JP2617247B2 - 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物 - Google Patents
精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物Info
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Description
は、精密部品又はその組立加工工程に用いられる治工具
類の表面に存在する油脂、機械油、切削油、グリース、
液晶、ロジン系フラックス等の汚れ物質の除去性に優
れ、且つすすぎ性に優れた洗浄剤組成物に関する。
存在する油脂等の有機物を主体とする汚れ物質の除去に
は、ケロシン、ベンゼン、キシレン等の炭化水素系溶
剤;トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の塩
素系溶剤;トリクロロトリフルオロエタン等のフロン系
溶剤;オルソケイ酸ソーダや苛性ソーダに界面活性剤や
ビルダーを配合した水系の洗浄剤等が使用されている。
特に電子、電気、機械等の部品にはその高洗浄性及び難
燃性という特性を生かしてフロン系溶剤又は塩素系溶剤
が使用されている。
及びフロン系の溶剤を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、
環境汚染性等に大きな問題を有している。一方、水系の
洗浄剤は、毒性が低い点では好ましいが、洗浄力におい
て数段劣っている。
いては、洗浄後、被洗浄物表面に洗浄剤が残留するとプ
ラスチック部品等に悪影響を与えることがあるため、洗
浄後のすすぎ性が問題となっている。
の組立加工工程に用いられる治工具類の表面に存在する
油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロジン系フラ
ックス等の汚れ物質を除去するための洗浄剤組成物とし
て、洗浄力及びすすぎ性に優れ、且つ環境汚染の惧れが
なく、しかも安全性の高い洗浄剤組成物を提供すること
にある。
を行った結果、2種類の特定の化合物を特定の比率で組
合せた、特定の粘度を有する洗浄剤組成物が、上記目的
を達成するものであることを知見した。
で、(A)下記化3(化1と同じ)で表わされ且つ20
℃の粘度が0.5〜10cpの化合物、(B)下記化4
(化2と同じ)で表わされる化合物、平均HLB4〜1
5の非イオン性界面活性剤0.5〜35重量%及び水5
〜50重量%を含有し、上記(A)成分と上記(B)成
分との配合比率(重量比)が(A)成分/(B)成分=
90/10〜5/95であり、粘度が40℃で0.5〜
20cpである、精密部品又はその組立加工工程に用い
られる治工具類用の洗浄剤組成物を提供するものであ
る。
する。
うな化合物が挙げられる。
しては、アルキルベンゼン、例えば、エチルベンゼン、
クメン、p−シメン等;オレフィン、例えば、オクテ
ン、ドデセン、テトラセン、テトラプロピレン、テトラ
イソブチレン等;オレフィンの重合体;シクロヘキセン
環を有する化合物、例えば、リモネン、ピネン等が挙げ
られる。但し、本発明の洗浄剤組成物がロジン系ハンダ
フラックス用の洗浄剤組成物である場合には、R 1 、R
2 、R 3 及びR 4 の合計の炭素数が7〜13である化合
物(即ち炭素数8〜14の炭化水素化合物)は除かれ
る。
化合物としては、ヤシ脂肪酸メチル、ミリスチン酸イソ
プロピル、ステアリル酸2−エチルヘキシル、ラウリン
酸メチル、オレイン酸メチル、オレイン酸イソブチル
等、更には、アクリル酸ブチルやアクリル酸2−エチル
ヘキシル、メタクリル酸ベンジル、酢酸ベンジル等が挙
げられる。
合物としては、例えば、ジイソブチルケトン、2,6,
8,トリメチル4−ノナノンや、イソホロン等が挙げら
れ、また、上記化3中のXが−O−である化合物として
は、例えば、ジヘキシルエーテルやジベンジルエーテル
等が挙げられる。
合物としては、例えば、ジメチルラウリルアミン、ジメ
チルミリスチルアミン、ジラウリルモノメチルアミン、
トリオクチルアミン等が挙げられ、また、上記化3中の
Xが下記化7である化合物としては、N,N−ジメチル
アセトアニリド等が挙げられる。
上記化3中のXが上記化5である、炭化水素の不飽和結
合を有するアルキルベンゼン、オレフィン、シクロヘキ
セン環を有する化合物である。また、上記化3中のXが
−COO−である、ラウリン酸メチル、オレイン酸メチ
ル等の化合物も特に好ましい。
〜10cp、好ましくは0.5〜8cp、特に好ましくは
0.5〜5cpである。20℃の粘度が0.5cp未満であ
ると、洗浄剤組成物の引火性が高く、洗浄時の安全性が
問題となる。また、10cp超であると、狭い隙間部分の
汚れ物質に対して洗浄性が充分でなく好ましくない。
以上併用され、その配合量は、洗浄剤組成物中に5〜8
0重量%が好ましい。
8のアルコール、脂肪酸又はアミンに、苛性アルカリの
ような触媒の存在下、加熱しながら炭素数2〜4のアル
キレンオキシド(エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシド等)を液状又は気体状で加えて反
応させることにより得られる。2種以上のアルキレンオ
キシドを混合して反応させるランダム付加重合、又はア
ルキレンオキシドを順次付加させるブロック付加重合を
行ってもよい。このようにして得られるポリアルキレン
エーテルは、精製して未反応物や触媒を除去して(B)
成分として使用される。また、該ポリアルキレンエーテ
ルの末端の水酸基をアルキルクロライド等によりメチル
化、エチル化又はブチル化した化合物も本発明の(B)
成分に含まれる。本発明の(B)成分の製造に用いられ
る上記炭素数3〜8のアルコールとしては、例えば、n
−プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、オクタノ
ール、2−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、
ベンジルアルコール等が挙げられ、また、上記炭素数3
〜8の脂肪酸及びアミンとしては、これらアルコールに
対応するものが挙げられる。
成物の粘度が低減し、洗浄性が向上し、また親水性が良
好となり、リンスが容易になる。
が3を超えると、粘度が上昇し、洗浄液からリンス槽へ
の持ち出し量が多くなり好ましくない。また、上記化4
中のRの炭素数が2以下では、有機物との親和性が低下
し、良好な洗浄力が得られない。また、Rの炭素数が8
を超えると、粘度が高くなり、また洗浄力及び水リンス
性が低下する。Rの炭素数は3〜6が好ましい。
以上併用され、その配合量は、洗浄剤組成物中に10〜
90重量%が好ましい。
る本発明の洗浄剤組成物は、その粘度が40℃で0.5
