[go: up one dir, main page]

JPH09230493A - カメラ - Google Patents

カメラ

Info

Publication number
JPH09230493A
JPH09230493A JP8246180A JP24618096A JPH09230493A JP H09230493 A JPH09230493 A JP H09230493A JP 8246180 A JP8246180 A JP 8246180A JP 24618096 A JP24618096 A JP 24618096A JP H09230493 A JPH09230493 A JP H09230493A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
surface layer
camera
photocatalyst particles
lens
titania
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8246180A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Kitamura
厚 北村
Makoto Hayakawa
信 早川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toto Ltd filed Critical Toto Ltd
Priority to JP8246180A priority Critical patent/JPH09230493A/ja
Publication of JPH09230493A publication Critical patent/JPH09230493A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28FDETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
    • F28F13/00Arrangements for modifying heat-transfer, e.g. increasing, decreasing
    • F28F13/18Arrangements for modifying heat-transfer, e.g. increasing, decreasing by applying coatings, e.g. radiation-absorbing, radiation-reflecting; by surface treatment, e.g. polishing
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F8/00Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying
    • F24F8/20Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by sterilisation
    • F24F8/22Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by sterilisation using UV light
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28FDETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
    • F28F2245/00Coatings; Surface treatments
    • F28F2245/02Coatings; Surface treatments hydrophilic

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Structure And Mechanism Of Cameras (AREA)
  • Accessories Of Cameras (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高所に設置される監視カメラは、清掃しにく
くしかも内部に籠った水蒸気により曇りや、凝縮水が発
生しやすい。 【解決手段】 前面にガラス板3を取付けた取付けカバ
ーケース1内にカメラ本体2を収納し、また、ガラス板
3の外側面には、紫外線を照射することで親水性を発揮
する表面層4が形成されている。表面層4は光触媒粒子
単独で形成してもよいが、シリカ、シリコーン樹脂或い
は酸化物超強酸とともに形成してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は監視カメラ等のカバ
ーケース内にカメラ本体を収納したカメラに関する。
【0002】
