JPH10120445A - 表示装置用フィルター及び表示装置 - Google Patents
表示装置用フィルター及び表示装置Info
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- JPH10120445A JPH10120445A JP8276703A JP27670396A JPH10120445A JP H10120445 A JPH10120445 A JP H10120445A JP 8276703 A JP8276703 A JP 8276703A JP 27670396 A JP27670396 A JP 27670396A JP H10120445 A JPH10120445 A JP H10120445A
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Abstract
射防止性を有し、CRTなどの表示装置の前面板等とし
て使用されて好適な表示装置用フィルター、およびそれ
を有する表示装置を提供することを目的とする。 【手段】ガラス基材上に設けられた単層又は多層の反射
防止膜の表面を、下記一般式(1)で示されるパーフル
オロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を
含有するコーティング組成物を用いた表面改質膜で被覆
する。 Rf {COR1 −R2 −Si(OR3 )3 }p…
(1)、式中Rfはパーフロオロポリエーテル基、R1は
二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭
化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示
し、pは1又は2である。
Description
性、耐加工性などに優れた反射防止性を有し、CRTの
反射防止フィルターや前面板などとして使用される表示
装置用フィルター及びそれを有する表示装置に関する。
が強く、反射像が明瞭であることは煩わしく、例えば眼
鏡用レンズではゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像
が生じて目に不快感を与えたりする。またルッキングガ
ラスなどではガラス面上の反射した光のために内容物が
判然としない問題が生ずる。更に、テレビなどの陰極線
管や液晶などの平面ディスプレーのパネル面においても
画像を鮮明にするため、パネル面の反射は少ない方が好
ましい。
異なる物質を、真空蒸着法などにより基材上に被覆形成
させる方法が行われていた。この場合反射防止効果を最
も高いものとするためには、基材を被覆する物質の厚み
の選択が重要であることが知られている。
率の物質を光学的膜厚を対象とする光波長の1/4ない
しはその奇数倍に選択することが極小の反射率すなわち
極大の透過率を与えることが知られている。ここで、光
学的膜厚とは、被膜形成材料の屈折率と該被膜の膜厚の
積で与えられるものである。さらに複層の反射防止膜の
形成が可能であり、この場合の膜厚の選択に関していく
つかの提案がされている(光学技術コンタクト Vol.9,
No.8,第17頁 (1971) )。
開昭59−49501号公報、特開昭59−50401
号公報には前記の光学的膜厚の条件を満足させる複層か
らなる反射防止膜を液状組成物を用いて形成する方法に
ついて記載されている。
た反射防止膜は被膜形成材料が主として無機酸化物ある
いは無機ハロゲン化物であり、反射防止膜は本質的には
高い表面硬度を有する半面、手垢、指紋、汗、ヘアーリ
キッド、ヘアースプレーなどの汚れが目立ち易く、また
この汚れが除去しにくいという欠点があった。さらには
表面のすべり性が悪いために傷が太くなるなどの問題点
を有している。また水に対する濡れ性が大きいために雨
滴、水の飛沫が付着すると大きく拡がり、眼鏡レンズな
どにおいては大面積にわたって物体がゆがんで見えるな
どの問題点があった。
9−49501号公報、特開昭59−50401号公報
に記載の反射防止膜においても硬い表面硬度を付与する
ためには最表層膜中にシリカ微粒子などに代表される無
機物を30重量%以上含ませることが必要であるが、こ
のような膜組成から得られる反射防止膜は、表面のすべ
