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JP2617247B2 - 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物 - Google Patents

精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物

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JP2617247B2
JP2617247B2 JP3080735A JP8073591A JP2617247B2 JP 2617247 B2 JP2617247 B2 JP 2617247B2 JP 3080735 A JP3080735 A JP 3080735A JP 8073591 A JP8073591 A JP 8073591A JP 2617247 B2 JP2617247 B2 JP 2617247B2
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JP
Japan
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cleaning
present
jigs
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cleaning composition
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雅紀 野沢
宏造 北澤
栄二 樫原
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Kao Corp
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Kao Corp
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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄剤組成物、詳しく
は、精密部品又はその組立加工工程に用いられる治工具
類の表面に存在する油脂、機械油、切削油、グリース、
液晶、ロジン系フラックス等の汚れ物質の除去性に優
れ、且つすすぎ性に優れた洗浄剤組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、精密部品及び治工具類等の表面に
存在する油脂等の有機物を主体とする汚れ物質の除去に
は、ケロシン、ベンゼン、キシレン等の炭化水素系溶
剤;トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の塩
素系溶剤;トリクロロトリフルオロエタン等のフロン系
溶剤;オルソケイ酸ソーダや苛性ソーダに界面活性剤や
ビルダーを配合した水系の洗浄剤等が使用されている。
特に電子、電気、機械等の部品にはその高洗浄性及び難
燃性という特性を生かしてフロン系溶剤又は塩素系溶剤
が使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、塩素系
及びフロン系の溶剤を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、
環境汚染性等に大きな問題を有している。一方、水系の
洗浄剤は、毒性が低い点では好ましいが、洗浄力におい
て数段劣っている。
【0004】また、精密部品等に用いられる洗浄剤にお
いては、洗浄後、被洗浄物表面に洗浄剤が残留するとプ
ラスチック部品等に悪影響を与えることがあるため、洗
浄後のすすぎ性が問題となっている。
【0005】従って、本発明の目的は、精密部品又はそ
の組立加工工程に用いられる治工具類の表面に存在する
油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロジン系フラ
ックス等の汚れ物質を除去するための洗浄剤組成物とし
て、洗浄力及びすすぎ性に優れ、且つ環境汚染の惧れが
なく、しかも安全性の高い洗浄剤組成物を提供すること
にある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を行った結果、2種類の特定の化合物を特定の比率で組
合せた、特定の粘度を有する洗浄剤組成物が、上記目的
を達成するものであることを知見した。
【0007】本発明は、上記知見に基づきなされたもの
で、(A)下記化3(化1と同じ)で表わされ且つ20
℃の粘度が0.5〜10cpの化合物(B)下記化4
(化2と同じ)で表わされる化合物、平均HLB4〜1
5の非イオン性界面活性剤0.5〜35重量%及び水5
〜50重量%を含有し、上記(A)成分と上記(B)成
分との配合比率(重量比)が(A)成分/(B)成分=
90/10〜5/95であり、粘度が40℃で0.5〜
20cpである、精密部品又はその組立加工工程に用い
られる治工具類用の洗浄剤組成物を提供するものであ
る。
【0008】
【化3】
【0009】
【化4】
【0010】以下、本発明の洗浄剤組成物について詳述
する。
【0011】本発明のA成分としては、例えば、次のよ
うな化合物が挙げられる。
【0012】上記化3中のXが下記化5である化合物と
しては、アルキルベンゼン、例えば、エチルベンゼン、
クメン、p−シメン等;オレフィン、例えば、オクテ
ン、ドデセン、テトラセン、テトラプロピレン、テトラ
イソブチレン等;オレフィンの重合体;シクロヘキセン
環を有する化合物、例えば、リモネン、ピネン等が挙げ
られる。但し、本発明の洗浄剤組成物がロジン系ハンダ
フラックス用の洗浄剤組成物である場合には、R 1 、R
2 、R 3 及びR 4 の合計の炭素数が7〜13である化合
物(即ち炭素数8〜14の炭化水素化合物)は除かれ
【0013】
【化5】
【0014】また、上記化3中のXが−COO−である
化合物としては、ヤシ脂肪酸メチル、ミリスチン酸イソ
プロピル、ステアリル酸2−エチルヘキシル、ラウリン
酸メチル、オレイン酸メチル、オレイン酸イソブチル
等、更には、アクリル酸ブチルやアクリル酸2−エチル
