JPH0788636B2 - 干渉色を発現する布帛およびその製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、布帛に干渉色を付与する方法、すなわち光の
干渉減少によって発色する布帛およびその製造法に関す
る。

〔従来の技術〕

従来、編織物に代表される布帛に色彩を付与する手段と
しては、染料を使用した布帛の染色または布帛を原着繊
維を使用して織編成する方法などが一般的であった。

そして、これらの手段により着色された布帛の色彩を多
様化するため、繊維表面をプラズマ処理によって粗面化
したり（特開昭59−15568号公報）、微粒子を使用した
プラズマエッチングによって粗面化する（特公昭59−16
3471号公報）方法、収縮特性を異にする鱗片状構造を与
える（特開昭59−228042号公報）方法などが提案されて
いるが、これらはいずれも染色や原着に基づく色彩を大
きく変更するものではなかった。本発明者らは特開昭62
−170510号公報により、干渉色を有する繊維およびその
製造法を提案したが、繊維の場合は干渉色の形成が煩雑
であり、しかも繊維がそのまま製品として利用できるこ
とは少なく、多くの場合紡編織などの工程を経由せしめ
る必要があり、生産性が低かった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明の目的は、上記染色や原着の施さなくても光の干
渉現象によって発色することができ、また染色や原着さ
れている場合は、その着色を深くて鮮明な審美性に富む
色彩に交換することができる布帛およびその製造法を提
供することである。

〔問題点を解決するための手段〕

このような本発明の目的は、40g/m²以上の目付を有し、
樹脂で目止め加工された布帛の表面に、ピッチが0.3〜
3.0ミクロン、深さが0.01ミクロン以上の細隙を有する
厚さが10ミクロン以下のフォトレジストからなる膜を一
体に形成した布帛および40g/m²以上の目付を有する布帛
の表面を該布帛並びにフォトレジストに対して親和性を
有する樹脂を用いて目止め加工し、該布帛の目止め加工
面にフォトレジストを塗付した後該フォトレジストを硬
化させて厚さやく10μ以下の膜を形成し、該フォトレジ
スト膜にフォトリソグラフィーを施し、フォトレジスト
膜面に多数の細隙を形成せしめる方法により達成するこ
とができる。

本発明の布帛としては、各種編織物のほか、不織布を代
表的なものとして例示することができるが、その目付が
40g/m²以上であることが必要であり、好ましくは50g/m²
以上で300g/m²以下の範囲内であるのがよい。

すなわち、該布帛の種類、組織ならびに適用するフォト
レジストの種類、組成等に依存するが目付が40g/m²より
も小さいと、布帛表面に形成する目止め樹脂量を多くせ
ざるえず、布帛の柔軟性やドレープ性が失われるため好
ましくない。また、布帛面の凹凸の大なる場合も同様な
ことがいえる。

また、これらの布帛の表面の目止め用樹脂としては、布
帛並びにその表面に形成されるフォトレジスト膜に対し
て親和性を有し、上記布帛に対する目止め機能を有する
ものがよい。たとえば、アクリル系樹脂、共重合ポリア
ミド系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂な
どを例示することができる。特にアクリル系樹脂を使用
するのが好ましい。これらの目止め樹脂の塗布量は、塗
布される布帛繊維密度、組織などに応じて、樹脂の種
類、濃度などを選択し、適用されるが、布帛の柔軟性や
ドレープ性を考慮すると、できるだけ塗布量を少なくす
る、通常、100g/m²以下程度にするのがよい。

この目止め加工としては、樹脂単独を塗布してもよい。
フォトレジストとしては、紫外線照射によって架橋また
は重合するネガ型レジスト、紫外線照射によって分解す
るポジ型レジストまたは現像液を使用しないドライ現像
用レジストなど公知の各種レジストがある。好ましくは
シャープな細隙パターンを形成し易いポジ型レジストが
よい。

上記可撓性シート状物の表面に形成されるフォトレジス
ト膜の厚さは10ミクロン（以下、μと略す）以下、好ま
しくは0.5〜５μの範囲内がよく、該フォトレジスト膜
の厚さが10μを越えると、布帛の柔軟性やドレープ性が
失わせることになるため好ましくない。また、該フォト
レジスト膜の厚さは薄ければ薄い程好ましいけれども、
干渉色発現に必要な細隙を形成可能な範囲の厚さを要す
るし、かつ余りに薄いと耐久性の点で好ましくない。

そして該フォトレジスト膜に光干渉による発色性を付与
するためには、多数の細隙を形成する必要があるが、こ
の細隙のピッチを0.3〜３μ、好ましくは0.5〜1.5μの
範囲内、かつその深さを0.01μ以上、好ましくは0.2〜
１μの範囲内にするのがよい。

さらに該細隙の密度は、300〜3,000本/mmの範囲内がよ
く、この密度が前記範囲外のときは、良好な干渉色が発
現しなくなる可能性がでてくるため好ましくない。

細隙の断面形状は円形、楕円形、多角形など任意の形状
であればよく、特に限定されるものではないし、この細
隙は直線状、曲線状、不連続線状（点線）等任意の形態
をとることができる。

該細隙を有するフォトレジスト膜表面には、所望により
各種樹脂をコーティングし、該細隙間を保護すると共
に、該フォトレジスト層からの反射光量を減少させ、干
渉色の濃度を高くすることができる。また、該フォトレ
ジスト膜面に金属蒸着を施し、フォトレジスト膜の発色
性を向上させることができる。

