JPH07209503A - 光学皮膜形成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成方法および光学皮膜 - Google Patents
光学皮膜形成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成方法および光学皮膜Info
- Publication number
- JPH07209503A JPH07209503A JP6018969A JP1896994A JPH07209503A JP H07209503 A JPH07209503 A JP H07209503A JP 6018969 A JP6018969 A JP 6018969A JP 1896994 A JP1896994 A JP 1896994A JP H07209503 A JPH07209503 A JP H07209503A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- optical film
- derivatives
- functional group
- hydrolyzate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 92
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 71
- -1 methacryloyl Chemical group 0.000 claims abstract description 52
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 52
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 50
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 36
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 28
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 21
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 52
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 46
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 44
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 39
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 30
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 17
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 16
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 12
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims description 11
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 10
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 9
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 8
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 claims description 8
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 claims 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 23
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 19
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 14
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 7
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2,2'-azo-bis-isobutyronitrile Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical group 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAFHKNAQFPVRKR-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)C DAFHKNAQFPVRKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFSQJVOLYQRELE-HWKANZROSA-N (e)-2-ethylbut-2-enoic acid Chemical compound CC\C(=C/C)C(O)=O KFSQJVOLYQRELE-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical class C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNIRVVPHSLTEP-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(O)COCCO OBNIRVVPHSLTEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(CO)(CO)COC(=O)C=C SYENVBKSVVOOPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTIBRDNFZLYLNA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethenoxy)ethenol Chemical compound OC=COC=CO KTIBRDNFZLYLNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAMASUILMZETHW-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 IAMASUILMZETHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBZYPJAXRLNOCG-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;oxepan-2-one Chemical compound O=C1CCCCCO1.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO VBZYPJAXRLNOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNZYOYGFWBZAQY-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;2-methyloxirane Chemical compound CC1CO1.CCC(CO)(CO)CO SNZYOYGFWBZAQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJUPZVQSAAGZJL-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxirane;propane-1,2,3-triol Chemical compound CC1CO1.OCC(O)CO BJUPZVQSAAGZJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZCWFJMZVXHYQA-UHFFFAOYSA-N 3-dimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[SiH](OC)CCCOC(=O)C(C)=C BZCWFJMZVXHYQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical group C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N ac1mi23b Chemical compound C1C2C3C(COC(=O)C=C)CCC3C1C(COC(=O)C=C)C2 VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- CSXPRVTYIFRYPR-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-diethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C=C)(C=C)OCC CSXPRVTYIFRYPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N dibutyl (z)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- CTHHSSUMGMJUJP-UHFFFAOYSA-N disilanyl(2-methylpropyl)silane Chemical compound CC(C)C[SiH2][SiH2][SiH3] CTHHSSUMGMJUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N ethenyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC=C GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N ethenyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC=C AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBFVZTUQONJGSL-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(prop-1-en-2-yloxy)silane Chemical compound CC(=C)O[Si](OC(C)=C)(OC(C)=C)C=C GBFVZTUQONJGSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical group C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910021331 inorganic silicon compound Inorganic materials 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(2-methylphenoxy)-3-phenylpropyl]azanium;chloride Chemical compound Cl.C=1C=CC=CC=1C(CCNC)OC1=CC=CC=C1C LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCNCCN YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009828 non-uniform distribution Methods 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- RSVDRWTUCMTKBV-UHFFFAOYSA-N sbb057044 Chemical compound C12CC=CC2C2CC(OCCOC(=O)C=C)C1C2 RSVDRWTUCMTKBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N tamibarotene Chemical compound C=1C=C2C(C)(C)CCC(C)(C)C2=CC=1NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 MUTNCGKQJGXKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000007601 warm air drying Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 フレキシビリティーと反射防止性を有し、成
膜した場合十分な強度が発揮される光学皮膜形成コーテ
ィング用組成物、その製造方法、を提供する。 【構成】 次の一般式、 (但し、式中Xはビニル基、等およびそれらの誘導体等
から選ばれた1種または2種の重合可能な不飽和結合を
持つ官能基、R1 は炭素数1〜6のアルキル基等のアル
ケニル基およびそれらの誘導体から選ばれた1種乃至3
種の置換基、nは1または2を示す。)で示される加水
分解可能な官能基と重合可能な官能基を合わせ持つ、1
