JPH07140091A - パタ−ンの検査方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 不良品の不良部位における不良状態を判定す
る。 【構成】 マスタパタ−ンのエッジデ−タの中で同じ傾
をもつエッジデ−タ部分の傾ａをそれぞれ求める４６と
ともに，マスタパタ−ンを傾ａをもつ直線方程式で置換
し４７，マスタパタ−ン情報として登録し４５，マスタ
パタ−ンと被測定パタ−ンとを位置合わし４８，被測定
パタ−ンのエッジデ−タを抽出し５０，この被測定パタ
−ンのエッジデ−タの中で同じ傾をもつエッジデ−タ部
分の傾をそれぞれ求め５１，この傾がマスタパタ−ンの
直線方程式と一致するものは，順次対応するマスタパタ
−ンの直線方程式に置換して直線化し５２，被測定パタ
−ンの直線化したエッジデ−タと画素単位のエッジデ−
タとをマスタパタ−ンの直線にそれぞれ対応付けし，被
測定パタ−ンのエッジデ−タとマスタパタ−ンのエッジ
デ−タとの誤差量を検出５４して良品，不良品の判定を
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は，フィルムキャリア等
により形成されたパタ−ンを自動的に検査する方法に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来，ＩＣ，ＬＳＩの実装に用いられる
フィルムキャリアは，厚さ７５〜１２５μｍ程度のポリ
イミドフィルムの上に，銅箔を接着剤で貼り付け，両面
にフォトレジストを塗布し，マスク露光，現像，エッチ
ングを行ってリ−ドのパタ−ンを形成している。

【０００３】このようにしてパタ−ンを形成後，フォト
レジストが除去され，リ−ドの表面にＳｎ，Ａｕ，半田
メッキ処理を行ってフィルムキャリア工程が終了する。
この工程終了後，顕微鏡を用いて人間により目視でパタ
−ンの検査が行われている。このように，微細なパタ−
ンを目視で検査するには，熟練を要するとともに，目を
酷使する結果となる等の問題があった。

【０００４】一方，目視検査に代わるものとして，パタ
−ンをＴＶカメラで撮像し基準パタ−ンとして，被測定
パタ−ンとの一致率をもとに検査を行うパタ−ンマッチ
ング手法によることも考えられる。しかしながら，一致
率は下式で表されるように，画素単位の計測であり，フ
ィルムキャリアのような微細なパタ−ンの検査には不向
きである。 一致率＝｛（全体の画素−一致していない画素）／（全
体の画素）｝×１００％ 又，同一形状のリ−ドが連続するようなパタ−ンの場合
には，リ−ドが１本分ずれて位置合わせしてしまう場合
もあり，同一形状のパタ−ンの繰り返しの場合には問題
があった。

【０００５】そこで，上記の問題点を解決するために，
発明者は先に，以下のような方法を出願した。即ち，良
品と判定されている被測定パタ−ンをマスタパタ−ンと
し，その濃淡画像を画像メモリに記憶するとともに，こ
の画像メモリに記憶されたマスタパタ−ンの濃淡ヒスト
グラムから，これを二値化処理して，マスタパタ−ンの
エッジデ−タを求め，このエッジデ−タから最小二乗法
により直線化して登録するとともに，互いに対向位置す
る両直線の中心線Ｌ_M と幅Ｗとを求めてこれをマスタパ
タ−ン情報として登録し，これを基準パタ−ンとする。
一方，被測定パタ−ンのエッジデ−タは，マスタパタ−
ンの各直線に対応付けされ，両者が比較照合され，誤差
が検査され，良品，不良品の判定がなされる方法であ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする問題点】しかしながら，一般
に，二値化された画像デ−タは，格子状に配置された画
素により構成されている。従って，図１９に示すよう
に，被測定パタ−ンが斜めの画像パタ−ンとして取り込
まれた場合，この取り込まれた画像パタ−ンのエッジ部
分は画素単位の階段状となる。

【０００７】そのため，階段状に表されている被測定パ
タ−ンｍと直線化されているマスタパタ−ンＭとの間で
斜線部分で示すように，誤差ε（＝１／√２＝０．７画
素）が生じる。この誤差分は被測定パタ−ンｍの正規の
誤差に加算されることになり，見かけ上，不良部位と判
断されて，その部位における被測定パタ−ンｍの幅ｗの
測定が開始されるため，良品，不良品の判定誤差の原因
となっていた。さらに，直線状の画像パタ−ンが格子状
の画素に対して斜めに取り込まれた場合には，本来，直
線で表されるべき画像パタ−ンのエッジ部分が階段状の
画像デ−タとして抽出される。

【０００８】このように，階段状の画像デ−タの場合に
は，図１９に○印で示すように，そのエッジデ−タのデ
−タ量が膨大となる。そのため，良品，不良品の判定に
あたっては，この膨大な被測定パタ−ンｍのエッジデ−
タをマスタパタ−ンＭのエッジデ−タとひとつづつ比較
しなければならず，それだけデ−タ処理に時間がかか
り，検査時間が非常に長くかかるという問題があった。

【０００９】一方，カメラの設置状態によって，検査す
べき被測定パタ−ンが格子状の画素に対して傾斜した状
態で画像表示された場合には，上記のように，階段状の
画像デ−タが抽出され，検査すべきデ−タ量が膨大とな
るから，カメラの設置方向を厳密に規定する必要があっ
た。

【００１０】

【問題点を解決するための手段】この発明は，被測定パ
タ−ンの良品をマスタパタ−ンの濃淡画像として画像メ
モリに記憶し，この画像メモリに記憶されたマスタパタ
−ンの濃淡ヒストグラムからこれを二値化処理してマス
タパタ−ンのエッジデ−タを求め，このエッジデ−タの
中で同じ傾をもつエッジデ−タ部分の傾ａをそれぞれ求
めるとともに，マスタパタ−ンを傾ａをもつ直線方程式
ａｘ＋ｂ−ｙ＝０で置換してマスタパタ−ン情報として
登録し，エッジデ−タから最小二乗法によりマスタパタ
−ンを直線の集合に変換し，これらの直線から互いに対
向して位置する両直線の中心線Ｌ_Mを求めてマスタパタ
−ン情報として登録し，この中心線Ｌ_M に直角に交わる
線と両直線とが交わる点までの長さから互いに対向する
直線の幅Ｗを求めてマスタパタ−ン情報として登録し，
被測定パタ−ンを画像メモリに記憶し，登録されたマス
タパタ−ンと被測定パタ−ンとを位置合わせするととも
に，検査範囲を設定し，この検査範囲の周辺に，被測定
パタ−ンのエッジデ−タが存在し，検査範囲の周辺を一
定方向に検査して被測定パタ−ンのエッジデ−タを抽出
し，この被測定パタ−ンのエッジデ−タの中で同じ傾を
もつエッジデ−タ部分の傾をそれぞれ求め，この傾がマ
スタパタ−ンの直線方程式と一致する被測定パタ−ンの
エッジデ−タ部分は，順次対応するマスタパタ−ンの直
線方程式に置換して直線化し，この直線化された被測定
パタ−ンの両端のエッジデ−タを抽出するとともに，直
線化不可能な被測定パタ−ンのエッジデ−タ部分はその
まま画素単位のエッジデ−タを抽出し，マスタパタ−ン
の互いに隣接する直線の持つ角度を２等分する直線を算
出し，この２等分する直線によりマスタパタ−ンを各直
線にそれぞれ対応する領域に分割し，この各領域内に存
在する被測定パタ−ンの直線化したエッジデ−タと画素
単位のエッジデ−タとをマスタパタ−ンの直線にそれぞ
れ対応付けし，それぞれ対応付けされた被測定パタ−ン
のエッジデ−タとマスタパタ−ンのエッジデ−タとの誤
差量を検出して良品，不良品の判定をするようにしたも
のである。

【００１１】

【作用】良品と判定されている被測定パタ−ンをマスタ
パタ−ンとし，その濃淡画像を画像メモリに記憶すると
ともに，この画像メモリに記憶されたマスタパタ−ンの
濃淡ヒストグラムから，これを二値化処理して，マスタ
パタ−ンのエッジデ−タを求める。このエッジデ−タの
中で同じ傾をもつエッジデ−タ部分の傾ａをそれぞれ求
め，この傾ａを持つ直線方程式ａｘ＋ｂ−ｙ＝０で表さ
れるマスタパタ−ンを作成して登録する。

【００１２】次いで，エッジデ−タから最小二乗法によ
りマスタパタ−ンを直線の集合に変換し，これらの直線
から互いに対向位置する両直線の中心線Ｌ_M と幅Ｗとを
求めてこれをマスタパタ−ン情報として登録する。この
エッジデ−タから傾ａの同じエッジデ−タ部分の傾ａを
それぞれ求め，この傾ａを持つ直線方程式ａｘ＋ｂ−ｙ
＝０で表されるマスタパタ−ンを作成して登録する。

【００１３】同様に，被測定パタ−ンｍのエッジデ−タ
の中で同じ傾ｃ（但し，ｃ＝ｘ／ｙ）をもったエッジデ
−タ部分の傾ｃ₁ ，ｃ₂ ・・・をそれぞれ求め，これら
の傾ｃを持つエッジデ−タ部分をマスタパタ−ンＭと比
較して，同一の傾を持つデ−タは，対応するマスタパタ
−ンの直線と置換する。直線化不可能な被測定パタ−ン
のエッジデ−タ部分はそのままのエッジデ−タをのこ
す。このようにすることにより，検査すべき被測定パタ
−ンのエッジデ−タ量が軽減され，デ−タの処理時間を
大幅に短縮している。