【従来の技術】店内の監視、建物への侵入者の監視、道
路の混雑状態や車両の速度の監視、トンネル内の状態の
監視に用いるカメラは、一旦設置した後はそのままの状
態で長期間使用する場合が多い。そのため、カメラ本体
の傷つき等を防止すべく、例えば全面を強化ガラスとし
たカバーケース内にカメラ本体を収納している。また、
監視カメラに限らず通常のカメラにおいても、レンズの
前方に強化ガラス製の保護カバーを設けたものがある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】監視カメラは一般的に
高所、狭所等に設置されるため、清掃が困難で降雨に晒
されたままになってしまう。その結果、前面ガラスの外
側面が汚れて見にくくなったり、湿気が多い季節には内
部に蒸気がこもり、レンズ表面や前面ガラスの内側面に
結露が生じてしまう。また、レンズの前方に保護カバー
を設けたカメラにあっても、湿気の多い場所で使用する
場合に、保護カバーの表面に結露が生じることがある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、酸化チタ
ン等の光触媒粒子に物品の表面を親水化(超親水化)す
る作用を有するという知見に基づいて本発明をなしたも
のである。
【0005】光触媒粒子の親水化作用は、今まで知られ
ていなかったが、本発明者らの実験により最近新たに知
見されたものである。その理論的根拠は完全には解明さ
れていないが、光が光触媒粒子に照射されると、光触媒
粒子の価電子帯中の電子が励起されて伝導電子と正孔が
生成し、そのいずれかまたは双方の作用により、おそら
く表面に極性が付与され、水や水酸基等の極性成分が集
められる。そして伝導電子と正孔のいずれかまたは双方
と、上記極性成分の協調的な作用により、吸着表面と表
面に化学的に吸着した汚染物質との化学結合を切断する
と共に、表面に化学吸着水が吸着し、さらに物理吸着水
層がその上に形成されるものと考えられる。
【0006】具体例として、表面層がSi−O結合を有
するシリコーン樹脂からなる場合を説明すると、光触媒
粒子に光を照射する前は図1(a)に示すように、Si
原子にアルキル基(R)が結合しているため、表面層は
疎水性を示すが、光触媒粒子のバンドギャップエネルギ
よりも高いエネルギの光を照射すると、図1(b)に示
すように、まず光触媒効果によってアルキル基(R)が
水酸基(OH-)に置換(化学吸着)され、更にこの水
酸基(OH-)に空気中の水分子が物理吸着して親水性
を発揮する。
【0007】また、光触媒粒子として酸化チタン(Ti
2)のみからなる場合を説明すると、光を照射する前
は図2(a)に示す状態であったものが、光を照射する
と、図2(b)に示すように、空気中の水分を構成する
水酸基(OH-)がTi原子に、水素原子(H+)が酸素
原子(O)に化学吸着し、更にこの水酸基(OH-)や
水素原子(H+)に空気中の水分子が物理吸着して親水
性を発揮する。
【0008】上記の説明で、物質の分解作用と親水化作
用とは全く別のものであることが明らかであるが、具体
的事例を示せば、TiO2でもアナターゼ型のTiO2は酸
化還元反応に基づく物質の分解作用を示すがルチル型の
TiO2は殆ど酸化還元反応に基づく物質の分解作用を示
さない。また光触媒のうちでも酸化錫も酸化還元反応に
基づく物質の分解作用を示さない。これらの光触媒粒子
は伝導帯のエネルギ準位が十分に高くないため還元反応
が進行せず、その結果、伝導帯に光励起された電子が過
剰となり、光励起により生じた電子−正孔対が酸化還元
反応に関与せずに再結合するためと考えられている。し
かしながら、これらルチル型TiO2及び酸化錫のいずれ
も親水化作用は示す。
【0009】また、物質の分解作用を発揮するには、光
触媒層の厚みとして少なくとも100nm以上必要であ
ったが、親水化作用をを発揮するには、数nm以上あれ
ば可能である。これらの事実から光触媒による物質の分
解作用と親水化作用とは全く別のものであると言える。
【0010】本発明は以上の知見に基づき、従来の課題
を解決すべくなしたものであり、本願の第1発明に係る
カメラは、カバーケース内にカメラ本体を収納してなる
カメラであって、前記カバーケースの外側面または内側
面若しくはレンズの表面に、光触媒粒子単独からなる表
面層または光触媒粒子を含む表面層を形成した。
【0011】また、本願の第2発明に係るカメラは、レ
ンズの前方に設けた保護カバーの外側面または内側面若
しくはレンズの表面に、光触媒粒子単独からなる表面層
または光触媒粒子を含む表面層を形成した。
【0012】光触媒粒子単独からなる表面層または光触
媒粒子を含む表面層は、紫外線を照射されることで親水
性を呈し、自浄効果、防曇効果等を発揮する。これらの
効果を効果的に発揮するには、表面の親水性が水との接
触角に換算して10°以下となるようにすることが好ま
しい。表面に水との接触角が10°以下の親水性を付与
すると、部材表面に付着した水滴は瞬間的に表面全体に