種または2種以上の有機珪素化合物、その加水分解物お
よび/またはその部分加水分解物と、分子内に少なくと
も1個以上の重合可能なビニル基、アクリロイル基、メ
タクリロイル基を持つ1種または2種以上の単量体との
共重合体を主成分とすることを特徴とする。
膜した場合十分な強度が発揮される光学皮膜形成コーテ
ィング用組成物、その製造方法、を提供する。 【構成】 次の一般式、 (但し、式中Xはビニル基、等およびそれらの誘導体等
から選ばれた1種または2種の重合可能な不飽和結合を
持つ官能基、R1 は炭素数1〜6のアルキル基等のアル
ケニル基およびそれらの誘導体から選ばれた1種乃至3
種の置換基、nは1または2を示す。)で示される加水
分解可能な官能基と重合可能な官能基を合わせ持つ、1
種または2種以上の有機珪素化合物、その加水分解物お
よび/またはその部分加水分解物と、分子内に少なくと
も1個以上の重合可能なビニル基、アクリロイル基、メ
タクリロイル基を持つ1種または2種以上の単量体との
共重合体を主成分とすることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ワープロ、コンピュー
タ、テレビ等の各種ディスプレイや透明プラスチック類
サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファイ
ンダーレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバー、自
動車、電車等の窓ガラス等の表面の反射防止膜に有用な
光学皮膜形成コーティング用組成物に関する。
タ、テレビ等の各種ディスプレイや透明プラスチック類
サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファイ
ンダーレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバー、自
動車、電車等の窓ガラス等の表面の反射防止膜に有用な
光学皮膜形成コーティング用組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】ワープロ、コンピュータ、テレビ等の各
種ディスプレイは、その表面のガラスや透明基材を通し
て文字、図形等の視覚情報が観察されるようになってい
る。外部からの光がディスプレイに入射し、その表面で
反射を起こすと、ディスプレイの視認性が悪くなってし
まうので、従来、そのディスプレイの表面に反射防止膜
を形成していた。
種ディスプレイは、その表面のガラスや透明基材を通し
て文字、図形等の視覚情報が観察されるようになってい
る。外部からの光がディスプレイに入射し、その表面で
反射を起こすと、ディスプレイの視認性が悪くなってし
まうので、従来、そのディスプレイの表面に反射防止膜
を形成していた。
【0003】例えば、従来、透明基材表面に入射する光
の反射を防止する一般的な方法としては、ガラスやプラ
スチック表面に、反射防止材料としての無機系超微粒子
を含む反射防止塗料を塗布する方法、ガラス等の透明基
材の表面に膜厚0.1μm程度のMgF2 等の薄膜や金
属蒸着膜を直接設ける方法、プラスチックレンズなどの
プラスチック表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工し、そ
の上に蒸着によりSiO2 やMgF2 の薄膜を形成する
方法、電離放射線硬化型樹脂の硬化面に低屈折率の皮膜
を形成する方法等があった。
の反射を防止する一般的な方法としては、ガラスやプラ
スチック表面に、反射防止材料としての無機系超微粒子
を含む反射防止塗料を塗布する方法、ガラス等の透明基
材の表面に膜厚0.1μm程度のMgF2 等の薄膜や金
属蒸着膜を直接設ける方法、プラスチックレンズなどの
プラスチック表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工し、そ
の上に蒸着によりSiO2 やMgF2 の薄膜を形成する
方法、電離放射線硬化型樹脂の硬化面に低屈折率の皮膜
を形成する方法等があった。
【0004】前記ガラス上に形成された膜厚0.1μm
程度のMgF2 の薄膜をさらに説明する。入射光が薄膜
に垂直に入射する場合に、特定の波長をλ0 とし、この
波長に対する反射防止膜の屈折率をn0 、反射防止膜の
厚みをg、および基板の屈折率ng とすると、反射防止
膜が光の反射を100%防止し、光を100%透過する
ための条件は、次の数式(1)、(2)の関係を満たす
ことが必要であることは既に知られている(サイエンス
ライブラリ物理学=9「光学」70〜72頁、昭和55
年、株式会社サイエンス社発行)。
程度のMgF2 の薄膜をさらに説明する。入射光が薄膜
に垂直に入射する場合に、特定の波長をλ0 とし、この
波長に対する反射防止膜の屈折率をn0 、反射防止膜の
厚みをg、および基板の屈折率ng とすると、反射防止
膜が光の反射を100%防止し、光を100%透過する
ための条件は、次の数式(1)、(2)の関係を満たす
ことが必要であることは既に知られている(サイエンス
ライブラリ物理学=9「光学」70〜72頁、昭和55
年、株式会社サイエンス社発行)。
【0005】
【数1】
【0006】
【数2】 前記数式(1)によれば、反射防止層の屈折率がその下
層の屈折率の平方根の値になるような材料を選択すれば
よいことがわかる。したがって、反射防止層の屈折率
は、その下層の屈折率よりも若干低いほうが好ましいと
いえる。
層の屈折率の平方根の値になるような材料を選択すれば
よいことがわかる。したがって、反射防止層の屈折率
は、その下層の屈折率よりも若干低いほうが好ましいと
いえる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の反射防止膜を蒸着法によって形成する方法は、概し
て生産性が低くて採算が悪いという欠点に加え、基体が
プラスチックフィルムである場合、その上に形成する蒸
着膜の密着性が悪いため剥離し易く、無機質の表面で覆
うためその後の染色が行なえず、あるいは蒸着時に基体
の表面が損傷したり、その真空プロセスによりプラスチ
ックフィルム中の可塑剤や紫外線吸収剤が蒸発してフィ
ルムが損傷するという問題があった。
来の反射防止膜を蒸着法によって形成する方法は、概し
て生産性が低くて採算が悪いという欠点に加え、基体が
プラスチックフィルムである場合、その上に形成する蒸
着膜の密着性が悪いため剥離し易く、無機質の表面で覆
うためその後の染色が行なえず、あるいは蒸着時に基体
の表面が損傷したり、その真空プロセスによりプラスチ
ックフィルム中の可塑剤や紫外線吸収剤が蒸発してフィ
ルムが損傷するという問題があった。
【0008】また、前記従来の反射防止塗料を塗布する
方法では、反射防止層の屈折率を低く保つためには、屈
折率の低い無機系超微粒子をできるだけ多くバインダー
樹脂中に分散させた超微粒子分散体を形成する必要があ
るが、無機系超微粒子はバインダー樹脂中においては相
互が凝集してしまい、うまく分散しないために、バイン
ダー樹脂中へ大量に混合すること、および均一に混合す
ることは実質上不可能であった。また、無機系超微粒子
材料を大量に使用することに伴い、塗膜形成性が悪くな
ったり、機械的強度が弱くなるという問題があった。従
って、所望の屈折率を持つ層を形成することが困難であ
り、最終的には反射防止膜を得ることは困難であった。
方法では、反射防止層の屈折率を低く保つためには、屈
折率の低い無機系超微粒子をできるだけ多くバインダー
樹脂中に分散させた超微粒子分散体を形成する必要があ
るが、無機系超微粒子はバインダー樹脂中においては相
互が凝集してしまい、うまく分散しないために、バイン
ダー樹脂中へ大量に混合すること、および均一に混合す
ることは実質上不可能であった。また、無機系超微粒子
材料を大量に使用することに伴い、塗膜形成性が悪くな
ったり、機械的強度が弱くなるという問題があった。従
って、所望の屈折率を持つ層を形成することが困難であ
り、最終的には反射防止膜を得ることは困難であった。
【0009】この問題を解決するための方法として、無
機系超微粒子材料の表面にカップリング剤を付与する方
法や、無機系超微粒子材料の表面に樹脂の吸着層を形成
する方法により、無機系超微粒子材料とバインダー樹脂
との親和性改善や、無機系超微粒子材料の自己凝集の防
止を図っているが、このような方法で充分な低屈折率が
達成する程度の無機系超微粒子を添加した場合において
も、バインダー樹脂の強度が著しく低下するという問題
は避けられなかった。
機系超微粒子材料の表面にカップリング剤を付与する方
法や、無機系超微粒子材料の表面に樹脂の吸着層を形成
する方法により、無機系超微粒子材料とバインダー樹脂
との親和性改善や、無機系超微粒子材料の自己凝集の防
止を図っているが、このような方法で充分な低屈折率が
達成する程度の無機系超微粒子を添加した場合において
も、バインダー樹脂の強度が著しく低下するという問題
は避けられなかった。
【0010】例えば、特開昭62−148902号公
報、特開昭63−191101号公報、特開平2−11
5801号公報、特開平2−256001号公報などに
は、金属アルコキシド誘導体に代表される有機ケイ素化
合物の加水分解、縮合物と無機超微粒子材料を組み合わ
せることにより、無機超微粒子材料の充分な添加量と同
時にプラスチック基板への密着性を持たせているが、塗
膜のフレキシブル性が劣り、また、塗膜表面に頭を出し
ている超微粒子が脱落しやすいという問題があった。
報、特開昭63−191101号公報、特開平2−11
5801号公報、特開平2−256001号公報などに
は、金属アルコキシド誘導体に代表される有機ケイ素化
合物の加水分解、縮合物と無機超微粒子材料を組み合わ
せることにより、無機超微粒子材料の充分な添加量と同
時にプラスチック基板への密着性を持たせているが、塗
膜のフレキシブル性が劣り、また、塗膜表面に頭を出し
ている超微粒子が脱落しやすいという問題があった。
【0011】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、バインダー樹脂成分と無機成分を分子レ
ベルで均一なものとすることを目的とし、しかもバイン
ダー樹脂としてのフレキシビリティーを有し、且つ反射
防止性を有する無機成分を多量に含有することができ、
さらに成膜した場合十分な強度が発揮される光学皮膜形
成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成
方法および光学皮膜を提供することを目的とする。
たものであり、バインダー樹脂成分と無機成分を分子レ
ベルで均一なものとすることを目的とし、しかもバイン
ダー樹脂としてのフレキシビリティーを有し、且つ反射
防止性を有する無機成分を多量に含有することができ、
さらに成膜した場合十分な強度が発揮される光学皮膜形
成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成
方法および光学皮膜を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明の光学皮膜形成コーティング用組成物
は、次の式(1)、
ために、本発明の光学皮膜形成コーティング用組成物
は、次の式(1)、
【0013】
【化9】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、あるいはそ
れらの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ1種ま
たは2種以上の単量体との共重合体を主成分とすること
を特徴とする。
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、あるいはそ
れらの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ1種ま
たは2種以上の単量体との共重合体を主成分とすること
を特徴とする。
【0014】また本発明の光学皮膜形成コーティング用
組成物は、前記式(1)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるいはそれ
らの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を
含有する1種または2種以上の単量体とを主成分とする
共重合体中に、少なくとも1種または2種以上の有機金
属化合物、その加水分解物および/またはその部分加水
分解物が縮合により組み込まれていることを特徴とす
る。
組成物は、前記式(1)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるいはそれ
らの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を
含有する1種または2種以上の単量体とを主成分とする
共重合体中に、少なくとも1種または2種以上の有機金
属化合物、その加水分解物および/またはその部分加水
分解物が縮合により組み込まれていることを特徴とす
る。
【0015】また本発明の光学皮膜形成コーティング用
組成物は、前記式(1)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるいはそれ
らの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を
含有する1種または2種以上の単量体とを主成分とする
共重合体中に、次の式(2)、
組成物は、前記式(1)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるいはそれ
らの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を
含有する1種または2種以上の単量体とを主成分とする
共重合体中に、次の式(2)、
【0016】