りが悪く、布などの磨耗によって傷がつき易いなどの問
題点を有している。
面処理剤が提案され、市販されているが、いずれも水や
各種の溶剤によって溶解するために一時的に機能を付与
するものであり、永続性がなく耐久性に乏しいものであ
った。また、特開平3−266801号公報には、撥水
性を付与するために、フッ素系樹脂層を形成させる報告
がある。しかしながらこれらのフッ素系樹脂では確かに
撥水性は増すが、摩擦あるいは磨耗に対して満足する結
果が得られていない。
れ、耐汚染性、耐擦傷性、耐加工性などに優れた反射防
止性を有し、CRTなどの表示装置の前面板等として使
用されて好適な表示装置用フィルター、およびそれを有
する表示装置を提供することを目的とする。
点を解決するために鋭意検討した結果、以下に述べる本
発明に到達したものである。すなわち、上記目的を達成
するために、本発明にかかる表示装置用フィルターは、
ガラス基材上に設けられた単層又は多層の反射防止膜の
表面が、下記一般式(1)で示されるパーフルオロポリ
エーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含有する
コーティング組成物を用いた表面改質膜で被覆されてい
ることを特徴とする。
二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭
化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示
し、jは1又は2である。) また、本発明にかかる表示装置は、ガラス基材と、該ガ
ラス基材上に設けられた単層又は多層の反射防止膜と、
該反射防止膜上に、上記一般式(1)で示されるパーフ
ルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物
を含有するコーティング組成物を用いた表面改質膜とを
有することを特徴とする。
おける問題を解決するために、種々検討を行う過程にお
いて、ガラス基材上に形成された酸化珪素等の反射防止
膜に対するパーフルオロポリエーテル化合物による表面
処理によって、耐摩擦磨耗、あるいは耐汚染性が向上す
るという知見を得た。しかしながら、たしかにこの化合
物による表面処理は非常に効果があるが、化学的な安定
性、例えば溶剤処理等でその効果が著しく低減するとの
結論に達した。これはとりもなおさず、表面のSiO2
との相互作用に係るものと考えられる。
なった結果、一般式(1)で表されるようなパーフルオ
ロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物で被
覆することによって反射防止性を有する表示装置等の表
面の耐磨耗性あるいは耐汚染性の問題を解決しようとし
た。つまり、SiO2 表面との相互作用を持たせるため
にアルコキシシラン構造部を分子構造中に含み、表面で
強固な結合をなさせるものである。それゆえに、従来不
満足であった、耐溶剤性等の問題を克服することができ
るものである。
オロポリエーテル基を持つアルコキシシラン化合物を含
有するコーティング組成物は、反射防止膜表面に耐摩耗
性、耐汚染性、耐溶剤性等の特性を有する表面改質膜を
形成することができる。この場合、基材との反応を促進
する触媒として酸又は塩基、リン酸エステル、及びアセ
チルアセトン等のβ−ジケトン類から選ばれる1種又は
2種以上をコーティング組成物に添加することにより、
加熱温度を低くしても基材との強い結合を形成できる。
そのため、製造プロセス的に有利になると共に、表面改
質膜の加熱による変質を防止でき、良質の表面改質膜を
形成することができる。
持つアルコキシシラン化合物の溶液調整時に、触媒とし
て酸あるいは塩基を用いることは一般に知られているこ
とであるが、本発明のように、防汚膜を形成するような
例えば10nm程度の薄膜の場合には、潤滑特性等のト
ライボロジー効果は知られていない。更に、燐酸エステ
ル系の触媒、あるいはアセチルアセトンのようなβ−ジ
ケトンを酸又は塩基と共に添加することによる効果も知
られていない。反射防止フィルターのような薄膜材料に
おいては、その膜厚から耐久性への要求は厳しいものが
あり、その耐久性を向上させるためにこのような触媒を
