JPH0768551B2 - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH0768551B2 JPH0768551B2 JP1279187A JP27918789A JPH0768551B2 JP H0768551 B2 JPH0768551 B2 JP H0768551B2 JP 1279187 A JP1279187 A JP 1279187A JP 27918789 A JP27918789 A JP 27918789A JP H0768551 B2 JPH0768551 B2 JP H0768551B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/66—Non-ionic compounds
- C11D1/72—Ethers of polyoxyalkylene glycols
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は洗浄剤組成物、更に詳しくは精密部品又はその
組立加工工程に使用される治工具類の固体表面に存在す
る、油脂、機械油、切削油、グリース、ロジン系フラッ
クス等の汚れの除去性に優れ、また斯かる汚れにより劣
化されにくく、かつ廃水処理性のよい洗浄剤組成物に関
する。
組立加工工程に使用される治工具類の固体表面に存在す
る、油脂、機械油、切削油、グリース、ロジン系フラッ
クス等の汚れの除去性に優れ、また斯かる汚れにより劣
化されにくく、かつ廃水処理性のよい洗浄剤組成物に関
する。
従来、精密部品、治工具等の固体表面に存在する油等の
有機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼ
ン、キシレン等の炭化水素系溶剤;トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤;トリクロロ
トリフルオロエタン等のフロン系溶剤;オルソケイ酸ソ
ーダや苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水
系の洗浄剤等が使用されている。特に電子、電気、機械
等の部品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生かし
てフロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されている。
有機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼ
ン、キシレン等の炭化水素系溶剤;トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤;トリクロロ
トリフルオロエタン等のフロン系溶剤;オルソケイ酸ソ
ーダや苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水
系の洗浄剤等が使用されている。特に電子、電気、機械
等の部品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生かし
てフロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されている。
また、近年、環境汚染が少なくかつ安全性の高い洗浄剤
として、米国特許第4,511,488号明細書、同第4,640,719
号明細書、同第4,740,247号明細書等に見られるような
リモネン、ピネン、ジペンテン等のテルペン類も提案さ
れている。
として、米国特許第4,511,488号明細書、同第4,640,719
号明細書、同第4,740,247号明細書等に見られるような
リモネン、ピネン、ジペンテン等のテルペン類も提案さ
れている。
しかし、これらの洗浄剤はいずれを取っても、汚れ除去
性、低毒性、環境汚染をしないといった洗浄剤組成物に
要求される条件のすべてを満たすようなものではなかっ
た。すなわち、塩素系及びフロン系の溶剤を用いる洗浄
剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな問題を有し
ている。また、炭化水素系溶剤、特にベンゼン、キシレ
ン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有害物に指定さ
れている化合物であって、これを取り扱う作業の危険性
及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用いることは好
ましくない。一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗浄剤に比較
して危険性と毒性が低い点では好ましいが、洗浄力にお
いて数段劣っている。また、リモネンに代表されるテル
ペン類は、安全性と洗浄性を両立させ得る化合物である
が、引火点が低いため設備が大がかりとなるという問題
があるばかりでなく、天然物由来のために安定品質の物
が得難く、供給量に限界があり、工業用洗浄剤として実
質的ではない。
性、低毒性、環境汚染をしないといった洗浄剤組成物に
要求される条件のすべてを満たすようなものではなかっ
た。すなわち、塩素系及びフロン系の溶剤を用いる洗浄
剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな問題を有し
ている。また、炭化水素系溶剤、特にベンゼン、キシレ
ン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有害物に指定さ
れている化合物であって、これを取り扱う作業の危険性
及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用いることは好
ましくない。一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗浄剤に比較
して危険性と毒性が低い点では好ましいが、洗浄力にお
いて数段劣っている。また、リモネンに代表されるテル
ペン類は、安全性と洗浄性を両立させ得る化合物である
が、引火点が低いため設備が大がかりとなるという問題
があるばかりでなく、天然物由来のために安定品質の物
が得難く、供給量に限界があり、工業用洗浄剤として実
質的ではない。
本発明の目的は、上述のような従来記述のもつ欠点を改
良し、洗浄性、安全性に優れかつ洗浄剤による環境汚染
のない、精密部品又はその組立加工工程に用いられる治
工具類の固体表面に存在する油脂、機械油、切削油、グ
リース、ロジン系フラックス等の汚れ成分を除去するた
めの洗浄剤組成物を提供することにある。
良し、洗浄性、安全性に優れかつ洗浄剤による環境汚染
のない、精密部品又はその組立加工工程に用いられる治
工具類の固体表面に存在する油脂、機械油、切削油、グ
リース、ロジン系フラックス等の汚れ成分を除去するた
めの洗浄剤組成物を提供することにある。
かかる実情において、本発明者らは上記問題点を解決す
べく鋭意研究を行った結果、2−フェニルエチルアルコ
ール及び特定の非イオン性界面活性剤を含有する洗浄剤
組成物が前記条件を具備することを見出し、本発明を完
成するに至った。
べく鋭意研究を行った結果、2−フェニルエチルアルコ
ール及び特定の非イオン性界面活性剤を含有する洗浄剤
組成物が前記条件を具備することを見出し、本発明を完
成するに至った。
すなわち本発明は、2−フェニルエチルアルコール70重
量%以上及びHLB4〜15の非イオン性界面活性剤0.01〜30
重量%を含有することを特徴とする精密部品又はこれに
使用する治工具類用洗浄剤組成物を提供するものであ
る。
量%以上及びHLB4〜15の非イオン性界面活性剤0.01〜30
重量%を含有することを特徴とする精密部品又はこれに
使用する治工具類用洗浄剤組成物を提供するものであ
る。
2−フェニルエチルアルコールは、洗浄性を維持し、持
続性を確保するために本発明洗浄剤組成物中に70重量%
以上含有することが必要である。
続性を確保するために本発明洗浄剤組成物中に70重量%
以上含有することが必要である。
本発明において、非イオン性界面活性剤としては、例え
ばポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシ
アルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシア
ルキレンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレ
ンアリルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンソ
ルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキ
ルアミン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアル
キレン等が好ましく、そのなかでも平均HLB4〜15の非イ
オン性界面活性剤が特に優れた効果を発現する。ここ
で、ポリオキシアルキレンとは、エチレンオキサイド、
プロピレンオキサイド又はブチレンオキサイドの重量体
のことをいう。
ばポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシ
アルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシア
ルキレンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレ
ンアリルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンソ
ルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキ
ルアミン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアル
キレン等が好ましく、そのなかでも平均HLB4〜15の非イ
オン性界面活性剤が特に優れた効果を発現する。ここ
で、ポリオキシアルキレンとは、エチレンオキサイド、
プロピレンオキサイド又はブチレンオキサイドの重量体
のことをいう。
界面活性剤の添加量としては0.01〜30重量%程度、特に
3〜20重量%が望ましい。0.01重量%未満では界面活性
剤を加えたことによる特別の効果は発現せず、一方30重
量%を超えると界面活性剤が洗浄表面に残留して、洗浄
された部品の特性に影響を及ぼすことがある。
3〜20重量%が望ましい。0.01重量%未満では界面活性