【化10】 (但し、式中Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
アリル基およびそれらの誘導体から選ばれた1種乃至4
種の置換基、mは0、1または2を示す。)で示され
る、少なくとも1種または2種以上の有機金属化合物、
その加水分解物および/またはその部分加水分解物が縮
合により組み込まれていることを特徴とする。
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
アリル基およびそれらの誘導体から選ばれた1種乃至4
種の置換基、mは0、1または2を示す。)で示され
る、少なくとも1種または2種以上の有機金属化合物、
その加水分解物および/またはその部分加水分解物が縮
合により組み込まれていることを特徴とする。
【0017】本発明の光学皮膜形成コーティング用組成
物の製造方法は、前記式(1)で示される加水分解可能
な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2
種以上の有機珪素化合物、その加水分解物および/また
はその部分加水分解物を、分子内に少なくとも1個以上
のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるい
はそれらの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官
能基を含有する1種または2種以上の単量体と共重合さ
せることを特徴とする。
物の製造方法は、前記式(1)で示される加水分解可能
な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2
種以上の有機珪素化合物、その加水分解物および/また
はその部分加水分解物を、分子内に少なくとも1個以上
のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるい
はそれらの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官
能基を含有する1種または2種以上の単量体と共重合さ
せることを特徴とする。
【0018】また本発明の光学皮膜形成コーティング用
組成物の製造方法は、前記式(1)で示される加水分解
可能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種また
は2種以上の有機珪素化合物、その加水分解物および/
またはその部分加水分解物を、分子内に少なくとも1個
以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あ
るいはそれらの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持
つ官能基を含有する1種または2種以上の単量体と共重
合させ、得られた共重合体に、少なくとも1種または2
種以上の有機金属化合物、その加水分解物および/また
はその部分加水分解物を添加することを特徴とする。
組成物の製造方法は、前記式(1)で示される加水分解
可能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種また
は2種以上の有機珪素化合物、その加水分解物および/
またはその部分加水分解物を、分子内に少なくとも1個
以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あ
るいはそれらの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持
つ官能基を含有する1種または2種以上の単量体と共重
合させ、得られた共重合体に、少なくとも1種または2
種以上の有機金属化合物、その加水分解物および/また
はその部分加水分解物を添加することを特徴とする。
【0019】また本発明の光学皮膜形成コーティング用
組成物の製造方法は、前記式(1)で示される加水分解
可能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種また
は2種以上の有機珪素化合物、その加水分解物および/
またはその部分加水分解物を、分子内に少なくとも1個
以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あ
るいはそれらの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持
つ官能基を含有する1種または2種以上の単量体と共重
合させ、得られた共重合体に、前記式(2)で示され
る、少なくとも1種または2種以上の有機金属化合物、
その加水分解物および/またはその部分加水分解物を添
加することを特徴とする。
組成物の製造方法は、前記式(1)で示される加水分解
可能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種また
は2種以上の有機珪素化合物、その加水分解物および/
またはその部分加水分解物を、分子内に少なくとも1個
以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あ
るいはそれらの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持
つ官能基を含有する1種または2種以上の単量体と共重
合させ、得られた共重合体に、前記式(2)で示され
る、少なくとも1種または2種以上の有機金属化合物、
その加水分解物および/またはその部分加水分解物を添
加することを特徴とする。
【0020】前記共重合の方法は、熱によるか、または
紫外線、電子線等の電離放射線照射により行われる。
紫外線、電子線等の電離放射線照射により行われる。
【0021】本発明の光学皮膜形成方法は、前記の光学
皮膜形成コーティング用組成物を基体に塗布し、最低造
膜温度以上の温度で乾燥することにより、コーティング
用組成物中に無機成分を成長させ且つ無機成分を樹脂に
共有結合により固定したことを特徴とする。
皮膜形成コーティング用組成物を基体に塗布し、最低造
膜温度以上の温度で乾燥することにより、コーティング
用組成物中に無機成分を成長させ且つ無機成分を樹脂に
共有結合により固定したことを特徴とする。
【0022】本発明の光学皮膜は、前記した光学皮膜形
成コーティング用組成物が基体に塗布されて形成された
光学皮膜であって、該光学皮膜中に成長した無機成分が
樹脂に共有結合していることを特徴とする。
成コーティング用組成物が基体に塗布されて形成された
光学皮膜であって、該光学皮膜中に成長した無機成分が
樹脂に共有結合していることを特徴とする。
【0023】上記構成とすることにより、本発明の光学
皮膜形成コーティング用組成物を使用して形成した光学
皮膜は、優れた強度を持ち、且つ反射防止効果を十分に
発揮する。以下に本発明をさらに詳細に説明する。
皮膜形成コーティング用組成物を使用して形成した光学
皮膜は、優れた強度を持ち、且つ反射防止効果を十分に
発揮する。以下に本発明をさらに詳細に説明する。
【0024】単量体:本発明で使用する単量体は特に限
定されないが、特に、本発明の組成物を反射防止膜層と
して使用する場合、アクリル誘導体やメタクリル誘導体
に代表される官能基を有するα、βエチレン性不飽和単
量体の単独あるいは共重合体からなる単量体が、透明性
が高く好ましく用いられる。
定されないが、特に、本発明の組成物を反射防止膜層と
して使用する場合、アクリル誘導体やメタクリル誘導体
に代表される官能基を有するα、βエチレン性不飽和単
量体の単独あるいは共重合体からなる単量体が、透明性
が高く好ましく用いられる。
【0025】単量体の官能基数は熱重合反応を行なう際
には通常単官能とし、紫外線や電子線等の電離放射線を
利用する場合は単官能もしくは多官能のものを使用す
る。
には通常単官能とし、紫外線や電子線等の電離放射線を
利用する場合は単官能もしくは多官能のものを使用す
る。
【0026】単量体の重合が熱重合反応の場合、官能基
を有するα、βエチレン性不飽和単量体として、アクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノエス
テル、フマル酸モノエステル等の不飽和カルボン酸、ま
たは不飽和多価カルボン酸誘導体類、アクリルアミド、
メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類、N−
メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリル
アミド等のN−メチルロール不飽和カルボン酸アミド
類、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレー
ト等の不飽和グリシジル化合物類、ヒドロキシエチルア
クリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒド
ロキシビニルエーテル等のアルキロール化不飽和化合物
類、フタル酸ジアリル、ジビニルベンゼンまたはジアリ
ル化合物を挙げることができ、これらの1種または2種
以上を用いることができる。
を有するα、βエチレン性不飽和単量体として、アクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノエス
テル、フマル酸モノエステル等の不飽和カルボン酸、ま
たは不飽和多価カルボン酸誘導体類、アクリルアミド、
メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類、N−
メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリル
アミド等のN−メチルロール不飽和カルボン酸アミド
類、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレー
ト等の不飽和グリシジル化合物類、ヒドロキシエチルア
クリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒド
ロキシビニルエーテル等のアルキロール化不飽和化合物
類、フタル酸ジアリル、ジビニルベンゼンまたはジアリ
ル化合物を挙げることができ、これらの1種または2種
以上を用いることができる。
【0027】本発明に使用する他の単量体としては、例
えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸
ラウリル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタク
リル酸イソブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、
メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、クロ
ルスチレン等を挙げることができる。
えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸
ラウリル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタク
リル酸イソブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、
メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、クロ
ルスチレン等を挙げることができる。
【0028】特に、上記の単量体の中ではメタクリル酸
エステル系単量体が透明性が優れている点で主として用
いられ、また、スチレン−アクリル系単量体でスチレン
量が多いものは造膜温度を下げ作業性が良好になるの
で、好適に用いられる。
エステル系単量体が透明性が優れている点で主として用
いられ、また、スチレン−アクリル系単量体でスチレン
量が多いものは造膜温度を下げ作業性が良好になるの
で、好適に用いられる。
【0029】また、必要に応じて上記単量体と共重合さ
せる単量体として、クロトン酸ソチル、クロトン酸エチ
ル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル等のアクリ
ル酸エステル類、メタクリル酸エステル類以外の不飽和
カルボン酸エステル類あるいは不飽和多価カルボン酸エ
ステル類、酢酸ビニル、2−プロピオン酸ビニル、ラウ
リル酸ビニル、ステアリン酸ビニル、およびビバリン酸
ビニル等のα−位で分岐した飽和カルボン酸のビニルエ
ステル等のビニルエステル類、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、エチレン等の1種または2種以上を用いることが
できる。
せる単量体として、クロトン酸ソチル、クロトン酸エチ
ル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル等のアクリ
ル酸エステル類、メタクリル酸エステル類以外の不飽和
カルボン酸エステル類あるいは不飽和多価カルボン酸エ
ステル類、酢酸ビニル、2−プロピオン酸ビニル、ラウ
リル酸ビニル、ステアリン酸ビニル、およびビバリン酸
ビニル等のα−位で分岐した飽和カルボン酸のビニルエ
ステル等のビニルエステル類、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、エチレン等の1種または2種以上を用いることが
できる。
【0030】単量体の重合が電離放射線照射の場合、そ
の電離放射線硬化型単官能単量体としては、2−エチル
ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルEO付加物
アクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアク
リレートのカプロラクトン付加物、2−フェノキシエチ
ルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアク
リレート、ノニルフェノールEO付加物アクリレート、
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、アクリロイ
ルモルホリン、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキ
シエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート等の
1種または2種以上を用いることができる。
の電離放射線硬化型単官能単量体としては、2−エチル
ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルEO付加物
アクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアク
リレートのカプロラクトン付加物、2−フェノキシエチ
ルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアク
リレート、ノニルフェノールEO付加物アクリレート、
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、アクリロイ
ルモルホリン、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキ
シエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート等の
1種または2種以上を用いることができる。
【0031】また単量体の重合が電離放射線照射の場
合、その電離放射線硬化型多官能性単量体としては、ヘ
キサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒド
ロキシビバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールのグリシジルエ
ーテルのアクリル酸付加物、2,2−ビス〔4−(アク
リロイロキシジエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2
−ビス〔4−(アクリロイロキシジエトキシ)フェニル
メタン、トリシクロデカンジメタノールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパンアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパン
プロピレンオキサイド付加物トリアクリレート、グリセ
リンプロピレンオキサイド付加物トリアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレートのペンタアク
リレート付加物、ジペンタエリスリトールの低級脂肪酸
およびアクリル酸のエステル、ジペンタエリスリトール
のカプロラクトン付加物アクリレート、トリス(アクリ
ロイロキシエチル)イソシアヌレート、2−アクリロイ
ロキシエチルフォスフェート等の1種または2種以上を
用いることができる。
合、その電離放射線硬化型多官能性単量体としては、ヘ
キサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒド
ロキシビバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールのグリシジルエ
ーテルのアクリル酸付加物、2,2−ビス〔4−(アク
リロイロキシジエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2
−ビス〔4−(アクリロイロキシジエトキシ)フェニル
メタン、トリシクロデカンジメタノールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパンアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパン
プロピレンオキサイド付加物トリアクリレート、グリセ
リンプロピレンオキサイド付加物トリアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレートのペンタアク
リレート付加物、ジペンタエリスリトールの低級脂肪酸
およびアクリル酸のエステル、ジペンタエリスリトール
のカプロラクトン付加物アクリレート、トリス(アクリ
ロイロキシエチル)イソシアヌレート、2−アクリロイ
ロキシエチルフォスフェート等の1種または2種以上を
用いることができる。
【0032】有機珪素化合物、その加水分解物および/
またはその部分加水分解物:本発明で使用される「加水
分解可能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ有機珪
素化合物、その加水分解物および/またはその部分加水
分解物」(有機珪素化合物群と略す。)は、前記式
(1)に表される化合物である。そのような化合物に
は、ゾル−ゲル法による無機ガラスやセラミックスの前
駆体として知られる珪素アルコキシド誘導体や珪素アセ
チルアセトネート誘導体、珪素カルボキシレート誘導体
等の有機珪素化合物、あるいはそれら各々の有機珪素化
合物の加水分解物、部分加水分解物が挙げられる。
またはその部分加水分解物:本発明で使用される「加水
分解可能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ有機珪
素化合物、その加水分解物および/またはその部分加水
分解物」(有機珪素化合物群と略す。)は、前記式
(1)に表される化合物である。そのような化合物に
は、ゾル−ゲル法による無機ガラスやセラミックスの前
駆体として知られる珪素アルコキシド誘導体や珪素アセ
チルアセトネート誘導体、珪素カルボキシレート誘導体
等の有機珪素化合物、あるいはそれら各々の有機珪素化
合物の加水分解物、部分加水分解物が挙げられる。
【0033】有機珪素化合物は、前記式(1)で示され
る化合物であり、その式(1)中Xn は重合可能な官能
基であるので、主として単量体との結合に関与する。ま
た、前記式(1)で示される化合物が加水分解されるこ
とによって、縮合反応が進み無機成分の成長が行われる
が、その成長が3次元的に行われるので、そのような無
機成分の成長の調整には例えば、加水分解の程度を調整
することによって行なうことができる。
る化合物であり、その式(1)中Xn は重合可能な官能
基であるので、主として単量体との結合に関与する。ま
た、前記式(1)で示される化合物が加水分解されるこ
とによって、縮合反応が進み無機成分の成長が行われる
が、その成長が3次元的に行われるので、そのような無
機成分の成長の調整には例えば、加水分解の程度を調整
することによって行なうことができる。
【0034】上記の有機珪素化合物群には、シランカッ
プリング剤、チタネートカップリング剤等、市販されて
いる有機珪素化合物誘導体が使用できる。例えば、トリ
メトキシビニルシラン、ジエトキシジビニルシラン、ト
リエトキシビニルシラン、アリルトリエトキシシラン、
3−アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、3−メ
タクリロキシプロピルヂメトキシシラン、3−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、トリス(1−メチ
ルビニロキシ)ビニルシラン、トリイソプロキシビニル
シラン、トリフェノキシビキルシラン、ビニルトリス
(βメトキシエトキシ)シラン等が挙げられるが、本発
明はこれに限るものではない。
プリング剤、チタネートカップリング剤等、市販されて
いる有機珪素化合物誘導体が使用できる。例えば、トリ
メトキシビニルシラン、ジエトキシジビニルシラン、ト
リエトキシビニルシラン、アリルトリエトキシシラン、
3−アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、3−メ
タクリロキシプロピルヂメトキシシラン、3−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、トリス(1−メチ
ルビニロキシ)ビニルシラン、トリイソプロキシビニル
シラン、トリフェノキシビキルシラン、ビニルトリス
(βメトキシエトキシ)シラン等が挙げられるが、本発
明はこれに限るものではない。
【0035】特に、アルコキシ基のような加水分解可能
な官能基とアクリロイル基のような重合可能な官能基と
を合わせ持った有機珪素化合物は、容易に入手できるの
で本発明の実現の上で好ましい材料といえる。
な官能基とアクリロイル基のような重合可能な官能基と
を合わせ持った有機珪素化合物は、容易に入手できるの
で本発明の実現の上で好ましい材料といえる。
【0036】このような有機珪素化合物を用いて縮合に
より無機成分、即ち金属(Si)−酸素(O)−金属
(Si)を持つ網目状ゲルの無機珪素化合物を形成させ
る利点は次の点が挙げられる。すなわち、従来のゾル−
ゲル法は、珪素アルコキシドや有機酸塩を加水分解し、
次いで、特に固相状態での拡散や高温状態による重縮合
反応によって金属−酸素−金属の結合を持つゲル網目を
形成させているのに対して、本発明は有機珪素化合物を
加水分解し、次いで室温付近で縮合が可能で、且つ溶液
状態での縮合反応により無機成分を成長させている(こ
のような反応もゾルーゲル反応に含まれる)ので、反応
環境が容易に設定でき、その条件が穏やかであるという
特徴を有する。したがって、このような無機成分の成長
法は耐熱性の低いプラスチックフィルム上でも実現でき
るという利点がある。
より無機成分、即ち金属(Si)−酸素(O)−金属
(Si)を持つ網目状ゲルの無機珪素化合物を形成させ
る利点は次の点が挙げられる。すなわち、従来のゾル−
ゲル法は、珪素アルコキシドや有機酸塩を加水分解し、
次いで、特に固相状態での拡散や高温状態による重縮合
反応によって金属−酸素−金属の結合を持つゲル網目を
形成させているのに対して、本発明は有機珪素化合物を
加水分解し、次いで室温付近で縮合が可能で、且つ溶液
状態での縮合反応により無機成分を成長させている(こ
のような反応もゾルーゲル反応に含まれる)ので、反応
環境が容易に設定でき、その条件が穏やかであるという
特徴を有する。したがって、このような無機成分の成長
法は耐熱性の低いプラスチックフィルム上でも実現でき
るという利点がある。
【0037】有機金属化合物、その加水分解物および/
またはその部分加水分解物:本発明で使用される有機金
属化合物、その加水分解物および/またはその部分加水
分解物(有機金属化合物群と略す。)は、代表的には前
記式(2)に表される化合物である。そのような化合物
には、ゾル−ゲル法による金属ガラスやセラミックスの
前駆体として知られる金属アルコキシド誘導体や金属ア
セチルアセトネート誘導体、金属カルボキシレート誘導
体等の有機金属化合物、あるいはそれら各々の有機金属
化合物の加水分解物、部分加水分解物が挙げられる。
またはその部分加水分解物:本発明で使用される有機金
属化合物、その加水分解物および/またはその部分加水
分解物(有機金属化合物群と略す。)は、代表的には前
記式(2)に表される化合物である。そのような化合物
には、ゾル−ゲル法による金属ガラスやセラミックスの
前駆体として知られる金属アルコキシド誘導体や金属ア
セチルアセトネート誘導体、金属カルボキシレート誘導
体等の有機金属化合物、あるいはそれら各々の有機金属
化合物の加水分解物、部分加水分解物が挙げられる。
【0038】金属アルコキシドに代表される有機金属化
合物の加水分解、縮合反応を利用したゾル−ゲル法は、
低温での金属酸化物合成反応であり、無機成分の成長反
応に特に好適に利用される。
合物の加水分解、縮合反応を利用したゾル−ゲル法は、
低温での金属酸化物合成反応であり、無機成分の成長反
応に特に好適に利用される。
【0039】前記式(2)で表される有機金属化合物に
おいて、Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アルケニ
ル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル基、お
よびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する有機基
から選ばれた1種または2種の有機基であるので、前記
式(2)で示される有機金属化合物を、前記式(1)で
示される有機珪素化合物と一緒に用いることにより、例
えば、加水分解、縮合反応による無機物の3次元的な成
長を抑制して、リニアな無機物を成長させたり、また、
光学皮膜形成コーティング用組成物を基板に塗布した場
合に基板との密着性を上げるようにさせることもでき
る。
おいて、Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アルケニ
ル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル基、お
よびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する有機基
から選ばれた1種または2種の有機基であるので、前記
式(2)で示される有機金属化合物を、前記式(1)で
示される有機珪素化合物と一緒に用いることにより、例
えば、加水分解、縮合反応による無機物の3次元的な成
長を抑制して、リニアな無機物を成長させたり、また、
光学皮膜形成コーティング用組成物を基板に塗布した場
合に基板との密着性を上げるようにさせることもでき
る。
【0040】前記式(2)の有機金属化合物を併用して
光学皮膜形成コーティング用組成物を調製することによ
り、このコーティング用組成物を用いて形成した光学皮
膜は、前記式(1)のみを使用した場合に比べて、柔ら
かいものとすることができ、したがって、無機成分を多
