JPH0766331A - 半導体デバイス・パッケージの製造方法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 改良された半導体デバイス・パッケージの製
造方法が提供される。 【構成】 半導体ダイ16は支持基板10,12に付着
される。保護蓋20は、半導体ダイ16を介して支持基
板10,12に付着される。保護蓋20は成形材料28
によって部分的に封止される。保護蓋20は、成形材料
30が、半導体ダイ16および関連のワイヤ・ボンディ
ングされたワイヤ18に接触するのを防ぐ。保護蓋20
の一部30は露出されたままにする。このため、現在の
製品設計および組立工程に適合するモールド・パッケー
ジが提供され、しかも成形材料がダイ16およびワイヤ
18に接触することによって生じる欠点が回避される。
また、露出された保護蓋30は、パッケージに対して優
れた熱放散力を提供する。
造方法が提供される。 【構成】 半導体ダイ16は支持基板10,12に付着
される。保護蓋20は、半導体ダイ16を介して支持基
板10,12に付着される。保護蓋20は成形材料28
によって部分的に封止される。保護蓋20は、成形材料
30が、半導体ダイ16および関連のワイヤ・ボンディ
ングされたワイヤ18に接触するのを防ぐ。保護蓋20
の一部30は露出されたままにする。このため、現在の
製品設計および組立工程に適合するモールド・パッケー
ジが提供され、しかも成形材料がダイ16およびワイヤ
18に接触することによって生じる欠点が回避される。
また、露出された保護蓋30は、パッケージに対して優
れた熱放散力を提供する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般に半導体デバイスに
関し、さらに詳しくは成形材料によって構成される半導
体デバイス・パッケージに関する。
関し、さらに詳しくは成形材料によって構成される半導
体デバイス・パッケージに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、多くの半導体デバイスは、樹脂で
封止されることによりパッケージされる。この業界で通
常使用される成形材料はノボラック(novalac)
形エポキシによって構成される。
封止されることによりパッケージされる。この業界で通
常使用される成形材料はノボラック(novalac)
形エポキシによって構成される。
【0003】より具体的にいえば、従来の半導体デバイ
ス・パッケージは通常、支持基板によって構成され、そ
の上にダイがマウントされる。この基板は、プリント配
線板,ヒートシンク,リードフレーム,もしくはこれら
と同等のもの,またはこれらを一体的に組み合わせたも
のによって構成できる。電気接続は通常、ワイヤ・ボン
ディングを介して施される。従来、支持基板,ダイおよ
びワイヤ・ボンドはその後、成形材料によって完全に封
止される。通常、リードは成形材料から伸び、デバイス
との電気接続を設ける。これに代わる方法として、導電
バンプが、半導体ダイとの電気接続を設けてもよい。
ス・パッケージは通常、支持基板によって構成され、そ
の上にダイがマウントされる。この基板は、プリント配
線板,ヒートシンク,リードフレーム,もしくはこれら
と同等のもの,またはこれらを一体的に組み合わせたも
のによって構成できる。電気接続は通常、ワイヤ・ボン
ディングを介して施される。従来、支持基板,ダイおよ
びワイヤ・ボンドはその後、成形材料によって完全に封
止される。通常、リードは成形材料から伸び、デバイス
との電気接続を設ける。これに代わる方法として、導電
バンプが、半導体ダイとの電気接続を設けてもよい。
【0004】ワイヤおよび半導体ダイを成形材料内に完
全に封止することを含めた、従来のパッケージング技術
は、多くの重大な欠点をもたらす。たとえば、鋳造工程
中に、ワイヤ・ボンディングされたワイヤに成形材料が
接触する。ワイヤ同士が互いに引っ張られて短絡を起こ
す。また、成形材料がワイヤの上を移動するに伴い、ワ
イヤ・ボンドが破損するおそれがある。これを回避する
ため、従来の鋳造工程では、成形材料の粘度を徹底的に
高くして、これによりワイヤへの障害を最低限に抑えな
ければならない。また、所要の粘度を得るために、特殊
で極めて高価な成形材料を使用する。
全に封止することを含めた、従来のパッケージング技術
は、多くの重大な欠点をもたらす。たとえば、鋳造工程
中に、ワイヤ・ボンディングされたワイヤに成形材料が
接触する。ワイヤ同士が互いに引っ張られて短絡を起こ
す。また、成形材料がワイヤの上を移動するに伴い、ワ
