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JPH09124806A - プリプレグの製法 - Google Patents

プリプレグの製法

Info

Publication number
JPH09124806A
JPH09124806A JP28308095A JP28308095A JPH09124806A JP H09124806 A JPH09124806 A JP H09124806A JP 28308095 A JP28308095 A JP 28308095A JP 28308095 A JP28308095 A JP 28308095A JP H09124806 A JPH09124806 A JP H09124806A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
polyphenylene ether
prepreg
producing
molecular weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28308095A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiichiro Saito
英一郎 斉藤
Kamio Yonemoto
神夫 米本
Yoshihide Sawa
佳秀 澤
Hiroshi Yamamoto
広志 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP28308095A priority Critical patent/JPH09124806A/ja
Publication of JPH09124806A publication Critical patent/JPH09124806A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポリフェニレンエーテルとエポキシ樹脂が
反応した変性エポキシ樹脂が硬化剤によって硬化した硬
化物から成る積層板であって、低誘電率と低誘電正接を
達成した積層板の製造に有用なプリプレグの製法を提供
する。 【解決手段】 エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテ
ル、エポキシ樹脂の硬化剤、及びポリフェニレンエーテ
ルをラジカル化するベンゾイルパーオキサイド等のラジ
カル開始剤を含み、ポリフェニレンエーテルの数平均分
子量が1000〜2000であるワニスを基材に含浸、
加熱、乾燥して、エポキシ樹脂にポリフェニレンエーテ
ルをラジカル反応させて変性エポキシ樹脂を生成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント回路板に
有用な変性エポキシ樹脂が含浸されたプリプレグの製法
に関する。
【0002】
【従来の技術】特に高周波領域で使用されるプリント回
路板には、特性として低誘電率と低誘電正接が求められ
る。ポリフェニレンエーテル(PPE)樹脂は、低誘電
率、及び低誘電正接に起因して高周波用途に有用である
が、熱可塑性であり、接着性が低く、溶剤に対して溶解
性が劣る問題がある。これに対して、エポキシ樹脂は、
接着性や溶剤溶解性に優れている反面、誘電率、誘電正
接が比較的高く、高周波用途に使用すると、電送速度と
電送損失の点で好ましくない。
【0003】このように、特性の異なるエポキシ樹脂と
PPEをエポキシ樹脂の硬化剤とラジカル開始剤の存在
の下で反応させた変性エポキシ樹脂を必須成分としたプ
リプレグを用いて製造した積層板が提供され、高周波領
域で実用化されている。この実用化された積層板の原料
として用いられる変性エポキシ樹脂は、高分子量のPP
Eの骨格がラジカル開始剤によって切断されることによ
っ生成した比較的低分子量のポリフェニレンエーテルと
エポキシ樹脂との反応生成物で、具体的には、低分子量
のポリフェニレンエーテルとエポキシ樹脂とポリフェニ
レンエーテルをラジカル化するラジカル開始剤とエポキ
シ樹脂の硬化剤をワニスの状態で、たとえばガラス布、
ガラス不織布、クラフト紙、リンター紙等の基材に含浸
後、加熱乾燥することにより基材中に変性エポキシ樹脂
の半硬化物を生成せしめてプリプレグとし、このプリプ
レグをさらに加熱加圧して積層板として提供される。
【0004】ところが、ポリフェニレンエーテルとエポ
キシ樹脂を溶媒に溶かしたワニスは、含浸性に多少の問
題を残している。すなわち、基材に対して含浸ムラが発
生し、その結果プリプレグ及び積層板にボイドが発生す
る問題がある。ボイドの発生した積層板は、吸湿性が大
きくなって耐ハンダ性が悪化したり、多層プリント回路
