JPH0699703B2 - 浴室用液体洗浄剤組成物 - Google Patents
浴室用液体洗浄剤組成物Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
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- C11D3/2086—Hydroxy carboxylic acids-salts thereof
-
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-
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は液体洗浄剤組成物に関し、更に詳しくは特に浴
室の洗浄に適した中性の液体洗浄剤組成物に関する。
室の洗浄に適した中性の液体洗浄剤組成物に関する。
浴室の硬表面に付着した、人体からの分泌する汚れを落
とすために、従来より界面活性剤、キレート剤及びグリ
コールエーテル系溶剤を含有するエーテル洗浄剤が使わ
れている。
とすために、従来より界面活性剤、キレート剤及びグリ
コールエーテル系溶剤を含有するエーテル洗浄剤が使わ
れている。
これらの液体洗浄剤は洗浄効果を最大にするために一般
にpHが4.5〜5.5の弱酸性に調整されているが、組成によ
っては中性でも充分な洗浄効果を有することが知られて
いる。例えば特開昭53−35710号公報には陰イオン性界
面活性剤、非イオン性界面活性剤、クエン酸塩またはエ
チレンジアミン四酢酸塩等のキレート剤及びグリコール
エーテル系溶剤を含有するpHが4.5〜7.5の浴室用洗浄剤
組成物が、また特開昭63−51500号公報には界面活性
剤、アミノカルボン酸のカリウム塩及びグリコールエー
テル系溶剤を含有する中性の浴室用洗浄剤組成物が開示
されている。
にpHが4.5〜5.5の弱酸性に調整されているが、組成によ
っては中性でも充分な洗浄効果を有することが知られて
いる。例えば特開昭53−35710号公報には陰イオン性界
面活性剤、非イオン性界面活性剤、クエン酸塩またはエ
チレンジアミン四酢酸塩等のキレート剤及びグリコール
エーテル系溶剤を含有するpHが4.5〜7.5の浴室用洗浄剤
組成物が、また特開昭63−51500号公報には界面活性
剤、アミノカルボン酸のカリウム塩及びグリコールエー
テル系溶剤を含有する中性の浴室用洗浄剤組成物が開示
されている。
ところで、酸性洗剤は誤って塩素系漂白剤と混合すると
人体に有害な塩素ガスを発生するという危険性がある。
pHを弱酸性、中性としていくにつれて塩素ガスの発生は
少なくなるが、弱酸性ないし中性としても上記公知例で
は若干の塩素ガスが発生するという問題がある。
人体に有害な塩素ガスを発生するという危険性がある。
pHを弱酸性、中性としていくにつれて塩素ガスの発生は
少なくなるが、弱酸性ないし中性としても上記公知例で
は若干の塩素ガスが発生するという問題がある。
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究した結
果、ヒドロキシカルボン酸またはその塩と、アミノカル
ボン酸またはその塩とを特定の比率で配合し、pHを中性
にした液体洗浄剤組成物が塩素ガスの発生を完全に抑制
し、しかも洗浄力も充分であることを見出し本発明を完
成するに至った。
果、ヒドロキシカルボン酸またはその塩と、アミノカル
ボン酸またはその塩とを特定の比率で配合し、pHを中性
にした液体洗浄剤組成物が塩素ガスの発生を完全に抑制
し、しかも洗浄力も充分であることを見出し本発明を完
成するに至った。
すなわち本発明は、 (a) 陰イオン性界面活性剤及び/または非イオン性
界面活性剤 0.1〜10重量%、 (b) ヒドロキシカルボン酸またはその塩と (c) アミノカルボン酸またはその塩、 (b)/(c)重量比が10/1ないし1/1、かつ(b)+
(c)で 0.1〜20重量%、 (d) アルキレングリコール低級アルキルエーテル系
溶剤 0.1〜20重量% を含有し、pHが6.0〜8.0であることを特徴とする浴室用
液体洗浄剤組成物を提供するものである。
界面活性剤 0.1〜10重量%、 (b) ヒドロキシカルボン酸またはその塩と (c) アミノカルボン酸またはその塩、 (b)/(c)重量比が10/1ないし1/1、かつ(b)+
(c)で 0.1〜20重量%、 (d) アルキレングリコール低級アルキルエーテル系
溶剤 0.1〜20重量% を含有し、pHが6.0〜8.0であることを特徴とする浴室用
液体洗浄剤組成物を提供するものである。
本発明に用いられる(a)成分の陰イオン性界面活性剤
としては通常のスルホネート系陰イオン性界面活性剤、
サルフェート系陰イオン性界面活性剤が使用される。