広がる。
【0013】前記光触媒粒子としては、アナターゼ型、
ルチル型等の結晶性酸化チタンが好ましいが、光触媒粒
子としては、この他にも、ZnO、SnO2、SrTiO3
WO3、Bi23、Fe23などの金属酸化物が挙げられ
る。また、表面層を光触媒粒子単独で構成しない場合に
は、光触媒粒子の他に、シリカやシリコーンを含むこと
が好ましい。シリコーンはシリコン原子に結合する有機
基の少なくとも一部が水酸基に置換されることで親水性
を発揮する。
【0014】光触媒粒子を含有する親水性の表面層を形
成方法として、チタニア(酸化チタン)を例にとって説
明すると、無定形チタニアの形成、シリカ配合チタニア
の塗布、酸化錫配合チタニアの塗布、チタニア含有シリ
コーン塗料の塗布等が挙げられる。
【0015】無定形チタニアの形成は、先ず被塗装面を
無定形チタニアで被覆し、これを焼成して結晶性チタニ
アに相変化させる方法であり、次のいずれかの方法を採
用することができる。 (1)有機チタン化合物の加水分解と脱水縮重合 チタンのアルコキシド、例えば、テトラエトキシチタ
ン、テトライソプロポキシチタン、テトラn−プロポキ
シチタン、テトラブトキシチタン、テトラメトキシチタ
ン、に塩酸またはエチルアミンのような加水分解抑制剤
を添加し、エタノールやプロパノールのようなアルコー
ルで希釈した後、部分的に加水分解を進行させながら又
は完全に加水分解を進行させた後、混合物を塗布し、常
温から200℃の温度で乾燥させる。乾燥により、チタ
ンのアルコキシドの加水分解が完遂して水酸化チタンが
生成し、水酸化チタンの脱水縮重合により無定形チタニ
アの層が形成される。チタンのアルコキシドに代えて、
チタンのキレート又はチタンのアセテートのような他の
有機チタン化合物を用いてもよい。 (2)無機チタン化合物による無定形チタニアの形成 無機チタン化合物、例えば、TiCl4またはTi(S
42の酸性水溶液を塗布し、100〜200℃の温度
で乾燥させることにより加水分解と脱水縮重合を行い、
無定形チタニアの層を形成する。或いはTiCl4の化学
蒸着により被塗装面に無定形チタニアの層を形成しても
よい。 (3)スパッタリングによる無定形チタニアの形成 金属チタンのターゲットに酸化雰囲気で電子ビームを照
射することにより、被塗装面に無定形チタニアの層を形
成する。
【0016】シリカ配合チタニアの塗布は、チタニアと
シリカとの混合物からなる層を被塗装面に形成すること
である。チタニアとシリカの合計に対するシリカの割合
は、5〜90モル%、好ましくは10〜70モル%、よ
り好ましくは10〜50モル%である。またシリカ配合
チタニアからなる表面層の形成方法には以下の方法を採
用することができる。 (1)アナターゼ型又はルチル型チタニアの粒子とシリ
カの粒子を含む懸濁液を被塗装面に塗布し、基材(被塗
装物)の軟化点以下の温度で焼成する。 (2)無定形シリカの前駆体(例えば、テトラエトキシ
チタン、テトライソプロポキシチタン、テトラn−プロ
ポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラメトキシ
チタン、等のテトラアルコキシシラン)と結晶性チタニ
アゾルとの混合物を基材の表面に塗布し、必要に応じて
加水分解させてシラノールを形成した後、約100℃以
上の温度で加熱してシラノールを脱水縮重合に付すこと
により、チタニアが無定形シリカで結着された表面層
(光触媒コーティング)を得る。特に、シラノールの脱
水縮重合を約200℃以上の温度で行えば、シラノール
の重合度を増し、光触媒コーティングの耐アルカリ性能
を向上させることができる。 (3)無定形チタニアの前駆体(チタンのアルコキシ
ド、キレート又はアセテートのような有機チタン化合
物、又はTiCl4またはTi(SO42のような無機チタ
ン化合物)の溶液にシリカの粒子を分散させてなる懸濁
液を基材の表面に塗布し、チタン化合物を常温から20
0℃の温度で加水分解と脱水縮重合に付すことにより、
シリカ粒子が分散された無定形チタニアの薄膜を形成す
る。次いで、チタニアの結晶化温度以上の温度、且つ基
材の軟化点以下の温度に加熱することにより、無定形チ
タニアを結晶性チタニアに相変化させる。 (4)無定形チタニアの前駆体(チタンのアルコキシ
ド、キレート又はアセテートのような有機チタン化合
物、又はTiCl4またはTi(SO42のような無機チタ
ン化合物)の溶液に無定形シリカの前駆体(例えば、テ
トラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テ
トラn−プロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テ
トラメトキシチタン、等のテトラアルコキシシラン、そ
れらの加水分解物であるシラノール、または平均分子量
3000以下のポリシロキサン)を混合し、基材の表面
に塗布する。次いで、これらの前駆体を加水分解と脱水