【００１３】

【発明の実施例】この発明の実施例を，図１〜図１８に
基づいて詳細に説明する。図１はこの発明の実施例を示
す処理フロ−，図２はこの発明を実施するためののパタ
−ン検査装置の基本動作図，図３はこの発明を実施する
ためのシステム構成図，図４〜図１８は，この発明によ
るパタ−ンの検査方法を説明するための説明図である。

【００１４】まず，この発明を実施する具体的なパタ−
ン検査装置について，図２に示す基本動作図および図５
に示すシステム構成図に基づいて説明する。なお，この
実施例では，被測定パタ−ンｍとしてＴＡＢテ−プのパ
タ−ンを例にとり，そのパタ−ンを検査する場合につい
て説明する。

【００１５】図２において，パタ−ン検査装置は，リ−
ルに巻かれているＴＡＢテ−プ（図示せず）のフィルム
を送り出す巻出し部１，定寸送り・位置決め部２，良品
不良品を判定処理する検出部３，判定処理が終了したテ
−プを次に切断工程に送る定寸送り・位置決め部４，不
良品のテ−プを切断する打ち抜き部５，再度リ−ルにテ
−プを巻取るための巻取り部６とにより構成されてい
る。

【００１６】図３は，システム構成図を示すもので，シ
ステム制御部７はこのシステム全体を制御し，メニュ−
や結果を表示するカラ−ＣＲＴ８，品種の設定，登録，
操作メニュ−の選択を行うキ−ボ−ド９，シ−ケンサ部
１０，プリンタ１１，画像メモリ１２，ＣＰＵ（計測ユ
ニット）１３，信号セレクタ１４等が制御されている。

【００１７】シ−ケンサ部１０は，システム制御部７の
制御のもとに，操作スイッチ・表示ランプ１５，テ−プ
ランナ部１６，テ−プパンチャ部１７，Ｘ−Ｙテ−ブル
１８等を制御している。１９はフロッピ−ディスクであ
る。

【００１８】ドライバ２０によりＸ方向のモ−タ２１，
シ−ケンサ部１０を介してテ−ブルコントロ−ラ（３
軸）２２とＹ−Ｓ−Ｐドライバ２３とによりＹ方向のモ
−タ２４およびスパン軸用モ−タ２５が制御されて，Ｘ
−Ｙテ−ブル１８は，それぞれＸ方向，Ｙ方向およびス
パン軸方向に駆動制御される。従って，ＴＡＢテ−プ
は，Ｘ−Ｙテ−ブル１８上のカメラ２６，２７で撮像さ
れ，その画像はＡ／Ｄ変換器２８によりデジタル変換さ
れ，画像メモリ１２に画素単位で記憶される。検出部３
は，カメラ２６，２７とこの移動機構部分，Ｘ−Ｙテ−
ブル１８，ＣＰＵ１３，Ａ／Ｄ変換器２８，画像メモリ
１２により構成されている。

【００１９】次に，このパタ−ン検査装置の作用動作に
ついて説明する。リ−ルに巻き取られているＴＡＢテ−
プは，シ−ケンサ部１０の制御のもとに，テ−プランナ
部１６に１コマづつＸ−Ｙテ−ブル１８上のカメラ２
６，２７の所定位置に送り出され位置決めされる。Ｘ−
Ｙテ−ブル１８はＹおよびＸ軸方向の駆動モ−タ２４，
２１および３軸方向を制御するテ−ブルコントロ−ラ２
２とにより，それぞれ位置決めされる。

【００２０】所定位置に位置決めされた１コマのＴＡＢ
テ−プのパタ−ンは，２台のカメラ２６，２７により撮
像され，その濃淡画像はＡ／Ｄ変換器２８によりデジタ
ル信号に変換され，画素単位で画像メモリ１２に記憶さ
れる。一方，画像メモリ１２には，検査の開始に当たっ
て，良品と判定されたＴＡＢテ−プのマスタパタ−ン情
報が作成され記憶される。このマスタパタ−ンＭとＴＡ
Ｂパタ−ン（被測定パタ−ンｍ）とが検出部３におい
て，後述するような方法で比較され，良品，不良品の判
定処理がなされる。

【００２１】このようにして，各コマ毎に良品，不良品
の判定処理がなされたＴＡＢテ−プは，順次各コマ毎に
テ−プパンチャ部１７に送り込まれ，不良品が打ち抜か
れた後，巻取り部６において，再度リ−ルに巻き取ら
れ，検査が終了する。

【００２２】次に，検出部３においてＴＡＢパタ−ンが
良品，不良品と判定処理されるためのＴＡＢパタ−ンの
検査方法について，図１に基づいて説明する。検査に先
立って，良品と判定されているＴＡＢテ−プから，基準
となるマスタパタ−ンＭを作成して，マスタパタ−ン情
報として画像メモリ１２に登録しておかねばならない。

【００２３】以下，マスタパタ−ンＭの作成方法につい
て，図１〜図１３に基づいて説明する。白黒のカメラ２
６，２７で撮像され，良品と判定されたＴＡＢテ−プの
パタ−ンの濃淡画像は，図４にそのパタ−ンの一部が示
され，図５，図６にその拡大図が示されているが，それ
は，まず，一旦画像メモリ１２に登録される（ステップ
４０）。次いで，そのエッジ座標（エッジデ−タ）が，
図５，図６に示すように，濃淡画像が白→黒，黒→白と
変化している点の中点において，しきい値Ｓ_L と交叉す
るものと仮定して抽出される（ステップ４１）。

【００２４】マスタパタ−ンＭのエッジデ−タの抽出
は，全体画像の濃淡ヒストグラムからこれを二値化処理
し，しきい値Ｓ_L の両隣の白，黒の画素において比例配
分でしきい値Ｓ_L をよぎるＸ又はＹ座標値（以下，エッ
ジデ−タと記す）Ｎ₁ （４．５，２），Ｎ₂ （５，２．
５），Ｎ₃ （５．５，３）・・・・が求められる（ステ
ップ４１）。

【００２５】次に，図７に示すように，このようにして
求められた点の集合であるマスタパタ−ンＭの各エッジ
デ−タＮ₁ ，Ｎ₂ ，Ｎ₃ ・・・は最小二乗法により直線
Ａ₁，Ａ₂ ，Ａ₃ ・・として直線化される（ステップ４
２）。なお，この場合，各エッジデ−タＮ₁ ，Ｎ₂ ，Ｎ
₃ ・・・から直線Ａ₁ ，Ａ₂，Ａ₃ ・・・に垂線を下
し，それぞれ各エッジデ−タＮ₁ ，Ｎ₂ ，Ｎ₃ ・・・か
ら直線Ａ₁ ．Ａ₂ ・・までの距離ΔＮ₁ ，ΔＮ₂ ，ΔＮ
₃ ・・・が，０．３画素以下の場合には，直線化可能な
エッジデ−タとして直線Ａ₁ ，Ａ₂ ・・・に含められ
る。このようにして，点の集合として抽出されているマ
スタパタ−ンＭのエッジデ−タＮ₁ ，Ｎ₂ ，Ｎ₃ ・・・
を直線化して，最終的にはマスタパタ−ンＭは直線Ａ
₁ ，Ａ₂ ，Ａ₃ ・・の集合に変換される（ステップ４
２）。

【００２６】次に，マスタパタ−ンＭの幅Ｗが求められ
る。図８に示すように，互いに対向する直線Ａ₁ と直線
Ａ_n ，直線Ａ₂ と直線Ａ_n-1 ・・・から中心線Ｌ_M を求
め，この中心線デ−タは，マスタパタ−ン情報として登
録される（ステップ４３）。なお，この情報は，被測定
パタ−ンｍを検査する場合にリ−ドの方向性を調べるの
に使用される。

【００２７】求められた中心線Ｌ_M に垂直な直線Ｈ_M を
引いた時，この直線Ｈ_M が直線Ａ₁とＡ_N ，Ａ₂ とＡ_N-1
・・・と交叉する点までの幅がマスタパタ−ンＭの幅
Ｗと等しくなる。

【００２８】即ち，中心線Ｌ_M は両直線Ａ₁ とＡ_n-1 と
の距離を直径とする内接円の中心の軌跡となるととも
に，直径がマスタパタ−ンＭの幅Ｗとなる（ステップ４
４）。このようにして順次求められたマスタパタ−ンＭ
の直線Ａ₁ ，Ａ₂ ，Ａ₃ ・・・，中心線Ｌ_M は，マスタ
パタ−ン情報として登録されて，基準となるマスタパタ
−ンＭが作成される（ステップ４５）。

【００２９】一方，ステップ４１において抽出されたエ
ッジデ−タは，図１９に示すように，０．１画素の単位
の階段状の画像デ−タとして表される。そこで，階段状
のエッジデ−タは，例えば，１画素下がって２画素目に
抽出され，あるいは１画素下がって１画素目に抽出され
る等のように，エッジデ−タ部分が一定の割合で変化し
ているパタ−ン部分についてその傾ａ（ａ₁ ，ａ₂ ・・
・）がそれぞれ求められる（ステップ４６）。

【００３０】このようにして，一定の傾ａ（ａ₁ ，ａ₂
・・・）を持つ画像パタ−ンのエッジデ−タ部分につい
ては，その間をそれぞれ直線方程式ａ₁ ｘ＋ｂ−ｙ＝０
（直線Ｔ₁ ），ａ₂ ｘ＋ｂ−ｙ＝０（直線Ｔ₂ ）・・・
で表される直線，その一般式はａｘ＋ｂ−ｙ＝０で表さ
れる直線にそれぞれ変換される（ステップ４７）。この
ようにして，マスタパタ−ンＭは傾ａ₁ ，ａ₂ ・・・を
持つ直線方程式群で表され，マスタパタ−ン情報として
登録される（ステップ４５）。