ヘキシル、メタクリル酸ベンジル、酢酸ベンジル等が挙
げられる。
【0015】また、上記化3中のXが−CO−である化
合物としては、例えば、ジイソブチルケトン、2,6,
8,トリメチル4−ノナノンや、イソホロン等が挙げら
れ、また、上記化3中のXが−O−である化合物として
は、例えば、ジヘキシルエーテルやジベンジルエーテル
等が挙げられる。
【0016】また、上記化3中のXが下記化6である化
合物としては、例えば、ジメチルラウリルアミン、ジメ
チルミリスチルアミン、ジラウリルモノメチルアミン、
トリオクチルアミン等が挙げられ、また、上記化3中の
Xが下記化7である化合物としては、N,N−ジメチル
アセトアニリド等が挙げられる。
【0017】
【化6】
【0018】
【化7】
【0019】これらの化合物中、特に好ましいものは、
上記化3中のXが上記化5である、炭化水素の不飽和結
合を有するアルキルベンゼン、オレフィン、シクロヘキ
セン環を有する化合物である。また、上記化3中のXが
−COO−である、ラウリン酸メチル、オレイン酸メチ
ル等の化合物も特に好ましい。
【0020】上記(A)成分は、20℃の粘度が0.5
〜10cp、好ましくは0.5〜8cp、特に好ましくは
0.5〜5cpである。20℃の粘度が0.5cp未満であ
ると、洗浄剤組成物の引火性が高く、洗浄時の安全性が
問題となる。また、10cp超であると、狭い隙間部分の
汚れ物質に対して洗浄性が充分でなく好ましくない。
【0021】また、上記(A)成分は単独使用又は二種
以上併用され、その配合量は、洗浄剤組成物中に5〜8
0重量%が好ましい。
【0022】また、本発明の(B)成分は、炭素数3〜
8のアルコール、脂肪酸又はアミンに、苛性アルカリの
ような触媒の存在下、加熱しながら炭素数2〜4のアル
キレンオキシド(エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシド等)を液状又は気体状で加えて反
応させることにより得られる。2種以上のアルキレンオ
キシドを混合して反応させるランダム付加重合、又はア
ルキレンオキシドを順次付加させるブロック付加重合を
行ってもよい。このようにして得られるポリアルキレン
エーテルは、精製して未反応物や触媒を除去して(B)
成分として使用される。また、該ポリアルキレンエーテ
ルの末端の水酸基をアルキルクロライド等によりメチル
化、エチル化又はブチル化した化合物も本発明の(B)
成分に含まれる。本発明の(B)成分の製造に用いられ
る上記炭素数3〜8のアルコールとしては、例えば、n
−プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、オクタノ
ール、2−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、
ベンジルアルコール等が挙げられ、また、上記炭素数3
〜8の脂肪酸及びアミンとしては、これらアルコールに
対応するものが挙げられる。
【0023】上記(B)成分を配合することにより、組
成物の粘度が低減し、洗浄性が向上し、また親水性が良
好となり、リンスが容易になる。
【0024】また、上記(B)成分は、上記化4中のn
が3を超えると、粘度が上昇し、洗浄液からリンス槽へ
の持ち出し量が多くなり好ましくない。また、上記化4
中のRの炭素数が2以下では、有機物との親和性が低下
し、良好な洗浄力が得られない。また、Rの炭素数が8
を超えると、粘度が高くなり、また洗浄力及び水リンス
性が低下する。Rの炭素数は3〜6が好ましい。
【0025】また、上記(B)成分は単独使用又は二種
以上併用され、その配合量は、洗浄剤組成物中に10〜
90重量%が好ましい。
【0026】上記の(A)成分及び(B)成分を含有す
る本発明の洗浄剤組成物は、その粘度が40℃で0.5
〜20cp、好ましくは1〜15cpである。上記粘度が
0.5cp未満であると、洗浄剤組成物の引火性が高く、
洗浄時の安全性が問題となる。また20cp超であると、
狭い隙間部分の汚れ物質に対して洗浄性が劣る。
【0027】また、本発明の洗浄剤組成物は、上記
(A)成分と上記(B)成分との配合比率(重量比)が
(A)成分/(B)成分=90/10〜5/95、好ま
しくは70/30〜5/95である。配合比率が上記範
囲外であると、水リンス性あるいは洗浄性のいずれかが
損なわれる。
【0028】上記の(A)成分及び(B)成分からなる
洗浄剤組成物は、有機系の汚れ物質に対する溶解性に優
れているが、(A)成分が多くなると水に対する溶解性
が低くなるため、水によるリンス時にリンス不良を生じ
ることがある。また、水を含む場合、水に対する溶解性
が低いことにより、製品安定性が不良となることがあ
る。本発明の洗浄剤組成物は、上記の(A)成分及び
(B)成分に加えて平均HLB4〜15の非イオン性界
面活性剤を含有しているため、このような問題が生じる
惧れがない
【0029】上記非イオン性界面活性剤としては、ポリ
オキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキ
レンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレ
ンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアリ
ルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンソルビタ
ン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミ
ン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン
等が好ましく用いられ、これらの中でも平均HLB4〜
15のものが特に優れた効果を発現する。ここで、ポリ
オキシアルキレンとは、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド又はブチレンオキサイドの重合体のことを
いう。
【0030】上記非イオン性界面活性剤の配合量は、洗
浄剤組成物中に0.5〜35%(重量%、以下同
じ)、より好ましくは3〜30%である。配合量が0.