縮重合に付すことにより、無定形チタニアと無定形シリ
カの混合物からなる薄膜を形成する。次いで、チタニア
の結晶化温度以上の温度、且つ基材の軟化点以下の温度
に加熱することにより、無定形チタニアを結晶性チタニ
アに相変化させる。
【0017】酸化錫配合チタニアの塗布は、チタニアと
酸化錫との混合物からなる層を被塗装面に形成すること
である。チタニアと酸化錫との合計に対する酸化錫の割
合は、1〜95モル%、好ましくは1〜50モル%であ
る。また酸化錫配合チタニアからなる表面層の形成方法
には以下の方法を採用することができる。 (1)アナターゼ型又はルチル型チタニアの粒子と酸化
錫の粒子を含む懸濁液を被塗装面に塗布し、基材(被塗
装物)の軟化点以下の温度で焼成する。 (2)無定形チタニアの前駆体(チタンのアルコキシ
ド、キレート又はアセテートのような有機チタン化合
物、又はTiCl4またはTi(SO42のような無機チタ
ン化合物)の溶液に酸化錫の粒子を分散させてなる懸濁
液を基材の表面に塗布し、チタン化合物を常温から20
0℃の温度で加水分解と脱水縮重合に付すことにより、
酸化錫粒子が分散された無定形チタニアの薄膜を形成す
る。次いで、チタニアの結晶化温度以上の温度、且つ基
材の軟化点以下の温度に加熱することにより、無定形チ
タニアを結晶性チタニアに相変化させる。
【0018】チタニア含有シリコーン塗料の塗布は、未
硬化の若しくは部分的に硬化したシリコーン(オルガノ
ポリシロキサン)またはシリコーンの前駆体からなる塗
膜形成要素にチタニア(光触媒粒子)を分散させた塗料
を用いる。具体的には、上記塗料を基材の表面に塗布
し、塗膜形成要素を硬化させた後、光触媒を光励起する
と、シリコーン分子の珪素原子に結合した有機基は光触
媒の作用により水酸基に置換され、表面の水に対する接
触角が0°近くになり親水化(超親水化)される。この
方法は、比較的低温で塗膜形成要素を硬化せしめること
ができ、また必要に応じ何度でも塗布することができ、
且つ太陽光でも容易に親水化せしめることができる等の
利点がある。尚、用いる樹脂としては以下のものが挙げ
られる。メチルトリクロルシラン、メチルトリブロムシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリ
t−ブトキシシラン、エチルトリクロルシラン、エチル
トリブロムシラン、エチルトリメトキシシラン、エチル
トリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラ
ン、エチルトリt−ブトキシシラン、n−プロピルトリ
クロルシラン、n−プロピルトリブロムシラン、n−プ
ロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシ
シラン、n−プロピルトリイソプロポキシシラン、n−
プロピルトリt−ブトキシシラン、n−ヘキシルトリク
ロルシラン、n−ヘキシルトリブロムシラン、n−ヘキ
シルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリエトキシシ
ラン、n−ヘキシルトリイソプロポキシシラン、n−ヘ
キシルトリt−ブトキシシラン、n−デシルトリクロル
シラン、n−デシルトリブロムシラン、n−デシルトリ
メトキシシラン、n−デシルトリエトキシシラン、n−
デシルトリイソプロポキシシラン、n−デシルトリt−
ブトキシシラン、n−オクタデシルトリクロルシラン、
n−オクタデシルトリブロムシラン、n−オクタデシル
トリメトキシシラン、n−オクタデシルトリエトキシシ
ラン、n−オクタデシルトリイソプロポキシシラン、n
−オクタデシルトリt−ブトキシシラン、フェニルトリ
クロルシラン、フェニルトリブロムシラン、フェニルト
リメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェ
ニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリt−ブト
キシシラン、テトラクロルシラン、テトラブロムシラ
ン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、ジ
メトキシジエトキシシラン、ジメチルジクロルシラン、
ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジクロルシラ
ン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシ
シラン、ジフェニルジエトキシシラン、フェニルメチル
ジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェ
ニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキ
シシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリブロムヒド
ロシラン、トリメトキシヒドロシラン、イソプロポキシ
ヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシラン、ビニル
トリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビニルト
リメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル
トリイソプロポキシシラン、ビニルトリt−ブトキシシ
ラン、トリフルオロプロピルトリクロルシラン、トリフ
ルオロプロピルトリブロムシラン、トリフルオロプロピ
ルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエト
キシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシ
シラン、トリフルオロプロピルトリt−ブトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−メタア
クリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタ
アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メ
タアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタ
アクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラン、γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノ
プロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリt−
ブトキシシラン、β−(3、4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、β−(3、4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、及びこ
れらの部分加水分解物若しくはこれらの混合物を使用す
ることができる。
【0019】シリコーン樹脂膜の良好な硬度と平滑性を
確保するためには、3次元架橋型シロキサンを10モル
%以上含有させるのが好ましい。更に良好な硬度と平滑
性を確保しながら樹脂膜の十分な可撓性を提供するため
には、2次元架橋型シロキサンを60モル%以下含有さ
せるのが好ましい。また、シリコーン分子の珪素原子に
結合した有機基が光励起により水酸基に置換される速度
を速めるには、シリコーン分子の珪素原子に結合する有
機基がn−プロピル基若しくはフェニル基からなるシリ
コーンを使用するのが好ましい。シロキサン結合を有す
るシリコーンに替えて、シラザン結合を有するオルガノ
ポリシラザン化合物を使用することもできる。
【0020】また、表面層には酸化物超強酸を含ませる
ことが可能である。酸化物超強酸としては、TiO2/W
3、WO3/ZrO2、WO3/SnO2、Al23/SiO2
等が挙げられ、これら酸化物超強酸を表面層に含有せし
めると、表面の極性が光の有無に拘らず極端に大きな状
態になるため、疎水分子よりも極性分子である水分子を
選択的に吸着して物理的吸着水層を形成する。
【0021】尚、室内やトンネル内等に本発明に係るカ
メラを設置する場合には、表面層に紫外線を照射する光
源を備えることが好ましい。
【0022】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。図3は本発明に係るカメラの
全体斜視図であり、このカメラはカバーケース1内にカ
メラ本体2を収納してなり、カバーケース1の前面には
ガラス板3が取付けられている。
【0023】ガラス板3の外側面には図4に示すよう
に、紫外線を照射することで親水性を発揮する表面層4
が形成されている。表面層4は光触媒粒子単独で形成し
てもよいが、シリカ、シリコーン樹脂或いは酸化物超強
酸とともに形成してもよい。そして、酸化物超強酸等と
ともに表面層4を形成するにあたっては、単純に光触媒
粒子と混合してもよいが、いずれか一方が上層になり、
他方が下層になるようにしてもよい。更に、表面層4は
ガラス板3の外側面ではなく、ガラス板3の内側面やカ
メラ本体2のレンズの表面、或いはカバーケース1の外
表面や内表面の全域に亘って形成してもよい。
【0024】また、カバーケース1にはアーム5を設
け、このアーム5の先端に光源6を取付け、光源6から
の紫外線を表面層4に照射するようにしている。尚、光
源6はカバーケース1内に配置してもよい。
【0025】図5は別実施例に係るカメラを示す図であ
り、この実施例にあってはカメラ本体2のレンズ7の前
方に強化ガラスからなる保護カバー8を設け、この保護
カバー8の外側面または内側面に表面層4を形成してい
る。
【0026】(実験例)上記の前面ガラス板或いは保護