【００３１】上記のようにして，マスタパタ−ンＭが作
成されると，次は，実際にＴＡＢテ−プの被測定パタ−
ンｍが，図１に示す手順で検査される。まず，ＴＡＢテ
−プは，図２，図３に示すように，リ−ルに巻き取られ
ており，巻出し部１から，１コマずつ送り出され，カメ
ラ２６，２７により被測定パタ−ンｍが撮像される。こ
の時，撮像された画像は，図４に示すような濃淡画像と
なり，Ａ／Ｄ変換器２８でデジタル信号に変換されて，
画像メモリ１２に一旦記憶される。

【００３２】画像メモリ１２に記憶されているマスタパ
タ−ンＭとこの被測定パタ−ンｍとは，検出部３のＣＰ
Ｕ１３で読み出され，位置合わせされた後，比較，照合
されて，被測定パタ−ンｍが検査される（ステップ４
８）。

【００３３】ここで，被測定パタ−ンｍをマスタパタ−
ンＭと比較，照合して検査する場合の前提条件を，図９
に基づいて説明する。 （１）マスタパタ−ンＭおよび被測定パタ−ンｍのエッ
ジデ−タｎ₁ ，ｎ₂ ，ｎ₃ ・・・は，例えば，検査範囲
を設定する一つの手法として，ウインド３０によってマ
スクされ，ウインド３０の中のパタ−ンのみが検査の対
象となる（ステップ４９）。 （２）ウインド３０によって一部分切り出された被測定
パタ−ンｍは，図９に示すように，必ずウインド３０の
４辺のいづれかに接しており，パタ−ン３１で示される
形状のパタ−ン部分は，エッジデ−タとしては認識しな
い。 （３）検査は，必ず出発点Ｓからウインド３０の４辺を
一定方向に回って進められ，最後に出発点Ｓに戻り，画
面の検査が完了する。 （４）被測定パタ−ンｍは直線であること。

【００３４】このような前提条件のもとに，以下の手順
で被測定パタ−ンｍの検査が行われる。図１０は，検査
時の状態を示すもので，マスタパタ−ンＭのエッジデ−
タは最小二乗法により直線化されて，直線Ａ₁ ，Ａ₂ ，
Ａ₃ ・・・で示されており，抽出された被測定パタ−ン
ｍのエッジデ−タｎ₁ ，ｎ₂ ，ｎ₃ ・・・が黒丸で示さ
れている（ステップ５０）。

【００３５】次に，図１８に示すように，被測定パタ−
ンｍのエッジデ−タｎ₁ ，ｎ₂ ，ｎ₃ ・・・ｎ_n から，
このデ−タの内，傾ｃが同一の値を持つエッジデ−タ，
例えば，エッジデ−タｎ₁ からｎ₁₁までの直線Ｃ₁ の傾
はｃ₁ ，ｎ₁₂からｎ₁₄までの直線Ｃ₂ の傾はｃ₂ 等のよ
うに算出される（ステップ５１）。

【００３６】これらの傾ｃ（ｃ₁ ，ｃ₂ ・・・）は，そ
れぞれマスタパタ−ンＭと比較されて，例えば，マスタ
パタ−ンＭの傾ａ₁ とｃ₁ およびａ₂ とｃ₂ とが同一の
傾を持つものとして，直線化可能なパタ−ンとして検出
される。これらの直線Ｃ₁ ，Ｃ₂ ・・・は，それぞれマ
スタパタ−ンＭの直線方程式ａ₁ ｘ＋ｂ−ｙ＝０，ａ₂
ｘ＋ｂ−ｙ＝０で表される直線に置換される（ステップ
５２）。

【００３７】このようにして直線化された場合の被測定
パタ−ンｍのエッジデ−タの内，直線方程式ａ₁ ｘ＋ｂ
−ｙ＝０，ａ₂ ｘ＋ｂ−ｙ＝０・・・で直線化された箇
所のエッジデ−タは，直線の両端のエッジデ−タｎ₁ ，
ｎ₁₁およびｎ₁₂，ｎ₁₄・・・となる。この際，直線化で
きないエッジデ−タ部分は，そのまま階段状のエッジデ
−タとして残されている。

【００３８】このようにして求められ被測定パタ−ンｍ
のエッジデ−タｎ₁ ，ｎ₁₁，ｎ₁₂，ｎ₁₄，・・・ｎ_n
は，次に，マスタパタ−ンＭのどの直線と対応するかの
対応付けが行われなければならない。この対応付けを行
うために，図１１に示すように，マスタパタ−ンＭの互
いに隣接する直線Ａ₁ と直線Ａ₂ ，直線Ａ₂ と直線Ａ₃
・・・が持つ角度α，β・・・をそれぞれ２等分する直
線Ａ₂'，Ａ₃'・・・を算出する。

【００３９】従って，マスタパタ−ンＭは，この直線Ａ
₂'，Ａ₃'・・・で区分され，各直線Ａ₁ ，Ａ₂ ，Ａ₃ ・
・に対応する領域（以下，領域Ａ₁ ，Ａ₂ ，Ａ₃ ・・・
と記す）に分割されることになるので，被測定パタ−ン
ｍのエッジデ−タｎ₁ ，ｎ₁₁，ｎ₁₂，ｎ₁₄・・・は，す
べて領域Ａ₁ ，Ａ₂ ，Ａ₃ ・・・に対応付けされる（ス
テップ５３）。

【００４０】次に，マスタパタ−ンＭと被測定パタ−ン
ｍとの誤差量（ずれ）Δｄが測定されなければならな
い。このためには，図１２に示すように，被測定パタ−
ンｍのエッジデ−タｎ₁ ，ｎ₁₁，ｎ₁₂・・・から直線Ａ
₁ ，Ａ₂ ・・・にそれぞれ垂線ｈ₁ ，，ｈ₁₁・・・を降
ろし，この垂線ｈ₁ ，ｈ₁₁・・・が，それぞれ直線Ａ
₁ ，Ａ₂ ・・・と交叉する距離Δｄ（Δｄ₁ ，Δｄ₁₁・
・・）を求めると，この距離Δｄが誤差量，即ち，マス
タパタ−ンＭと被測定パタ−ンｍとのずれ量となる（ス
テップ５４）。なお，この測定に際しては，マスタパタ
−ンＭと比較されるべき被測定パタ−ンｍのエッジデ−
タは，非常に減少しているので，検査時間は大幅に短縮
される。

【００４１】次に，実際に各種の検査をする場合につい
て説明する（ステップ５５）。 （１）．断線の検査 図１１に示すように，マスタパタ−ンＭのエッジデ−タ
は，直線Ａ₁ ，Ａ₂ ・・・に変換されているとともに，
領域Ａ₁ ，Ａ₂ ・・・に区分されている。一方，抽出さ
れた被測定パタ−ンｍの境界座標を示すエッジデ−タｎ
₁ ，ｎ₂，ｎ₃ ・・・は，それぞれｎ₁ 〜ｎ₁₁まではマ
スタパタ−ンＭの直線方程式ａ₁ｘ＋ｂ−ｙ＝０，ｎ₁₂
〜ｎ₁₄までは，直線方程式ａ₂ ｘ＋ｂ−ｙ＝０と変換さ
れる。従って，被測定パタ−ンのエッジデ−タは，ｎ
₁ ，ｎ₁₁，ｎ₁₂・・・となり，それぞれラベリングが付
されて，連続的なエッジデ−タｎ₁ ，ｎ₁₁，ｎ₁₂・・・
の集合として抽出される。

【００４２】この抽出された被測定パタ−ンｍの各エッ
ジデ−タｎ₁ ，ｎ₁₁，ｎ₁₂・・・（図１１に黒丸で示さ
れている）は，マスタパタ−ンＭのどの直線にそれぞれ
対応するかを領域Ａ₁ ，Ａ₂ ・・・に分けて対応付けさ
れ分類される。

【００４３】そこで，断線であるか否かの判定は，図１
３に示すように，被測定パタ−ンｍのエッジデ−タｎ
₁ ，ｎ₁₁，ｎ₁₂・・・ｎ_n をマスタパタ−ン情報として
マスタパタ−ンＭの作成時に登録されている各領域Ａ
₁ ，Ａ₂ ・・・Ａ₇ に対応付けする。この場合，マスタ
パタ−ンＭの領域Ａ₁ ，Ａ₂ ・・・Ａ₇ に，それぞれ対
応付けされる被測定パタ−ンｍのエッジデ−タｎ₁ ，ｎ
₁₁，ｎ₁₂，ｎ₁₄・・・・は，以下のようである。

【００４４】領域Ａ₁ ・・・エッジデ−タ ｎ₁ ，ｎ₁₁ 領域Ａ₂ ・・・エッジデ−タ ｎ₁₂，ｎ₁₄ 領域Ａ₃ ・・・エッジデ−タ ０ 領域Ａ₄ ・・・エッジデ−タ ０ 領域Ａ₅ ・・・エッジデ−タ ０ 領域Ａ₆ ・・・エッジデ−タ ｎ_n-3 ｎ_n-2 領域Ａ₇ ・・・エッジデ−タ ｎ_n-1 ｎ_n

【００４５】この結果から明らかであるように，マスタ
パタ−ンＭの領域Ａ₃ ，Ａ₄ ，Ａ₅に対応する被測定パ
タ−ンｍのエッジデ−タが存在しないため，このような
場合は断線と判定される。