剤を加えたことによる特別の効果は発現せず、一方30重
量%を超えると界面活性剤が洗浄表面に残留して、洗浄
された部品の特性に影響を及ぼすことがある。
また、本発明洗浄剤組成物には、その効果を損なわない
範囲で、必要に応じて更にエタノール、グリコール等の
各種アルコール、クエン酸、酒石酸、フタル酸等の有機
酸などを配合してもよい。
範囲で、必要に応じて更にエタノール、グリコール等の
各種アルコール、クエン酸、酒石酸、フタル酸等の有機
酸などを配合してもよい。
本発明の洗浄剤は、精密部品及びその組立加工工程に使
用される治工具類の洗浄に特に優れた効果を有する。
用される治工具類の洗浄に特に優れた効果を有する。
本発明において、精密部品とは、例えば電子部品、電機
部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品等をい
う。ここで、電子部品とは、例えば電算機及びその周辺
機器、家電機器、通信機器、OA機器、その他電子応用機
器等に用いられるプリント配線基板;ICリードフレー
ム、抵抗器、コンデンサー、リレー等接点部材に用いら
れるフープ材;OA機器、時計、電算機器、玩具、家電機
器等に用いられる液晶表示器;映像・音声記録/再生部
品、その関連部品等に用いられる磁気記録部品;シリコ
ンやセラミックスのウェハ等の半導体材料;水晶振動子
等の電歪用部品;CD、PD、複写機器、光記録機器等に用
いられる光電変換部品などをいう。電機部品とは例えば
ブラシ、ロータ、ステータ、ハウジング等の電動機部
品;販売機や各種機器に用いられる発券用部品;販売
機、キャッシュディスペンサ等に用いられる貨幣検査用
部品などをいう。精密機械部品とは、例えば精密駆動機
器、ビデオレコーダー等に用いられるベアリング;超硬
チップ等の加工用部品などをいう。樹脂加工部品とは、
例えばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂加工部品
などをいう。更に、光学部品としては、カメラ、眼鏡、
光学機器等に用いられるレンズがあり、また、その他部
品としてメガネフレーム、時計ケース、時計ベルト等が
例示される。
部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品等をい
う。ここで、電子部品とは、例えば電算機及びその周辺
機器、家電機器、通信機器、OA機器、その他電子応用機
器等に用いられるプリント配線基板;ICリードフレー
ム、抵抗器、コンデンサー、リレー等接点部材に用いら
れるフープ材;OA機器、時計、電算機器、玩具、家電機
器等に用いられる液晶表示器;映像・音声記録/再生部
品、その関連部品等に用いられる磁気記録部品;シリコ
ンやセラミックスのウェハ等の半導体材料;水晶振動子
等の電歪用部品;CD、PD、複写機器、光記録機器等に用
いられる光電変換部品などをいう。電機部品とは例えば
ブラシ、ロータ、ステータ、ハウジング等の電動機部
品;販売機や各種機器に用いられる発券用部品;販売
機、キャッシュディスペンサ等に用いられる貨幣検査用
部品などをいう。精密機械部品とは、例えば精密駆動機
器、ビデオレコーダー等に用いられるベアリング;超硬
チップ等の加工用部品などをいう。樹脂加工部品とは、
例えばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂加工部品
などをいう。更に、光学部品としては、カメラ、眼鏡、
光学機器等に用いられるレンズがあり、また、その他部
品としてメガネフレーム、時計ケース、時計ベルト等が
例示される。
本発明において、組立加工工程に使用される治工具類と
は、上述の各種部品例で示したような精密部品を製造、
成形、加工、組立、仕上げ等の各種工程において取り扱
う治具、工具の他、これらの精密部品を取り扱う各種機
器、この部品等をいう。
は、上述の各種部品例で示したような精密部品を製造、
成形、加工、組立、仕上げ等の各種工程において取り扱
う治具、工具の他、これらの精密部品を取り扱う各種機
器、この部品等をいう。
本発明の洗浄剤組成物は、特に上述のうち、フラックス
の残存したプリント配線基板に対し好適な性能を発揮す
るが、本発明の対象となる精密部品類及び治工具類は、
これらの例に限られるものではなく、組立加工工程にお
いて各種の加工油やフラックス等の後工程の妨害物質、
又は製品の特性を低下させる各種の油性汚染物質を付着
している一定形状の固体表面を持つ精密部品類及び治工
具類であれば、本発明洗浄剤組成物が適用できる。
の残存したプリント配線基板に対し好適な性能を発揮す
るが、本発明の対象となる精密部品類及び治工具類は、
これらの例に限られるものではなく、組立加工工程にお
いて各種の加工油やフラックス等の後工程の妨害物質、
又は製品の特性を低下させる各種の油性汚染物質を付着
している一定形状の固体表面を持つ精密部品類及び治工
具類であれば、本発明洗浄剤組成物が適用できる。
これらの汚染物質が例えば油脂、機械油、切削油、グリ
ース、ロジン系フラックス等の、主として有機油分の汚
れである場合、本発明の洗浄剤組成物が特に有効であ
り、これに金属粉、無機物粉、水分等が混入した汚れで
あっても充分洗浄除去することができる。
ース、ロジン系フラックス等の、主として有機油分の汚
れである場合、本発明の洗浄剤組成物が特に有効であ
り、これに金属粉、無機物粉、水分等が混入した汚れで