5%未満であると、配合効果が認められず、また35%
超であると、組成物の粘度が上がり好ましくない。
【0031】本発明の洗浄剤組成物、安全性及び作業
性等の観点から水を含有する。水の配合量は、洗浄剤組
成物中に5〜50%である
【0032】また、本発明の洗浄剤組成物には、その効
果を損なわない範囲で必要に応じて、他の界面活性剤、
シリコン等の消泡剤、アミン系やフェノール系の酸化防
止剤、防錆剤やアルカノールアミン等を配合してもよ
い。
【0033】本発明の洗浄剤組成物は、上記の(A)成
分及び(B)成分等の配合成分を常法により混合して製
造することができる。
【0034】本発明の洗浄剤組成物を用いて洗浄を行う
方法は特に限定されないが、例えば本発明の洗浄剤組成
物を用いて超音波洗浄又は浸漬洗浄し、最後に溶剤又は
温水でリンスする等の方法を連続的に行う方法等が、効
率良い洗浄法として挙げられる。また、振動法、スプレ
ー法等の各種の洗浄方法によってもよい。
【0035】
【作用】本発明の洗浄剤組成物は、精密部品又はその組
立加工工程に用いられる治工具類の洗浄に用いられ、そ
の際、(A)成分及び(B)成分の作用により被洗浄物
表面に存在する汚れ物質を除去する。また、洗浄後、被
洗浄物表面に残留する本発明の洗浄剤組成物は、被洗浄
物を水等でリンスすることにより流失する。
【0036】
【実施例】以下、実施例を比較例と共に挙げて本発明を
更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
【0037】実施例1〜及び比較例1〜13
【0038】下記の表1及び表2に示す組成の洗浄剤組
成物をそれぞれ調製し、各洗浄剤組成物について、汚れ
物質の除去性(洗浄力)、リンス性(すすぎ性)及び製
品安定性を次のようにして評価した。その結果を下記の
表1及び表2に示す。
【0039】(汚れ物質の除去性及びリンス性の評価方
法)
【0040】各洗浄剤組成物に、ロジン系のフラックス
処理されたプリント基板、ナフテン系鉱油が塗布された
銅板又はネマティック液晶を主成分とする液晶を塗布し
たガラス基板をそれぞれ10枚ずつ浸漬し、40℃で3
分間超音波をあてながら洗浄を行い、その際の汚れ物質
の除去性を評価した。次いで、洗浄剤組成物で洗浄した
上記のプリント基板、銅板又はガラス基板を20℃のイ
オン交換水でリンス処理を行い、リンス性の良し悪しを
目視にて評価した。汚れ物質の除去性及びリンス性の評
価基準は次の通りである。
【0041】汚れ物質の除去性の評価基準 ◎;汚れ物質(フラックス、ナフテン系鉱油又は液晶)
の残着がなく、非常に良好。 ○;汚れ物質の残着がほとんどなく、良好。 △;汚れ物質の残着がわずかにあり、やや悪い。 ×;汚れ物質が残着し、悪い。
【0042】リンス性の評価基準 ◎;非常に良好。 ○;良好。 △;やや劣る。 ×;悪い。
【0043】(製品安定性の評価方法)
【0044】各洗浄剤組成物の外観を下記評価基準によ
り室温にて目視で観察した。
【0045】製品安定性の評価基準 ○;均一透明。 △;若干の分離又は濁り。 ×;完全に分離。
【0046】
【表1】
【0047】
【表2】
【0048】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、精密部品又は
その組立加工工程に用いられる治工具類用の洗浄剤組成
物として、優れた洗浄力及びすすぎ性を有し、且つフロ
ン等を用いないため環境を汚染せず安全性も高いもので
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−28387(JP,A) 特開 平3−62895(JP,A) 特開 平4−65495(JP,A) 特開 平4−182062(JP,A)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)下記化1で表わされ且つ20℃の
    粘度が0.5〜10cpの化合物(B)下記化2で表
    わされる化合物、平均HLB4〜15の非イオン性界面
    活性剤0.5〜35重量%及び水5〜50重量%を含有
    し、上記(A)成分と上記(B)成分との配合比率(重
    量比)が(A)成分/(B)成分=90/10〜5/9
    5であり、粘度が40℃で0.5〜20cpである、精
    密部品又はその組立加工工程に用いられる治工具類用の
    洗浄剤組成物。 【化1】 【化2】
JP3080735A 1991-03-19 1991-03-19 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物 Expired - Fee Related JP2617247B2 (ja)

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JPH0768540B2 (ja) * 1989-07-31 1995-07-26 花王株式会社 洗浄剤組成物
JP2916800B2 (ja) * 1990-07-05 1999-07-05 荒川化学工業株式会社 ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤および該洗浄剤を用いてなるロジン系ハンダフラックスの洗浄方法
JP3056239B2 (ja) * 1990-11-15 2000-06-26 昭和電工株式会社 ハンダフラックス除去液

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