【００４６】（２）．短絡（ショ−ト）の検査 図１４は短絡の検査時の状態を示すもので，図示のよう
に，マスタパタ−ンＭのリ−ドと被測定パタ−ンｍのリ
−ドとが，それぞれウインド３０と接しているリ−ド位
置，およびリ−ド位置’，’とすると，被測定
パタ−ンｍのエッジデ−タが他の箇所でマスタパタ−ン
Ｍの他のリ−ドと接していた場合には，短絡と判定され
なければならない。

【００４７】従って，このように，短絡と判定するため
に，まず，被測定パタ−ンｍのリ−ド毎にエッジデ−タ
が抽出され，図１５に示すように，各エッジデ−タは，
ａ，ｂ，ｃ，ｄ・・・ｓ，ｔ，ｕとラベリングされる。

【００４８】被測定パタ−ンｍに短絡がある場合には，
ラベリングされたリ−ドパタ−ン’のエッジデ−タ
は，ａ，ｂ，ｃ，ｊ，ｋ，ｌ，ｍ，ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，
ｒ，ｓ，ｔ，ｕ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ，ｉ，ａとなり，
リ−ドパタ−ン’のエッジデ−タｊ，ｋ，ｌ，ｍ，
ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒ，ｓ，ｔ，ｕが抽出される。しか
し，このようなエッジデ−タｊ，ｋ，ｌ，ｍ，ｎ，ｏ，
ｐ，ｑ，ｒ，ｓ，ｔ，ｕは，マスタパタ−ンＭのリ−ド
パタ−ンのエッジデ−タとしては，登録されていない
ので，この場合には，被測定パタ−ンｍのリ−ドパタ−
ン’とリ−ドパタ−ン’とは短絡していると判定さ
れる。

【００４９】（３）．パタ−ンの幅の検査 図１６は細りの検査時の状態を示すもので，図１２に示
すように，被測定パタ−ンｍのエッジデ−タｎ₁ ，
ｎ₁₁，ｎ₁₂，ｎ₁₄・・・から，マスタパタ−ンＭの直線
Ａ₁ ，Ａ₂ ・・・に垂線を下し，この垂線までの長さΔ
ｄ（誤差量）（Δｄ₁ ，Δｄ₅ ・・・）を求め，この誤
差量Δｄが小さい場合には，そのまま良品として判定さ
れる。

【００５０】誤差量Δｄが大きいエッジデ−タに対して
は，マスタパタ−ンＭの中心線Ｌ_Mに対して垂線を下ろ
して，その距離を求め，互いに対向する被測定パタ−ン
ｍのエッジデ−タの幅ｗ（ｗ₁ ，ｗ₂ ・・）を求める。
この実施例の場合には，マスタパタ−ンＭの幅Ｗとした
時，被測定パタ−ンの幅ｗが （２／３）Ｗ＜ｗ＜（４／３）Ｗ の範囲内に入っているか否かを見て，この範囲内に入っ
ている場合には，良品と判定され，範囲外の場合には細
りあるいは太りとして不良品と判定される。但し，一般
には，判定係数をＡおよびＢ（但し，Ａ〈Ｂ）とした
時，この幅ｗと前記マスタパタ−ンの幅Ｗとが， ＡＷ＜ｗ＜ＢＷ となる時，良品と判定し，幅ｗがこの範囲外にある時を
パタ−ンの幅不適として不良品と判定される。

【００５１】（４）．位置ずれ（曲がり）の検査 図１７は，位置ずれの検査時の状態を示すもので，マス
タパタ−ンＭの直線Ａ₁ ，Ａ₂ ・・・からそれぞれ対応
付けられている被測定パタ−ンｍのエッジデ−タが大き
くずれたデ−タに対してのみ，被測定パタ−ンｍのエッ
ジデ−タから，マスタパタ−ンＭの直線Ａ₁ ，Ａ₂ ・・
・に垂線を下し，この垂線までの長さ（誤差量）Δｄ
₁ ，Δｄ₂ ，Δｄ₃ ，・・・Δｄ_n を求める。

【００５２】マスタパタ−ンＭのリ−ド幅Ｗとした時，
この誤差量Δｄ_n がΔｄ_n ＞（１／２）Ｗの時のみ，位
置ずれと判定されて不良品と判定され，その他の場合に
は，即ち，誤差量Δｄ_n がリ−ド幅Ｗ／２より小さい場
合には，良品と判定され，誤差量Δｄ_n は測定されな
い。

【００５３】なお，被測定パタ−ンｍが同一形状のリ−
ドパタ−ンの繰り返しとして形成されている場合には，
マスタパタ−ンＭと被測定パタ−ンｍとが１本分リ−ド
パタ−ンがずれた状態で位置合わせされる場合がある
が，この場合には，位置ずれとの判定結果はでないが，
検査の最終段階では被測定パタ−ンｍの最終リ−ドパタ
−ンに対応するマスタパタ−ンＭのエッジデ−タが存在
しないことになり，不良品と判定されることになるか
ら，最終的にはチェックすることが出来る。

【００５４】

【発明の効果】この発明は，被測定パタ−ンの良品をマ
スタパタ−ンの濃淡画像として画像メモリに記憶し，こ
の画像メモリに記憶されたマスタパタ−ンの濃淡ヒスト
グラムからこれを二値化処理してマスタパタ−ンのエッ
ジデ−タを求め，このエッジデ−タの中で同じ傾をもつ
エッジデ−タ部分の傾ａをそれぞれ求めるとともに，マ
スタパタ−ンを傾ａをもつ直線方程式ａｘ＋ｂ−ｙ＝０
で置換してマスタパタ−ン情報として登録し，エッジデ
−タから最小二乗法によりマスタパタ−ンを直線の集合
に変換し，これらの直線から互いに対向して位置する両
直線の中心線Ｌ_Mを求めてマスタパタ−ン情報として登
録し，この中心線Ｌ_M に直角に交わる線と両直線とが交
わる点までの長さから互いに対向する直線の幅Ｗを求め
てマスタパタ−ン情報として登録し，被測定パタ−ンを
画像メモリに記憶し，登録されたマスタパタ−ンと被測
定パタ−ンとを位置合わせするとともに，検査範囲を設
定し，この検査範囲の周辺に，被測定パタ−ンのエッジ
デ−タが存在し，検査範囲の周辺を一定方向に検査して
被測定パタ−ンのエッジデ−タを抽出し，この被測定パ
タ−ンのエッジデ−タの中で同じ傾をもつエッジデ−タ
部分の傾をそれぞれ求め，この傾がマスタパタ−ンの直
線方程式と一致する被測定パタ−ンのエッジデ−タ部分
は，順次対応するマスタパタ−ンの直線方程式に置換し
て直線化し，この直線化された被測定パタ−ンの両端の
エッジデ−タを抽出するとともに，直線化不可能な被測
定パタ−ンのエッジデ−タ部分はそのまま画素単位のエ
ッジデ−タを抽出し，マスタパタ−ンの互いに隣接する
直線の持つ角度を２等分する直線を算出し，この２等分
する直線によりマスタパタ−ンを各直線にそれぞれ対応
する領域に分割し，この各領域内に存在する被測定パタ
−ンの直線化したエッジデ−タと画素単位のエッジデ−
タとをマスタパタ−ンの直線にそれぞれ対応付けし，そ
れぞれ対応付けされた被測定パタ−ンのエッジデ−タと
マスタパタ−ンのエッジデ−タとの誤差量を検出して良
品，不良品の判定をするようにしたので，被測定パタ−
ンの検査すべきエッジデ−タ数が非常に少なくなるた
め，検査に要する処理時間を大幅に短縮することが出来
る。

【００５４】又，画像パタ−ンのエッジデ−タを直線化
しているので，傾斜した画像パタ−ンの場合のように階
段状の画像パタ−ンにより発生する量子化誤差を最小に
することが出来る。その上，カメラの設置方向を厳密に
する必要もない。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施例を示す処理フロ−である。

【図２】この発明の実施例を示すパタ−ン検査装置の基
本動作図である。

【図３】この発明の実施例を示すシステム構成図であ
る。

【図４】この発明の実施例を示すもので，被測定パタ−
ンの一部である。

【図５】この発明の実施例を示すもので，マスタパタ−
ンのエッジデ−タを求めるための説明図で，図４の要部
拡大図である。

【図６】この発明の実施例を示すもので，図５の要部拡
大図である。

【図７】この発明の実施例を示すもので，マスタパタ−
ンを直線化するための説明図である。

【図８】この発明の実施例を示すもので，マスタパタ−
ンの幅Ｗを求めるための説明図である。

【図９】この発明の実施例を示すもので，ウインドに表
示された被測定パタ−ンである。

【図１０】この発明の実施例を示すもので，マスタパタ
−ンの直線と被測定パタ−ンのエッジデ−タとの関係を
示す図である。

【図１１】この発明の実施例を示すもので，マスタパタ
−ンの領域を区分するための説明図である。

【図１２】この発明の実施例を示すもので，ずれ（誤差
量）を求めるための説明図である。

【図１３】この発明の実施例を示すもので，断線の検査
の説明図である。

【図１４】この発明の実施例を示すもので，短絡の検査
の説明図である。

【図１５】この発明の実施例を示すもので，短絡の検査
の説明図である。

【図１６】この発明の実施例を示すもので，細りの検査
の説明図である。

【図１７】この発明の実施例を示すもので，曲がり検査
の説明図である。

【図１８】この発明の実施例を示すもので，被測定パタ
−ンｍを直線方程式に置換するための説明図である。

【図１９】マスタパタ−ンＭを直線方程式に置換するた
めの説明図である。

【符号の説明】

Ｍ マスタパタ−ン Ａ₁ ，Ａ₂ ・・・マスタパタ−ンＭの直線 Ｎ₁ ，Ｎ₂ ・・・マスタパタ−ンのエッジデ−タ ａ（ａ₁ ，ａ₂ ・・・）マスタパタ−ンＭのエッジデ−
タの傾 Ｈ_M マスタパタ−ンの直線 Ｌ_M マスタパタ−ンの中心線 Ｗ マスタパタ−ンの幅 Δｄ 誤差量（ずれ） ｍ 被測定パタ−ン ｗ 被測定パタ−ンの幅 ｎ₁ ，ｎ₁₁・・・被測定パタ−ンのエッジデ−タ ｃ（ｃ₁ ，ｃ₂ ・・・） 被測定パ−タ−ンｍのエッジ
デ−タの傾 Ｘ ずれの長さ １２ 画像メモリ １３ ＣＰＵ