添加することを試みたものである。
より詳細に説明する。図1は、本発明の一実施態様に係
る表示装置用フィルターにおける断面構造を示す。図1
に示す表示装置用フィルター10は、ガラス基材1の一
表面上に反射防止膜2が設けられており、この上面に表
面改質膜3が形成されている。
図2に示すCRT100のパネル101に接着して用い
ることができる。フィルター10をパネル101に接着
する接着剤としては、特に限定されず、各種の公知のも
のを用いることができるが、一般には紫外線硬化樹脂系
接着剤が使用され、かつその硬化層の屈折率が上記パネ
ルの屈折率と近似する、例えばその差が0.8%以内と
なるものであることが好ましい。具体的には、例えば、
分子量550以上のビスフェノールA型エポキシ(メ
タ)アクリレート10重量%、ウレタン(メタ)アクリ
レート20重量%、水酸基含有モノ(メタ)アクリレー
ト70重量%、光重合開始剤3%およびその他の添加剤
数%程度を含有する組成物などが用いられ得る。
は、パネル101の前面に取り外し自在に取り付けるタ
イプのフィルターであっても良い。取り外し自在に装着
する場合には、本発明に係る表示装置用フィルターの外
周部には、枠体が装着され、この枠体に対して本発明に
係る表示装置用フィルターが張設されることになる。
られる対象となる表示装置のパネルとしては、CRTの
ような曲率を有するパネルに限らず、液晶ディスプレイ
装置あるいはプラズマディスプレーのような平面表示装
置のパネルの他、各種の表示装置のパネルが含まれる。
陰極線管100をも示す斜視図であり、この場合のパネ
ル101の一実施態様にかかる断面構造を図3に示す。
この場合における表示装置100は、ガラス基材として
のCRTのガラスパネル101の表面に直接反射防止膜
2が設けられており、この反射防止膜2の表面に表面改
質膜3が設けられている。
形成されたガラス基材を有する表示装置すべてが対象と
なり、CRT以外に、例えば液晶ディスプレー、プラズ
マディスプレー等の平面表示装置なども含む。本発明に
おいて、図1、図3に示すガラス基材1、101として
は、特に限定されるものではなく、珪酸、ホウ酸、リン
酸等を主成分として含む非結晶固体であれば良く、例え
ばソーダガラス、鉛ガラス、硬質ガラス、石英ガラス、
液晶化ガラス等が挙げられる(例えば、化学便覧基礎
編、P.T−537、日本化学会編)。CRTとしては
ストロンチウムやバリウムを含む珪酸ガラスが好ましく
用いられ、液晶表示素子装置では無アルカリガラスが好
ましく用いられる。
反射防止膜2は、単層または多層構造を有するものであ
って、各種の組み合わせが可能である。特に多層構造と
する場合には、その表層膜より下層を形成する物質の膜
構成は要求される性能、例えば耐熱性、反射防止性、反
射光色、耐久性、表面硬度などに応じて適宜実験等に基
づき決定することができる。
を含めた各種無機物の皮膜化方法としては、真空蒸着、
イオンプレーティング、スパッタリングに代表される各
種のPVD(Physical Vapor Deposition )法がある。
反射防止膜を得る上で、上記のPVD法に適した無機物
としては、SiO2 以外に、例えば、Al2 O3 、Zr
O2 、TiO2 、Ta2 O5 、TaHf2 、SiO、T
iO、Ti2 O3 、HfO2 、ZnO、In2 O3 /S
nO2 、Y2 O 3 、Yb2 O3 、Sb2 O3 、MgO、
CeO2 などの無機酸化物が例示できる。
る反射防止膜の最外表層膜は、主として二酸化珪素から
構成されるものであることが好ましい。二酸化珪素以外
の場合には十分な表面硬度が得られないばかりでなく、
本発明の目的とする耐汚染性、耐擦傷性の向上、さらに
はこれらの性能の耐久性が顕著に現れない虞があるため
である。しかしながら、本発明は、主として、このよう
な反射防止膜の表面を被覆する表面改質膜の構成に係る
ものであるゆえ、特に反射防止膜の最外表層膜の材質を
限定するものではなく、二酸化珪素以外のもので構成さ
れていてもよい。
は、反射防止効果以外の要求性能によってそれぞれ決定
されるべきものであるが、特に反射防止効果を最大限に
発揮させる目的には表層膜の光学的膜厚を対象とする光
波長の1/4ないしはその奇数倍に選択することが極小
の反射率すなわち極大の透過率を与えるという点から好