イヤ・ボンドが破損するおそれがある。これを回避する
ため、従来の鋳造工程では、成形材料の粘度を徹底的に
高くして、これによりワイヤへの障害を最低限に抑えな
ければならない。また、所要の粘度を得るために、特殊
で極めて高価な成形材料を使用する。
【0005】従来のパッケージング工程で生じるさらな
る欠点は、成形材料が半導体ダイから剥離することであ
る。理想的には、成形材料がダイを完全に封止し、デバ
イスの寿命を通じて、ダイと常に接触状態にあることが
望ましい。しかしながら、実際には、ダイと成形材料と
の間で膨張係数など温度特性が違うために、成形材料が
ダイから分離することが起こる可能性がある。従来、こ
の問題は、温度特性が、半導体ダイおよびその他の封止
される材料と似通っている極めて高価な成形材料を採用
することにより、部分的に解決される。ダイの大きさが
大きくなるにつれ、この問題は深刻化する。
る欠点は、成形材料が半導体ダイから剥離することであ
る。理想的には、成形材料がダイを完全に封止し、デバ
イスの寿命を通じて、ダイと常に接触状態にあることが
望ましい。しかしながら、実際には、ダイと成形材料と
の間で膨張係数など温度特性が違うために、成形材料が
ダイから分離することが起こる可能性がある。従来、こ
の問題は、温度特性が、半導体ダイおよびその他の封止
される材料と似通っている極めて高価な成形材料を採用
することにより、部分的に解決される。ダイの大きさが
大きくなるにつれ、この問題は深刻化する。
【0006】これに関連して、ダイ表面上の成形材料
が、デバイスに応力関連の障害を招くおそれもある。た
とえば、応力は、ダイ表面上で金属の移動を生じる可能
性がある。また、成形材料とダイとのインタフェースに
おける応力、および成形材料と空気との誘導特性の違い
によって、電気性能に有害な効果を及ぼすおそれがあ
る。
が、デバイスに応力関連の障害を招くおそれもある。た
とえば、応力は、ダイ表面上で金属の移動を生じる可能
性がある。また、成形材料とダイとのインタフェースに
おける応力、および成形材料と空気との誘導特性の違い
によって、電気性能に有害な効果を及ぼすおそれがあ
る。
【0007】従来のパッケージング技術で経験されるも
う一つの欠点は、ポップコーン現象として特徴づけられ
る。鋳造工程中、小さなボイド(void)が、デバイス・
パッケージ内部深くに形成される。このボイドに水分が
溜まる可能性がある。デバイスが製品に組み込まれる
際、半田をフローさせるために、通常、その温度が大幅
に上昇する。高温では、ボイドに溜まった水分が気化
し、これによりその部分が破裂する。この問題に対する
従来の解決策には、厳密な鋳造工程パラメータの採用,
高価な成形材料,およびデバイスに広範な硬化およびド
ライ・パッキング(dry packing )を施すことが含まれ
る。これらの解決策はそれぞれ、半導体デバイスのコス
トを大幅に上昇させ、歩留まりにマイナスの影響を及ぼ
す。
う一つの欠点は、ポップコーン現象として特徴づけられ
る。鋳造工程中、小さなボイド(void)が、デバイス・
パッケージ内部深くに形成される。このボイドに水分が
溜まる可能性がある。デバイスが製品に組み込まれる
際、半田をフローさせるために、通常、その温度が大幅
に上昇する。高温では、ボイドに溜まった水分が気化
し、これによりその部分が破裂する。この問題に対する
従来の解決策には、厳密な鋳造工程パラメータの採用,
高価な成形材料,およびデバイスに広範な硬化およびド
ライ・パッキング(dry packing )を施すことが含まれ
る。これらの解決策はそれぞれ、半導体デバイスのコス
トを大幅に上昇させ、歩留まりにマイナスの影響を及ぼ
す。
【0008】従来のパッケージング技術のさらなる制約
事項には、1つのパッケージ・デバイスを形成するため
に封止できる半導体ダイの数に対する制限をはじめ、成
形材料内におけるダイおよびワイヤ・レイアウトの複雑
度に対する制限が含まれる。
事項には、1つのパッケージ・デバイスを形成するため
に封止できる半導体ダイの数に対する制限をはじめ、成
形材料内におけるダイおよびワイヤ・レイアウトの複雑
度に対する制限が含まれる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記のような欠点にも
拘らず、本質的にモールド・パッケージである半導体パ
ッケージを提供することが極めて望ましい。これは、モ
ールド・パッケージが頑丈で、極めてコスト効果が高い
からである。また、業界は製品設計にモールド・パッケ
ージを使用することが習慣化しており、組立工程は、モ
ールド・パッケージを用いるように作られている。した