カバーとして用いる強化ガラスに、テトラエトキシシラ
ンを塗布し、加水分解、脱水縮重合させてシリカ層を形
成し、更にその上にテトラエトキシチタンを塗布し、加
水分解、脱水縮重合させて無定形チタニア層を形成し
た。その後、500℃で焼成することにより無定形チタ
ニアをアナターゼ型チタニアに相変化させた。この後、
BLBランプを用い、0.5mW/cm2の強度で紫外
線を1時間照射して試料を得た。
【0027】得られた試料とチタニア層を形成していな
い通常の強化ガラスとを、水との接触角、防曇性及び防
汚性について調べた。水との接触角については、本発明
試料は0°であるのに対し、通常の強化ガラスは40°
であった。防曇性については、息を吹きかけて調べた。
結果は、本発明試料の表面には曇りは生じなかったが、
通常の強化ガラスは曇りが生じた。防汚性については、
本発明試料及び通常の強化ガラスを45°傾斜させた状
態とし、これに親水性カーボンブラックと疎水性カーボ
ンブラックを1.05g/リットル含む懸濁液を流し、これ
を乾燥させ、さらに水洗した後乾燥させるというサイク
ルを25回繰り返した後、試験前後の色差ΔE*の変化
を色差計(東京電色製)で測定(JIS H0201)
した。その結果、本発明試料はΔE*の変化値<1と良
好な防汚性を示したが、通常の強化ガラスはΔE*の変
化値>4であった。
【0028】
【発明の効果】以上に説明した如く本発明によれば、監
視カメラ等のカバーケースの内側面又はカバーケース内
に収納されているレンズの表面に、酸化チタン等の光触
媒粒子単独からなる表面層または光触媒粒子を含む表面
層を形成したので、カバーケース内の湿度が高くなって
も、カバーケースの内側面及びレンズの表面には薄い水
膜が形成されるので曇りや結露が生じ難くなる。
【0029】また本発明によれば、監視カメラ等のカバ
ーケースの外側面に、光触媒粒子単独からなる表面層ま
たは光触媒粒子を含む表面層を形成したので、降雨の際
に自浄作用によってカバーケースに付着した汚れを落と
すことができるので、長期間メンテナンスフリーで使用
することができる。更に、トンネル内等の降雨等のない
箇所に設置されるカメラに対しても、ホースで水をかけ
るだけで簡単に洗うことができる。尚、カバーケース内
等に紫外線を照射する光源を設ければ、太陽光が照射さ
れない場所に設置しても蒸気の自浄効果を発揮すること
ができる。
【0030】また、光触媒粒子を含む表面層にシリカ、
若しくは結合する有機基の一部が水酸基に置換されたシ
リコーンを含ませることで、紫外線を照射しなくとも比
較的長期間親水性を維持できるため、暗所においてもあ
る程度の期間であれば使用することができる。
【0031】また、光触媒粒子を含む表面層にTiO2
WO3、WO3/ZrO2、WO3/SnO2、Al23/Si
2などの酸化物超強酸を含ませることで、表面の極性
が光の有無に拘らず極端に大きな状態になるため、疎水
分子よりも極性分子である水分子を選択的に吸着して物
理的吸着水層を形成し、暗所でもある程度の期間親水性
を維持できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】光触媒粒子を含有するシリコーン樹脂表面に親
水性が付与される過程を説明した図
【図2】光触媒粒子からなる表面層に親水性が付与され
る過程を説明した図
【図3】本発明に係るカメラの斜視図
【図4】表面層を形成したカバーケースの断面図
【図5】別実施例に係るカメラを示す図
【符号の説明】
1…カバーケース、2…カメラ本体、3…ガラス板、4
…表面層、5…アーム、6…光源。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 カバーケース内にカメラ本体を収納して
    なるカメラにおいて、前記カバーケースの外側面または
    内側面若しくはレンズの表面に、光触媒粒子単独からな
    る表面層または光触媒粒子を含む表面層が形成されてい
    ることを特徴とするカメラ。
  2. 【請求項2】 レンズの前方に保護カバーを設けたカメ
    ラにおいて、前記保護カバーの外側面または内側面若し
    くはレンズの表面に、光触媒粒子単独からなる表面層ま
    たは光触媒粒子を含む表面層が形成されていることを特
    徴とするカメラ。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載のカメラに
    おいて、前記光触媒粒子は結晶性酸化チタンであること
    を特徴とするカメラ。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至請求項3に記載のカメラに
    おいて、前記光触媒粒子を含む表面層にはシリカが含ま
    れていることを特徴とするカメラ。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至請求項3に記載のカメラに