〜20cp、好ましくは1〜15cpである。上記粘度が
0.5cp未満であると、洗浄剤組成物の引火性が高く、
洗浄時の安全性が問題となる。また20cp超であると、
狭い隙間部分の汚れ物質に対して洗浄性が劣る。
(A)成分と上記(B)成分との配合比率(重量比)が
(A)成分/(B)成分=90/10〜5/95、好ま
しくは70/30〜5/95である。配合比率が上記範
囲外であると、水リンス性あるいは洗浄性のいずれかが
損なわれる。
洗浄剤組成物は、有機系の汚れ物質に対する溶解性に優
れているが、(A)成分が多くなると水に対する溶解性
が低くなるため、水によるリンス時にリンス不良を生じ
ることがある。また、水を含む場合、水に対する溶解性
が低いことにより、製品安定性が不良となることがあ
る。本発明の洗浄剤組成物は、上記の(A)成分及び
(B)成分に加えて平均HLB4〜15の非イオン性界
面活性剤を含有しているため、このような問題が生じる
惧れがない。
オキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキ
レンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレ
ンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアリ
ルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンソルビタ
ン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミ
ン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン
等が好ましく用いられ、これらの中でも平均HLB4〜
15のものが特に優れた効果を発現する。ここで、ポリ
オキシアルキレンとは、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド又はブチレンオキサイドの重合体のことを
いう。
浄剤組成物中に、0.5〜35%(重量%、以下同
じ)、より好ましくは3〜30%である。配合量が0.
5%未満であると、配合効果が認められず、また35%
超であると、組成物の粘度が上がり好ましくない。
性等の観点から水を含有する。水の配合量は、洗浄剤組
成物中に5〜50%である。
果を損なわない範囲で必要に応じて、他の界面活性剤、
シリコン等の消泡剤、アミン系やフェノール系の酸化防
止剤、防錆剤やアルカノールアミン等を配合してもよ
い。
分及び(B)成分等の配合成分を常法により混合して製
造することができる。
方法は特に限定されないが、例えば本発明の洗浄剤組成
物を用いて超音波洗浄又は浸漬洗浄し、最後に溶剤又は
温水でリンスする等の方法を連続的に行う方法等が、効
率良い洗浄法として挙げられる。また、振動法、スプレ
ー法等の各種の洗浄方法によってもよい。
立加工工程に用いられる治工具類の洗浄に用いられ、そ
の際、(A)成分及び(B)成分の作用により被洗浄物
表面に存在する汚れ物質を除去する。また、洗浄後、被
洗浄物表面に残留する本発明の洗浄剤組成物は、被洗浄
物を水等でリンスすることにより流失する。
更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
成物をそれぞれ調製し、各洗浄剤組成物について、汚れ
物質の除去性(洗浄力)、リンス性(すすぎ性)及び製
品安定性を次のようにして評価した。その結果を下記の
表1及び表2に示す。
法)
処理されたプリント基板、ナフテン系鉱油が塗布された
銅板又はネマティック液晶を主成分とする液晶を塗布し
たガラス基板をそれぞれ10枚ずつ浸漬し、40℃で3
分間超音波をあてながら洗浄を行い、その際の汚れ物質
の除去性を評価した。次いで、洗浄剤組成物で洗浄した
上記のプリント基板、銅板又はガラス基板を20℃のイ
オン交換水でリンス処理を行い、リンス性の良し悪しを
目視にて評価した。汚れ物質の除去性及びリンス性の評
価基準は次の通りである。
の残着がなく、非常に良好。 ○;汚れ物質の残着がほとんどなく、良好。 △;汚れ物質の残着がわずかにあり、やや悪い。 ×;汚れ物質が残着し、悪い。
り室温にて目視で観察した。
その組立加工工程に用いられる治工具類用の洗浄剤組成
物として、優れた洗浄力及びすすぎ性を有し、且つフロ
ン等を用いないため環境を汚染せず安全性も高いもので
ある。
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)下記化1で表わされ且つ20℃の
粘度が0.5〜10cpの化合物、(B)下記化2で表
わされる化合物、平均HLB4〜15の非イオン性界面
活性剤0.5〜35重量%及び水5〜50重量%を含有
し、上記(A)成分と上記(B)成分との配合比率(重
量比)が(A)成分/(B)成分=90/10〜5/9
5であり、粘度が40℃で0.5〜20cpである、精
密部品又はその組立加工工程に用いられる治工具類用の
洗浄剤組成物。 【化1】 【化2】
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP3080735A JP2617247B2 (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP3080735A JP2617247B2 (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04292699A JPH04292699A (ja) | 1992-10-16 |
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Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP3080735A Expired - Fee Related JP2617247B2 (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物 |
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---|---|
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JP3056239B2 (ja) * | 1990-11-15 | 2000-06-26 | 昭和電工株式会社 | ハンダフラックス除去液 |
-
1991
- 1991-03-19 JP JP3080735A patent/JP2617247B2/ja not_active Expired - Fee Related
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