がって、モールド・パッケージを提供し、しかも、従来
のパッケージングにより生じる欠点を排除するデバイス
・パッケージング技術が必要とされる。
拘らず、本質的にモールド・パッケージである半導体パ
ッケージを提供することが極めて望ましい。これは、モ
ールド・パッケージが頑丈で、極めてコスト効果が高い
からである。また、業界は製品設計にモールド・パッケ
ージを使用することが習慣化しており、組立工程は、モ
ールド・パッケージを用いるように作られている。した
がって、モールド・パッケージを提供し、しかも、従来
のパッケージングにより生じる欠点を排除するデバイス
・パッケージング技術が必要とされる。
【0010】具体的には、工程中、ワイヤ・ボンディン
グされたワイヤおよび半導体ダイに、成形材料が接触し
ない技術を提供することが望ましい。これにより、ワイ
ヤが互いに短絡したり、または分離する可能性が排除さ
れる。また、デバイスの寿命の間、成形材料が、半導体
ダイと接触しないことが望ましい。これにより、成形材
料と半導体ダイとが分離する可能性が排除される。ま
た、成形材料がダイを被覆することによって生じる応力
関連の問題も排除される。さらに、成形材料は、完成デ
バイスの周辺部付近にのみ提供されることが望ましい。
これにより、ボイドおよびポップコーン状態に対する懸
念が大幅に減じよう。
グされたワイヤおよび半導体ダイに、成形材料が接触し
ない技術を提供することが望ましい。これにより、ワイ
ヤが互いに短絡したり、または分離する可能性が排除さ
れる。また、デバイスの寿命の間、成形材料が、半導体
ダイと接触しないことが望ましい。これにより、成形材
料と半導体ダイとが分離する可能性が排除される。ま
た、成形材料がダイを被覆することによって生じる応力
関連の問題も排除される。さらに、成形材料は、完成デ
バイスの周辺部付近にのみ提供されることが望ましい。
これにより、ボイドおよびポップコーン状態に対する懸
念が大幅に減じよう。
【0011】
【課題を解決するための手段】要約すれば、本発明は、
モールド・パッケージであるが、従来のパッケージング
技術で一般に生じる欠点を持たない半導体デバイス・パ
ッケージを製造する方法を提供する。半導体ダイの提供
を含む方法が提供される。半導体ダイは支持基板に付着
される。半導体ダイは保護蓋でカバーされる。また、保
護蓋は、成形材料によって一部分が封止され、保護蓋の
一部が露出されたまま残されるようにする。
モールド・パッケージであるが、従来のパッケージング
技術で一般に生じる欠点を持たない半導体デバイス・パ
ッケージを製造する方法を提供する。半導体ダイの提供
を含む方法が提供される。半導体ダイは支持基板に付着
される。半導体ダイは保護蓋でカバーされる。また、保
護蓋は、成形材料によって一部分が封止され、保護蓋の
一部が露出されたまま残されるようにする。
【0012】
【実施例】一般に、本発明の方法は、従来のパッケージ
ング技術に関連する重大な欠点を持たない鋳造デバイス
・パッケージを提供できる。本発明により作られる好適
なデバイスは、デバイスが組み込まれる製品の設計を変
更せずに、従来型パッケージ・デバイスに取って替わる
ことが可能である。事実、本発明の方法により作られる
好適なデバイスは、従来型半導体デバイス・パッケージ
と外観も動作もそっくりであるが、従来の鋳造工程に関
連する多くの問題を生じない。また、この好適なデバイ
スは、半導体ダイが成形材料によって封止されないの
で、熱放散能力に優れている。
ング技術に関連する重大な欠点を持たない鋳造デバイス
・パッケージを提供できる。本発明により作られる好適
なデバイスは、デバイスが組み込まれる製品の設計を変
更せずに、従来型パッケージ・デバイスに取って替わる
ことが可能である。事実、本発明の方法により作られる
好適なデバイスは、従来型半導体デバイス・パッケージ
と外観も動作もそっくりであるが、従来の鋳造工程に関
連する多くの問題を生じない。また、この好適なデバイ
スは、半導体ダイが成形材料によって封止されないの
で、熱放散能力に優れている。
【0013】図を見ると、図1は、本発明の方法により
作られる好適な半導体デバイス・パッケージの断面図で
ある。図1に示すデバイスはヒートシンク10によって
構成される。プリント配線板12はヒートシンク10に
付着される。プリント配線板12が完全にヒートシンク
10を囲んでいることを理解されたい。リード線14
は、プリント配線板12の周囲に配線される。リード線
14は、外部デバイスとの電気接続を提供する。プリン
ト配線板12とヒートシンク10とが結合して、支持基
板を提供する。
作られる好適な半導体デバイス・パッケージの断面図で
