置されたバネ９９により付勢されている。し
たがって、通常はバネ９９によりピストン９８の先端が
膜部材９７を押しつけて液開閉部９６が閉じている。ま
た、ピストン９８には、フランジ９８ａが設けられてお
り、そのフランジ９８ａによりシリンダ９４内が２つに
分けられている。この分けられたシリンダ９４内には、
それぞれエアを供給するエア供給１００、１０１が設け
られている。

【００４４】また、処理液通流路９５の液開閉部９６よ
りも下流には、処理液通流を停止したときに圧力変化を
緩和するように、圧力変化に応じて膨縮変形する膨縮部
材としてのべローズ１０２が取り付けられている。べロ
ーズ１０２はカバー１０３により覆われており、カバー
１０３には、べローズ１０２の移動によるカバー１０３
内の体積変化を調節するための空気口１０４が設けられ
ている。

【００４５】上記構成においては、処理液をノズルから
吐出する場合には、エア供給部１０１からエアを導入し
てフランジ９８ａよりも下の領域の体積を増加させてピ
ストン９８をバネ９９の付勢圧力に抗して上昇させる。
これにより、液開閉部９６が開いて圧送されている処理
液が処理液通流路９５を通流する。その結果、ノズルか
ら基板Ｓに処理液が供給される。

【００４６】処理液の通流を停止する場合には、エア供
給部１００からエアを導入してフランジ９８ａよりも上
の領域の体積を増加させてピストン９８をバネ９９の付
勢圧力とともに下降させる。これにより、ピストン９８
の先端が膜を押圧して液開閉部９６が閉じる。

【００４７】このように処理液通流を停止すると、液開
閉部９６の上流では、処理液通流がバルブを閉じるとと
もに停止する。一方、液開閉部９６の下流では、処理液
通流を停止しても処理液が慣性によりノズル側に僅かに
輸送される。このとき、処理液の慣性により処理液がノ
ズル側に輸送されても、ベローズ１０２が圧力変化に対
応して縮んで、処理液通流路９５内の体積を減少させ
る。これにより、液開閉部９６の下流で減圧状態となる
ことを回避することができる。従って、液開閉部９６の
下流において減圧状態から常圧状態に戻る際に気泡が発
生することを防止する。さらに、このように液開閉部９
６の下流にべローズ１０２を設けることにより、処理液
通流の際の圧力変化に対応して膨縮するので、ノズル先
端において通流停止とともに処理液が出過ぎることがな
くなり、それに伴うノズルにおける気体の吸い込みを防
止することができる。

【００４８】この実施形態においても、処理液通流を停
止したときに圧力変化を、もしくは圧力変化に応じて膨
縮変形する膨縮部材として、べローズ１０２の代わり
に、図８に示すように、例えばシリコーンゴム等のゴム
やシリコーン樹脂等の軟質樹脂のような弾性材料等から
なるフレキシブルチューブ１０５を液開閉部９６の下流
の処理液通流路９５に設けても良い。

【００４９】また、この実施形態においては、処理液通
流を停止したときに圧力変化を緩和するように、圧力変
化に応じて膨縮変形する膨縮部材を液開閉部９６の下流
に設ければ良く、図９および図１０に示すように、前記
部材を処理液通流路９５に直接設けず、処理液通流路９
５を覆うカバー１０３に設けても良い。すなわち、図９
に示すように、処理液通流路９５を分岐してカバー１０
３内に延出させカバー１０３内にべローズ１０２を設け
ても良く、図１０に示すように、処理液通流路９５を分
岐してカバー１０３内に延出させカバー１０３内にアキ
ュムレータ１０６を設けても良い。さらに、上記膨縮部
材としては、これらに限らず、弾性材料で構成され、気
体量に応じて膨張・収縮を自在にできるものを用いるこ
ともできる。

【００５０】これらの構成においても、上記と同様に圧
力変化に対応して処理液通流路９５内の体積を減少さ
せ、液開閉部９６の下流で減圧状態となることを回避す
ることができ、これにより液開閉部９６の下流において
減圧状態から常圧状態に戻る際に気泡が発生することを
防止する。また、ノズル先端において通流停止とともに
処理液が出過ぎることがなくなり、それに伴うノズルに
おける気体の吸い込みを防止することができる。