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成６年７月２７日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】発明の詳細な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は，フィルムキャリア等
により形成されたパターンを自動的に検査する方法に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来，ＩＣ，ＬＳＩの実装に用いられる
フィルムキャリアは，厚さ７５〜１２５μｍ程度のポリ
イミドフィルムの上に，銅箔を接着剤で貼り付け，両面
にフォトレジストを塗布し，マスク露光，現像，エッチ
ングを行ってリードのパターンを形成している。

【０００３】このようにしてパターンを形成後，フォト
レジストが除去され，リードの表面にＳｎ，Ａｕ，半田
メッキ処理を行ってフィルムキャリア工程が終了する。
この工程終了後，顕微鏡を用いて人間により目視でパタ
ーンの検査が行われている。このように，微細なパター
ンを目視で検査するには，熟練を要するとともに，目を
酷使する結果となる等の問題があった。

【０００４】一方，目視検査に代わるものとして，パタ
ーンをＴＶカメラで撮像し基準パターンとして，被測定
パターンとの一致率をもとに検査を行うパターンマッチ
ング手法によることも考えられる。しかしながら，一致
率は下式で表されるように，画素単位の計測であり，フ
ィルムキャリアのような微細なパターンの検査には不向
きである。 一致率＝｛（全体の画素−一致していない画素）／（全
体の画素）｝×１００％ 又，同一形状のリードが連続するようなパターンの場合
には，リードが１本分ずれて位置合わせしてしまう場合
もあり，同一形状のパターンの繰り返しの場合には問題
があった。

【０００５】そこで，上記の問題点を解決するために，
発明者は先に，以下のような方法を出願した。即ち，良
品と判定されている被測定パターンをマスタパターンと
し，その濃淡画像を画像メモリに記憶するとともに，こ
の画像メモリに記憶されたマスタパターンの濃淡ヒスト
グラムから，これを二値化処理して，マスタパターンの
エッジデータを求め，このエッジデータから最小二乗法
により直線化して登録するとともに，互いに対向位置す
る両直線の中心線Ｌ_Ｍと幅Ｗとを求めてこれをマスタパ
ターン情報として登録し，これを基準パターンとする。
一方，被測定パターンのエッジデータは，マスタパター
ンの各直線に対応付けされ，両者が比較照合され，誤差
が検査され，良品，不良品の判定がなされる方法であ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする問題点】しかしながら，一般
に，二値化された画像データは，格子状に配置された画
素により構成されている。従って，図１９に示すよう
に，被測定パターンが斜めの画像パターンとして取り込
まれた場合，この取り込まれた画像パターンのエッジ部
分は画素単位の階段状となる。

【０００７】そのため，階段状に表されている被測定パ
ターンｍと直線化されているマスタパタ−ンＭとの間で
斜線部分で示すように，誤差ε（＝１／√２＝０．７画
素）が生じる。この誤差分は被測定パターンｍの正規の
誤差に加算されることになり，見かけ上，不良部位と判
断されて，その部位における被測定パターンｍの幅ｗの
測定が開始されるため，良品，不良品の判定誤差の原因
となっていた。さらに，直線状の画像パターンが格子状
の画素に対して斜めに取り込まれた場合には，本来，直
線で表されるべき画像パターンのエッジ部分が階段状の
画像データとして抽出される。

【０００８】このように，階段状の画像データの場合に
は，図１９に○印で示すように，そのエッジデータのデ
ータ量が膨大となる。そのため，良品，不良品の判定に
あたっては，この膨大な被測定パターンｍのエッジデー
タをマスタパターンＭのエッジデータとひとつづつ比較
しなければならず，それだけデータ処理に時間がかか
り，検査時間が非常に長くかかるという問題があった。

【０００９】一方，カメラの設置状態によって，検査す
べき被測定パターンが格子状の画素に対して傾斜した状
態で画像表示された場合には，上記のように，階段状の
画像データが抽出され，検査すべきデータ量が膨大とな
るから，カメラの設置方向を厳密に規定する必要があっ
た。

【００１０】

【問題点を解決するための手段】この発明は，被測定パ
ターンの良品をマスタパターンの濃淡画像として画像メ
モリに記憶し，この画像メモリに記憶されたマスタパタ
ーンの濃淡ヒストグラムからこれを二値化処理してマス
タパターンのエッジデータを求め，このエッジデータの
中で同じ傾をもつエッジデータ部分の傾ａをそれぞれ求
めるとともに，マスタパターンを傾ａをもつ直線方程式
ａｘ＋ｂ−ｙ＝０で置換してマスタパターン情報として
登録し，エッジデータから最小二乗法によりマスタパタ
ーンを直線の集合に変換し，これらの直線から互いに対
向して位置する両直線の中心線Ｌ_Ｍを求めてマスタパタ
ーン情報として登録し，この中心線Ｌ_Ｍに直角に交わる
線と両直線とが交わる点までの長さから互いに対向する
直線の幅Ｗを求めてマスタパターン情報として登録し，
被測定パターンを画像メモリに記憶し，登録されたマス
タパターンと被測定パターンとを位置合わせするととも
に，検査範囲を設定し，この検査範囲の周辺に，被測定
パターンのエッジデータが存在し，検査範囲の周辺を一
定方向に検査して被測定パターンのエッジデータを抽出
し，この被測定パターンのエッジデータの中で同じ傾を
もつエッジデータ部分の傾をそれぞれ求め，この傾がマ
スタパターンの直線方程式と一致する被測定パターンの
エッジデータ部分は，順次対応するマスタパターンの直
線方程式に置換して直線化し，この直線化された被測定
パターンの両端のエッジデータを抽出するとともに，直
線化不可能な被測定パターンのエッジデータ部分はその
まま画素単位のエッジデータを抽出し，マスタパターン
の互いに隣接する直線の持つ角度を２等分する直線を算
出し，この２等分する直線によりマスタパターンを各直
線にそれぞれ対応する領域に分割し，この各領域内に存
在する被測定パターンの直線化したエッジデータと画素
単位のエッジデータとをマスタパターンの直線にそれぞ
れ対応付けし，それぞれ対応付けされた被測定パターン
のエッジデータとマスタパターンのエッジデータとの誤
差量を検出して良品，不良品の判定をするようにしたも
のである。

【００１１】

【作用】良品と判定されている被測定パターンをマスタ
パターンとし，その濃淡画像を画像メモリに記憶すると
ともに，この画像メモリに記憶されたマスタパターンの
濃淡ヒストグラムから，これを二値化処理して，マスタ
パターンのエッジデータを求める。このエッジデータの
中で同じ傾をもつエッジデータ部分の傾ａをそれぞれ求
め，この傾ａを持つ直線方程式ａｘ＋ｂ−ｙ＝０で表さ
れるマスタパターンを作成して登録する。

【００１２】次いで，エッジデータから最小二乗法によ
りマスタパターンを直線の集合に変換し，これらの直線
から互いに対向位置する両直線の中心線Ｌ_Ｍと幅Ｗとを
求めてこれをマスタパターン情報として登録する。この
エッジデータから傾ａの同じエッジデータ部分の傾ａを
それぞれ求め，この傾ａを持つ直線方程式ａｘ＋ｂ−ｙ
＝０で表されるマスタパターンを作成して登録する。

【００１３】同様に，被測定パターンｍのエッジデータ
の中で同じ傾ｃ（但し，ｃ＝ｘ／ｙ）をもったエッジデ
ータ部分の傾ｃ_１，ｃ_２・・・をそれぞれ求め，これら
の傾ｃを持つエッジデータ部分をマスタパターンＭと比
較して，同一の傾を持つデータは，対応するマスタパタ
ーンの直線と置換する。直線化不可能な被測定パターン
のエッジデータ部分はそのままのエッジデータをのこ
す。このようにすることにより，検査すべき被測定パタ
ーンのエッジデータ量が軽減され，データの処理時間を
大幅に短縮している。

【００１４】

【発明の実施例】この発明の実施例を，図１〜図１８に
基づいて詳細に説明する。図１はこの発明の実施例を示
す処理フロー，図２はこの発明を実施するためののパタ
ーン検査装置の基本動作図，図３はこの発明を実施する
ためのシステム構成図，図４〜図１８は，この発明によ
るパターンの検査方法を説明するための説明図である。

【００１５】まず，この発明を実施する具体的なパター
ン検査装置について，図２に示す基本動作図および図５
に示すシステム構成図に基づいて説明する。なお，この
実施例では，被測定パターンｍとしてＴＡＢテープのパ
ターンを例にとり，そのパターンを検査する場合につい
て説明する。

【００１６】図２において，パターン検査装置は，リー
ルに巻かれているＴＡＢテープ（図示せず）のフィルム
を送り出す巻出し部１，定寸送り・位置決め部２，良品
不良品を判定処理する検出部３，判定処理が終了したテ
ープを次に切断工程に送る定寸送り・位置決め部４，不
良品のテープを切断する打ち抜き部５，再度リールにテ
ープを巻取るための巻取り部６とにより構成されてい
る。