ある。図1に示すデバイスはヒートシンク10によって
構成される。プリント配線板12はヒートシンク10に
付着される。プリント配線板12が完全にヒートシンク
10を囲んでいることを理解されたい。リード線14
は、プリント配線板12の周囲に配線される。リード線
14は、外部デバイスとの電気接続を提供する。プリン
ト配線板12とヒートシンク10とが結合して、支持基
板を提供する。
【0014】半導体ダイ16は、ヒートシンク10に付
着される。半導体ダイ16は、1つの電子デバイス,モ
ノリシック集積回路などによって構成できる。半導体ダ
イ16は、ワイヤ・ボンディングされた複数のワイヤ
(ワイヤ18で表す)を介してプリント配線板12と電
気的に結合される。ワイヤ・ボンディングされたワイヤ
18は図に示すように、従来のワイヤ・ボンディング技
術の結果、曲線形状を有する。
着される。半導体ダイ16は、1つの電子デバイス,モ
ノリシック集積回路などによって構成できる。半導体ダ
イ16は、ワイヤ・ボンディングされた複数のワイヤ
(ワイヤ18で表す)を介してプリント配線板12と電
気的に結合される。ワイヤ・ボンディングされたワイヤ
18は図に示すように、従来のワイヤ・ボンディング技
術の結果、曲線形状を有する。
【0015】本発明の方法によれば、ワイヤ・ボンディ
ング・ワイヤ18および半導体ダイ16は、保護蓋20
によってカバーされる。保護蓋20は、隆起部分22に
よって構成され、これは、複数のワイヤ18の形状に合
致する形状をとる。このため、隆起部分22によって、
保護蓋20はワイヤ18を回避せしめる。また、保護蓋
20は、低い部分24によって構成される。低い部分2
4は、半導体ダイ16が画定する平面に対して平行な平
面内で、可能な限り半導体ダイ16の付近に配置され
る。低い部分24は、可能な限り半導体ダイ16の付近
に配置されて、熱放散力を高める。
ング・ワイヤ18および半導体ダイ16は、保護蓋20
によってカバーされる。保護蓋20は、隆起部分22に
よって構成され、これは、複数のワイヤ18の形状に合
致する形状をとる。このため、隆起部分22によって、
保護蓋20はワイヤ18を回避せしめる。また、保護蓋
20は、低い部分24によって構成される。低い部分2
4は、半導体ダイ16が画定する平面に対して平行な平
面内で、可能な限り半導体ダイ16の付近に配置され
る。低い部分24は、可能な限り半導体ダイ16の付近
に配置されて、熱放散力を高める。
【0016】半導体ダイ16は、作業中かなり熱せられ
ることを理解されたい。図1に示す実施例では、熱は、
半導体ダイ16から保護蓋20の低い部分24に放射さ
れる。ついで、この熱が、保護蓋20全体に配分され
て、放散される。
ることを理解されたい。図1に示す実施例では、熱は、
半導体ダイ16から保護蓋20の低い部分24に放射さ
れる。ついで、この熱が、保護蓋20全体に配分され
て、放散される。
【0017】保護蓋20は、1993年4月26日に出
願された同時係属出願の米国特許出願番号第08/05
1954号に開示される鉄とアルミニウムの積層によっ
て構成されるのが望ましく、この同時係属出願は言及に
よりここに包含される。同時係属出願に詳述されるよう
に、保護蓋20を構成する材料は、保護蓋20によって
カバーされる半導体ダイおよび支持基板部材と適合する
熱特性をもつように意図される。また、蓋20の材料
は、個々の用途に応じて、一定の電気的パラメータを最
適化するように選択される。
願された同時係属出願の米国特許出願番号第08/05
1954号に開示される鉄とアルミニウムの積層によっ
て構成されるのが望ましく、この同時係属出願は言及に
よりここに包含される。同時係属出願に詳述されるよう
に、保護蓋20を構成する材料は、保護蓋20によって
カバーされる半導体ダイおよび支持基板部材と適合する
熱特性をもつように意図される。また、蓋20の材料
は、個々の用途に応じて、一定の電気的パラメータを最
適化するように選択される。
【0018】より具体的には、蓋20の材料の選択は、
最適化したいパラメータによって異なる。たとえば、導
線インダクタンスおよび共振周波数を最適化したいデジ
タル回路用途に適する材料は、鉄の層とアルミニウムの
層によって構成されるバイメタル積層キャップである。
鉄の層は約150マイクロメートルの厚さを有し、アル
ミニウム層は約450マイクロメートルの厚さを有する
ことが望ましい。バイメタル構造物の鉄側は半導体ダイ
に面する。一方、1ギガヘルツ以上で動作するアナログ
用途では、インピーダンス整合を最適化することが望ま
しい。上記の材料はアナログ用途に適しているが、最適