としては通常のスルホネート系陰イオン性界面活性剤、
サルフェート系陰イオン性界面活性剤が使用される。
スルホネート系陰イオン性界面活性剤としては、直鎖ま
たは分岐鎖アルキル(C8〜C18)ベンゼンスルホン酸
塩、長鎖アルキル(C8〜C22)スルホン酸塩、長鎖オレ
フィン(C8〜C22)スルホン酸塩等が挙げられる。
たは分岐鎖アルキル(C8〜C18)ベンゼンスルホン酸
塩、長鎖アルキル(C8〜C22)スルホン酸塩、長鎖オレ
フィン(C8〜C22)スルホン酸塩等が挙げられる。
またサルフェート系陰イオン性界面活性剤としては、長
鎖モノアルキル(C8〜C22)硫酸エステル塩、ポリオキ
シエチレン(1〜6モル)長鎖アルキル(C8〜C22)エ
ーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレン(1〜6モ
ル)アルキル(C8〜C18)フェニルエーテル硫酸エステ
ル塩等が挙げられる。
鎖モノアルキル(C8〜C22)硫酸エステル塩、ポリオキ
シエチレン(1〜6モル)長鎖アルキル(C8〜C22)エ
ーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレン(1〜6モ
ル)アルキル(C8〜C18)フェニルエーテル硫酸エステ
ル塩等が挙げられる。
これら陰イオン性界面活性剤の対イオンとしての陽イオ
ンはナトリウム、カリウム等のアルカリ金属イオン、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン等のアルカノールアミンイオン等が挙げられ
る。
ンはナトリウム、カリウム等のアルカリ金属イオン、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン等のアルカノールアミンイオン等が挙げられ
る。
加水分解に対する抵抗が強い等の点から、本発明の陰イ
オン性界面活性剤としてはスルホネート系陰イオン性界
面活性剤が好ましい。その中でも、更に洗浄力等の点か
ら直鎖または分岐差アルキル(C8〜C18)ベンゼンスル
ホン酸塩が好ましい。
オン性界面活性剤としてはスルホネート系陰イオン性界
面活性剤が好ましい。その中でも、更に洗浄力等の点か
ら直鎖または分岐差アルキル(C8〜C18)ベンゼンスル
ホン酸塩が好ましい。
もう一方の(a)成分である非イオン性界面活性剤とし
てはポリオキシエチレン(6〜35モル)長鎖アルキル
(C8〜C22)エーテル、ポリオキシエチレン(6〜35モ
ル)アルキル(C8〜C22)フェニルエーテル等が挙げら
れる。
てはポリオキシエチレン(6〜35モル)長鎖アルキル
(C8〜C22)エーテル、ポリオキシエチレン(6〜35モ
ル)アルキル(C8〜C22)フェニルエーテル等が挙げら
れる。
本発明において、上記の界面活性剤は組成物中に0.1〜2
0重量%、好ましくは0.5〜10重量%配合される。特に陰
イオン性界面活性剤1〜7重量%と非イオン性界面活性
剤1〜7重量%とを併用するのが望ましい。
0重量%、好ましくは0.5〜10重量%配合される。特に陰
イオン性界面活性剤1〜7重量%と非イオン性界面活性
剤1〜7重量%とを併用するのが望ましい。
(b)成分のヒドロキシカルボン酸の具体例としては、
グリコール酸、乳酸、グルコン酸、クエン酸、リンゴ
酸、及び酒石酸等が挙げられる。
グリコール酸、乳酸、グルコン酸、クエン酸、リンゴ
酸、及び酒石酸等が挙げられる。
この中でもリンゴ酸、クエン酸、及び酒石酸またはそれ
らの塩が好ましい。またヒドロキシカルボン酸の塩とし
てはナトリウム塩、カリウム塩、モノエタノールアミン
塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩が
例示される。
らの塩が好ましい。またヒドロキシカルボン酸の塩とし
てはナトリウム塩、カリウム塩、モノエタノールアミン
塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩が
例示される。
(c)成分のアミノカルボン酸またはその塩の具体例と
してはニトリロ三酢酸、イソセリン二酢酸、及び下記の
一般式(II)で表される化合物が例示される。
してはニトリロ三酢酸、イソセリン二酢酸、及び下記の
一般式(II)で表される化合物が例示される。
〔式中、A、Bは次のものを示す。
A:-CH2COOHまたは‐C2H4COOH B:-CH2COOH、‐C2H4OH、‐C2H4N(CH2COOH)2、 または、 ‐C2H4N(CH2COOH)C2H4N(CH2COOH)2〕 上記一般式(II)で表されるアミノカルボン酸の代表例
としては、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレント
リアミンペンタ酢酸、N−ヒドロキシエチルエチレンジ