板に用いた場合は、スルホールメッキを施した際にボイ
ドに沿ってメッキ液が浸透し、ショートの原因となる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、ポリフェニレンエーテルとエポキシ樹脂との反
応生成物である変性エポキシ樹脂の硬化物から成る積層
板に有用なプリプレグの製法を提供するものであって、
具体的には、低誘電率と低誘電正接を達成した積層板の
製造に有用な、変性エポキシ樹脂を含浸ムラなく含浸し
たプリプレグの製法を提供するものである。
【0006】
【発明が解決する手段】本発明に係るプリプレグの製法
によると、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル、エ
ポキシ樹脂の硬化剤、及びポリフェニレンエーテルをラ
ジカル化するラジカル開始剤を含有し、上記ポリフェニ
レンエーテルの数平均分子量が1000〜2000であ
るエポキシ樹脂ワニスを基材に含浸した後、加熱乾燥し
て上記エポキシ樹脂にポリフェニレンエーテルをラジカ
ル反応させて変性エポキシ樹脂の半硬化物を生成するも
ので、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が100
0〜2000に制限すると、ワニスの基材に対する含浸
性が増大すると同時に低誘電率と低誘電正接の特性を有
する積層板の製造に有用なプリプレグを製造することが
できる。すなわち、ポリフェニレンエーテルが1000
にも達しない極度に低分子量のポリフェニレンエーテル
を用いると誘電率と低誘電正接の特性を積層板に与える
ことが出来ず、2000を越えると基材に対する含浸性
が阻害され、低誘電率と低誘電正接の特性を積層板に与
えることが出来ないからである。
【0007】なお、上記エポキシ樹脂の硬化剤として
は、フェノール性化合物が有効であり、ラジカル開始剤
としては、ベンゾイルパーオキサイド等の過酸化物が有
効である。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態につい
て、具体的に説明する。
【0009】本発明に係るプリプレグの製法は、エポキ
シ樹脂、ポリフェニレンエーテル、エポキシ樹脂の硬化
剤、ポリフェニレンエーテルのラジカル開始剤を必須成
分として含有するワニスを用いる。ここで、エポキシ樹
脂としては、従来のプリント回路板に適用される化合物
を適用することができ、特に制限はない。例示すれば、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型
エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポ
キシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、ヒダント
イン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、及びこれら
の多官能エポキシ樹脂などが挙げられ、これらは単独、
または複数混合して使用される。さらには、これらの樹
脂の臭素化した難燃化エポキシ樹脂も使用できる。
【0010】これらのエポキシ樹脂にラジカル反応させ
るポリフェニレンエーテルは、市販されている高分子量
のものを使用する場合には、ポリフェニレンエーテルを
ラジカル化するラジカル開始剤でもってポリフェニレン
エーテルの骨格を切断して低分子化した化合物を使用す
ることが必要である。すなわち、このポリフェニレンエ
ーテルの数平均分子量は、1000〜2000に制限さ
れる。すなわち、ポリフェニレンエーテルの低分子が過
度に進行して1000にも達しない極度に低分子のポリ
フェニレンエーテルを用いると、ポリフェニレンエーテ
ルに起因する低誘電率と低誘電正接の特性を積層板に与
えることが出来ず、2000を越えると、基材に対する
含浸性が阻害され、低誘電率と低誘電正接の特性を積層
板に与えることが出来ないからである。また、このポリ
フェニレンエーテルはポリスチレン等で変性した化合物
を使用することもできる。
【0011】エポキシ樹脂の硬化剤としては、エポキシ
樹脂の硬化剤として常用されるアミン系、フェノール
系、酸無水物系が用いられる。
【0012】ポリフェニレンエーテルをラジカル化する
ラジカル開始剤としては、過酸化物が用いられ、特にベ
ンゾイルパーオキサイド(BPO)が好適である。
【0013】本発明のプリプレグの製法は、上記のエポ
キシ樹脂ワニスを基材に含浸した後、加熱乾燥して上記
エポキシ樹脂にポリフェニレンエーテルをラジカル反応
させて変性エポキシ樹脂の半硬化物を生成するものであ
る。この変性エポキシ樹脂とポリフェニレンエーテルと
がラジカル反応して得られる変性エポキシ樹脂は、ポリ