化を達成するには、アルミニウム側が半導体ダイ16に
面するように保護蓋20を配置する。銅によって構成さ
れる保護蓋20はアナログ用途にも適する。また、熱膨
張係数の整合が望ましい場合には、バイメタルの保護蓋
が所要の結果を提供する。
最適化したいパラメータによって異なる。たとえば、導
線インダクタンスおよび共振周波数を最適化したいデジ
タル回路用途に適する材料は、鉄の層とアルミニウムの
層によって構成されるバイメタル積層キャップである。
鉄の層は約150マイクロメートルの厚さを有し、アル
ミニウム層は約450マイクロメートルの厚さを有する
ことが望ましい。バイメタル構造物の鉄側は半導体ダイ
に面する。一方、1ギガヘルツ以上で動作するアナログ
用途では、インピーダンス整合を最適化することが望ま
しい。上記の材料はアナログ用途に適しているが、最適
化を達成するには、アルミニウム側が半導体ダイ16に
面するように保護蓋20を配置する。銅によって構成さ
れる保護蓋20はアナログ用途にも適する。また、熱膨
張係数の整合が望ましい場合には、バイメタルの保護蓋
が所要の結果を提供する。
【0019】保護蓋20はさらに、ロック部分26によ
って構成される。ロック部分26は、封止成形材料28
と支持基板(この場合はプリント配線板12)とに接す
る表面積を提供するロック機構である。好適なロック部
分26は、プリント配線板12からの高さが、蓋に使用
されるメタル・シートの厚さの約1.5倍あるのが望ま
しい。この比率は、封止成形材料に対する望ましいロッ
クを提供する。
って構成される。ロック部分26は、封止成形材料28
と支持基板(この場合はプリント配線板12)とに接す
る表面積を提供するロック機構である。好適なロック部
分26は、プリント配線板12からの高さが、蓋に使用
されるメタル・シートの厚さの約1.5倍あるのが望ま
しい。この比率は、封止成形材料に対する望ましいロッ
クを提供する。
【0020】保護蓋20は、共形接着剤(conformal ad
hesive)を用いて支持基板に付着される。この接着剤
は、液状,テープ状または鋳造個体での塗布を含む、種
々の周知の方法によって塗布できる。
hesive)を用いて支持基板に付着される。この接着剤
は、液状,テープ状または鋳造個体での塗布を含む、種
々の周知の方法によって塗布できる。
【0021】ロック機構26は、成形材料28とインタ
フェースし、成形材料内へと伸びる。成形材料28は、
一般的な成形材料としてよく知られるノボラック形エポ
キシによって構成される。本発明の重要かつ有利な側面
は、成形材料28が保護蓋20のごく一部しか封止しな
いことである。ライン30によって示される保護蓋20
の一部分は露出されたままである。この露出部分によっ
て、半導体ダイ16が発生する熱が、パッケージから効
率良く放射される。このため、好適なデバイスは、成形
材料が完全に半導体ダイの上部表面を封止して、発生し
た熱をとらえる従来型鋳造デバイスに比べて、熱放射に
優れる。注意すべき重要なことは、半導体ダイが発生す
る熱の大部分が上部表面で生じることである。本発明の
方法により作られるデバイスは、上部表面付近に放熱装
置,蓋20を配置する。一方、従来型パッケージは、熱
を放散するのに、ダイの底部に付着されるヒートシンク
に依存する。このため、従来型パッケージでは、熱が半
導体ダイの厚さ全体に浸透するはずである。
フェースし、成形材料内へと伸びる。成形材料28は、
一般的な成形材料としてよく知られるノボラック形エポ
キシによって構成される。本発明の重要かつ有利な側面
は、成形材料28が保護蓋20のごく一部しか封止しな
いことである。ライン30によって示される保護蓋20
の一部分は露出されたままである。この露出部分によっ
て、半導体ダイ16が発生する熱が、パッケージから効
率良く放射される。このため、好適なデバイスは、成形
材料が完全に半導体ダイの上部表面を封止して、発生し
た熱をとらえる従来型鋳造デバイスに比べて、熱放射に
優れる。注意すべき重要なことは、半導体ダイが発生す
る熱の大部分が上部表面で生じることである。本発明の
方法により作られるデバイスは、上部表面付近に放熱装
置,蓋20を配置する。一方、従来型パッケージは、熱
を放散するのに、ダイの底部に付着されるヒートシンク
に依存する。このため、従来型パッケージでは、熱が半
導体ダイの厚さ全体に浸透するはずである。
【0022】上記の説明に沿って、図1は、半導体ダ
イ、およびワイヤ・ボンディングされたワイヤが成形材
料から保護されるモールド・パッケージを示す。成形材
料はワイヤ18に浸透して半導体ダイ16と接触するこ
とはないので、重要な鋳造工程パラメータの多くは大幅