あっても充分洗浄除去することができる。
本発明の洗浄剤組成物は、浸漬法、超音波洗浄法、揺動
法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭法、水置換乾燥法等
の各種の洗浄方法において使用でき、かつ好ましい結果
を得ることができる。
法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭法、水置換乾燥法等
の各種の洗浄方法において使用でき、かつ好ましい結果
を得ることができる。
本発明の洗浄剤を、例えばフラックスの付着したプリン
ト配線基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、まず本発
明洗浄剤組成物をいれた超音波洗浄槽で超音波洗浄し、
次いで本発明の洗浄剤組成物を満たした液浴槽において
浸漬洗浄し、最後に本発明の洗浄剤組成物により蒸気洗
浄する等の方法を連続的に行うことにより、効率的に洗
浄することができる。
ト配線基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、まず本発
明洗浄剤組成物をいれた超音波洗浄槽で超音波洗浄し、
次いで本発明の洗浄剤組成物を満たした液浴槽において
浸漬洗浄し、最後に本発明の洗浄剤組成物により蒸気洗
浄する等の方法を連続的に行うことにより、効率的に洗
浄することができる。
以下、実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。
これらに限定されるものではない。
実施例1〜7及び比較例1〜2 表1に示す組成の洗浄剤組成物を調製し、その洗浄性及
びフラックス除去性を評価した。結果を表1に示す。
びフラックス除去性を評価した。結果を表1に示す。
(1) 洗浄性試験 70mm×150mmの鋼製テストピースに500mg/m2の割合でナ
フテン系鉱油(40℃,350cst)を塗布する。このテスト
ピースを、40℃に保った洗浄液に浸漬し、超音波で5分
間洗浄した。洗浄後、目視によりその洗浄性を評価し
た。
フテン系鉱油(40℃,350cst)を塗布する。このテスト
ピースを、40℃に保った洗浄液に浸漬し、超音波で5分
間洗浄した。洗浄後、目視によりその洗浄性を評価し
た。
(評価基準) 洗浄性 ◎:表面極めて清浄 ○:表面に鉱油残着ほとんどなし △:表面に鉱油残着わずかにあり ×:表面に鉱油残着あり (2) フラックス除去性試験 ICチップを装着したプリント配線板をフラックス処理
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを80℃に保った洗浄液に浸漬し、5分間超音
波洗浄後プリント配線板からのフラックスの除去性を目
視で評価した。
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを80℃に保った洗浄液に浸漬し、5分間超音
波洗浄後プリント配線板からのフラックスの除去性を目
視で評価した。
(評価基準) ◎:フラックス残着なく、洗浄力極めて大 ○:フラックス残着がほとんどなく、洗浄力大 △:フラックス残着がわずかにあるが、洗浄力あり ×:フラックスが残着し、洗浄力に乏しい 実施例8及び比較例3 表2に示す組成の洗浄剤組成物を調製し、その引火性、
生分解性及び水による洗浄性(水に対する溶解性)を評
価した。その結果を表2に示す。
生分解性及び水による洗浄性(水に対する溶解性)を評
価した。その結果を表2に示す。
(1) 引火性 クリーブランドオープンカップ(Cleaveland Open Cu
p)法により引火性の強弱を評価した。
p)法により引火性の強弱を評価した。
(評価基準) ○ 引火点100℃以上 △ 引火点50℃以上100℃未満 × 引火点50℃未満 (2) 生分解性 沈降槽を備えた曝気式連続活性汚泥処理試験装置を用い
て、各洗浄剤の生物処理性(生分解性)を測定した。活
性汚泥は、花王和歌山工場活性汚泥を用い、汚泥濃度30
00mg/、処理温度25℃、水理学的滞留時間12hrで処理
を行った。なお、フィードする洗浄剤濃度は300mg/と
し、これにJIS K0102の16(1)で定められた無機栄養
塩溶液A、B、C、D液各1ml/を加えた溶液をフィー
ド液とした。連続フィードしながら処理を行い、7日後
の処理液を採取して、残留する、2−フェニルエチルア
ルコール、リモネンの残留量をガスクロマトグラフィー
を用いて測定した。同時にフィード液中の各成分もガス
クロマトグラフィーで測定し、分解率は以下の式で算出
した。
て、各洗浄剤の生物処理性(生分解性)を測定した。活
性汚泥は、花王和歌山工場活性汚泥を用い、汚泥濃度30
00mg/、処理温度25℃、水理学的滞留時間12hrで処理
を行った。なお、フィードする洗浄剤濃度は300mg/と
し、これにJIS K0102の16(1)で定められた無機栄養
塩溶液A、B、C、D液各1ml/を加えた溶液をフィー
ド液とした。連続フィードしながら処理を行い、7日後
の処理液を採取して、残留する、2−フェニルエチルア
ルコール、リモネンの残留量をガスクロマトグラフィー
を用いて測定した。同時にフィード液中の各成分もガス
クロマトグラフィーで測定し、分解率は以下の式で算出
した。
得られた分解率より、下記基準にて生分解性を評価し
た。
た。