く含ませることができ、無機成分の添加により屈折率の
調整が容易な皮膜の実現が可能となる。
光学皮膜形成コーティング用組成物を調製することによ
り、このコーティング用組成物を用いて形成した光学皮
膜は、前記式(1)のみを使用した場合に比べて、柔ら
かいものとすることができ、したがって、無機成分を多
く含ませることができ、無機成分の添加により屈折率の
調整が容易な皮膜の実現が可能となる。
【0041】本発明で使用される有機金属化合物には、
ほとんど全ての金属酸化物が包含され、例えば、シリカ
(珪素)、チタン、アルミニウム、亜鉛、ジルコニウ
ム、アンチモン、錫等のアルコキシドが比較的安価で容
易に入手でき、また反応の調整が容易であることから好
ましく使用される。
ほとんど全ての金属酸化物が包含され、例えば、シリカ
(珪素)、チタン、アルミニウム、亜鉛、ジルコニウ
ム、アンチモン、錫等のアルコキシドが比較的安価で容
易に入手でき、また反応の調整が容易であることから好
ましく使用される。
【0042】また本発明で使用される有機金属化合物に
おいて金属を、例えば珪素に限定した場合、次のような
有機金属化合物が挙げられる。すなわち、テトラメトキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメト
キシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニル
ジメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イ
ソブチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラ
ン等のアルコキシシラン類、メチルトリクロロシラン、
メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリ
メチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフ
ェニルジクロロシラン等のクロロシラン類、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等のエ
ポキシシラン類、N−β(アミノエチル)γ−アミノプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルト
リエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン等のアミノシラン類、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルト
リメトキシシラン等が使用される。
おいて金属を、例えば珪素に限定した場合、次のような
有機金属化合物が挙げられる。すなわち、テトラメトキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメト
キシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニル
ジメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イ
ソブチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラ
ン等のアルコキシシラン類、メチルトリクロロシラン、
メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリ
メチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフ
ェニルジクロロシラン等のクロロシラン類、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等のエ
ポキシシラン類、N−β(アミノエチル)γ−アミノプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルト
リエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン等のアミノシラン類、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルト
リメトキシシラン等が使用される。
【0043】共重合方法:前記有機珪素化合物群と、前
記単量体とを共重合するには、まず、両成分を混合しな
ければならないが、本発明においては、分子レベルでの
均一性を達成するために、両成分を単量体の状態で混合
することを特徴としている。したがって、末端に無機重
合反応にあずかる官能基を持つ有機高分子を無機の重合
反応に共存させる方法はあまり好ましくはない。
記単量体とを共重合するには、まず、両成分を混合しな
ければならないが、本発明においては、分子レベルでの
均一性を達成するために、両成分を単量体の状態で混合
することを特徴としている。したがって、末端に無機重
合反応にあずかる官能基を持つ有機高分子を無機の重合
反応に共存させる方法はあまり好ましくはない。
【0044】有機珪素化合物群と単量体との共重合は、
重合開始剤を用い、熱重合や、紫外線、電子線等の電離
放射線により行なうことができる。この時、有機珪素化
合物群の添加モル数は、単量体の全量に対して1%未満
であると十分な反射防止効果をもたらすことができず、
逆に80%を越えると機械的な強度に劣るという欠点が
ある。したがって、有機珪素化合物群のモル数が、前記
単量体の全量のモル数に対して1〜80%、特に20〜
60%であることが望ましい。
重合開始剤を用い、熱重合や、紫外線、電子線等の電離
放射線により行なうことができる。この時、有機珪素化
合物群の添加モル数は、単量体の全量に対して1%未満
であると十分な反射防止効果をもたらすことができず、
逆に80%を越えると機械的な強度に劣るという欠点が
ある。したがって、有機珪素化合物群のモル数が、前記
単量体の全量のモル数に対して1〜80%、特に20〜
60%であることが望ましい。
【0045】有機珪素化合物群、および/または有機金
属化合物群の加水分解反応は、有機珪素化合物群と単量
体との共重合体製造の前後どちらであっても構わない
が、有機珪素化合物の反応性が大きい場合、また、単量
体の重合可能な官能基が多数存在する場合、単量体との
間で3次元編目構造を形成し、溶剤に一部、あるいは全
てが不溶の重合体となることがあるため、その際には加
水分解反応を共重合反応の先に済ませておく必要があ
る。この加水分解反応により共重合体同士を適度に架橋
するため、塗膜の強度が向上する。
属化合物群の加水分解反応は、有機珪素化合物群と単量
体との共重合体製造の前後どちらであっても構わない
が、有機珪素化合物の反応性が大きい場合、また、単量
体の重合可能な官能基が多数存在する場合、単量体との
間で3次元編目構造を形成し、溶剤に一部、あるいは全
てが不溶の重合体となることがあるため、その際には加
水分解反応を共重合反応の先に済ませておく必要があ
る。この加水分解反応により共重合体同士を適度に架橋
するため、塗膜の強度が向上する。
【0046】有機珪素化合物の加水分解:有機珪素化合
物および/または有機金属化合物の加水分解反応は、反
応系内に水を添加することにより起こる。その水の使用
量は有機珪素化合物または金属化合物1モルに対して2
〜10モル程度が好ましく、適宜調整する必要がある。
水の使用量が2モル未満の場合、加水分解反応が充分に
進まず本発明の効果が発現されない恐れがある。また、
水の使用量が10モルを越える場合、形成された皮膜の
透明性が損なわれる恐れがある。なお、加水分解反応を
促進するために、酸やアルカリ触媒を添加することも可
能である。
物および/または有機金属化合物の加水分解反応は、反
応系内に水を添加することにより起こる。その水の使用
量は有機珪素化合物または金属化合物1モルに対して2
〜10モル程度が好ましく、適宜調整する必要がある。
水の使用量が2モル未満の場合、加水分解反応が充分に
進まず本発明の効果が発現されない恐れがある。また、
水の使用量が10モルを越える場合、形成された皮膜の
透明性が損なわれる恐れがある。なお、加水分解反応を
促進するために、酸やアルカリ触媒を添加することも可
能である。
【0047】有機珪素化合物および/または有機金属化
合物の加水分解反応は、水のみの反応系では室温〜80
℃、特に50℃〜80℃の温度範囲で行なうことが好ま
しい。室温未満の温度で加水分解を行なうと、皮膜の光
学特性に関与する無機成分が得られない恐れがある。一
方、80℃を越える温度で加水分解を行なうと、有機珪
素化合物および/または有機金属化合物の急激なゲル化
が生じて無機成分の不均一分布が起こり好ましくない。
また、触媒を添加する場合は、反応速度を調節するため
に10℃〜50℃の温度範囲で加水分解を行なうことが
好ましい。
合物の加水分解反応は、水のみの反応系では室温〜80
℃、特に50℃〜80℃の温度範囲で行なうことが好ま
しい。室温未満の温度で加水分解を行なうと、皮膜の光
学特性に関与する無機成分が得られない恐れがある。一
方、80℃を越える温度で加水分解を行なうと、有機珪
素化合物および/または有機金属化合物の急激なゲル化
が生じて無機成分の不均一分布が起こり好ましくない。
また、触媒を添加する場合は、反応速度を調節するため
に10℃〜50℃の温度範囲で加水分解を行なうことが
好ましい。
【0048】また、加水分解時間は、水のみの反応系で
は5時間以上、触媒を添加した反応系では1時間以上が
好ましい。なお、加水分解を均一に速やかに進行させる
ために、加水分解を撹拌下で行なうことが好ましい。さ
らに、反応終了後も反応液をそのまま20時間以上保
ち、熟成により反応を完結させ、得られた光学皮膜形成
コーティング用組成物を用いて皮膜を形成すると、形成
された皮膜は機械的強度が向上するので好ましい。
は5時間以上、触媒を添加した反応系では1時間以上が
好ましい。なお、加水分解を均一に速やかに進行させる
ために、加水分解を撹拌下で行なうことが好ましい。さ
らに、反応終了後も反応液をそのまま20時間以上保
ち、熟成により反応を完結させ、得られた光学皮膜形成
コーティング用組成物を用いて皮膜を形成すると、形成
された皮膜は機械的強度が向上するので好ましい。
【0049】皮膜形成:本発明の光学皮膜形成コーティ
ング用組成物は、基材表面へ塗布し、最低造膜温度以上
の温度で乾燥することにより、反射防止などの特性に優
れた光学皮膜を形成することができる。その光学皮膜コ
ーティング用組成物が適用される基材は特に限定されな
い。その塗布方法は特に限定されないが、バーコート
法、ロールコート法、スプレーコート法、浸漬塗布法、
スピンコート法、カーテンフロー法、流延塗布法等の種
々の塗布法が適用できる。その塗布後の乾燥は、温風乾
燥、加熱乾燥等、いずれの方法を用いてもよい。
ング用組成物は、基材表面へ塗布し、最低造膜温度以上
の温度で乾燥することにより、反射防止などの特性に優
れた光学皮膜を形成することができる。その光学皮膜コ
ーティング用組成物が適用される基材は特に限定されな
い。その塗布方法は特に限定されないが、バーコート
法、ロールコート法、スプレーコート法、浸漬塗布法、
スピンコート法、カーテンフロー法、流延塗布法等の種
々の塗布法が適用できる。その塗布後の乾燥は、温風乾
燥、加熱乾燥等、いずれの方法を用いてもよい。
【0050】このような皮膜形成法により、光学皮膜は
溶剤の蒸発と、蒸発に伴う縮合反応により形成される。
その塗膜面の美観や膜強度を均一にするために、造膜助
剤等を添加することにより、粒子同士の融着や結着を起
こしやすい状態に調節してもよい。そのような造膜助剤
には、例えば、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオー
ルモノイソブチレート等が使用できる。
溶剤の蒸発と、蒸発に伴う縮合反応により形成される。
その塗膜面の美観や膜強度を均一にするために、造膜助
剤等を添加することにより、粒子同士の融着や結着を起
こしやすい状態に調節してもよい。そのような造膜助剤
には、例えば、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオー
ルモノイソブチレート等が使用できる。
【0051】本発明の光学皮膜の厚さは、その皮膜の使
用目的により適宜設定することができ、特に限定される
ものではない。例えば、光学皮膜による基体表面の保護
膜や反射防止膜の高屈折率層を形成する場合は、比較的
厚い皮膜が必要であり、0.1μm〜0.5mm程度の
厚さとすることができる。また、反射防止膜層の最表層
の低屈折率層等の形成の場合、比較的薄い皮膜が好まし
く、例えば0.01〜0.05μm程度とすることがで
きる。
用目的により適宜設定することができ、特に限定される
ものではない。例えば、光学皮膜による基体表面の保護
膜や反射防止膜の高屈折率層を形成する場合は、比較的
厚い皮膜が必要であり、0.1μm〜0.5mm程度の
厚さとすることができる。また、反射防止膜層の最表層
の低屈折率層等の形成の場合、比較的薄い皮膜が好まし
く、例えば0.01〜0.05μm程度とすることがで
きる。
【0052】本発明の光学皮膜形成方法は、その乾燥の
前後で体積の収縮を伴う縮合反応系を利用しているの
で、特に厚い皮膜をコーティングする際には体積変化を
最小限に抑えるために加水分解性官能基数の平均を2.
5程度に抑えることが必要である。すなわち一分子中に
加水分解性官能基を3個持つものを全体の60%未満に
抑え、残りの部分について加水分解性官能基を1あるい
は2個のものにすることが均一な皮膜面形成と皮膜に適
度な架橋剤を施す上で好ましい。比較的薄い皮膜の場
合、体積の収縮はほとんど影響しなくなるが、加水分解
性官能基数の平均を2.8程度に抑えるほうがより好ま
しい。
前後で体積の収縮を伴う縮合反応系を利用しているの
で、特に厚い皮膜をコーティングする際には体積変化を
最小限に抑えるために加水分解性官能基数の平均を2.