【００５１】なお、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態に
おいては、開閉手段としてエアオペバルブを用いた場合
について説明しているが、本発明は他の開閉手段、例え
ばソレノイドバルブ等に適用することができる。また、
上記実施の形態では、本発明の気泡発生防止機構をレジ
スト塗布・現像ユニットに適用した例を示したが、これ
に限らず他の処理に適用してもよい。

【００５２】また、上記実施の形態では、処理液吐出手
段が処理液供給系（タンク）に接続されているが、これ
に限らず、例えば開閉部材（バルブ）と処理液供給手段
（ノズル）との間にポンプやＮ₂加圧による吐出手段を
設けても本発明の効果を奏することができる。

【００５３】さらに、上記実施形態では、被処理体とし
てＬＣＤ基板を用いた場合について示したが、これに限
らず半導体ウエハ等他の被処理体の処理の場合にも適用
することができる。

【００５４】

【発明の効果】以上説明したように、第１発明によれ
ば、気泡発生防止部により、処理液通流を停止したとき
に開閉手段の開閉部分よりも被処理体側における圧力変
化を緩和するので、処理液通流を停止した際に開閉部分
直下流が減圧状態になることを阻止することができ、ま
た、通流停止とともに先端から液が出過ぎることを阻止
することができ、結果として気泡の発生を防止すること
ができる。

【００５５】第２発明によれば、気泡発生防止部が膨縮
変形可能な膨縮部材を有しているので、処理液通流を停
止したときに開閉手段の開閉部分よりも被処理体側にお
ける圧力変化に応じて膨縮変形し、処理液通流を停止し
ても開閉部分直下流において減圧状態になることが阻止
することができ、また、通流停止とともに先端から液が
出過ぎることを阻止することができ、結果として気泡の
発生を防止することができる。

【００５６】また、第５発明及び第６発明によれば、被
処理体に処理液を供給して処理を行う液処理装置に、そ
れぞれ第１発明および第２発明の気泡発生防止機構を適
用しているので、気泡の発生を防止した処理液で被処理
体に対して液処理を行うことができ、液処理不良の低減
を図ることができる。

【００５７】さらに、第３発明および第７発明によれ
ば、気泡発生防止部を前記処理液供給手段と処理液供給
系との間に設けることにより、既存の開閉手段をそのま
ま適用することができる。

【００５８】さらにまた、第４発明および第８発明によ
れば、気泡発生防止部を開閉手段に設けることにより、
液開閉部分により近い直下流で減圧状態が起こることを
回避できる。減圧状態は開閉部分により近いほど起こり
易いので、この構成により気泡発生をより一層効果的に
防止することができる。

【００５９】さらにまた、第９発明によれば、体積変化
が可能な膨縮部を有する液体流路を有し、該流路の液体
の通流が停止された際に、液体の慣性で前記流路先端か
ら液体がこぼれ出ることを阻止するので、液体流路先端
からの空気の吸い込み等がなく、液切れ性が良くなる。
すなわち、ボタ落ち等が防止される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の対象となる気泡発生防止機構が適用さ
れるレジスト塗布・現像システムを示す斜視図。