ましい。
ては特に限定されない。すなわち、前記表層膜を直接基
材上に被膜形成させることも可能であるが、反射防止効
果をより顕著なものとするためには、基材上に表層膜よ
り屈折率の高い皮膜を一層以上被覆することが有効であ
る。これらの複層の反射防止膜の膜厚および屈折率の選
択に関してもいくつかの提案がなされている(例えば、
光学技術コンタクト Vol.9 No.8 p.17 (1971) )。
ボンCVD膜などの無機光透過膜を設けることも可能で
ある。しかして本発明においては、上記したような単層
または多層の反射防止膜2の表面を、下記一般式(1)
で表されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコ
キシシラン化合物を含有するコーティング組成物から形
成される表面改質膜3で被覆するものである。
二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭
化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示
し、jは1又は2である。) Rf としてのパーフルオロポリエーテル基の分子構造と
しては、特に限定されるものではなく、各種鎖長のパー
フルオロポリエーテル基が含まれるが、好ましくはC1
〜C3 程度のパーフルオロアルキルオキシ基を繰り返し
単位とする一価又は二価のパーフルオロポリエーテルで
ある。一価のパーフルオロポリエーテルとしては、具体
的には例えば、次に示すようなものがある。
としては、例えば次のようなものがある。
k、p及びqはそれぞれ1以上の整数を示す。しかしな
がら、前記したようにパーフルオロポリエーテルの分子
構造はこれら例示したものに限定されるものではない。
一般式(1)におけるR1としての結合原子ないし結合
原子団としては特に限定されるものではないが、通常
は、例えばO、NH、S等の原子あるいは原子団であ
る。
は置換の二価炭化水素基であり、例えばメチレン基、エ
チレン基、プロピレン基、ブチレン基などのアルキレン
基が例示され、炭素数は特に制限されない。また、R3
は、アルコキシ基を構成する非置換又は置換の一価炭化
水素基であり、炭素数は特に限定されるものではない
が、例えば、C1 〜C5 程度、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基等のアルキル基が例示
される。なお、上記R1〜R3では、当該炭素原子鎖の柔
軟性ないしゆらぎ性を損なわない限りにおいて、一部に
不飽和結合、特性基、芳香環などの環状構造を有するも
のであってもよく、さらに、短鎖の分岐鎖ないし側鎖を
有するものであってもよい。
キシ化合物の分子量は特に限定されないが、安定性、取
り扱い易さなどの点から数平均分子量で500〜100
00、さらに好ましくは500〜2000程度のものが
使用される。さらにこのような化合物により形成される
表面改質膜の膜厚についても、特に限定されるものでは
ないが、反射防止性と水に対する静止接触角とのバラン
スおよび表面硬度との関係から、0.1nm〜100n
m、さらに好ましくは10nm以下、具体的には0.5
nm〜5nm程度であることが望ましい。
ィング作業で用いられる各種の方法が適用可能である
が、反射防止効果の均一性、更には反射干渉色のコント
ロールという観点からスピン塗布、ディッピング塗布、
カーテンフロー塗布などが好ましく用いられる。また作
業性の点から紙、布などの材料に液を含浸させて塗布流
延させる方法も好ましく使用される。
(1)で表される化合物は、通常揮発性溶媒に希釈さ
れ、コーティング組成物として使用される。溶媒として
用いられるものは、特に限定されないが、使用にあたっ
ては組成物の安定性、被塗布面である反射防止膜の最表
面層、代表的には二酸化珪素膜に対する濡れ性、揮発性
などを考慮して決められるべきである。本発明において
は、特にメタノール、エタノール、イソプロパノール、
n−ブチルアルコール、i−ブチルアルコール、sec
−ブチルアルコール、sec−アミルアルコール等のア
ルコール系溶剤が好ましく、これらの1種を単独で又は
2種以上を混合して用いることができる。また、アルコ
ール系溶剤に炭化水素系溶剤を混合して混合溶剤とする