5程度に抑えることが必要である。すなわち一分子中に
加水分解性官能基を3個持つものを全体の60%未満に
抑え、残りの部分について加水分解性官能基を1あるい
は2個のものにすることが均一な皮膜面形成と皮膜に適
度な架橋剤を施す上で好ましい。比較的薄い皮膜の場
合、体積の収縮はほとんど影響しなくなるが、加水分解
性官能基数の平均を2.8程度に抑えるほうがより好ま
しい。
【0053】加水分解に関与しない他の官能基として
は、基材への密着性、染色性、撥水性、帯電防止性等、
本発明の付加機能として最もふさわしいと判断される機
能を有する官能基(エポキシ基、グリシジル基、アミド
基、メルカプト基等)を選択することが好ましい。特
に、反射防止膜としては前記官能基の他にフェニル基な
どの立体障害の大きな官能基を使用することにより皮膜
に微細な空隙を形成することができ、皮膜の屈折率の低
下効果をもたらす可能性があり好ましい。
は、基材への密着性、染色性、撥水性、帯電防止性等、
本発明の付加機能として最もふさわしいと判断される機
能を有する官能基(エポキシ基、グリシジル基、アミド
基、メルカプト基等)を選択することが好ましい。特
に、反射防止膜としては前記官能基の他にフェニル基な
どの立体障害の大きな官能基を使用することにより皮膜
に微細な空隙を形成することができ、皮膜の屈折率の低
下効果をもたらす可能性があり好ましい。
【0054】なお、本発明の光学皮膜形成コーティング
用組成物には、その光学的特性を損なわない範囲で架橋
剤、着色材、紫外線吸収材、造粘材、防腐剤等を添加す
ることができる。
用組成物には、その光学的特性を損なわない範囲で架橋
剤、着色材、紫外線吸収材、造粘材、防腐剤等を添加す
ることができる。
【0055】
【作用】本発明の光学皮膜形成コーティング用組成物
は、上記のように、金属アルコキシド基のような加水分
解可能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ1種また
は2種以上の有機珪素化合物群と、一分子中にビニル
基、アクリロイル基等の重合可能な官能基を持つ1種ま
たは2種以上の単量体を共重合させており、その共重合
の前後、あるいは共重合と並行して、有機硅素化合物お
よび/または有機金属化合物の加水分解を行なったもの
である。
は、上記のように、金属アルコキシド基のような加水分
解可能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ1種また
は2種以上の有機珪素化合物群と、一分子中にビニル
基、アクリロイル基等の重合可能な官能基を持つ1種ま
たは2種以上の単量体を共重合させており、その共重合
の前後、あるいは共重合と並行して、有機硅素化合物お
よび/または有機金属化合物の加水分解を行なったもの
である。
【0056】このような反応により得られた光学皮膜形
成コーティング用組成物は、有機硅素化合物群と単量体
との共重合体を主骨格とし、有機硅素化合物および/ま
たは有機金属化合物の加水分解、縮合反応により成長し
て生成した無機成分が有機成分の分子中に共有結合によ
り固定されている。
成コーティング用組成物は、有機硅素化合物群と単量体
との共重合体を主骨格とし、有機硅素化合物および/ま
たは有機金属化合物の加水分解、縮合反応により成長し
て生成した無機成分が有機成分の分子中に共有結合によ
り固定されている。
【0057】したがって、この光学皮膜形成コーティン
グ用組成物は、無機成分と有機成分が分子レベルで均一
に分布したものとなり、無機成分と有機成分間の界面が
及ぼす影響を最小限に抑えることができ、無機成分を有
機成分中に多量に含有させることができ、しかも、有機
バインダー樹脂に由来するフレキシビリティーを有して
いる。このように、無機成分を多量に含有することがで
きるので、屈折率の調整が容易である。
グ用組成物は、無機成分と有機成分が分子レベルで均一
に分布したものとなり、無機成分と有機成分間の界面が
及ぼす影響を最小限に抑えることができ、無機成分を有
機成分中に多量に含有させることができ、しかも、有機
バインダー樹脂に由来するフレキシビリティーを有して
いる。このように、無機成分を多量に含有することがで
きるので、屈折率の調整が容易である。
【0058】本発明の光学皮膜形成コーティング用組成
物を基材に塗布、乾燥することにより得られる皮膜は無
機成分と有機成分とが分子レベルで均一に分布している
ので、機械的な強度の低下が見られず、かつ光学的な特
性の優れた皮膜となる。
物を基材に塗布、乾燥することにより得られる皮膜は無
機成分と有機成分とが分子レベルで均一に分布している
ので、機械的な強度の低下が見られず、かつ光学的な特
性の優れた皮膜となる。
【0059】
〔実施例1〕有機硅素化合物としてビニルトリエトキシ
シランと、重合性単量体としてメタクリル酸メチルを、
モル比で1:9、3:7、5:5の3種類に調製(5:
5の場合、ビニルトリエトキシシラン5重量部、メタク
リル酸メチル10重量部)し、溶剤としてエチレングリ
コールモノエチルエーテルを30重量部、重合開始剤と
して2,2′−アゾビスイソブチロニトリルを0.3重
量部を混合して、窒素雰囲気下で80℃で4時間反応さ
せ、その後100℃で30分間共重合反応を行なった。
得られた3種類の共重合体のそれぞれの分子量は3,0
00程度であり、ほぼ組成比通りの共重合体が得られ
た。
シランと、重合性単量体としてメタクリル酸メチルを、
モル比で1:9、3:7、5:5の3種類に調製(5:
5の場合、ビニルトリエトキシシラン5重量部、メタク
リル酸メチル10重量部)し、溶剤としてエチレングリ
コールモノエチルエーテルを30重量部、重合開始剤と
して2,2′−アゾビスイソブチロニトリルを0.3重
量部を混合して、窒素雰囲気下で80℃で4時間反応さ
せ、その後100℃で30分間共重合反応を行なった。
得られた3種類の共重合体のそれぞれの分子量は3,0
00程度であり、ほぼ組成比通りの共重合体が得られ
た。
【0060】これらの共重合体のテトラヒドロフラン2
0重量%溶液40重量部に、それぞれ水0.05重量
部、1N塩酸0.01重量部を添加し、70℃で3時間
加水分解反応を行なった。反応終了後、20時間以上熟
成して、3種類のコーティング用組成物を得た。
0重量%溶液40重量部に、それぞれ水0.05重量
部、1N塩酸0.01重量部を添加し、70℃で3時間
加水分解反応を行なった。反応終了後、20時間以上熟
成して、3種類のコーティング用組成物を得た。
【0061】その後、上記のコーティング用組成物をポ
リエチレンテレフタレート(PET)フィルム上にワイ
ヤバーで塗布(乾燥後の塗布量=0.03g/m2 )
し、90℃で1時間乾燥して、本実施例1のコーティン
グ皮膜を形成した。
リエチレンテレフタレート(PET)フィルム上にワイ
ヤバーで塗布(乾燥後の塗布量=0.03g/m2 )
し、90℃で1時間乾燥して、本実施例1のコーティン
グ皮膜を形成した。
【0062】また、得られたコーティング皮膜の反射防
止膜としての特性を確認するために550nm付近の可
視光透過率を下記の表1に示す。
止膜としての特性を確認するために550nm付近の可
視光透過率を下記の表1に示す。
【0063】〔比較例1〕ビニルトリエトキシシランを
用いなかった以外は、前記実施例1と同様にしてメタク
リル酸メチル単独重合体を合成して比較例1のコーティ
ング用組成物を調製した。このコーティング用組成物を
前記実施例1と同様にしてコーティング皮膜を形成し
た。得られたコーティング被膜の反射防止膜としての特
性を確認するために550nm付近の可視光透過率を下
記の表1に合わせて示す。
用いなかった以外は、前記実施例1と同様にしてメタク
リル酸メチル単独重合体を合成して比較例1のコーティ
ング用組成物を調製した。このコーティング用組成物を
前記実施例1と同様にしてコーティング皮膜を形成し
た。得られたコーティング被膜の反射防止膜としての特
性を確認するために550nm付近の可視光透過率を下
記の表1に合わせて示す。
【0064】
【表1】 上記表1によれば、得られた共重合体のうちビニルトリ
エトキシシランの配合量を増やすほど光透過率の上昇が
見られる。また、この範囲内では皮膜強度もビニルトリ
エトキシシランの配合量を増やすほど向上していた。
エトキシシランの配合量を増やすほど光透過率の上昇が
見られる。また、この範囲内では皮膜強度もビニルトリ
エトキシシランの配合量を増やすほど向上していた。
【0065】〔比較例2〕分子量3,000のポリメタ
クリル酸メチル10重量部をエチレングリコールモノエ
チルエーテル30重量部に溶解し、ビニルトリエトキシ
シラン5重量部を加え、前記実施例1と同様の手法によ
り重合を行なった。得られた重合体を前記実施例1の手
法で加水分解して、比較例2のコーティング用組成物を
調製した。得られたコーティング用組成物を前記実施例
1と同様の手法でPET基材上に塗布し、乾燥してコー
ティング皮膜を形成した。このコーティング皮膜を観察
したところ膜全体に白濁が見られた。
クリル酸メチル10重量部をエチレングリコールモノエ
チルエーテル30重量部に溶解し、ビニルトリエトキシ
シラン5重量部を加え、前記実施例1と同様の手法によ
り重合を行なった。得られた重合体を前記実施例1の手
法で加水分解して、比較例2のコーティング用組成物を
調製した。得られたコーティング用組成物を前記実施例
1と同様の手法でPET基材上に塗布し、乾燥してコー
ティング皮膜を形成した。このコーティング皮膜を観察
したところ膜全体に白濁が見られた。
【0066】〔実施例2〕有機珪素化合物としてγ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン5重量部をテ
トラヒドロフラン20重量部中に投入し、さらに水0.
6重量部、1N塩酸0.2重量部を添加して、70℃で
3時間、加水分解反応を行なった。反応終了後、20時
間熟成し、加水分解を完全に進行させた。
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン5重量部をテ
トラヒドロフラン20重量部中に投入し、さらに水0.