アミントリ酢酸、エチレンジアミンテトラプロピオン
酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸等が挙げられ
る。また、アミノカルボン酸の塩としてはナトリウム
塩、カリウム塩、モノエタノールアミン塩、ジエタノー
ルアミン塩、トリエタノールアミン塩が挙げられる。
としては、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレント
リアミンペンタ酢酸、N−ヒドロキシエチルエチレンジ
アミントリ酢酸、エチレンジアミンテトラプロピオン
酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸等が挙げられ
る。また、アミノカルボン酸の塩としてはナトリウム
塩、カリウム塩、モノエタノールアミン塩、ジエタノー
ルアミン塩、トリエタノールアミン塩が挙げられる。
本発明において上記(b)成分と(c)成分は(b)/
(c)重量比で10/1〜1/1、好ましくは5/1〜1/1、
(b)+(c)総量で組成物中に0.1〜20重量%、好ま
しくは1〜10重量%の範囲で配合される。重量比及び配
合量が上記の範囲を外れると塩素ガスの発生防止と洗浄
力を同時に満たすことはできない。
(c)重量比で10/1〜1/1、好ましくは5/1〜1/1、
(b)+(c)総量で組成物中に0.1〜20重量%、好ま
しくは1〜10重量%の範囲で配合される。重量比及び配
合量が上記の範囲を外れると塩素ガスの発生防止と洗浄
力を同時に満たすことはできない。
(d)成分のアルキレングリコール低級アルキルエーテ
ル系溶剤は下記の一般式(III)で表される。
ル系溶剤は下記の一般式(III)で表される。
R-O-(C2H4)x(C3H6O)y-R′ (III) (式中、R,R′はそれぞれH、炭素数1〜4のアルキル
基を表し、R,R′が同時にHであることはない。x、y
は0であってよいが、同時に0であることはない。x+
yは1〜10である。) 上記一般式(III)で表されるアルキレングリコール低
級アルキルエーテル系溶剤としては、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチ
ルエーテル、ヘキサプロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、テトラプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、テトラプロピレングリコールジメチルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコ
ールモノアミルエーテル、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ
エチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピル
エーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテ
ル、ポリオキシエチレン(x=1)ポリオキシプロピレ
ン(y=4)グリコールモノエチルエーテル、ポリオキ
シエチレン(x=1)ポリオキシプロピレン(y=1.
5)グリコールブチルエーテル等が挙げられる。
基を表し、R,R′が同時にHであることはない。x、y
は0であってよいが、同時に0であることはない。x+
yは1〜10である。) 上記一般式(III)で表されるアルキレングリコール低
級アルキルエーテル系溶剤としては、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチ
ルエーテル、ヘキサプロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、テトラプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、テトラプロピレングリコールジメチルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコ
ールモノアミルエーテル、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ
エチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピル
エーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテ
ル、ポリオキシエチレン(x=1)ポリオキシプロピレ
ン(y=4)グリコールモノエチルエーテル、ポリオキ
シエチレン(x=1)ポリオキシプロピレン(y=1.