【００１７】図３は，システム構成図を示すもので，シ
ステム制御部７はこのシステム全体を制御し，メニュー
や結果を表示するカラーＣＲＴ８，品種の設定，登録，
操作メニューの選択を行うキーボード９，シーケンサ部
１０，プリンタ１１，画像メモリ１２，ＣＰＵ（計測ユ
ニット）１３，信号セレクタ１４等が制御されている。

【００１８】シーケンサ部１０は，システム制御部７の
制御のもとに，操作スイッチ・表示ランプ１５，テープ
ランナ部１６，テープパンチャ部１７，Ｘ−Ｙテーブル
１８等を制御している。１９はフロッピーディスクであ
る。

【００１９】ドライバ２０によりＸ方向のモータ２１，
シーケンサ部１０を介してテーブルコントローラ（３
軸）２２とＹ−Ｓ−Ｐドライバ２３とによりＹ方向のモ
ータ２４およびスパン軸用モータ２５が制御されて，Ｘ
−Ｙテーブル１８は，それぞれＸ方向，Ｙ方向およびス
パン軸方向に駆動制御される。従って，ＴＡＢテープ
は，Ｘ−Ｙテーブル１８上のカメラ２６，２７で撮像さ
れ，その画像はＡ／Ｄ変換器２８によりデジタル変換さ
れ，画像メモリ１２に画素単位で記憶される。検出部３
は，カメラ２６，２７とこの移動機構部分，Ｘ−Ｙテー
ブル１８，ＣＰＵ１３，Ａ／Ｄ変換器２８，画像メモリ
１２により構成されている。

【００２０】次に，このパターン検査装置の作用動作に
ついて説明する。リールに巻き取られているＴＡＢテー
プは，シーケンサ部１０の制御のもとに，テープランナ
部１６に１コマづつＸ−Ｙテーブル１８上のカメラ２
６，２７の所定位置に送り出され位置決めされる。Ｘ−
Ｙテーブル１８はＹおよびＸ軸方向の駆動モータ２４，
２１および３軸方向を制御するテーブルコントローラ２
２とにより，それぞれ位置決めされる。

【００２１】所定位置に位置決めされた１コマのＴＡＢ
テープのパターンは，２台のカメラ２６，２７により撮
像され，その濃淡画像はＡ／Ｄ変換器２８によりデジタ
ル信号に変換され，画素単位で画像メモリ１２に記憶さ
れる。一方，画像メモリ１２には，検査の開始に当たっ
て，良品と判定されたＴＡＢテープのマスタパターン情
報が作成され記憶される。このマスタパターンＭとＴＡ
Ｂパターン（被測定パターンｍ）とが検出部３におい
て，後述するような方法で比較され，良品，不良品の判
定処理がなされる。

【００２２】このようにして，各コマ毎に良品，不良品
の判定処理がなされたＴＡＢテープは，順次各コマ毎に
テープパンチャ部１７に送り込まれ，不良品が打ち抜か
れた後，巻取り部６において，再度リールに巻き取ら
れ，検査が終了する。

【００２３】次に，検出部３においてＴＡＢパターンが
良品，不良品と判定処理されるためのＴＡＢパターンの
検査方法について，図１に基づいて説明する。検査に先
立って，良品と判定されているＴＡＢテープから，基準
となるマスタパターンＭを作成して，マスタパターン情
報として画像メモリ１２に登録しておかねばならない。

【００２４】以下，マスタパターンＭの作成方法につい
て，図１〜図１３に基づいて説明する。白黒のカメラ２
６，２７で撮像され，良品と判定されたＴＡＢテープの
パターンの濃淡画像は，図４にそのパターンの一部が示
され，図５，図６にその拡大図が示されているが，それ
は，まず，一旦画像メモリ１２に登録される（ステップ
４０）。次いで，そのエッジ座標（エッジデータ）が，
図５，図６に示すように，濃淡画像が白→黒，黒→白と
変化している点の中点において，しきい値Ｓ_Ｌと交叉す
るものと仮定して抽出される（ステップ４１）。

【００２５】マスタパターンＭのエッジデータの抽出
は，全体画像の濃淡ヒストグラムからこれを二値化処理
し，しきい値Ｓ_Ｌの両隣の白，黒の画素において比例配
分でしきい値Ｓ_ＬをよぎるＸ又はＹ座標値（以下，エッ
ジデータと記す）Ｎ_１（４．５，２），Ｎ_２（５，２．
５），Ｎ_３（５．５，３）・・・・が求められる（ステ
ップ４１）。

【００２６】次に，図７に示すように，このようにして
求められた点の集合であるマスタパターンＭの各エッジ
データＮ_１，Ｎ_２，Ｎ_３・・・は最小二乗法により直線
Ａ_１，Ａ_２，Ａ_３・・として直線化される（ステップ４
２）。なお，この場合，各エッジデータＮ_１，Ｎ_２，Ｎ
_３・・・から直線Ａ_１，Ａ_２，Ａ_３・・・に垂線を下
し，それぞれ各エッジデータＮ_１，Ｎ_２，Ｎ_３・・・か
ら直線Ａ_１．Ａ_２・・までの距離ΔＮ_１，ΔＮ_２，ΔＮ
_３・・・が，０．３画素以下の場合には，直線化可能な
エッジデータとして直線Ａ_１，Ａ_２・・・に含められ
る。このようにして，点の集合として抽出されているマ
スタパターンＭのエッジデータＮ_１，Ｎ_２，Ｎ_３・・・
を直線化して，最終的にはマスタパターンＭは直線
Ａ_１，Ａ_２，Ａ_３・・の集合に変換される（ステップ４
２）。

【００２７】次に，マスタパターンＭの幅Ｗが求められ
る。図８に示すように，互いに対向する直線Ａ_１と直線
Ａ_ｎ，直線Ａ_２と直線Ａ_ｎ−１・・・から中心線Ｌ_Ｍを
求め，この中心線データは，マスタパターン情報として
登録される（ステップ４３）。なお，この情報は，被測
定パターンｍを検査する場合にリードの方向性を調べる
のに使用される。

【００２８】求められた中心線Ｌ_Ｍに垂直な直線Ｈ_Ｍを
引いた時，この直線Ｈ_Ｍが直線Ａ_１とＡ_Ｎ，Ａ_２とＡ
_Ｎ−１・・・と交叉する点までの幅がマスタパターンＭ
の幅Ｗと等しくなる。

【００２９】即ち，中心線Ｌ_Ｍは両直線Ａ_１とＡ_ｎ−１
との距離を直径とする内接円の中心の軌跡となるととも
に，直径がマスタパターンＭの幅Ｗとなる（ステップ４
４）。このようにして順次求められたマスタパターンＭ
の直線Ａ_１，Ａ_２，Ａ_３・・・，中心線Ｌ_Ｍは，マスタ
パターン情報として登録されて，基準となるマスタパタ
ーンＭが作成される（ステップ４５）。

【００３０】一方，ステップ４１において抽出されたエ
ッジデータは，図１９に示すように，０．１画素の単位
の階段状の画像データとして表される。そこで，階段状
のエッジデータは，例えば，１画素下がって２画素目に
抽出され，あるいは１画素下がって１画素目に抽出され
る等のように，エッジデータ部分が一定の割合で変化し
ているパターン部分についてその傾ａ（ａ_１，ａ_２・・
・）がそれぞれ求められる（ステップ４６）。

【００３１】このようにして，一定の傾ａ（ａ_１，ａ_２
・・・）を持つ画像パターンのエッジデータ部分につい
ては，その間をそれぞれ直線方程式ａ_１ｘ＋ｂ−ｙ＝０
（直線Ｔ_１），ａ_２ｘ＋ｂ−ｙ＝０（直線Ｔ_２）・・・
で表される直線，その一般式はａｘ＋ｂ−ｙ＝０で表さ
れる直線にそれぞれ変換される（ステップ４７）。この
ようにして，マスタパターンＭは傾ａ_１，ａ_２・・・を
持つ直線方程式群で表され，マスタパターン情報として
登録される（ステップ４５）。

【００３２】上記のようにして，マスタパターンＭが作
成されると，次は，実際にＴＡＢテープの被測定パター
ンｍが，図１に示す手順で検査される。まず，ＴＡＢテ
ープは，図２，図３に示すように，リールに巻き取られ
ており，巻出し部１から，１コマずつ送り出され，カメ
ラ２６，２７により被測定パターンｍが撮像される。こ
の時，撮像された画像は，図４に示すような濃淡画像と
なり，Ａ／Ｄ変換器２８でデジタル信号に変換されて，
画像メモリ１２に一旦記憶される。

【００３３】画像メモリ１２に記憶されているマスタパ
ターンＭとこの被測定パターンｍとは，検出部３のＣＰ
Ｕ１３で読み出され，位置合わせされた後，比較，照合
されて，被測定パターンｍが検査される（ステップ４
８）。

【００３４】ここで，被測定パターンｍをマスタパター
ンＭと比較，照合して検査する場合の前提条件を，図９
に基づいて説明する。 （１）マスタパタ−ンＭおよび被測定パタ−ンｍのエッ
ジデータｎ_１，ｎ_２，ｎ_３・・・は，例えば，検査範囲
を設定する一つの手法として，ウインド３０によってマ
スクされ，ウインド３０の中のパターンのみが検査の対
象となる（ステップ４９）。 （２）ウインド３０によって一部分切り出された被測定
パターンｍは，図９に示すように，必ずウインド３０の
４辺のいづれかに接しており，パターン３１で示される
形状のパターン部分は，エッジデータとしては認識しな
い。 （３）検査は，必ず出発点Ｓからウインド３０の４辺を
一定方向に回って進められ，最後に出発点Ｓに戻り，画
面の検査が完了する。 （４）被測定パターンｍは直線であること。