6重量部、1N塩酸0.2重量部を添加して、70℃で
3時間、加水分解反応を行なった。反応終了後、20時
間熟成し、加水分解を完全に進行させた。
【0067】引続き、上記反応系へ多官能アクリレート
のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート7重量部
を添加し、前記実施例1と同様な手法でワイヤバーでP
ETフィルムに塗布し、溶剤を乾燥後、電子線により硬
化させた。得られた被膜の550nm付近での透過率は
92%であった。
のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート7重量部
を添加し、前記実施例1と同様な手法でワイヤバーでP
ETフィルムに塗布し、溶剤を乾燥後、電子線により硬
化させた。得られた被膜の550nm付近での透過率は
92%であった。
【0068】〔実施例3〕有機硅素化合物としてビニル
トリエトキシシランと、重合性単量体としてメタクリル
酸メチルを、モル比で1:9、3:7、5:5の3種類
に調製(5:5の場合、ビニルトリエトキシシラン5重
量部、メタクリル酸メチル10重量部)して、溶剤とし
てエチレングリコールモノエチルエーテル30重量部、
重合開始剤として2,2′−アゾビスイソブチロニトリ
ルを0.3重量部混合して、窒素雰囲気下で80℃で4
時間反応させ、その後100℃で30分間共重合反応を
行なった。得られた3種類の共重合体のそれぞれの分子
量は3,000程度であり、ほぼ組成比通りの共重合体
が得られた。
トリエトキシシランと、重合性単量体としてメタクリル
酸メチルを、モル比で1:9、3:7、5:5の3種類
に調製(5:5の場合、ビニルトリエトキシシラン5重
量部、メタクリル酸メチル10重量部)して、溶剤とし
てエチレングリコールモノエチルエーテル30重量部、
重合開始剤として2,2′−アゾビスイソブチロニトリ
ルを0.3重量部混合して、窒素雰囲気下で80℃で4
時間反応させ、その後100℃で30分間共重合反応を
行なった。得られた3種類の共重合体のそれぞれの分子
量は3,000程度であり、ほぼ組成比通りの共重合体
が得られた。
【0069】この共重合体のテトラヒドロフラン20重
量%溶液40重量部に、それぞれテトラエトキシシラン
10重量部、水1.2重量部、1N塩酸0.5重量部を
添加し、70℃で3時間加水分解反応を行なった。反応
終了後、20時間以上熟成して、3種類のコーティング
用組成物を得た。
量%溶液40重量部に、それぞれテトラエトキシシラン
10重量部、水1.2重量部、1N塩酸0.5重量部を
添加し、70℃で3時間加水分解反応を行なった。反応
終了後、20時間以上熟成して、3種類のコーティング
用組成物を得た。
【0070】その後、上記のコーティング用組成物をポ
リエチレンテレフタレート(PET)フィルム上にワイ
ヤバーで塗布(乾燥後の塗布量=0.03g/m2 )
し、90℃で1時間乾燥して、本実施例3のコーティン
グ皮膜を形成した。
リエチレンテレフタレート(PET)フィルム上にワイ
ヤバーで塗布(乾燥後の塗布量=0.03g/m2 )
し、90℃で1時間乾燥して、本実施例3のコーティン
グ皮膜を形成した。
【0071】また、得られたコーティング皮膜の反射防
止膜としての特性を確認するために550nm付近の可
視光透過率を下記の表2に示す。
止膜としての特性を確認するために550nm付近の可
視光透過率を下記の表2に示す。
【0072】
【表2】 上記表2によれば、得られた共重合体のうちビニルトリ
エトキシシランの配合量を増やすほど光透過率の上昇が
見られた。また、この範囲内では皮膜強度もビニルトリ
エトキシシラン配合量を増やすほど向上していた。
エトキシシランの配合量を増やすほど光透過率の上昇が
見られた。また、この範囲内では皮膜強度もビニルトリ
エトキシシラン配合量を増やすほど向上していた。
【0073】〔比較例3〕ビニルトリエトキシシランを
用いなかった以外は、前記実施例3と同様にしてメタク
リル酸メチル単独重合体を合成した。その後、前記実施
例3と同様の手法によりテトラエトキシシランを添加し
た系において加水分解反応を進行させた。反応終了後、
20時間以上熟成させ、前記実施例3と同様の手法によ
りPET基材に塗布し、乾燥させて比較例3のコーティ
ング皮膜を得た。得られたコーティング皮膜は、部分的
に無機成分の凝集によると思われる白濁が見られ、また
膜強度も指で擦った程度で剥がれ落ちた。
用いなかった以外は、前記実施例3と同様にしてメタク
リル酸メチル単独重合体を合成した。その後、前記実施
例3と同様の手法によりテトラエトキシシランを添加し
た系において加水分解反応を進行させた。反応終了後、
20時間以上熟成させ、前記実施例3と同様の手法によ
りPET基材に塗布し、乾燥させて比較例3のコーティ
ング皮膜を得た。得られたコーティング皮膜は、部分的
に無機成分の凝集によると思われる白濁が見られ、また
膜強度も指で擦った程度で剥がれ落ちた。
【0074】〔比較例4〕分子量3,000のポリメタ
クリル酸メチル10重量部をエチレングリコールモノエ
チルエーテル30重量部に溶解し、ビニルトリエトキシ
シラン5重量部を加え、前記実施例3と同様の手法によ
り重合を行なった。
クリル酸メチル10重量部をエチレングリコールモノエ
チルエーテル30重量部に溶解し、ビニルトリエトキシ
シラン5重量部を加え、前記実施例3と同様の手法によ
り重合を行なった。
【0075】得られた重合体を前記実施例3の手法でテ
トラエトキシシランを添加し、加水分解して比較例4の
コーティング用組成物とした。得られたコーティング用
組成物を前記実施例3と同様の手法でPET基材上に塗
布し、乾燥してコーティング皮膜を形成した。このコー
ティング皮膜を観察したところ膜全体に白濁が見られ
た。
トラエトキシシランを添加し、加水分解して比較例4の
コーティング用組成物とした。得られたコーティング用
組成物を前記実施例3と同様の手法でPET基材上に塗
布し、乾燥してコーティング皮膜を形成した。このコー
ティング皮膜を観察したところ膜全体に白濁が見られ
た。
【0076】〔実施例4〕前記実施例1で得られた共重
合体20重量%のトルエン溶液40重量部を、120℃
で溶融させたアルミニウムイソプロポキシド10重量部
中へ加え、コーティング溶液とした。
合体20重量%のトルエン溶液40重量部を、120℃
で溶融させたアルミニウムイソプロポキシド10重量部
中へ加え、コーティング溶液とした。
【0077】その後、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシランをアルミニウムイソプロポキシドに対して
4モル倍量添加し、前記実施例3と同様の手法によりP
ET上に塗布し、85℃で1時間加熱して皮膜を硬化さ
せた。得られた皮膜は透明で鉛筆硬度が2Hであった。
トキシシランをアルミニウムイソプロポキシドに対して
4モル倍量添加し、前記実施例3と同様の手法によりP
ET上に塗布し、85℃で1時間加熱して皮膜を硬化さ
せた。得られた皮膜は透明で鉛筆硬度が2Hであった。
【0078】〔実施例5〕有機珪素化合物としてγ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン5重量部とテ
トラエトキシシラン2重量部をテトラヒドロフラン20
重量部中に投下し、さらに水0.8重量部、1N塩酸
0.3重量部を添加して70℃で3時間、加水分解反応
を行なった。反応終了後、20時間熟成し、加水分解を
完全に進行させた。
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン5重量部とテ
トラエトキシシラン2重量部をテトラヒドロフラン20
重量部中に投下し、さらに水0.8重量部、1N塩酸
0.3重量部を添加して70℃で3時間、加水分解反応
を行なった。反応終了後、20時間熟成し、加水分解を
完全に進行させた。
【0079】引続き、上記反応系へ多官能アクリレート
のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート7重量部
を添加し、本実施例5のコーティング用組成物とした。
得られたコーティング用組成物を前記実施例3と同様の
手法でワイヤバーでPETフィルムに塗布し、溶剤を乾
燥した後、電子線により硬化させた。得られた皮膜の5
50nm付近での透過率は92%であった。
のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート7重量部
を添加し、本実施例5のコーティング用組成物とした。
得られたコーティング用組成物を前記実施例3と同様の
手法でワイヤバーでPETフィルムに塗布し、溶剤を乾
燥した後、電子線により硬化させた。得られた皮膜の5
50nm付近での透過率は92%であった。
【0080】
【発明の効果】本発明によれば、一分子中に加水分解可
能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ有機珪素化合
物、その加水分解物およびその部分加水分解物と、単量
体との共重合体を製造する前後において、有機珪素化合
物および/または有機金属化合物の加水分解を行なって
光学皮膜形成コーティング用組成物を製造しているの
で、得られた光学皮膜形成コーティング用組成物は、バ
インダー樹脂としてのフレキシビリティーを有し、且つ
反射防止性を有する無機成分を多量に含有することがで
きる。
能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ有機珪素化合
物、その加水分解物およびその部分加水分解物と、単量
体との共重合体を製造する前後において、有機珪素化合
物および/または有機金属化合物の加水分解を行なって
光学皮膜形成コーティング用組成物を製造しているの
で、得られた光学皮膜形成コーティング用組成物は、バ
インダー樹脂としてのフレキシビリティーを有し、且つ
反射防止性を有する無機成分を多量に含有することがで
きる。
【0081】このような光学皮膜形成コーティング用組
成物を基材に塗布して、乾燥することにより、形成され
る光学皮膜は、縮合反応により無機成分が成長して形成
されており、しかもその無機成分は皮膜形成樹脂と分子
レベルで均一に分布しており、且つその光学皮膜は機械
的強度が優れており、光学的特性も優れた皮膜となる。
成物を基材に塗布して、乾燥することにより、形成され
る光学皮膜は、縮合反応により無機成分が成長して形成
されており、しかもその無機成分は皮膜形成樹脂と分子
レベルで均一に分布しており、且つその光学皮膜は機械
的強度が優れており、光学的特性も優れた皮膜となる。
【手続補正書】
【提出日】平成6年1月26日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項1
【補正方法】変更
【補正内容】
【化1】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
と、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基、あるいはそれらの誘導体
等の、重合可能な不飽和結合を持つ1種または2種以上
の単量体との共重合体を主成分とすることを特徴とする
光学皮膜形成コーティング用組成物。
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
と、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基、あるいはそれらの誘導体
等の、重合可能な不飽和結合を持つ1種または2種以上
の単量体との共重合体を主成分とすることを特徴とする
光学皮膜形成コーティング用組成物。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項2
【補正方法】変更
【補正内容】
【化2】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
と、分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリロ
イル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体とを主成分とする共重合体中
に、 (2)少なくとも1種または2種以上の有機金属化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
が縮合により組み込まれていることを特徴とする光学皮
膜形成コーティング用組成物。
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
と、分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリロ
イル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体とを主成分とする共重合体中
に、 (2)少なくとも1種または2種以上の有機金属化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
が縮合により組み込まれていることを特徴とする光学皮
膜形成コーティング用組成物。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項3
【補正方法】変更
【補正内容】
【化3】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
と、分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリロ
イル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体とを主成分とする共重合体中
に、 (2)次の一般式、
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
と、分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリロ
イル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体とを主成分とする共重合体中
に、 (2)次の一般式、
【化4】 (但し、式中Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
ビニル基・イソプロペニル基等のアルケニル基およびそ
れらの誘導体から選ばれた1種乃至4種の置換基、mは
0、1または2を示す。)で示される、少なくとも1種
または2種以上の有機金属化合物、その加水分解物およ
び/またはその部分加水分解物が縮合により組み込まれ
ていることを特徴とする光学皮膜形成コーティング用組
成物。
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
ビニル基・イソプロペニル基等のアルケニル基およびそ
れらの誘導体から選ばれた1種乃至4種の置換基、mは
0、1または2を示す。)で示される、少なくとも1種
または2種以上の有機金属化合物、その加水分解物およ
び/またはその部分加水分解物が縮合により組み込まれ
ていることを特徴とする光学皮膜形成コーティング用組
成物。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項5
【補正方法】変更
【補正内容】
【化5】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体と共重合させることを特徴とす
る光学皮膜形成コーティング用組成物の製造方法。
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体と共重合させることを特徴とす
る光学皮膜形成コーティング用組成物の製造方法。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項6
【補正方法】変更
【補正内容】
【化6】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体と共重合させ、 (3)得られた共重合体に、少なくとも1種または2種
以上の有機金属化合物、その加水分解物および/または
その部分加水分解物を添加することを特徴とする光学皮
膜形成コーティング用組成物の製造方法。
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体と共重合させ、 (3)得られた共重合体に、少なくとも1種または2種
以上の有機金属化合物、その加水分解物および/または
その部分加水分解物を添加することを特徴とする光学皮
膜形成コーティング用組成物の製造方法。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項7
【補正方法】変更
【補正内容】
【化7】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体と共重合させ、 (3)得られた共重合体に、次の一般式、