に緩和される。成形材料は、ワイヤ18の損傷を回避す
るのに粘度がほとんどなくてもよい。また、成形材料は
半導体ダイ16に対し熱的に厳密に整合する必要はな
い。また、水分が溜まるモールド・ボイドは、歩留まり
にほとんど影響を及ぼさない。したがって、従来型パッ
ケージング技術において、極めて高価な成形材料および
極めて厳密な工程パラメータが必要とされる場合でも、
本発明の方法に従えば、かなり安価な材料および広範な
工程パラメータが可能となる。たとえば、従来型デバイ
スは1ポンド当り7.50ドルの材料を用いて500p
siで鋳造できるが、本発明の方法により作られるデバ
イスは、1ポンド当り0.30ドルというわずかなコス
トの成形材料を用いて50psiで鋳造できる。当業者
は、個々の用途に応じて、成形材料および工程パラメー
タが変化する可能性があるが、いずれも本発明の方法の
適用範囲内にあることを理解しよう。
イ、およびワイヤ・ボンディングされたワイヤが成形材
料から保護されるモールド・パッケージを示す。成形材
料はワイヤ18に浸透して半導体ダイ16と接触するこ
とはないので、重要な鋳造工程パラメータの多くは大幅
に緩和される。成形材料は、ワイヤ18の損傷を回避す
るのに粘度がほとんどなくてもよい。また、成形材料は
半導体ダイ16に対し熱的に厳密に整合する必要はな
い。また、水分が溜まるモールド・ボイドは、歩留まり
にほとんど影響を及ぼさない。したがって、従来型パッ
ケージング技術において、極めて高価な成形材料および
極めて厳密な工程パラメータが必要とされる場合でも、
本発明の方法に従えば、かなり安価な材料および広範な
工程パラメータが可能となる。たとえば、従来型デバイ
スは1ポンド当り7.50ドルの材料を用いて500p
siで鋳造できるが、本発明の方法により作られるデバ
イスは、1ポンド当り0.30ドルというわずかなコス
トの成形材料を用いて50psiで鋳造できる。当業者
は、個々の用途に応じて、成形材料および工程パラメー
タが変化する可能性があるが、いずれも本発明の方法の
適用範囲内にあることを理解しよう。
【0023】本発明の方法によるもう一つの利点は、広
範な成形後硬化およびドライ・パッキング工程の必要性
が排除されることである。成形材料28は、半導体ダイ
16およびワイヤ18を含むデバイスの大部分と接触し
ないので、硬化によって強化されるポリマーの架橋形成
の度合いはほとんど重要でない。また、鋳造材料が大幅
に減少し、デバイスの能動部分付近に成形材料が常に存
在するわけではないので、ボイドおよびポップコーン状
態が歩留まりにそれほど強い影響を及ぼさない。本発明
の方法により作られるデバイスが提供するもう一つの利
点は、電磁波シールドが強化されることである。保護蓋
20は金属によって構成されるので、これは、蓋20と
ダイ16との間に形成される凹部に、保護蓋20を通じ
て、電磁界が出たり入ったりするのを防ぐ。蓋20がデ
バイスの電気的接地と結合される場合、遮蔽はさらに強
化される。
範な成形後硬化およびドライ・パッキング工程の必要性
が排除されることである。成形材料28は、半導体ダイ
16およびワイヤ18を含むデバイスの大部分と接触し
ないので、硬化によって強化されるポリマーの架橋形成
の度合いはほとんど重要でない。また、鋳造材料が大幅
に減少し、デバイスの能動部分付近に成形材料が常に存
在するわけではないので、ボイドおよびポップコーン状
態が歩留まりにそれほど強い影響を及ぼさない。本発明
の方法により作られるデバイスが提供するもう一つの利
点は、電磁波シールドが強化されることである。保護蓋
20は金属によって構成されるので、これは、蓋20と
ダイ16との間に形成される凹部に、保護蓋20を通じ
て、電磁界が出たり入ったりするのを防ぐ。蓋20がデ
バイスの電気的接地と結合される場合、遮蔽はさらに強
化される。
【0024】図2は、本発明の方法により作られる別の
デバイスを示す。図2は複数チップ・デバイス40によ
って構成される。図2のデバイスを見ると、本発明の方
法を採用して、複雑なレイアウトを持つ極めて複雑な複
数ダイ・デバイスを作れることが分かる。より具体的に
言えば、デバイス40は、支持基板42によって構成さ
れる。支持基板42は、デバイス40の各種ダイと相互
接続できるプリント配線板によって構成される。支持基
板42は、第1表面44および第2表面46によって構
成される。半導体ダイ48,50は第2表面46に付着
される。ダイ52は第1表面44に付着される。保護蓋
54は半導体ダイ52をカバーする。保護蓋54は、図
1に示すように保護蓋20がプリント配線板12に付着