【００３５】このような前提条件のもとに，以下の手順
で被測定パターンｍの検査が行われる。図１０は，検査
時の状態を示すもので，マスタパターンＭのエッジデー
タは最小二乗法により直線化されて，直線Ａ_１，Ａ_２，
Ａ_３・・・で示されており，抽出された被測定パターン
ｍのエッジデータｎ_１，ｎ_２，ｎ_３・・・が黒丸で示さ
れている（ステップ５０）。

【００３６】次に，図１８に示すように，被測定パター
ンｍのエッジデータｎ_１，ｎ_２，ｎ_３・・・ｎ_ｎから，
このデータの内，傾ｃが同一の値を持つエッジデータ，
例えば，エッジデータｎ_１からｎ_１１までの直線Ｃ_１の
傾はｃ_１，ｎ_１２からｎ_１３ までの直線Ｃ_２の傾はｃ_２
等のように算出される（ステップ５１）。

【００３７】これらの傾ｃ（ｃ_１，ｃ_２・・・）は，そ
れぞれマスタパターンＭと比較されて，例えば，マスタ
パターンＭの傾ａ_１とｃ_１およびａ_２とｃ_２とが同一の
傾を持つものとして，直線化可能なパターンとして検出
される。これらの直線Ｃ_１，Ｃ_２・・・は，それぞれマ
スタパターンＭの直線方程式ａ_１ｘ＋ｂ−ｙ＝０，ａ_２
ｘ＋ｂ−ｙ＝０で表される直線に置換される（ステップ
５２）。

【００３８】このようにして直線化された場合の被測定
パターンｍのエッジデータの内，直線方程式ａ_１ｘ＋ｂ
−ｙ＝０，ａ_２ｘ＋ｂ−ｙ＝０・・・で直線化された箇
所のエッジデータは，直線の両端のエッジデータｎ_１，
ｎ_１１およびｎ_１２，ｎ_１４・・・となる。この際，直
線化できないエッジデータ部分は，そのまま階段状のエ
ッジデータとして残されている。

【００３９】このようにして求められ被測定パターンｍ
のエッジデータｎ_１，ｎ_１１，ｎ_１２，ｎ_１４，・・・
ｎ_ｎは，次に，マスタパターンＭのどの直線と対応する
かの対応付けが行われなければならない。この対応付け
を行うために，図１１に示すように，マスタパターンＭ
の互いに隣接する直線Ａ_１と直線Ａ_２，直線Ａ_２と直線
Ａ_３・・・が持つ角度α，β・・・をそれぞれ２等分す
る直線Ａ_２’，Ａ_３’・・・を算出する。

【００４０】従って，マスタパターンＭは，この直線Ａ
_２’，Ａ_３’・・・で区分され，各直線Ａ_１，Ａ_２，Ａ
_３・・に対応する領域（以下，領域Ａ_１，Ａ_２，Ａ_３・
・・と記す）に分割されることになるので，被測定パタ
ーンｍのエッジデータｎ_１，ｎ_１１，ｎ_１２，ｎ_１４・
・・は，すべて領域Ａ_１，Ａ_２，Ａ_３・・・に対応付け
される（ステップ５３）。

【００４１】次に，マスタパターンＭと被測定パターン
ｍとの誤差量（ずれ）Δｄが測定されなければならな
い。このためには，図１２に示すように，被測定パター
ンｍのエッジデータｎ_１，ｎ_１１，ｎ_１２・・・から直
線Ａ_１，Ａ_２・・・にそれぞれ垂線ｈ_１，，ｈ_１１・・
・を降ろし，この垂線ｈ_１，ｈ_１１・・・が，それぞれ
直線Ａ_１，Ａ_２・・・と交叉する距離Δｄ（Δｄ_１，Δ
ｄ_１１・・・）を求めると，この距離Δｄが誤差量，即
ち，マスタパターンＭと被測定パターンｍとのずれ量と
なる（ステップ５４）。なお，この測定に際しては，マ
スタパターンＭと比較されるべき被測定パターンｍのエ
ッジデータは，非常に減少しているので，検査時間は大
幅に短縮される。

【００４２】次に，実際に各種の検査をする場合につい
て説明する（ステップ５５）。 （１）．断線の検査 図１１に示すように，マスタパターンＭのエッジデータ
は，直線Ａ_１，Ａ_２・・・に変換されているとともに，
領域Ａ_１，Ａ_２・・・に区分されている。一方，抽出さ
れた被測定パターンｍの境界座標を示すエッジデータｎ
_１，ｎ_２，ｎ_３・・・は，それぞれｎ_１〜ｎ_１１までは
マスタパターンＭの直線方程式ａ_１ｘ＋ｂ−ｙ＝０，ｎ
_１２〜ｎ_１４までは，直線方程式ａ_２ｘ＋ｂ−ｙ＝０と
変換される。従って，被測定パターンのエッジデータ
は，ｎ_１，ｎ_１１，ｎ_１２・・・となり，それぞれラベ
リングが付されて，連続的なエッジデータｎ_１，
ｎ_{１ １}，ｎ_１２・・・の集合として抽出される。

【００４３】この抽出された被測定パターンｍの各エッ
ジデータｎ_１，ｎ_１１，ｎ_１２・・・（図１１に黒丸で
示されている）は，マスタパターンＭのどの直線にそれ
ぞれ対応するかを領域Ａ_１，Ａ_２・・・に分けて対応付
けされ分類される。

【００４４】そこで，断線であるか否かの判定は，図１
３に示すように，被測定パターンｍのエッジデータ
ｎ_１，ｎ_１１，ｎ_１２・・・ｎ_ｎをマスタパターン情報
としてマスタパターンＭの作成時に登録されている各領
域Ａ_１，Ａ_２・・・Ａ_７に対応付けする。この場合，マ
スタパターンＭの領域Ａ_１，Ａ_２・・・Ａ_７に，それぞ
れ対応付けされる被測定パターンｍのエッジデータ
ｎ_１，ｎ_１１，ｎ_１２，ｎ_１４・・・・は，以下のよう
である。

【００４５】領域Ａ_１・・・エッジデータ ｎ_１，ｎ
_１１ 領域Ａ_２・・・エッジデータ ｎ_１２，ｎ_１４ 領域Ａ_３・・・エッジデータ ０ 領域Ａ_４・・・エッジデータ ０ 領域Ａ_５・・・エッジデータ ０ 領域Ａ_６・・・エッジデータ ｎ_ｎ−３ｎ_ｎ−２ 領域Ａ_７・・・エッジデータ ｎ_ｎ−１ｎ_ｎ

【００４６】この結果から明らかであるように，マスタ
パターンＭの領域Ａ_３，Ａ_４，Ａ_５に対応する被測定パ
ターンｍのエッジデータが存在しないため，このような
場合は断線と判定される。

【００４７】（２）．短絡（ショート）の検査 図１４は短絡の検査時の状態を示すもので，図示のよう
に，マスタパターンＭのリードと被測定パターンｍのリ
ードとが，それぞれウインド３０と接しているリード位
置，およびリード位置’，’とすると，被測定
パターンｍのエッジデータが他の箇所でマスタパターン
Ｍの他のリードと接していた場合には，短絡と判定され
なければならない。

【００４８】従って，このように，短絡と判定するため
に，まず，被測定パターンｍのリード毎にエッジデータ
が抽出され，図１５に示すように，各エッジデータは，
ａ，ｂ，ｃ，ｄ・・・ｓ，ｔ，ｕとラベリングされる。

【００４９】被測定パターンｍに短絡がある場合には，
ラベリングされたリードパターン’のエッジデータ
は，ａ，ｂ，ｃ，ｊ，ｋ，ｌ，ｍ，ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，
ｒ，ｓ，ｔ，ｕ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈ，ｉ，ａとなり，
リードパターン’のエッジデータｊ，ｋ，ｌ，ｍ，
ｎ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒ，ｓ，ｔ，ｕが抽出される。しか
し，このようなエッジデータｊ，ｋ，ｌ，ｍ，ｎ，ｏ，
ｐ，ｑ，ｒ，ｓ，ｔ，ｕは，マスタパターンＭのリード
パターンのエッジデータとしては，登録されていない
ので，この場合には，被測定パターンｍのリードパター
ン’とリードパターン’とは短絡していると判定さ
れる。

【００５０】（３）．パターンの幅の検査 図１６は細りの検査時の状態を示すもので，図１２に示
すように，被測定パターンｍのエッジデータｎ_１，ｎ
_１１，ｎ_１２，ｎ_１４・・・から，マスタパターンＭの
直線Ａ_１，Ａ_２・・・に垂線を下し，この垂線までの長
さΔｄ（誤差量）（Δｄ_１，Δｄ_５・・・）を求め，こ
の誤差量Δｄが小さい場合には，そのまま良品として判
定される。

【００５１】誤差量Δｄが大きいエッジデータに対して
は，マスタパターンＭの中心線Ｌ_Ｍに対して垂線を下ろ
して，その距離を求め，互いに対向する被測定パターン
ｍのエッジデータの幅ｗ（ｗ_１，ｗ_２・・）を求める。
この実施例の場合には，マスタパターンＭの幅Ｗとした
時，被測定パターンの幅ｗが （２／３）Ｗ＜ｗ＜（４／３）Ｗ の範囲内に入っているか否かを見て，この範囲内に入っ
ている場合には，良品と判定され，範囲外の場合には細
りあるいは太りとして不良品と判定される。但し，一般
には，判定係数をＡおよびＢ（但し，Ａ＜Ｂ）とした
時，この幅ｗと前記マスタパターンの幅Ｗとが， ＡＷ＜ｗ＜ＢＷ となる時，良品と判定し，幅ｗがこの範囲外にある時を
パターンの幅不適として不良品と判定される。