5)グリコールブチルエーテル等が挙げられる。
これらのアルキレングリコール低級アルキルエーテル系
溶剤(d)は、本発明の組成物中に0.1〜20重量%、好
ましくは3〜10重量%配合される。
溶剤(d)は、本発明の組成物中に0.1〜20重量%、好
ましくは3〜10重量%配合される。
本発明の洗浄剤組成物のpHは6.0〜8.0の範囲に調整され
る。pHが6.0未満では塩素ガス発生を抑止することがで
きず、また8.0を越えると洗浄効果が損なわれたり、ア
ルミサッシ等の材質を損傷する。
る。pHが6.0未満では塩素ガス発生を抑止することがで
きず、また8.0を越えると洗浄効果が損なわれたり、ア
ルミサッシ等の材質を損傷する。
本発明の液体洗浄剤組成物にはエチルアルコール等の低
級アルコール、エチレングリコール、ベンゼンスルホン
酸塩、トルエンスルホン酸塩等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸塩等を低温安定化剤として用いたり、また商
品価値を付与させるために香料、色素、防腐剤等を任意
に配合することができる。
級アルコール、エチレングリコール、ベンゼンスルホン
酸塩、トルエンスルホン酸塩等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸塩等を低温安定化剤として用いたり、また商
品価値を付与させるために香料、色素、防腐剤等を任意
に配合することができる。
以下実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれ
らの実施例に限定されるものではない。
らの実施例に限定されるものではない。
実施例1 表−1に示す成分組成の各種浴室用洗浄剤組成物を調製
し、それぞれの洗浄力及び塩素ガス発生量を以下の方法
によって評価した。
し、それぞれの洗浄力及び塩素ガス発生量を以下の方法
によって評価した。
〈洗浄力評価法〉 洗浄力の評価は、こすった程度では落ちない風呂汚れが
付着しているポリプロピレンプレートを、評価用洗浄剤
5gを含ませたウレタン製のスポンジに約1kgの荷重をか
けて5往復こすった後の、浴槽表面の汚れの除去状態
を、視覚によって評価する。
付着しているポリプロピレンプレートを、評価用洗浄剤
5gを含ませたウレタン製のスポンジに約1kgの荷重をか
けて5往復こすった後の、浴槽表面の汚れの除去状態
を、視覚によって評価する。
○:完全に洗浄された △:よごれのむら落ちを認めた ×:ほとんど効果がない 〈塩素ガス発生試験〉 塩素ガス発生試験について第1図に基づいて説明する。
第1図は塩素ガス発生試験を行う装置の概略図である。
22のプラスチック製ふた付き丸型容器1に塩素ガス検
知管(光明理化工業(株)製SB型)2及び100mlの塩素
ガス採取器3が取り付けられている。また容器1内には
容器内を撹拌するためのファン4が備付けられており、
容器内底部には試料洗浄剤組成物を入れる10mlのビーカ
ー5が置いてある。
22のプラスチック製ふた付き丸型容器1に塩素ガス検
知管(光明理化工業(株)製SB型)2及び100mlの塩素
ガス採取器3が取り付けられている。また容器1内には
容器内を撹拌するためのファン4が備付けられており、
容器内底部には試料洗浄剤組成物を入れる10mlのビーカ
ー5が置いてある。
*測定方法 (1) 容器1の底に、試料洗浄剤組成物1mlを入れた
ビーカー5を置く。
ビーカー5を置く。
(2) 塩素系基準溶液(次亜塩素酸ナトリウム5.0
%、水酸化ナトリウム1.0%)1mlをビーカー5内に加え
る。
%、水酸化ナトリウム1.0%)1mlをビーカー5内に加え
る。
(3) 直ちに容器1にふたをして、マグネチックスタ
ーラー6にて両液を混合し、容器1内をファン4で3000
rpmで撹拌する。
ーラー6にて両液を混合し、容器1内をファン4で3000
rpmで撹拌する。
(4) 両液混合から5分後、塩素ガス採取器3を塩素
ガス検知管2の後ろに接続して容器1内のガス100mlを
1回吸引採取し、塩素ガス濃度を測定する。尚、試験時
の室温、液温は20±5℃とする。
ガス検知管2の後ろに接続して容器1内のガス100mlを
1回吸引採取し、塩素ガス濃度を測定する。尚、試験時
の室温、液温は20±5℃とする。
上記の試験結果を表−1に示す。
第1図は塩素ガス発生試験を行う装置の概略図である。 1……容器 2……塩素ガス検知管 3……塩素ガス採取器 4……ファン 5……ビーカー 6……マグネチックスターラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C11D 3/43 (56)参考文献 特開 昭53−35710(JP,A) 特開 昭54−158409(JP,A) 特開 昭51−71302(JP,A) 特開 昭57−105494(JP,A)
Claims (2)
- 【請求項1】(a) 陰イオン性界面活性剤及び/また
は非イオン性界面活性剤 0.1〜10重量%、 (b) ヒドロキシカルボン酸またはその塩と (c) アミノカルボン酸またはその塩、 (b)/(c)重量比が10/1〜1/1、かつ(b)+
(c)で0.1〜20重量%、 (d) アルキレングリコール低級アルキルエーテル系
溶剤 0.1〜20重量% を含有し、pHが6.0〜8.0であることを特徴とする浴室用
液体洗浄剤組成物。 - 【請求項2】(a)成分として陰イオン性界面活性剤1
〜7重量%及び非イオン性界面活性剤1〜7重量%を含
有する請求項1記載の浴室用液体洗浄剤組成物。
Priority Applications (4)
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---|---|---|---|
JP1119136A JPH0699703B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 浴室用液体洗浄剤組成物 |