ことも可能である。このような炭化水素系溶剤として
は、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン等のパラフィン
類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、シクロヘ
キサン等のシクロパラフィン等の沸点が50〜120℃
の範囲の1種を単独で又は2種以上を混合して用いるこ
とができる。その他、フッ化炭化水素系溶媒を用いるこ
とも可能であり、例えばパーフルオロヘプタン、パーフ
ルオロオクタン、アウトジモント社製の商品名SV−1
10,SV−135等のパーフルオロポリエーテル、住
友3M社製のFCシリーズ等のパーフルオロアルカン等
を例示することができる。これらのフッ化炭化水素系溶
媒の中でも、沸点が70〜240℃の範囲のものを選択
し、これらの1種を単独で又は2種以上を混合して用い
ることができる。
ング組成物を調製するに際しての希釈溶剤による希釈度
合としては特に限定されるものではないが、例えば、
0.1〜5.0重量%濃度程度に調製することが適当で
ある。また、本発明においては、このコーティング溶液
中に、必要に応じて反応触媒としての酸あるいは塩基を
添加することが好ましい。酸触媒としては例えば,硫
酸、塩酸、硝酸、燐酸、酸性白土、酸化鉄、硼酸、トリ
フルオロ酢酸などを用いることができ、また塩基触媒と
しては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウム等のアルカリ金属水酸化物などを用いることができ
る。これらの触媒の添加量は、0.001〜1mmol
/L程度が好ましい。これらの酸、塩基に加えてリン酸
ジラウリルエステル、リン酸のパーフルオロポリエーテ
ルエステルなどの燐酸エステル系の触媒、あるいはアセ
チルアセトンのようなβ−ジケトンを添加してその触媒
効果を高めることが可能である。このように触媒が添加
されることによって一般式(1)で表される化合物のシ
ラノ基と、反射防止膜表面のSiO2 との結合反応を伴
う相互作用が、低温であるいは加熱を行なわずとも良好
に進行する。このため、成膜した表面改質膜に変形など
の悪影響を及ぼさずに反応させることができ、SiO2
上の薄膜材料においては、その膜厚から耐久性への要求
が厳しいものであるにもかかわらず、良好な耐久性の向
上が望めるものとなる。このようなリン酸エステルやカ
ルボニル化合物の添加量は、0.1〜100mmol/
L程度とすることができる。このような触媒を添加した
コーティング組成物の乾燥温度は、20〜170℃程度
とすることが好ましい。
物を含有するコーティング組成物の塗布にあたっては、
塗布されるべき反射防止膜の表面は清浄化されているこ
とが好ましく、清浄化に際しては、界面活性剤による汚
れ除去、さらには有機溶剤による脱脂、フッ素系ガスに
よる蒸気洗浄などが適用される。また密着性、耐久性の
向上を目的として各種の前処理を施すことも有効な手段
であり、特に好ましく用いられる方法としては活性化ガ
ス処理、酸、アルカリなどによる薬品処理などが挙げら
れる。
表面に対して耐汚染性、耐擦傷性、耐加工性に加えて耐
磨耗性等を付与できる。そのため、本発明の表面改質膜
が成膜された表示装置用フィルターは、通常の反射防止
膜よりも汚れにくく、かつ汚れが目立たない。さらには
汚れが容易に除去できる、あるいは表面の滑りが良好な
ため傷がつきにくいなどの長所を有し、かつこれらの性
能に加えて磨耗に関しても耐久性がある。
されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変する
ことができる。
説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定される
ものではない。なお実施例中において「部」は重量部を
表すものである。
のITO(酸化錫ドープ酸化インジウム、Indiumu Tin
Oxide)を形成し、その上にSiO2 を80nm厚に蒸
着して2層からなる反射防止膜を形成した。 (2)パーフルオロポリエーテル基を持つアルコキシシ
ラン化合物含有コーティング組成物の調製 パーフルオロポリエーテル基を持つアルコキシシラン化