次に、このような光干渉色を発現する柔軟でドレープ性
に優れた本発明の布帛の製造法としては、フォトリソグ
ラフィー、すなわち、まず、布帛の少なくとも一面にフ
ォトレジストを塗付し、この塗付したフォトレジスト層
を加熱して硬化させた後、硬化したフォトレジスト膜に
ストライブ状の細隙パターンを有するフォトマスクを通
して紫外線を照射し、しかる後フォトレジスト膜を現像
し、紫外線照射部分を溶解除去し、凹凸状のパターンを
出現させる、必要に応じて二次硬化させることにより得
られる。

上記布帛へのフォトレジストの塗付手段としては、フォ
トレジスト膜を均一に形成する上で、たとえばスピンコ
ート法を適用するのがよい。特に連続的に能率良く塗付
するためには、グラビアコーテイング法がよい。

塗付されたフォトレジスト層の加熱、硬化条件として
は、フォトレジストおよび布帛の種類により相違する
が、通常、乾熱オーブン装置を使用し、20〜60℃、５〜
60分間の範囲内で条件を設定する。

紫外線を照射する際のフォトマスクは、石英ガラス面に
クロームメッキからなる薄膜層を設けたものが使用され
る。フォトマスクパターンとしては、美しくて鮮明な干
渉色を得るため、前述したピッチ、深さ等を満足する細
隙パターンに準じてパターンを形成するのがよい。

〔実施例〕

以下、実施例により本発明を具体的に説明する。

実施例１ タテ123本／インチ×ヨコ87本／インチの織密度（目付7
0g/m²）を有するナイロン織物の表面に、大日本インキ
化学（株）製のアクリル樹脂 クリスボン"P−1130に対して20％のトルエン、３％の架
橋剤（CL−３）および0.5％のブロッキング防止剤（SK
−8428）を配合し、この樹脂組成物を70g/m²の量を塗布
し、乾熱130℃で、30分間乾燥した。

このアクリル樹脂塗布面に、ポジ型フォトレジスト（シ
プレイ・ファーイースト社製“マイクロポジット"111S
−19）をスピンコート法により、スピナーの回転数4000
回／分、回転時間25秒で塗付し、厚さが１μのフォトレ
ジストを形成した。このフォトレジスト層を設けた織物
を90℃の乾熱オーブン中で20分間加熱し、該フォトレジ
ストを層をを硬化させた。ストライプ状パターン（ピッ
チ１μ、線径0.5μ）を付設したフォトマスクを該フォ
トレジスト層面に重ねて、該フォトマスクを通してピー
クが波長が360ミリクロンの紫外線を該フォトレジスト
層に照射し５秒間露光した。次いで、該紫外線を照射し
た織物をシプレイ・ファーイースト社製の現像液“マイ
クロポジット"380Aの20％希釈液中で、22℃で60秒間現
像し、水洗した後、60℃で10分間乾燥した。

ピッチが１μ、深さ0.3μの細隙パターンが形成され
た、厚さ0.5μのフォトレジスト膜を有する織物は、光
干渉現象により発色し、方向によって色が変化するのみ
ならず、その色が著しく鮮明であった。

実施例２、比較例１、 実施例１において、表１に示す目付の異なる６種類のポ
リエステル繊維・ナイロン繊維・綿繊維織物を使用し、
実施例１と同様に、これらの織物の表面にそれぞれ、目
止め樹脂加工、フォトリソグラフィーを施し、同様の細
隙パターンを有するフォトレジスト膜を形成した。

得られたこれらの織物について、干渉色の発色性、フォ
トレジスト膜の耐久性、柔軟性（ドレープ性）を測定
し、同じく表１に示す結果を得た。

〔発明の効果〕 本発明方法によれば、特定繊維密度の比較的組織の粗い
布帛の優れた柔軟性、ドレープ性、などの特徴を実質的
に損なわずに、干渉色を発現するフォトレジスト膜を形
成することができる。したがって、本発明の方法の対象
布帛として、未染色布帛または均一染色した無模様布帛
などを用いると、独特の美麗な干渉色を発現する布帛が
得られ、通常の各種染色模様や織り組織模様を有する布
帛を用いると、これら染色模様乃至織り組織模様が干渉
色により彩られた独特の色彩模様を発現する布帛がいず
れも容易に得られ、極めて多様化した色彩の布帛を工業
的に有利に製造することができる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】40g/m²以上の目付を有し、樹脂で目止め加
   工された布帛の表面に、ピッチが0.3〜3.0ミクロン、深
   さが0.01ミクロン以上の細隙を有する厚さが10ミクロン
   以下のフォトレジストからなる膜を一体に形成した干渉
   色を発現する布帛。
2. 【請求項２】40g/m²以上の目付を有する布帛の表面を、
   該布帛並びにフォトレジストに対して親和性を有する樹
   脂を用いて目止め加工し、該布帛の目止め加工面にフォ
   トレジストを塗付した後該フォトレジストを硬化させて
   厚さ約10μ以下の膜を形成し、該フォトレジスト膜にフ
   ォトリソグラフィーを施し、フォトレジスト膜面に多数
   の細隙を形成せしめることを特徴とする干渉色を発現す
   る布帛の製造法。
3. 【請求項３】フォトリソグラフィーが次の（ａ），
   （ｂ），（ｃ）および（ｄ）の工程からなる特許請求の
   範囲第２項に記載の干渉色を発現する布帛の製造法。 （ａ）可撓性シート状物の少なくとも一面にフォトレジ
   ストを塗付する工程、 （ｂ）該フォトレジスト層を硬化せしめる工程、 （ｃ）硬化したフォトレジスト層に紫外線を照射する工
   程、および （ｄ）フォトレジスト膜層を現像する工程。