分解率90%以上 ◎ 分解率80%以上 ○ 分解率60%以下 × (3) 水による洗浄性 水に対する溶解性をもって、水による洗浄性を評価し
た。
た。
表2の結果より、本発明洗浄剤組成物は次のような利点
を有する。
を有する。
本発明洗浄剤組成物は非フロン有機溶剤であり、また同
様な溶剤系であるリモネンに比べて廃水処理性がよいた
め環境汚染の問題がない。また、リモネン系に比べ引火
点が高く取扱い上の安全性が高い。更に天然物でないた
め供給安定性の点でも優れている。また本発明洗浄剤組
成物は、水に可溶であるため、水洗により完全に除去さ
れ、残留によるプラスチック部品等への影響も小さい。
更に、2−フェニルエチルアルコールはいずれも香料と
して使用される物質であり、良好な香りを有し、その香
りは穏やかで使用時に不快感を与えることがない。
様な溶剤系であるリモネンに比べて廃水処理性がよいた
め環境汚染の問題がない。また、リモネン系に比べ引火
点が高く取扱い上の安全性が高い。更に天然物でないた
め供給安定性の点でも優れている。また本発明洗浄剤組
成物は、水に可溶であるため、水洗により完全に除去さ
れ、残留によるプラスチック部品等への影響も小さい。
更に、2−フェニルエチルアルコールはいずれも香料と
して使用される物質であり、良好な香りを有し、その香
りは穏やかで使用時に不快感を与えることがない。
以上のように、本発明によれば洗浄性、安全性に優れ、
かつ洗浄剤による環境汚染のない、精密部品又はその組
立加工工程に用いられる治工具類用の洗浄剤組成物が提
供される。
かつ洗浄剤による環境汚染のない、精密部品又はその組
立加工工程に用いられる治工具類用の洗浄剤組成物が提
供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C11D 7:50 1:66)
Claims (1)
- 【請求項1】2−フェニルエチルアルコール70重量%以
上及びHLB4〜15の非イオン性界面活性剤0.01〜30重量%
を含有することを特徴とする精密部品又はこれに使用す
る治工具類用洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1279187A JPH0768551B2 (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1279187A JPH0768551B2 (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 洗浄剤組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03140486A JPH03140486A (ja) | 1991-06-14 |
JPH0768551B2 true JPH0768551B2 (ja) | 1995-07-26 |
Family
ID=17607651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1279187A Expired - Fee Related JPH0768551B2 (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0768551B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3582886B2 (ja) * | 1995-03-16 | 2004-10-27 | 株式会社ジャパンエナジー | 光学部品用洗浄剤 |
JP4509260B2 (ja) * | 1999-09-21 | 2010-07-21 | クラシエフーズ株式会社 | やに除去剤およびそれを用いた清掃用薬剤、やに除去用嗜好食品、並びにそれを用いたやに除去方法 |
JP4286021B2 (ja) | 2002-04-05 | 2009-06-24 | 花王株式会社 | 精密部品用洗浄剤組成物 |
JP4495084B2 (ja) * | 2003-08-27 | 2010-06-30 | 化研テック株式会社 | 半田フラックス除去用洗浄剤および半田フラックスの洗浄方法 |
JP5113423B2 (ja) * | 2007-05-28 | 2013-01-09 | ディバーシー株式会社 | フロアーポリッシュ用剥離剤組成物およびそれを用いた剥離除去方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55145737A (en) * | 1979-05-04 | 1980-11-13 | Toray Ind Inc | Cleaning agent for apparatus having polyamide |
JPS6369897A (ja) * | 1986-09-11 | 1988-03-29 | 第一工業製薬株式会社 | プリント基板洗浄用洗浄剤組成物 |
-
1989
- 1989-10-26 JP JP1279187A patent/JPH0768551B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03140486A (ja) | 1991-06-14 |
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