フェニレンエーテルをラジカル化するラジカル開始剤の
存在のもとで得られるもので、加熱乾燥によって基材中
に半硬化の状態で生成する。
【0014】ここで、ワニスの調製について説明する。
数平均分子量が15000〜25000のポリフェニレ
ンエーテルの骨格を切断して数平均分子量が1000〜
2000のポリフェニレンエーテルを生成する反応条件
について説明すると、ポリフェニレンエーテル100重
量部(以下単に部と記す)BPOは3〜10部、エポキ
シ樹脂の硬化剤であるフェノール性化合物は3〜20部
が適当である。このようにして得たポリフェニレンエー
テルを含有する生成物を必須成分のエポキシ樹脂とこの
エポキシ樹脂の硬化剤とともに適量の溶媒に溶解させて
エポキシ樹脂ワニスとする。
【0015】数平均分子量が15000〜25000の
ポリフェニレンエーテルを用いて本発明で用いるワニス
の他の調製について説明すると、エポキシ樹脂とポリフ
ェニレンエーテルとエポキシ樹脂の硬化剤とBPOとを
溶剤に溶かして反応させることもできる。この場合、ポ
リフェニレンエーテルを基準にしてエポキシ樹脂、この
エポキシ樹脂の硬化剤としてのビスフェノールA、及び
BPOの配合割合を示すと、ポリフェニレンエーテル1
00部、エポキシ樹脂は100〜300部、ビスフェノ
ールAは3〜20部、BPOは3〜10部が適当であ
る。ポリフェニレンエーテルに対して特にビスフェノー
ルA、及びBPOの添加量が多すぎると、プリプレグを
構成する変性エポキシ樹脂の平均分子量が下がりすぎ、
積層板の製造の際にプリプレグからの樹脂の流出量の増
大を招き、また硬化を完結させるための反応時間に長時
間を要することになる。反面、添加量が少なすぎると、
ワニスの粘度低減ができず、基材に対する含浸性に劣
る。なお、ポリフェニレンエーテルの骨格を切断する反
応温度は、80°〜120℃が適温で、反応時間は10
〜100分で行うことができる。
【0016】なお、この反応は、これらの化合物の溶解
性を有する、たとえば、トルエン、ベンゼン、キシレン
等の芳香族系炭化水素やトリクロロエタン、テトラクロ
ロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン、クロロホルム等のハロゲン炭化水素化合物に溶解さ
せて行う液相反応が好ましい。
【0017】このプリプレグは、1枚乃至重ねた複数枚
に必要に応じて金属箔を配し、これを加熱加圧して積層
板とされる。
【0018】以下、本発明の実施例と比較例を挙げる。
【0019】
【実施例】
(実施例1)ポリフェニレンエーテル(日本GEプラス
チック社製640−111)100、BPO5部、ビス
フェノールA5部をトルエンに溶かし、90℃にて60
分間反応させ、ポリフェニレンエーテルの骨格を切断
し、低分子量のポリフェニレンエーテルとした。生成し
たポリフェニレンエーテルのトルエン溶液を試料として
ゲル浸透クロマトグラフにて分子量分布を測定したとこ
ろ、90℃で数平均分子量は1400であった。
【0020】このトルエン溶液100部に臭素化ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂(東都化成社製YDB−50
0をトルエンに溶かして不揮発分80重量%(以下単に
%と記す)としたもの)125部、ジアミノジフェニー
ルメタン1部、2−エチル−4−メチルイミダゾール1
部を加え、さらにトルエンを添加して全体の不揮発分が
50%となるようにした。得られた溶液状態にあるワニ
スは透明であった。このワニスをガラスクロス(MIL
品番2116タイプ)に含浸し、150℃で3分加熱乾
燥し、樹脂量53%のプリプレグを得た。得られたプリ
プレグの表面の樹脂ムラの有無、樹脂流出量(JIS
C6521)、ガラスクロスへの樹脂の含浸性を評価し
た。評価結果を表1に示した。
【0021】さらに、このプリプレグを8枚重ね、さら
にこの上下に18μ厚の銅箔を配し、ステンレスプレー
トを上下に配して190℃で100分、20kg/cm
2 にて加熱加圧成形し、両面銅張の積層板を得た。この
時の成形後の板厚は0.81mmであった。この積層板
の誘電率、誘電正接、PCT半田耐熱性(121℃2気
圧で100分吸湿させた後に260℃の半田槽に浸漬し
た後、ミーズリングの発生の有無を評価)、メッキ液の
浸み込み性(ドリル径0.4mmのスルホールを穿孔し
て、これをメッキ槽に浸漬し、析出した内部深さを測
定)、厚さ方向の断面の樹脂の充填性を表2に示した。
【0022】
【比較例】
(比較例1)ポリフェニレンエーテル(日本GEプラス
チック社製640−111)100、BPO1部、ビス
フェノールA1部をトルエンに溶かし、90℃にて60
分間反応させ、ポリフェニレンエーテルの骨格を切断
し、低分子量のポリフェニレンエーテルとした。生成し