されるのと同じように、第1表面44に付着される。保
護蓋54はさらに、ロック部分56によって構成され
る。ロック部分56は、図1に示すロック部分26と似
通っているが、成形材料との接点をさらに付加するため
に、2つの保持リブによって構成される。ロック部分5
6を備えた保護蓋54を見ると、本発明の方法によっ
て、種々の蓋形状およびロック部分を使用できることが
分かる。
デバイスを示す。図2は複数チップ・デバイス40によ
って構成される。図2のデバイスを見ると、本発明の方
法を採用して、複雑なレイアウトを持つ極めて複雑な複
数ダイ・デバイスを作れることが分かる。より具体的に
言えば、デバイス40は、支持基板42によって構成さ
れる。支持基板42は、デバイス40の各種ダイと相互
接続できるプリント配線板によって構成される。支持基
板42は、第1表面44および第2表面46によって構
成される。半導体ダイ48,50は第2表面46に付着
される。ダイ52は第1表面44に付着される。保護蓋
54は半導体ダイ52をカバーする。保護蓋54は、図
1に示すように保護蓋20がプリント配線板12に付着
されるのと同じように、第1表面44に付着される。保
護蓋54はさらに、ロック部分56によって構成され
る。ロック部分56は、図1に示すロック部分26と似
通っているが、成形材料との接点をさらに付加するため
に、2つの保持リブによって構成される。ロック部分5
6を備えた保護蓋54を見ると、本発明の方法によっ
て、種々の蓋形状およびロック部分を使用できることが
分かる。
【0025】半導体ダイ48は保護蓋58によってカバ
ーされる。この代替的実施例によれば、保護蓋58は完
全に封止される。完全に封止された保護蓋は、半導体ダ
イ48からの熱放散が特に問題にならない場合に使用で
きる。また、半導体ダイ50には保護蓋がまったくな
い。たとえば、ワイヤ・ボンディングされたワイヤをほ
とんど持たない極めて小型の半導体ダイの場合には、蓋
を使用できない。
ーされる。この代替的実施例によれば、保護蓋58は完
全に封止される。完全に封止された保護蓋は、半導体ダ
イ48からの熱放散が特に問題にならない場合に使用で
きる。また、半導体ダイ50には保護蓋がまったくな
い。たとえば、ワイヤ・ボンディングされたワイヤをほ
とんど持たない極めて小型の半導体ダイの場合には、蓋
を使用できない。
【0026】図2に示すデバイス40を見ると、デバイ
ス全体の形状、および各ダイの保護蓋は、費用効果分析
とともに、各ダイの個々の特性(例:大きさ,熱,電気
的複雑度)によって決まることが分かる。図には示さな
いが、1つの保護蓋で複数のダイをカバーすることがで
きる。
ス全体の形状、および各ダイの保護蓋は、費用効果分析
とともに、各ダイの個々の特性(例:大きさ,熱,電気
的複雑度)によって決まることが分かる。図には示さな
いが、1つの保護蓋で複数のダイをカバーすることがで
きる。
【0027】図3は、本発明により作られるもう一つの
代替的デバイスを示す。図3はデバイス60を示す。デ
バイス60は、いくつかの明かな点において、上記のデ
バイスとは異なる。デバイス60は金属リードフレーム
62によって構成される。金属リードフレーム62は、
上記デバイスのプリント配線板とは対照的である。金属
リードフレーム62は、ヒートシンク64に対して電気
的に絶縁される形で付着される。金属リードフレーム6
2およびヒートシンク64は結合して、支持基板を提供
する。
代替的デバイスを示す。図3はデバイス60を示す。デ
バイス60は、いくつかの明かな点において、上記のデ
バイスとは異なる。デバイス60は金属リードフレーム
62によって構成される。金属リードフレーム62は、
上記デバイスのプリント配線板とは対照的である。金属
リードフレーム62は、ヒートシンク64に対して電気
的に絶縁される形で付着される。金属リードフレーム6
2およびヒートシンク64は結合して、支持基板を提供
する。
【0028】半導体ダイ66はヒートシンク64に付着
される。半導体ダイ66は、ワイヤ・ボンディングされ
たワイヤ68を介してリードフレーム62の各リードに
電気的に結合される。保護蓋70はワイヤ68および半
導体ダイ66をカバーする。保護蓋70はモールド接着
剤72によってリードフレーム62に付着される。モー
ルド・エポキシ72は電気的に絶縁性であることを理解
されたい。
される。半導体ダイ66は、ワイヤ・ボンディングされ
たワイヤ68を介してリードフレーム62の各リードに
電気的に結合される。保護蓋70はワイヤ68および半
導体ダイ66をカバーする。保護蓋70はモールド接着
剤72によってリードフレーム62に付着される。モー