    おいて、前記光触媒粒子を含む表面層には有機基が結合
    するシリコーンが含まれ、且つ前記有機基の少なくとも
    一部は水酸基に置換されていることを特徴とするカメ
    ラ。
  6. 【請求項6】 請求項1乃至請求項3に記載のカメラに
    おいて、前記光触媒粒子を含む表面層には酸化物超強酸
    が含まれていることを特徴とするカメラ。
  7. 【請求項7】 請求項1乃至請求項6に記載のカメラに
    おいて、前記カメラは建物、乗物、道路またはトンネル
    内に設置される監視カメラであることを特徴とするカメ
    ラ。
  8. 【請求項8】 請求項1乃至請求項7に記載のカメラに
    おいて、前記光触媒粒子単独からなる表面層または光触
    媒粒子を含む表面層に紫外線を照射する光源を備えてい
    ることを特徴とするカメラ。
JP8246180A 1995-12-22 1996-09-18 カメラ Pending JPH09230493A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8246180A JPH09230493A (ja) 1995-12-22 1996-09-18 カメラ

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35464995 1995-12-22
JP7-354649 1995-12-22
JP8246180A JPH09230493A (ja) 1995-12-22 1996-09-18 カメラ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09230493A true JPH09230493A (ja) 1997-09-05

Family

ID=93155490

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8246180A Pending JPH09230493A (ja) 1995-12-22 1996-09-18 カメラ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09230493A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7387454B2 (en) 2004-09-22 2008-06-17 Murakami Corporation Camera
JP2013113908A (ja) * 2011-11-25 2013-06-10 Panasonic Corp カメラカバー及びカメラ
JP2019219627A (ja) * 2018-06-22 2019-12-26 株式会社東芝 カメラユニット

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS621750A (ja) * 1985-06-27 1987-01-07 Toray Silicone Co Ltd 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物
JPH05232566A (ja) * 1992-02-24 1993-09-10 Olympus Optical Co Ltd 光学部材
JPH05302173A (ja) * 1992-04-28 1993-11-16 Central Glass Co Ltd 親水性被膜ならびにその被膜の形成方法
JPH06258713A (ja) * 1993-03-04 1994-09-16 Sharp Corp 車載用カメラ装置
JPH06293519A (ja) * 1992-07-28 1994-10-21 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd 酸化チタンの粒子と膜の製造方法
JPH0751646A (ja) * 1993-08-12 1995-02-28 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd 固体表面の汚れ浄化方法
JPH07149520A (ja) * 1993-11-29 1995-06-13 Hoya Corp コーティング組成物
JPH0732648U (ja) * 1993-11-25 1995-06-16 旭光学工業株式会社 カメラにおける結露除去装置
JPH07168001A (ja) * 1993-12-15 1995-07-04 Nikon Corp 黴の発生が抑制された光学機器
JPH08313705A (ja) * 1995-05-22 1996-11-29 Seiko Epson Corp 防曇性物品及びその製造方法
WO1997000134A1 (en) * 1995-06-19 1997-01-03 Nippon Soda Co., Ltd. Photocatalyst-carrying structure and photocatalyst coating material