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体と共重合させ、 (3)得られた共重合体に、次の一般式、
【化8】 (但し、式中Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
ビニル基・イソプロペニル基等のアルケニル基およびそ
れらの誘導体から選ばれた1種乃至4種の置換基、mは
0、1または2を示す。)で示される、少なくとも1種
または2種以上の有機金属化合物、その加水分解物およ
び/またはその部分加水分解物を添加することを特徴と
する光学皮膜形成コーティング用組成物の製造方法。
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
ビニル基・イソプロペニル基等のアルケニル基およびそ
れらの誘導体から選ばれた1種乃至4種の置換基、mは
0、1または2を示す。)で示される、少なくとも1種
または2種以上の有機金属化合物、その加水分解物およ
び/またはその部分加水分解物を添加することを特徴と
する光学皮膜形成コーティング用組成物の製造方法。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】
【化9】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
と、分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリロ
イル基、メタクリロイル基、あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ1種または2種以上の
単量体との共重合体を主成分とすることを特徴とする。
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
と、分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリロ
イル基、メタクリロイル基、あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ1種または2種以上の
単量体との共重合体を主成分とすることを特徴とする。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】
【化10】 (但し、式中Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
ビニル基・イソプロペニル基等のアルケニル基およびそ
れらの誘導体から選ばれた1種乃至4種の置換基、mは
0、1または2を示す。)で示される、少なくとも1種
または2種以上の有機金属化合物、その加水分解物およ
び/またはその部分加水分解物が縮合により組み込まれ
ていることを特徴とする。
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
ビニル基・イソプロペニル基等のアルケニル基およびそ
れらの誘導体から選ばれた1種乃至4種の置換基、mは
0、1または2を示す。)で示される、少なくとも1種
または2種以上の有機金属化合物、その加水分解物およ
び/またはその部分加水分解物が縮合により組み込まれ
ていることを特徴とする。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 143/04 JDF 183/04 PMS 201/10 PDM
Claims (12)
- 【請求項1】 (1)次の一般式、 【化1】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物と、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基、あるいはそれらの誘導体
等の、重合可能な不飽和結合を持つ1種または2種以上
の単量体との共重合体を主成分とすることを特徴とする
光学皮膜形成コーティング用組成物。 - 【請求項2】 (1)次の一般式、 【化2】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R 1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるいはそれ
らの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を
含有する1種または2種以上の単量体とを主成分とする
共重合体中に、 (2)少なくとも1種または2種以上の有機金属化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
が縮合により組み込まれていることを特徴とする光学皮
膜形成コーティング用組成物。 - 【請求項3】 (1)次の一般式、 【化3】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるいはそれ
らの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を
含有する1種または2種以上の単量体とを主成分とする
共重合体中に、 (2)次の一般式、 【化4】 (但し、式中Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
アリル基およびそれらの誘導体から選ばれた1種乃至4
種の置換基、mは0、1または2を示す。)で示され
る、少なくとも1種または2種以上の有機金属化合物、
その加水分解物および/またはその部分加水分解物が縮
合により組み込まれていることを特徴とする光学皮膜形
成コーティング用組成物。 - 【請求項4】 前記有機珪素化合物、その加水分解物お
よび/または部分加水分解物のモル数が、前記単量体の
全量のモル数に対して1〜80%である、請求項1、2
または3記載の光学皮膜形成コーティング用組成物。 - 【請求項5】 (1)次の一般式、 【化5】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体と共重合させることを特徴とす
る光学皮膜形成コーティング用組成物の製造方法。 - 【請求項6】 (1)次の一般式、 【化6】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体と共重合させ、 (3)得られた共重合体に、少なくとも1種または2種
以上の有機金属化合物、その加水分解物および/または
その部分加水分解物を添加することを特徴とする光学皮
膜形成コーティング用組成物の製造方法。 - 【請求項7】 (1)次の一般式、 【化7】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体と共重合させ、 (3)得られた共重合体に、次の一般式、 【化8】 (但し、式中Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
アリル基およびそれらの誘導体から選ばれた1種乃至4
種の置換基、mは0、1または2を示す。)で示され
る、少なくとも1種または2種以上の有機金属化合物、
その加水分解物および/またはその部分加水分解物を添
加することを特徴とする光学皮膜形成コーティング用組
成物の製造方法。 - 【請求項8】 前記有機珪素化合物、その加水分解物お
よび/または部分加水分解物と、前記単量体との共重合
反応が、熱または電離放射線照射により引き起こされる
請求項5、6または7記載の光学皮膜形成コーティング
用組成物の製造方法。 - 【請求項9】 前記共重合反応が、前記有機珪素化合物
に加水分解処理を施した後に行なわれる請求項5、6、
7または8記載の光学皮膜形成コーティング用組成物の
製造方法。 - 【請求項10】 前記共重合反応が、前記有機珪素化合
物に加水分解処理を施す前に行なわれる請求項5、6、
7または8記載の光学皮膜形成コーティング用組成物の
製造方法。 - 【請求項11】 請求項1、2、3または4記載の光学
皮膜形成コーティング用組成物を基体に塗布し、最低造
膜温度以上の温度で乾燥することにより、コーティング
用組成物中に無機成分を成長させ且つ無機成分を樹脂に
共有結合により固定させることを特徴とする光学皮膜形
成方法。 - 【請求項12】 請求項1、2、3または4記載の光学
皮膜形成コーティング用組成物が基体に塗布されて形成
された光学皮膜であって、該光学皮膜中に成長した無機
成分が樹脂に共有結合していることを特徴とする光学皮
膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6018969A JPH07209503A (ja) | 1994-01-18 | 1994-01-18 | 光学皮膜形成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成方法および光学皮膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6018969A JPH07209503A (ja) | 1994-01-18 | 1994-01-18 | 光学皮膜形成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成方法および光学皮膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07209503A true JPH07209503A (ja) | 1995-08-11 |
Family
ID=11986480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6018969A Pending JPH07209503A (ja) | 1994-01-18 | 1994-01-18 | 光学皮膜形成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成方法および光学皮膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07209503A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001031871A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-02-06 | Toppan Printing Co Ltd | 高屈折率組成物及び高屈折率コーティング組成物とその組成物からなる反射防止積層体並びにその製造方法 |
JP2001059902A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-06 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止積層体およびその製造方法 |
JP2001164117A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-19 | Toppan Printing Co Ltd | 高屈折率組成物および反射防止積層体 |
WO2001048108A1 (fr) * | 1999-12-27 | 2001-07-05 | Clariant International Ltd. | Composition de revêtement |
CN107207897A (zh) * | 2014-12-02 | 2017-09-26 | 巴斯夫涂料有限公司 | 共聚物和包含共聚物的有色涂覆剂 |
-
1994
- 1994-01-18 JP JP6018969A patent/JPH07209503A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001031871A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-02-06 | Toppan Printing Co Ltd | 高屈折率組成物及び高屈折率コーティング組成物とその組成物からなる反射防止積層体並びにその製造方法 |
JP2001059902A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-06 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止積層体およびその製造方法 |
JP4649690B2 (ja) * | 1999-08-23 | 2011-03-16 | 凸版印刷株式会社 | 反射防止積層体およびその製造方法 |
JP2001164117A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-19 | Toppan Printing Co Ltd | 高屈折率組成物および反射防止積層体 |
WO2001048108A1 (fr) * | 1999-12-27 | 2001-07-05 | Clariant International Ltd. | Composition de revêtement |
CN107207897A (zh) * | 2014-12-02 | 2017-09-26 | 巴斯夫涂料有限公司 | 共聚物和包含共聚物的有色涂覆剂 |
JP2018505237A (ja) * | 2014-12-02 | 2018-02-22 | ビーエーエスエフ コーティングス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングBASF Coatings GmbH | コポリマーおよび当該コポリマーを含有する顔料入りコーティング剤 |
US10689468B2 (en) | 2014-12-02 | 2020-06-23 | Basf Coatings Gmbh | Copolymer and pigmented coating agent containing the copolymer |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101416610B1 (ko) | 투명 피막 형성용 도료 및 투명 피막부 기재 | |
JP4292634B2 (ja) | 反射防止積層体の製造方法 | |
CN107995907A (zh) | 耐刮擦易清洁的涂层、其制备方法及其用途 | |
EP1178071A2 (en) | Coating compositions, their manufacture and use, coated articles | |
CN101225263A (zh) | 透明被膜形成用涂料及带透明被膜的基材 | |
JP3031571B2 (ja) | ハードコート膜およびハードコート膜付基材 | |
JP3386906B2 (ja) | コーティング用組成物、その製造方法、塗膜形成方法および塗膜 | |
JP2002131507A (ja) | 防眩性反射防止フィルムおよび偏光板 | |
JPH0335236A (ja) | フォトクロミック性を有する物品 | |
JPH07209503A (ja) | 光学皮膜形成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成方法および光学皮膜 | |
JP3944957B2 (ja) | 含フッ素化合物、および光学薄膜と反射防止性物品 | |
MXPA03002311A (es) | Composiciones de recubrimiento. | |
JPH1010301A (ja) | フォトクロミックプラスチックレンズ及びその製造方法 | |
US20040039094A1 (en) | Coating compositions | |
WO2021210371A1 (ja) | 反射防止積層体 | |
JP3861380B2 (ja) | 含フッ素化合物を含む光学薄膜とその形成方法、および光反射防止性物品 | |
JPH11217519A (ja) | プライマー組成物及びそれを用いて得られる物品 | |
JPH07207190A (ja) | 紫外線硬化性ハードコーティング剤及びプラスチック製光学物品 | |
CN1418919A (zh) | 含可水解有机硅化合物的组合物和由该组合物得到的涂层 | |
JP2001164119A (ja) | 高屈折率組成物および高屈折率膜および反射防止膜 | |
JPH02160543A (ja) | 複層被膜 | |
JPH09226062A (ja) | 反射防止フイルム | |
JPH07209505A (ja) | 光学皮膜形成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成方法および光学皮膜 | |
JPH07209504A (ja) | 光学皮膜形成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成方法および光学皮膜 | |
JP2002131702A (ja) | 硬化膜付きプラスチックレンズ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20031217 |