【図２】本発明の気泡発生防止機構が組み込まれたレジ
スト塗布ユニットにおけるレジスト液及び溶剤の供給系
を示す図。

【図３】本発明の気泡発生防止機構が組み込まれた現像
ユニットにおける現像液の供給系を示す図。

【図４】本発明の気泡発生防止機構が処理液供給管路に
設けられた場合の一実施形態を示す平面図。

【図５】本発明の気泡発生防止機構が処理液供給管路に
設けられた場合の他の実施形態を示す平面図。

【図６】本発明の気泡発生防止機構が処理液供給管路に
設けられた場合の他の実施形態を示す平面図。

【図７】本発明の気泡発生防止機構が開閉手段に設けら
れた場合の一実施形態を示す平面図。

【図８】本発明の気泡発生防止機構が開閉手段に設けら
れた場合の他の実施形態を示す平面図。

【図９】本発明の気泡発生防止機構が開閉手段に設けら
れた場合の他の実施形態を示す平面図。

【図１０】本発明の気泡発生防止機構が開閉手段に設け
られた場合の他の実施形態を示す平面図。

【図１１】従来の液供給ノズルの先端部分の液だれを説
明する模式図。

【符号の説明】

２５……レジスト塗布ユニット ２９……現像ユニット ３３……レジスト液ノズル ３４……溶剤ノズル ４０……レジスト液供給系 ４１……レジスト液供給配管 ４２……レジスト液容器 ５０……溶剤供給系 ５１……溶剤供給配管 ５２……溶剤容器 ８１、９１……エアオペバルブ ８２、９２……処理液導入口 ８３、９３……処理液導出口 ８４……処理液管路 ８５、１０２……べローズ ８６、１０５……フレキシブルチューブ ８７、１０６……アキュムレータ ９４……シリンダ ９５……処理液通流路 ９６……液開閉部 ９７……膜部材 ９８……ピストン ９８ａ……フランジ ９９……バネ １００、１０１……エア供給口 １０３……カバー １０４……空気口 Ｓ……基板

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体に処理液を供給する際に処理液
   中に気泡が生じることを防止する気泡発生防止機構であ
   って、 処理液を処理液供給系から被処理体に通流させる処理液
   流路と、 前記処理液流路に設けられ、前記処理液流路における被
   処理体供給系側と被処理体側との処理液通流の開始・停
   止を行う開閉手段と、 前記処理液通流を停止したときに前記開閉手段の開閉部
   分よりも被処理体側における圧力変化を緩和する気泡発
   生防止部と、を具備することを特徴とする気泡発生防止
   機構。
2. 【請求項２】 前記気泡発生防止部は、前記処理液通流
   を停止したときに、処理液の慣性により発生する前記処
   理液流路に発生する部分的な圧力変化に応じて膨縮変形
   して、流路の体積変化を生じさせる膨縮部材を有するこ
   とを特徴とする請求項１に記載の気泡発生防止機構。
3. 【請求項３】 気泡発生防止部が前記処理液流路に設け
   られていることを特徴とする請求項１または請求項２に
   記載の気泡発生防止機構。
4. 【請求項４】 気泡発生防止部が前記開閉手段内に設け
   られていることを特徴とする請求項１または請求項２に
   記載の気泡発生防止機構。
5. 【請求項５】 被処理体に処理液を供給して処理を行う
   液処理装置であって、 被処理体表面に処理液を供給する処理液供給手段と、 処理液供給手段に処理液を供給する処理液供給系と、 前記処理液供給手段と前記処理液供給系との間に設けら
   れ、処理液通流の開始・停止を行う開閉手段と、 前記処理液通流を停止したときに、前記開閉手段の液開
   閉部分よりも被処理体側における圧力変化を緩和する気
   泡発生防止部と、を具備することを特徴とする液処理装
   置。
6. 【請求項６】 前記気泡発生防止部は、前記処理液通流
   を停止したときに、処理液の慣性により発生する前記処
   理液流路に発生する部分的な圧力変化に応じて膨縮変形
   して、流路の体積変化を生じさせる膨縮部材を有するこ
   とを特徴とする請求項５に記載の液処理装置。
7. 【請求項７】 気泡発生防止部が前記処理液供給手段と
   処理液供給系との間に設けられていることを特徴とする
   請求項５または請求項６に記載の液処理装置。
8. 【請求項８】 気泡発生防止部が前記開閉手段内に設け
   られていることを特徴とする請求項５または請求項６に
   記載の液処理装置。
9. 【請求項９】 体積変化が可能な膨縮部を有する液体流
   路を有し、該流路の液体の通流が停止された際に、液体
   の慣性で前記流路先端から液体がこぼれ出ることを阻止
   することを特徴とする液供給機構。