たポリフェニレンエーテルのトルエン溶液をゲル浸透ク
ロマトグラフにて分子量分布を測定したところ、90℃
で数平均分子量は17000であった。このトルエン溶
液100部に臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(東都化成社製YDB−500をトルエンに溶かして不
揮発分80重量%(以下単に%と記す)としたもの)1
25部、ジアミノジフェニールメタン1部、2−エチル
−4−メチルイミダゾール1部を加え、さらにトルエン
を添加して全体の不揮発分が50%となるようにした。
得られたワニスは高粘度のワニス状であった。このた
め、さらにトルエンを加え、不揮発分が40%になるよ
うにしたところ懸濁した液となった。このワニスをガラ
スクロス(MIL品番2116タイプ)に含浸し、15
0℃で3分加熱乾燥し、樹脂量53%のプリプレグを得
た。得られたプリプレグの表面の樹脂ムラの有無、樹脂
流出量、ガラスクロスへの樹脂の含浸性を評価した。評
価結果を表1に示した。
【0023】さらに、このプリプレグを8枚重ね、さら
にこの上下に18μ厚の銅箔を配し、ステンレスプレー
トを上下に配して190℃で100分、20kg/cm
2 にて加熱加圧成形し、両面銅張の積層板を得た。この
時の成形後の板厚は0.92mmであった。この積層板
の誘電率、誘電正接、PCT半田耐熱性(121℃2気
圧で100分吸湿させた後に260℃の半田槽に浸漬し
た後、ミーズリングの発生の有無を評価)、メッキ液の
浸み込み性(ドリル径0.4mmのスルホールを穿孔し
て、これをメッキ槽に浸漬し、析出した内部深さを測
定)、厚さ方向の断面の樹脂の充填性を表2に示した。
【0024】
【表1】
【0025】
【表2】
【0026】
【発明の効果】本発明のプリプレグの製法によると、ポ
リフェニレンエーテルとエポキシ樹脂が反応した変性エ
ポキシ樹脂が含浸ムラなく含浸したプリプレグを製造す
ることができ、高周波用途に必要な低誘電率と低誘電正
接の点で優れた積層板の製造に有用なものである。
フロントページの続き (72)発明者 山本 広志 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテ
    ル、エポキシ樹脂の硬化剤、及びポリフェニレンエーテ
    ルをラジカル化するラジカル開始剤を含有し、上記ポリ
    フェニレンエーテルの数平均分子量が1000〜200
    0であるエポキシ樹脂ワニスを基材に含浸した後、加熱
    乾燥して上記エポキシ樹脂にポリフェニレンエーテルを
    ラジカル反応させて変性エポキシ樹脂の半硬化物を生成
    することを特徴とするプリプレグの製法。
  2. 【請求項2】 上記エポキシ樹脂の硬化剤がフェノール
    系化合物である請求項1のプリプレグの製法。
  3. 【請求項3】 上記ラジカル開始剤が過酸化物である請
    求項1又は請求項2のプリプレグの製法。
  4. 【請求項4】 上記過酸化物がベンゾイルパーオキサイ
    ドである請求項1乃至請求項3いずれかのプリプレグの
    製法。
JP28308095A 1995-10-31 1995-10-31 プリプレグの製法 Pending JPH09124806A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0962495A1 (en) * 1996-11-12 1999-12-08 General Electric Company A curable polyphenylene ether-thermosetting resin composition
US6051662A (en) * 1996-11-12 2000-04-18 General Electric Co. Curable polyphenylene ether-thermosetting resin composition and process
EP1176172A1 (en) * 2000-07-26 2002-01-30 Matsushita Electric Works, Ltd. Epoxy resin composition, prepreg and metal-clad laminate
WO2010109948A1 (ja) 2009-03-26 2010-09-30 パナソニック電工株式会社 エポキシ樹脂組成物、プリプレグ、樹脂付き金属箔、樹脂シート、積層板、および多層板

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A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20020319