ルド・エポキシ72は電気的に絶縁性であることを理解
されたい。
【0029】保護蓋70はさらにロック部分74によっ
て構成される。ロック部分74は単に、成形材料とのロ
ックおよび保護蓋に対する剛性を提供するために、上向
きのコーナーによって構成される。
て構成される。ロック部分74は単に、成形材料とのロ
ックおよび保護蓋に対する剛性を提供するために、上向
きのコーナーによって構成される。
【0030】デバイス60はさらに成形材料76によっ
て構成される。成形材料76はロック部分74まで伸び
るが、蓋70の隆起部分71までは達しない。むしろ、
材料76の範囲は端部73のところで終わる。この構成
は、隆起部分71にかかる成形圧力を最低限に抑える場
合に望ましい。
て構成される。成形材料76はロック部分74まで伸び
るが、蓋70の隆起部分71までは達しない。むしろ、
材料76の範囲は端部73のところで終わる。この構成
は、隆起部分71にかかる成形圧力を最低限に抑える場
合に望ましい。
【0031】よって、改良型の半導体デバイス・パッケ
ージを形成する方法が提供されることを認識されたい。
この方法は、現在の製品および組立工程と適合する鋳造
デバイスを提供でき、しかも従来の鋳造技術に関連した
多くの重要な欠点を被らない。また、本発明の方法は、
半導体ダイの上部に露出された放熱キャップが配置され
ることにより、従来のモールド・パッケージに比べて熱
放散に優れたデバイスを提供する。
ージを形成する方法が提供されることを認識されたい。
この方法は、現在の製品および組立工程と適合する鋳造
デバイスを提供でき、しかも従来の鋳造技術に関連した
多くの重要な欠点を被らない。また、本発明の方法は、
半導体ダイの上部に露出された放熱キャップが配置され
ることにより、従来のモールド・パッケージに比べて熱
放散に優れたデバイスを提供する。
【図1】本発明の方法により作られる好適な半導体デバ
イス・パッケージの断面図である。
イス・パッケージの断面図である。
【図2】本発明の方法により作られる第1案の半導体デ
バイス・パッケージの断面図である。
バイス・パッケージの断面図である。
【図3】本発明の方法により作られた第2案の半導体デ
バイス・パッケージの断面図である。
バイス・パッケージの断面図である。
10 ヒートシンク 12 プリント配線板 14 リード線 16 半導体ダイ 18 ワイヤ 20 保護蓋 22 隆起部分 24 低い部分 26 ロック機構 28 成形材 30 保護蓋の露出された部分 40 複数チップ・デバイス 42 支持基板 44 第1表面 46 第2表面 48 半導体ダイ 50,52 半導体ダイ 54,58 保護蓋 56 ロック部分 60 デバイス 62 金属リードフレーム 64 ヒートシンク 66 半導体ダイ 68 ワイヤ・ボンディングされたワイヤ 70 保護蓋 71 隆起部分 72 モールド・エポキシ 73 端部 74 ロック部分 76 成形材料
Claims (3)
- 【請求項1】 半導体デバイス・パッケージを製作する
方法であって:プリント配線板(12)によって構成さ
れる支持基板(10,12)を設ける段階;前記支持基
板(10)の第1表面に第1半導体ダイ(16)を付着
する段階;前記半導体ダイを、前記プリント配線板に、
複数のワイヤ(18)を使って電気的に接続する段階;
前記複数のワイヤ(18)および前記第1半導体ダイ
(16)を、前記ワイヤを回避するために形成される第
1保護蓋(20)によってカバーする段階;および、 前記第1保護蓋(20)を成形材料(28)によって部
分的に封止して、前記第1保護蓋の一部(30)を露出
したまま残す段階;によって構成されることを特徴とす
る方法。 - 【請求項2】 半導体デバイス・パッケージを作る方法
であって:半導体ダイ(16)を設ける段階;前記半導
体ダイ(16)を支持基板(10)に付着する段階;前
記半導体ダイを保護蓋(20)によってカバーする段
階;および、 前記保護蓋(20)を成形材料(28)によって部分的
に封止して、前記保護蓋の一部(30)を露出したまま
残す段階;によって構成されることを特徴とする方法。 - 【請求項3】 半導体デバイス・パッケージであって:
支持基板(10,12);前記支持基板(10)に付着
される半導体ダイ(16);前記半導体ダイ(16)を
カバーする保護蓋(20);および、 前記保護蓋(20)を部分的に封止し、前記保護蓋の一
部(30)を露出したまま残す成形材料(28);によ
って構成されることを特徴とする半導体デバイス・パッ
ケージ。
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