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GB9009904A GB2231580B (en) | 1989-05-12 | 1990-05-02 | Liquid detergent composition |
HK45594A HK45594A (en) | 1989-05-12 | 1994-05-12 | Liquid detergent composition |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02298599A JPH02298599A (ja) | 1990-12-10 |
JPH0699703B2 true JPH0699703B2 (ja) | 1994-12-07 |
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ID=14753830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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GB (1) | GB2231580B (ja) |
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JPH05214393A (ja) * | 1992-02-06 | 1993-08-24 | Kao Corp | 洗浄剤組成物 |
DE4324396A1 (de) * | 1993-07-21 | 1995-01-26 | Henkel Kgaa | Reinigungsmittel mit hohem Benetzungsvermögen |
US5925606A (en) * | 1996-11-01 | 1999-07-20 | Amway Corporation | Concentrated acidic liquid detergent composition |
WO2001004428A1 (en) * | 1999-07-14 | 2001-01-18 | Deoflor S.P.A. | Device for delivering an active substance in liquid phase inside a toilet bowl |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5335710A (en) * | 1976-09-14 | 1978-04-03 | Kao Corp | Detergent composition for bath room |
JPS5826399B2 (ja) * | 1978-06-05 | 1983-06-02 | 花王株式会社 | 液体洗浄剤組成物 |
JPS57105494A (en) * | 1980-12-22 | 1982-06-30 | Gennosuke Yamaguchi | Detergent |
JPH0227398B2 (ja) * | 1982-04-23 | 1990-06-15 | Asahi Denka Kogyo Kk | Senjozaisoseibutsu |
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JPS6055098A (ja) * | 1983-09-05 | 1985-03-29 | 第一工業製薬株式会社 | 液状洗浄剤 |
JPS60144398A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-30 | 第一工業製薬株式会社 | 液体洗浄剤組成物 |
GB8608148D0 (en) * | 1986-04-03 | 1986-05-08 | Procter & Gamble | Liquid cleaner |
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JPH01221498A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-04 | Lion Corp | 浴室用洗浄剤組成物 |
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- 1990-04-30 MY MYPI90000701A patent/MY105623A/en unknown
- 1990-05-02 GB GB9009904A patent/GB2231580B/en not_active Expired - Fee Related
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1994
- 1994-05-12 HK HK45594A patent/HK45594A/xx not_active IP Right Cessation
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---|---|
HK45594A (en) | 1994-05-20 |
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GB2231580A (en) | 1990-11-21 |
GB2231580B (en) | 1992-09-30 |
GB9009904D0 (en) | 1990-06-27 |
MY105623A (en) | 1994-11-30 |
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