合物(1)(分子量約850、表1中の化合物1)4部
に、メチルアルコール200部を添加混合し、さらに触
媒としてアセチルアセトンを1ccと濃塩酸を0.01
cc加え均一な溶液としたのち、さらにメンブランフィ
ルターで瀘過を行ない、コーティング組成物を得た。 (3)塗布および乾燥 前記(1)で得た反射防止膜の表面に前記(2)で調製
したコーティング組成物を5cm/minの引き上げ速
度でディップコーティングした。塗布後、温度70℃で
1時間乾燥させた。 (4)性能評価 得られた表面改質膜の性能は下記の方法に従い試験を行
なうことにより評価した。下記(a)から(e)までの
評価項目の試験結果を表2に示す。また耐溶剤性を見る
ため、エタノール洗浄を行なった後に再度同様の試験を
行なった。得られた結果を同様に表2に示す。
(25℃±2℃)下で48時間放置後、布で拭いた後の
水垢の残存状態を目視にて観察した。水垢が除去できた
時を良好とし、除去できなかった場合を不良とした。
いた時の引っかかり具合を評価した。判定基準は以下の
通りである。 ○:まったく引っかからない。
0回擦った後傷が付いたかどうかで評価した。判定基準
は以下の通りである。
準は以下の通りである。
協和界面化学社製CA−Aを用いて行なった。なお測定
された接触角の値は、表面改質膜の残存率ないし水ある
いは油に対する汚染性に関しての目安となるものであ
る。実施例2 実施例1のパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキ
シシラン化合物含有コーティング組成物の調製におい
て、触媒としてアセチルアセトンを使用せずに塩酸のみ
を使用した以外はすべて同様に行った。結果を表2に示
す。実施例3 実施例1のパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキ
シシラン化合物含有コーティング組成物の調製におい
て、触媒として、塩酸の代わりにアンモニア水を用い、
アセチルアセトンとアンモニアを併用した以外はすべて
同様に行った。結果を表2に示す。実施例4 実施例1のパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキ
シシラン化合物含有コーティング組成物の調製におい
て、触媒として、リン酸ジラウリルエステルを使用した
以外はすべて同様に行った。結果を表2に示す。実施例5 実施例1のパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキ
シシラン化合物含有コーティング組成物の調製におい
て、パーフルオロポリエーテル基を持つアルコキシシラ
ン化合物1の代わりに化合物2(分子量約1000、両
末端にアルコキシシラノ基を持つパーフルオロポリエー
テル)を用い、触媒としてリン酸のパーフルオロポリエ
ーテルエステルを使用した以外はすべて同様に行った。
結果を表2に示す。比較例1 実施例1のパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキ
シシラン化合物含有コーティング組成物の調製におい
て、触媒を用いずにコーティング組成物の調製を行った
以外はすべて同様に行った。結果を表2に示す。比較例2 実施例1のパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキ
シシラン化合物含有コーティング組成物の調製におい
て、パーフルオロポリエーテル基を持つアルコキシシラ
ン化合物1の代わりに化合物2(分子量約1000、両
末端にアルコキシシラノ基を持つパーフルオロポリエー
テル)を用いると共に、触媒を用いずにコーティング組
成物の調製を行った以外はすべて同様に行った。結果を
表2に示す。比較例3 コーティング組成物を塗布しない以外はすべて同様に行
った。結果を表2に示す。
媒を添加しない場合(比較例1、比較例2)、表面改質
膜の特性、特に手垢の付きにくさに劣り、表面改質膜を
成膜しない場合(比較例3)、明らかに耐磨耗性や表面
滑り性などの特性に劣る。実施例6〜10 実施例1において、コーティング組成物を塗布後の乾燥
温度を表3に示す温度で行った以外はすべて同様に行っ
た。結果を表3に併記する。このときの耐汚染性、表面