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS621750A (ja) * 1985-06-27 1987-01-07 Toray Silicone Co Ltd 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物
JPH05232566A (ja) * 1992-02-24 1993-09-10 Olympus Optical Co Ltd 光学部材
JPH05302173A (ja) * 1992-04-28 1993-11-16 Central Glass Co Ltd 親水性被膜ならびにその被膜の形成方法
JPH06293519A (ja) * 1992-07-28 1994-10-21 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd 酸化チタンの粒子と膜の製造方法
JPH06258713A (ja) * 1993-03-04 1994-09-16 Sharp Corp 車載用カメラ装置
JPH0751646A (ja) * 1993-08-12 1995-02-28 Ishihara Sangyo Kaisha Ltd 固体表面の汚れ浄化方法
JPH0732648U (ja) * 1993-11-25 1995-06-16 旭光学工業株式会社 カメラにおける結露除去装置
JPH07149520A (ja) * 1993-11-29 1995-06-13 Hoya Corp コーティング組成物
JPH07168001A (ja) * 1993-12-15 1995-07-04 Nikon Corp 黴の発生が抑制された光学機器
JPH08313705A (ja) * 1995-05-22 1996-11-29 Seiko Epson Corp 防曇性物品及びその製造方法
WO1997000134A1 (en) * 1995-06-19 1997-01-03 Nippon Soda Co., Ltd. Photocatalyst-carrying structure and photocatalyst coating material

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7387454B2 (en) 2004-09-22 2008-06-17 Murakami Corporation Camera
JP2013113908A (ja) * 2011-11-25 2013-06-10 Panasonic Corp カメラカバー及びカメラ
JP2019219627A (ja) * 2018-06-22 2019-12-26 株式会社東芝 カメラユニット

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0978665A (ja) 便 器
JPH09230493A (ja) カメラ
JPH0978791A (ja) 撥水汚染対抗性の外壁および撥水汚染防止方法
JPH0959041A (ja) 光触媒を含有する防曇性コーティング組成物
JP3744061B2 (ja) 透水性舗装材
JP3124491B2 (ja) 遮音壁の洗浄方法
JP4120943B2 (ja) トンネル用又は道路用の照明装置
JP3189682B2 (ja) 防汚性部材
JPH0957911A (ja) 防曇シール
JP3115534B2 (ja) 防汚性トンネル内壁、その防汚方法および洗浄方法
JPH0975633A (ja) フィルター製品
JPH1034668A (ja) 成形用型
JPH0978462A (ja) 親水性繊維及びその加工品
JP3534072B2 (ja) 浴室用部材
JP3707130B2 (ja) 保冷ショーケース
JP2001122679A (ja) 防汚性タイル
JPH1181719A (ja) 浴室、浴室天井用コーティング組成物、浴室天井用貼着フィルム
JP3760509B2 (ja) ビニールハウス天井およびその結露集中防止方法
JP3648848B2 (ja) 視認性に優れた路面標示、その施工方法およびセルフクリーニング方法
JPH0960067A (ja) 高排水性水回り部材並びに水回り部材の排水・乾燥促進 方法及び水垢防止方法
JPH09231849A (ja) 碍子及びその汚れ防止方法
JPH0956742A (ja) 防曇性ゴーグル
JPH0956788A (ja) 浴室用部材の清浄化方法
JP2003113345A (ja) 帯電防止性塗料組成物
JPH09225276A (ja) 分離膜及び分離膜に対する表面層形成方法

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040511