【００５２】（４）．位置ずれ（曲がり）の検査 図１７は，位置ずれの検査時の状態を示すもので，マス
タパターンＭの直線Ａ_１，Ａ_２・・・からそれぞれ対応
付けられている被測定パターンｍのエッジデータが大き
くずれたデータに対してのみ，被測定パターンｍのエッ
ジデータから，マスタパターンＭの直線Ａ_１，Ａ_２・・
・に垂線を下し，この垂線までの長さ（誤差量）Δ
ｄ_１，Δｄ_２，Δｄ_３，・・・Δｄ_ｎを求める。

【００５３】マスタパターンＭのリード幅Ｗとした時，
この誤差量Δｄ_ｎがΔｄ_ｎ＞（１／２）Ｗの時のみ，位
置ずれと判定されて不良品と判定され，その他の場合に
は，即ち，誤差量Δｄ_ｎがリード幅Ｗ／２より小さい場
合には，良品と判定され，誤差量Δｄ_ｎは測定されな
い。

【００５４】なお，被測定パターンｍが同一形状のリー
ドパターンの繰り返しとして形成されている場合には，
マスタパターンＭと被測定パターンｍとが１本分リード
パターンがずれた状態で位置合わせされる場合がある
が，この場合には，位置ずれとの判定結果はでないが，
検査の最終段階では被測定パターンｍの最終リードパタ
ーンに対応するマスタパターンＭのエッジデータが存在
しないことになり，不良品と判定されることになるか
ら，最終的にはチェックすることが出来る。

【００５５】

【発明の効果】この発明は，被測定パターンの良品をマ
スタパターンの濃淡画像として画像メモリに記憶し，こ
の画像メモリに記憶されたマスタパターンの濃淡ヒスト
グラムからこれを二値化処理してマスタパターンのエッ
ジデータを求め，このエッジデータの中で同じ傾をもつ
エッジデータ部分の傾ａをそれぞれ求めるとともに，マ
スタパターンを傾ａをもつ直線方程式ａｘ＋ｂ−ｙ＝０
で置換してマスタパターン情報として登録し，エッジデ
ータから最小二乗法によりマスタパターンを直線の集合
に変換し，これらの直線から互いに対向して位置する両
直線の中心線Ｌ_Ｍを求めてマスタパターン情報として登
録し，この中心線Ｌ_Ｍに直角に交わる線と両直線とが交
わる点までの長さから互いに対向する直線の幅Ｗを求め
てマスタパターン情報として登録し，被測定パターンを
画像メモリに記憶し，登録されたマスタパターンと被測
定パターンとを位置合わせするとともに，検査範囲を設
定し，この検査範囲の周辺に，被測定パターンのエッジ
データが存在し，検査範囲の周辺を一定方向に検査して
被測定パターンのエッジデータを抽出し，この被測定パ
ターンのエッジデータの中で同じ傾をもつエッジデータ
部分の傾をそれぞれ求め，この傾がマスタパターンの直
線方程式と一致する被測定パターンのエッジデータ部分
は，順次対応するマスタパターンの直線方程式に置換し
て直線化し，この直線化された被測定パターンの両端の
エッジデータを抽出するとともに，直線化不可能な被測
定パターンのエッジデータ部分はそのまま画素単位のエ
ッジデータを抽出し，マスタパターンの互いに隣接する
直線の持つ角度を２等分する直線を算出し，この２等分
する直線によりマスタパターンを各直線にそれぞれ対応
する領域に分割し，この各領域内に存在する被測定パタ
ーンの直線化したエッジデータと画素単位のエッジデー
タとをマスタパターンの直線にそれぞれ対応付けし，そ
れぞれ対応付けされた被測定パターンのエッジデータと
マスタパターンのエッジデータとの誤差量を検出して良
品，不良品の判定をするようにしたので，被測定パター
ンの検査すべきエッジデータ数が非常に少なくなるた
め，検査に要する処理時間を大幅に短縮することが出来
る。

【００５６】又，画像パターンのエッジデータを直線化
しているので，傾斜した画像パターンの場合のように階
段状の画像パターンにより発生する量子化誤差を最小に
することが出来る。その上，カメラの設置方向を厳密に
する必要もない。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図面の簡単な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施例を示す処理フローである。

【図２】この発明の実施例を示すパターン検査装置の基
本動作図である。

【図３】この発明の実施例を示すシステム構成図であ
る。

【図４】この発明の実施例を示すもので，被測定パター
ンの一部である。

【図５】この発明の実施例を示すもので，マスタパター
ンのエッジデータを求めるための説明図で，図４の要部
拡大図である。

【図６】この発明の実施例を示すもので，図５の要部拡
大図である。

【図７】この発明の実施例を示すもので，マスタパター
ンを直線化するための説明図である。

【図８】この発明の実施例を示すもので，マスタパター
ンの幅Ｗを求めるための説明図である。

【図９】この発明の実施例を示すもので，ウインドに表
示された被測定パターンである。

【図１０】この発明の実施例を示すもので，マスタパタ
ーンの直線と被測定パターンのエッジデータとの関係を
示す図である。

【図１１】この発明の実施例を示すもので，マスタパタ
ーンの領域を区分するための説明図である。

【図１２】この発明の実施例を示すもので，ずれ（誤差
量）を求めるための説明図である。

【図１３】この発明の実施例を示すもので，断線の検査
の説明図である。

【図１４】この発明の実施例を示すもので，短絡の検査
の説明図である。

【図１５】この発明の実施例を示すもので，短絡の検査
の説明図である。

【図１６】この発明の実施例を示すもので，細りの検査
の説明図である。

【図１７】この発明の実施例を示すもので，曲がり検査
の説明図である。

【図１８】この発明の実施例を示すもので，被測定パタ
ーンｍを直線方程式に置換するための説明図である。

【図１９】マスタパターンＭを直線方程式に置換するた
めの説明図である。

【符号の説明】 Ｍ マスタパターン Ａ_１，Ａ_２・・・マスタパターンＭの直線 Ｎ_１，Ｎ_２・・・マスタパターンのエッジデータ ａ（ａ_１，ａ_２・・・）マスタパターンＭのエッジデー
タの傾 Ｈ_Ｍ マスタパターンの直線 Ｌ_Ｍ マスタパターンの中心線 Ｗ マスタパターンの幅 Δｄ 誤差量（ずれ） ｍ 被測定パターン ｗ 被測定パターンの幅 ｎ_１，ｎ_１１・・・被測定パターンのエッジデータ ｃ（ｃ_１，ｃ_２・・・） 被測定パターンｍのエッジデ
ータの傾 Ｘ ずれの長さ １２ 画像メモリ １３ ＣＰＵ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被測定パタ−ンの良品をマスタパタ−ン
   の濃淡画像として画像メモリに記憶し，この画像メモリ
   に記憶された前記マスタパタ−ンの濃淡ヒストグラムか
   らこれを二値化処理して前記マスタパタ−ンのエッジデ
   −タを求め，このエッジデ−タの中で同じ傾をもつエッ
   ジデ−タ部分の傾ａをそれぞれ求めるとともに，前記マ
   スタパタ−ンを前記傾ａをもつ直線方程式ａｘ＋ｂ−ｙ
   ＝０で置換してマスタパタ−ン情報として登録し，前記
   エッジデ−タから最小二乗法により前記マスタパタ−ン
   を直線の集合に変換し，これらの直線から互いに対向し
   て位置する両直線の中心線Ｌ_M を求めて前記マスタパタ
   −ン情報として登録し，この中心線Ｌ_M に直角に交わる
   線と前記両直線とが交わる点までの長さから前記互いに
   対向する直線の幅Ｗを求めて前記マスタパタ−ン情報と
   して登録し，被測定パタ−ンを画像メモリに記憶し，前
   記登録されたマスタパタ−ンと前記被測定パタ−ンとを
   位置合わせするとともに，検査範囲を設定し，この検査
   範囲の周辺に，前記被測定パタ−ンのエッジデ−タが存
   在し，前記検査範囲の周辺を一定方向に検査して前記被
   測定パタ−ンのエッジデ−タを抽出し，この被測定パタ
   −ンのエッジデ−タの中で同じ傾をもつエッジデ−タ部
   分の傾をそれぞれ求め，この傾が前記マスタパタ−ンの
   前記直線方程式と一致する前記被測定パタ−ンのエッジ
   デ−タ部分は，順次対応する前記マスタパタ−ンの直線
   方程式に置換して直線化し，この直線化された前記被測
   定パタ−ンの両端のエッジデ−タを抽出するとともに，
   直線化不可能な前記被測定パタ−ンのエッジデ−タ部分
   はそのまま画素単位のエッジデ−タを抽出し，前記マス
   タパタ−ンの互いに隣接する直線の持つ角度を２等分す
   る直線を算出し，この２等分する直線により前記マスタ
   パタ−ンを前記各直線にそれぞれ対応する領域に分割
   し，この各領域内に存在する被測定パタ−ンの直線化し
   たエッジデ−タと画素単位のエッジデ−タとを前記マス
   タパタ−ンの直線にそれぞれ対応付けし，それぞれ対応
   付けされた前記被測定パタ−ンのエッジデ−タと前記マ
   スタパタ−ンのエッジデ−タとの誤差量を検出して良
   品，不良品の判定をすることを特徴とするパタ−ンの検
   査方法。