すべり性、耐磨耗性試験、手垢の付きにくさについては
同様の結果であったので記載は省略する。
膜が得られることが認められる。加熱温度が100℃を
超えると特性的には満足するが、パネルガラスの熱容量
が大きいために温度が高くなるほど加熱が大変になる上
に、反射防止膜に熱ストレスを加えることになり、膜ク
ラック発生の原因となるので好ましくない。比較例4〜8 実施例1において、触媒を用いずにコーティング組成物
を調製し、コーティング組成物を塗布後の乾燥温度を表
4に示す温度で行った以外はすべて同様に行った。結果
を表4に併記する。
ても特性の良好な皮膜が得られず、加熱温度が低いほど
触媒効果が顕著に現れることが認められる。
ターは、ガラス基材上に設けられた単層または多層の反
射防止膜の表面が、一般式(1)で示されるパーフルオ
ロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物から
成る表面改質膜で被覆してある表示装置用フィルターで
ある。このため、本発明に係るフィルターおよびそれを
有する表示装置は、次の効果を有する。 (1)指紋、手垢などによる汚れが付きにくく、また目
立ちにくい。これらの効果が永続的に保持される。 (2)水垢などが付着し、乾燥されても容易に除去する
ことが可能である。 (3)表面滑り性が良好である。 (4)ほこりなどの汚れが付きにくく、使用性が良い。 (5)磨耗に対する耐久性がある。 (6)塗布後の乾燥温度を50℃以下の低温にすること
も可能である。
つアルコキシシラン化合物を反射防止フィルターの表面
に被覆させた後、加熱乾燥させることにより、手垢、水
垢等の汚染防止効果があり、かつ上記潤滑剤の効果によ
り、滑り性、耐磨耗性に優れた反射防止フィルターを提
供することが可能となった。
の一形態を示す断面図である。
形態を示す断面図である。
0…フィルター、100…陰極線管、101…パネル
Claims (7)
- 【請求項1】ガラス基材上に設けられた単層又は多層の
反射防止膜の表面が、下記一般式(1)で示されるパー
フルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合
物を含有するコーティング組成物を用いた表面改質膜で
被覆されていることを特徴とする表示装置用フィルタ
ー。 Rf {COR1 −R2 −Si(OR3 )3 }j …(1) (但し、式中Rfはパーフロオロポリエーテル基、R1は
二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭
化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示
し、jは1又は2である。) - 【請求項2】上記コーティング組成物が、酸又は塩基、
リン酸エステル、及びβ−ジケトンから選ばれる1種又
は2種以上の触媒を含有する請求項1記載の表示装置用
フィルター。 - 【請求項3】反射防止膜の最表面が主として酸化珪素か
らなり、その表面に表面改質膜が形成されている請求項
1記載の表示装置用フィルター。 - 【請求項4】ガラス基材と、 該ガラス基材上に設けられた単層又は多層の反射防止膜
と、 該反射防止膜上に、下記一般式(1)で示されるパーフ
ルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物
を含有するコーティング組成物を用いた表面改質膜とを
有することを特徴とする表示装置。 Rf {COR1 −R2 −Si(OR3 )3 }j …(1) (但し、式中Rfはパーフロオロポリエーテル基、R1は
二価の原子又は原子団、R2は非置換又は置換の二価炭
化水素基、R3は非置換又は置換の一価炭化水素基を示
し、jは1又は2である。) - 【請求項5】上記コーティング組成物が、酸又は塩基、
リン酸エステル、及びβ−ジケトンから選ばれる1種又
は2種以上の触媒を含有する請求項4記載の表示装置。 - 【請求項6】反射防止膜の最表面が主として酸化珪素か
らなる請求項4記載の表示装置。 - 【請求項7】上記ガラス基材が陰極線管のガラスパネル
であり、表示装置が陰極線管である請求項4記載の表示
装置。
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